JPS6236676A - 光導電部材用の支持体及び該支持体を有する光導電部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＩｒｔ気乃至電子デバイスの構成部材、特に電
子写真感光体等光導電部材の基体として利用し得る表面
処理金属体、この製造法及びこの表面処理金属体を用い
た光導電部材及び前記金属体表面処理用剛体球に関する
。

〔従来の技術〕

金属体表面には、用途に応じた表面形状を付与するため
、４！Ｆ種切削乃至研摩加工が施される。

例えば電子写真感光体等の光導電部材の基体（支持体）
として、板状、円筒状、無端ベルト状等の金属体が用い
られ、支持体上に光導電層等の層を形成するため、鏡面
化切削加工等により表面を仕上げられる０例えば、旋盤
、フライス盤等を用いたダイヤモンドバイト切削により
、所定範囲内の平面度にされたり、場合によっては、干
渉縞防止のため所定形状乃至は任意形状の凹凸表面に仕
上げられる。

ところが、切削によりこの様な表面を形成すると、金属
体の表面近傍に存在する硬質の合金成分、酸化物等の微
細な介在物や空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ　）にバイトが当り
、切削の加工性が低下すると共に、切削により介在物等
に起因する表面欠陥が顕現し易いといった不都合を生ず
る６例えば支持体に用いる金属体として、アルミニウム
合金を用いた場合、アルミニウム組織中に５ｉ−ＡＩ−
Ｆｅ系、Ｆｅ−Ａｌ系、ＴｉＢ２等の金属間化合物、Ａ
　１．Ｍｇ、Ｔｉ、Ｓ　ｉ、Ｆｅｃ７）酸化物などの介
在物やＨ２による空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ）が存在すると
共に、結晶方位の違う近隣Ａ１１ｉｉ織間で生起する粒
界段差といった表面欠陥が存在する。この様な表面欠陥
のある支持体により例えば電子写真感光体を構成すると
、成膜の均一性が悪くなり、延いては、電気的、光学的
、光導電的特性の均一性が損われ、美麗な画像が提供で
きなくなり、実用に耐えないものとなる。

また、切削によれば、切粉や切削油の費消、切粉処分の
煩雑性、被切削面に残存する切削油の処理といった別の
問題点も生ずる。

また、切削とは別に、サンドブラストやショツトブラス
ト等旧来の塑性変形を生起させる手段により金属体表面
の平面度や表面粗さを調整することが行なわれているが
、これらの手段によっては金属体表面に付与される凹凸
形状、精度等を正確に制御することができない。

更には、この様な方法によって表面粗さを形成した場合
には表面上に不規則な凹凸（例えば比較的大きな鋭い凹
凸）が露出するため感光体としたときにクリーニング手
段等による繰返し摩擦に対して著しく耐久性を劣化させ
た。

〔発明の目的及び概要〕

本発明の第１の目的は、新規な方法により表面仕上げ乃
至は表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を提供する
ことにある。

本発明の第２の目的は、所望の使用特性を損なう表面欠
陥を生じ易い切削加工等を伴わずに、表面処理がなされ
た表面処理金属体を提供することにある。

本発明の第３の目的は、所望の程度の鏡面あるいは非鏡
面に仕上げられ、乃至は所望形状の凹凸が形成された表
面処理金属体を提供することにある。

本発明の第４の目的は、金属体表面を所望の程度の鏡面
あるいは非鏡面に仕上げ、乃至は金属体表面に所望形状
の凹凸を付与することのできる表面処理金属体の製造法
を提供することにある。

本発明の第５の目的は１表面欠陥等を顕現せずに所望の
表面仕上げや表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を
支持体として用いることにより。

成膜の均一性、電気的、光学的、光導電的特性。

耐久性の均一性に優れた光導電部材を提供することにあ
る。

本発明の第６の目的は１表面処理により光学的な干渉縞
を消去する効果及び散乱の効果が得られる金属体を支持
体として用いることにより、干渉縞等の不都合が解消さ
れる高耐久の電子写真用の光導電部材を提供することに
ある。

本発明の第７の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得ることができる電子写真用の光導電部材を提供す
ることにある。

本発明の第８の目的は、干渉縞等のない高品質な画像を
形成することができる電子写真用光導電部材の支持体に
用いる金属体の表面処理に適した剛体球を提供すること
にある。

上記第１乃至第３のり目的は、表面に複数の球状１ｆＸ
、跡窪みによる凹凸が形成され、しかも前記球状痕跡窪
み内に更に微小な凹凸が形成されている金属体から成る
ことを特徴とする本発明の表面処理金属体によって達成
される。

上記第４の目的は、金属体表面に、表面に凹凸を有する
複数の剛体球を落下させて、前記金属体表面に前記剛体
球の痕跡窪みによる凹凸を形成せしめ、しかも前記剛体
球の表面凹凸により前記痕跡窪み内に更に微小な凹凸を
形成せしめることを特徴とする本発明の表面処理金属体
の製造法によって達成される。

上記第５乃至第７の目的は、支持体上に光導電層を有す
る光導電部材において、前記支持体が、表面に複数の球
状痕跡窪みによる凹凸が形成され、しかも前記球状痕跡
窪み内に更に微小な凹凸が形成されている表面処理金属
体から成ることを特徴とする本発明の光導電部材によっ
て達成される。

上記第８の目的は１表面に凹凸が形成された剛体球から
成り、核球を金属体表面に落下させたときに、球状痕跡
窪みを形成ししかも該蓼跡窪み内に更に微小な凹凸を付
与せしめることができることを特徴とする本発明の金属
体表面処理用剛体球によって達成される。

〔発明の詳細な説明及び実施例〕

第１図に示した様に本発明の表面処理金属体ｌは、表面
２に複数の球状痕跡窪み４による凹凸を形成させている
ことを１つの特徴とする。

即ち、例えば剛体球３を表面２より所定高さの位置より
自然落下乃至は強制落下させて表面２に衝突させること
により、球状痕跡窪み４を形成する。従って、ほぼ同一
径Ｒ′の複数の剛体球３をほぼ同一高さｈより落下させ
ることにより、表面２にほぼ同一曲率Ｒ，同−輻ｒの複
数の球状痕跡窪み４を形成することができる。

第２図及び第３図は、この様な場合に形成される痕跡窪
みを例示したものである。

第２図の例では、金属体１′の表面２′の異なる部位に
、ほぼ同一の径の複数の球体３’、３’・・・をほぼ同
一の高さより落下させてほぼ−の曲率及び幅の複数の窪
み４′、４′番・・を互いに重複しない程度に疏に生じ
せしめて凹凸を形成している。

第３図の例では、金属体ｔ”の表面２″の異なる部位に
、ほぼ同一の径の複数の球体３″、３″争・・をほぼ同
一の高さより落下させてほぼ同一の曲率及び幅の複数の
窪み４”、４″−・・を互いに重複し合うように密に形
成して、第１図の例に比較して凹凸の高さく表面粗さ）
を小さくしている。なお、この場合、互いに重複する窪
み４パ′、４″・・φの形成時期、即ち球体３″、３″
の金属体ｔ”の表面２″への衝突時期が、当然のことな
がら互いにずれる様に球体を自然下させる必要がある。

一方、第４図の例では、互いに異なる数種の径の球体３
″′、３″′をほぼ同一の高さ又は異なる高さから落下
させて金属体１″′の表面２″′にそれぞれ異なる曲率
及び幅の複数の窪み４″′、４″′・・・を互いに重複
し合うように密に生じせしめて、表面に高さの不規則な
凹凸を形成している。

この様にすれば、剛体球と金属体表面との硬度、剛体球
の径、落下高さ、落下球量等の条件を適宜調節すること
により、金属体表面に所望の曲率、幅の複数の球状痕跡
窪みを所定密度で形成することができる。

従って、前記条件を選択することにより、金属体表面を
鏡面に仕上げたり、あるいは非鏡面に仕上げるなど、表
面粗さ、即ち凹凸の高さやピッチ等を自在に調節できる
し、また、使用目的に応じて所望される形状の凹凸を形
成することもできる。

更には、ボートホール管、あるいはマンドレル押出し引
抜きＡＩ管表面の表面状態の悪さを、本発明の方法を用
いる＄によって修正し、所望の表面状態に仕上げること
が出来る。これは、表面の規則な凹凸が剛体球の衝突に
より塑性変形されることによるものである。

また、本発明の表面処理金属体１は、球状痕跡窪み４内
に更に微小な凹凸が形成されていることをもう１つの特
徴とする。即ち、第５図に拡大して示した様に、球状痕
跡窪み４内表面の一部分乃至全体に微小な凹凸乃至凹凸
群５が形成されている。

この様な微小凹凸は、剛体球３として、例えば第６図に
示した様な、表面に凹凸６を有する剛体球を使用するこ
とにより形成される。

表面に凹凸を有する剛体球は、例えばエンボス、波付は
等の塑性加工処理を応用する方法、地荒し法（梨地法）
等の粗面化方法など、機械的処理により凹凸を形成する
方法、酸やアルカリによる食刻処理等化学的法により凹
凸を形成する方法などを用いて剛体球を処理することに
より作製することができる。また更にこの様に凹凸を形
成した剛体球表面に、電解研摩、化学研摩、仕上げ研摩
等、又は陽極酸化皮膜形成、化成皮膜形成、めっき、は
うろう、塗装、蒸着膜形成、ＣＶＤ法による膜形成など
の表面処理を施して凹凸形状（高さ）、硬度などを適宜
調整することができる。

本発明の表面処理金属体の基材は、使用目的に応じたい
かなる種類の金属でもよいが、アルミニウム及びアルミ
ニウム合金、ステンレス、鋼鉄、銅及び銅合金、マグネ
シウム合金などが実用的である。また、金属体の形状は
任意に選択することができるが、例えば電子写真感光体
の基体（支持体）としては、板状、円筒状、柱状、無端
ベルト状等の形状が実用的である。

本発明で使用する剛体球は、例えばステンレス、アルミ
ニウム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属、セラミック、
プラスチック等の各種剛体球を使用することができ、と
りわけ耐久性及び低コスト化の理由により、ステンレス
及び鋼鉄の剛体球が好ましい９球体の硬度は、金属体の
硬度よりも高くても低くてもよいが１球体を繰返し使用
する場合は、金属体の硬度よりも高くすることが好まし
い。

本発明の表面処理金属体は、電子写真感光体等の光導電
部材の支持体、コンピューターメモリー用磁気ディスク
基板、レーザースキャン用のポリゴンミラー基体に適し
ている。また、従来、ダイヤバイトによる鏡面仕上げ、
円筒研削仕上げ、０．０５ｐｍ以下の平面度に仕上げら
れる各種電気乃至電子デバイスの構成部材として最適で
ある。

また、例えば、電子写真感光体ドラムの支持体として用
いる場合、アルミニウム合金等を通常の押出加工により
得られるボートホール管あるいはマンドレル管を、更に
引抜加工して得られる引抜管に必要に応じて熱処理、調
質等の処理を加え、この円筒（シリンダー）を、例えば
第７図（模式横断面図）及び第６図（模式縦断面図）に
示した構成の装置を用いて本発明方法を実施し、支持体
を作成する。

第７図及び第８図において、１１は支持体作成用の例え
ばアルミニウムシリンダーである。シリンダー１１は１
例えば引抜管のままでもよいし、適度に表面精度を仕上
げられていてもよい。

シリンダー１１は、回転軸（受）１２に軸支され、モー
タ等の適宜の駆動手段１３で駆動され、ほぼ軸芯のまわ
りで回転可能とされている。

１４は軸受１２に軸支され、シリンダー１１と同一の方
向に回転される回転容器であり、多数の、表面に凹凸を
有する剛体球１５を収容している。

剛体球１５は、容器１４内壁から突出した複数のリブ１
６に担持され、且つ容器１４の回転によって容器上部ま
で輸送され、シリンダー１１上に向は落下する。

回転速度及びシリンダー１１、剛体球１５を保持する回
転容器１４の径は、形成する痕跡窪みの密度及び剛体球
の供給量等を考慮して適宜に決定され制御される。

回転容器１４を回転させると適度の回転速度の時に容器
壁に付いて輸送される剛体球１５は落下し、シリンダー
１１に衝突し、その表面に痕跡窪みを形成し凹凸を生じ
せしめる。

なお、容器１４の壁に均一に孔を穿っておき、回転時に
容器１４外部のシャワー管１７より洗浄液を噴射する機
構にし、シリンダー１１と剛体球１５及び回転容器１４
を洗浄する様に構成することもできる。この場合、剛体
球同志、又は剛体球と回転容器との接触により生ずる静
電気によって付着するゴミ等を回転容器外へ洗い出すこ
とになり、所望の支持体を作製できる。

又、上記洗浄液として、乾燥むら、あるいは液だれを防
ぐため、不揮発性物質単独、又は、トリエタン、トリク
レン等の通常洗浄液との混合液を用いるのが好ましい。

以下、本発明の光導電部材の構成例について説明する。

この様な光導電部材は、支持体上に例えば有機光導電物
質や無機光導電物質を含む感光層を設けて構成される。

支持体の形状は、所望によって決定されるが、例えば電
子写真用として使用するのであれば、連続高速複写にの
場合には、無端ベルト状又は前述した様に円筒状とする
のが望ましい、支持体の厚みは、所望通りの光導電部材
が形成される様に適宜決定されるが、光導電部材として
可撓性が要求される場合には、支持体としての機能が十
分発揮される範囲内であれば可能な限り薄くされる。し
かしながら、この様な場合にも、支持体の製造上及び取
扱い上、更には機械的強度等の点から、通常は４００ル
ｍ以上とされる。

支持体表面は、水引により表面処理を施され、鏡面とさ
れ乃至は干渉縞防止等の目的で非鏡面とされ、あるいは
所望形状の凹凸が付与される。

例えば支持体表面を非鏡面化したり、表面に凹凸を付与
して粗面化すると、支持体表面の凹凸の合せて感光層表
面にも凹凸が生ずるが、露光の際にこれら支持体表面及
び感光層表面での反射光に位相差が生じ、シェアリング
干渉による干渉縞を生じ、あるいは反転現像時に黒斑点
あるいはスジを生じて画像欠陥を生ずる。この様な現象
は特に可干渉光であるレーザビーム露光を行なった場合
に顕著に現れる。

本発明においては、この様な干渉縞を、支持体表面に形
成される球状痕跡窪みの曲率ＲとｖＡｒとを調節するこ
とにより防止することができる。

即ち、本発明の表面処理金属体を支持体とした跡窪み内
にシェアリング干渉によるニュートンリングが０．５本
以上存在することになり、光導電部材全体の干渉縞を各
痕跡窪°み内に分散して存在させることができ、干渉防
止が可能となる。まましくは、 ０．５を超えると、窪みの幅ｒが相対的に大きくなり、
画像ムラなどを派生し易い状況となる。

また、痕跡窪みの曲率Ｒは、０．１ｍｍ≦Ｒ≦２．０ｍ
ｍ、更には０．２ｍｍ≦Ｒ≦０　、４ｍｍとされるのが
望ましい、Ｒが、０．１ｍｍ未満であると、剛体球を小
さく軽くして落下高さを確保しなければならず、痕跡窪
みの形成をコントロールしにくくなるため好ましくない
、また、ｒの選択幅も必然的に狭くなる。また、Ｒが２
　、０ｍｍを超えると、剛体球を大きく重くして、落下
高さを調節するため、例えばｒを比較的小さくしたい場
合に落下高さを極端に低くする必要があるなど、矢針痕
跡窪みの形成をコントロールしにくくなるため好ましく
ない。

また、痕跡窪みの幅ｒは、０．０２〜０．５ｍｍとされ
るのが望ましい、ｒが０．０２ｍｍ未満であると、矢針
、剛体球を小さく軽くして落下高さを確保しなければな
らず、痕跡窪みの形成をコントロールしにくくなるため
好ましくない。

またｒは光照射スポット径以下が望ましく、特に、レー
ザービームを使用する場合には、解像力以下とするのが
望ましい、この点で、ｒが０．５ｍｍを超えると画像ム
ラなどを派生し易くなると共に、Ｓ置方を超え易い状況
となるため好ましくない。

更に、各痕跡窪み内に微小凹凸を生ずる様、前述した様
に表面に凹凸を形成した剛体球を用いて処理すると、上
記の干渉防止効果に、微小凹凸による散乱効果が加わり
、干渉防止を一層確実なものとすることができる。

従来の技術の場合には、光導電部材に用いる全屈支持体
はその表面をランダムに粗すことで、乱反射させ、干渉
縞の生じない様、工夫されていた。

しかし、この様な場合１画像転写後のクリーニングにお
いて、例えばブレードを用いた場合には、ブレード面は
光導電部材の凹凸の凸部に主に当たる為、クリーニング
性が悪く、又、凸部での光導電部材及びブレード表面の
摩耗が大きく、結果として、両者の耐久性は良くなかっ
た。

これに対し、本発明の表面処理金属体を支持体とした場
合には、元来、ある程度平滑にされた表面上に表面処理
を施すことができ、散乱表面は窪み（凹部）内に存在す
る為、クリーニング時において、ブレードは凸部で接触
するのではなく、全体に均−一様な平面で接触する事と
なる。

従って、ブレードや光導電部材表面に大きな負荷がかか
らず、両者の耐久性は向上する。

痕跡窪み内に付与される微小凹凸の高さ、即ちあること
が好ましい、０．５μｍ未満であると散乱の効果が十分
に得られず、２０．ｗｍを超えると痕跡窪みによる凹凸
と比較して微小凹凸が大きくなり過ぎ、痕跡窪みが球状
をなさなくなり、干渉縞を防止する効果が十分に得られ
なくなる。また、光導電層の不均一性を増長することと
なり。

画像欠陥を生じ易くなるた、め好ましくない。

本発明の光導電部材において、支持体上に１例えば有機
光導電体から成る感光層を設ける場合、この感光層を電
荷発生層と電荷輸送層とに機能分離させることができる
。また、これら感光層と支持体との間には、例えば感光
層から支持体へのキヤリア注入を阻止するためや感光層
と支持体との接着性を改良するために、例えば有機樹脂
から成る中間層を設けることができる。電荷発生層は、
例えば、従来公知のアゾ顔料、キノン顔料、キノシアニ
ン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミ
ダゾール顔料、キナクドリン顔料。

特開昭５７−１６５２６３号に記載されたアズレン化合
物、無金属フタロシアニン顔料（ｗｅｔａｌ−ｆｒｅｅ
　ｐｈｔｈａｌｏｃ７ａｎｉｎｅ）、金属イオンを含む
フタロシアニン顔料等の１種もしくは２種以上を電荷発
生物質とし、ポリエステル、ポリスチレン、ポリビニー
ルブチラール、ポリビニールピロリドン、メチルセルロ
ース、ポリアクリル酸エステル類、セルロースエステル
などの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いてに分散し、塗布
して形成される０組成は、例えば電荷発生物質１００重
量部に対して、結着剤樹脂２０〜３００重量部とされる
。電荷発生層の層厚は、０．０１”ｌ　、ＯＪＬｍのＲ
囲が望ましい。

また、電荷輸送層は、例えば主鎖又は側鎖にアントラセ
ン、ヒレン、フェナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物、又はインドール、オキサゾール、インオキサ
ゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキ
サジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾ
ールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラゾ
ン化合物等の正孔輸送物質をポリカーボネート、ポリメ
タクリル酸エステル類、ボリアリレート、ポリスチレン
、ポリエステル、ポリサルホン、スチレン−７クリロニ
トリルコボリマー、スチレン−メタクリル酸メチルコポ
リマーなどの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いて分散し、
塗布して形成される。

電荷輸送層の厚みは、５〜２０　ｇ、ｍとされる。

又、前記電荷主層と電荷輸送層とを積層させる場合、帰
順は任意であり、例えば支持体側から。

電荷発生層、電荷輸送層の順で積層させることができる
し、あるいは、これとは逆の帰順とすることもできる。

又、前述の感光層としては、以上に限らず、例えば、Ｉ
　ＢＭ　　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｒｅ５ｅａ
ｒｃｈ　ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　、　１９７１
年１月、ｐｐ７５〜８９に開示されたポリビニールカル
バゾールとトリニトロフルオレノンからなる電荷移動錯
体、米国特許第４３９５１８３号、同第４３２７１６９
号公報などに記載されたピリリウム系化合物を用いた感
光層、あるいはよく知られている酸化亜鉛、硫化カドミ
ウムなどの無機光導電物質を樹脂中に分散含有させた感
光層や、セレン、セレン−テルルなどの蒸着フィルム、
あるいはケイ素原子を含む非晶質材料から成る膜体等を
使用することも可能である。

このうち、感光層としてケイ素原子を含む非晶質材料か
ら成る１１り体を用いた光導電部材は、前述した様な本
発明に係る支持体上に、例えば電荷注入阻止層、感光層
（光導電層）、及び表面保護層を順次端層した構成を有
する。

電荷注入阻止層は、例えば水素原子及び／又はハロゲン
原子を含有するアモルファスシリコン（ａ−Ｓｔ）で構
成されると共に、伝導性を支配する物質として、通常半
導体の不純物として用いられる周期率表第１ＩＩ族乃至
は第■族に属する元素の原子が含有される。′ｒｒＬ荷
注入荷出入阻止層は、好ましくは０．００１−１Ｏ１Ｌ
、より好適には０．０５〜８ＩＬｍ、最適には０．０７
〜５ＩＬｍとされるのが望ましい。

電荷注入阻止層の代りに１例えばＡ１２ｏ３．５ｉ０２
．Ｓｉ３Ｎ４．ポリカーボネート等の電気絶縁材料から
成る障壁層を設けてもよいし、あるいは電荷注入阻止層
と障壁層とを併用することもできる。

感光層は、例えば水素原子とハロゲン原子を含有するａ
−Ｓｉで構成され、所望により電荷注入阻止層に用いる
のとは別種の伝導性を支配する物質が含有される。感光
層の層厚は、好ましくは１〜ｌ１００ＪＬ、より好適に
は１〜８０　ｇ　ｍ　、最適には２〜５０μｍとされる
のが望ましい。

表面保護層は、例えばＳｉＣ、ＳｉＮ　　等でｘ　　　
　　　　　　　ｘ 構成され、層厚は、好ましくは０．０１〜１０ｐｍ、よ
り好適には０．０２〜５μｍ、最適にｔ±０．０４〜５
ＪＬｍとされるのが望ましし）。

本発明において、ａ−５ｉで構成される光導電層等を形
成するには、例えばグロー放電法、スパッタリング法、
あるいはイオンブレーティング法等の従来公知の種々の
放電現象を用する真空１体積法が適用される。

次に、グロー放電分解法による光導電部材の製造法の１
例について説明する。

第９図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装置
を示す、堆積槽２１は、ベースプレート２２と槽壁２３
とトッププレート２４とから構成され、この堆積槽ｚｌ
内には、カソード電極２５が設けられており、ａ−５ｉ
堆積膜が形成される例えばアルミニウム合金製の本発明
に係る支持体２６はカソード電極２５の中央部に設置さ
れ、アノード電極としての役割も兼ねている。

この製造装置を使用してａ−３ｉ堆積膜を支持体上に形
成するには、まず、原料ガス流入ノくルブ２７及びリー
クバルブ２８を閉じ、排気バルブ２９を開け、堆積槽２
１内を排気する。真空計３０の読みが５Ｘ１０　　ｔｏ
ｒｒになった時点で原料カス流入バルブ２７ｔ−開いて
、マスフローコントロラー３１内で所定の混合比に調整
された、例えばＳｉＨ４ガス、３１２Ｈ６ガス、ＳｉＦ
４ガス等を用いた原料混合ガスを堆積＄５２１内の圧力
が所望の値になる様に真空計３０の読みを見ながら排気
バルブ２９の開口度を調整する。そしてドラム状支持体
２６の表面温度が加熱ヒータ３２により所定の温度に設
定されていることを確認した後、高周波電源３３を所望
の電力に設定して堆積槽２１内にグロー放電を生起させ
る。

また、層形成を行なっている間は、層形成の均一化を図
るためにドラム状支持体２６をモータ３４により一定速
度で回転させる。このようにしてドラム状支持体２６上
にａ−５ｉ堆精膜を形成することができる。

以下、本発明を実施例に基きより詳細に説明する。

試験例　１ 径Ｑ、８ｍｍのＳＵＳステンレス製剛体球に化学的処理
を施して表面を食刻して凹凸を形成せしめた。使用する
処理剤としては、塩酸、フッ酸、硫酸、クロム酸等の醜
、苛性ソーダ等のアルカリを挙げることができる０本試
験例にお（１）ては、濃塩酸１に対して純水１〜４の容
量比で混合した塩酸溶液を用い、剛体球の浸漬時間、酸
濃度等を変化させ、凹凸の形状を適宜調整した。

かくして処理された剛体球（表面凹凸の高さ示した装置
を用い、アルミニウム合金製シリンダー（径　６０ｍｍ
、長さ２９８　ｍｍ）の表面を処理し、凹凸を形成させ
た。

真珠の径Ｒ′、落下高さｈと痕跡窪みの曲率Ｒ１幅ｒと
の関係を調べたところ、痕跡窪みの曲率Ｒと幅ｒとは、
真珠の径Ｒ′と落下高さｈ等の条件により決められるこ
とが確認された。また、痕跡窪みのピッチ（痕跡窪みの
密度、また凹凸のピー２チ）は、シリンダーの回転速度
、回転数乃至は剛体真珠の落下量等を制御して所望のピ
ッチに調整することができることが確認された。

また痕跡窪み内には、剛体球の表面凹凸あるいは表面粗
さに応じた微小凹凸が形成されることが確認された。

実施例　１〜６、比較例　１ 例１と同様にアルミニウム合金製シリンダーの表面を処
理し、これを電子写真用光導電部材の支持体として利用
した。

その際、各表面処理シリンダーについて１表面処理後に
生じている表面欠陥（エグレ状の傷、ひび割れ、スジ状
キズ等）を目視及び金属ＷＪ微鏡により検査した。結果
を表に示した。

次に、これらの表面処理を施したアルミニウム合金製シ
リンダーのそれぞれの上に、ｆ５９図に示した光導電部
材の製造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に
従い、下記の条件により光導電部材を作製した。

堆積膜の積層順序　使用原料ガ、ス　膜厚（ＪＬｍ）■
電荷注入阻止層　Ｓ　ｉＨｎ　／　　　０　、６ｚＨ６ ■光導電層　　　　ＳｉＨ４２０ ■表面阻止層　　　ＳｉＨ４／　　　０．Ｉ２Ｈ４ こうして得られた各光導電部材を、キャノン（株）製レ
ーザービームプリンターＬＢＰ−Ｘに設置して画出しを
行ない、干渉縞、黒ポチ、画像欠陥等の総合評価を行な
った。結果を第１表に示した。

なお、比較として、従来のダイヤモンドバイトにより表
面処理されたアルミニウム合金製シリンダーを用いて光
導電部材を作製し、同様に総合評価した。

第１表 第　１　表（続き） （木）：×　　実用不能 Δ　実用に向かない ０　実用性良好 ■　実用性特に良好 なお、実施例１〜６の光導電部材の支持体におけるＲは
何れも０．１〜２．０ｍｍ、ｒは何れも０．０２〜０．
５ｍｍの範囲とした。

実施例７〜１１ の剛体球を用いた以外は実施例５と同様にして光導電部
材を作製した。かくして得られた光導電部材を用いて第
１表と同様の評価を行なった。結果を第２表に示した。

第２表 第　　２　　表（続き） 実施例　１２．１３ 層構成を以下のとおりとした以外は、実施例１〜６と同
一の光導電部材を作製した。

なお、この際、アルミニウム合金製シリンダー０．１（
実施例１３）とした２つの光導電部材を作製した。

まず、共重合ナイロン樹脂を溶剤に溶解した塗布液を用
いて層厚ＩＪＬｍの中間層を形成した。

次いで、ε型銅フタロシアニン、結着剤樹脂と。

してブチラール樹脂を含む塗液を中間層上に塗布して、
層厚０．１５μｍの電荷発生層、次いで。

ヒドラゾン化合物、結着剤樹脂としてスチレン−メタク
リル酸メチル共重合樹脂を含む塗液を電荷発生層上に塗
布して、層厚１Ｂμｍの電荷輸送層を順次形成して光導
電部材を作製した。

かくして得られた光導電部材を実施例１〜６と同一の総
合評価により評価したところ、実施例１２及び実施例１
３共に、実用的であり、とりわけ実施例８の光導電部材
が優れていることが判った。

〔発明の効果〕

本川の表面処理金属体によれば、所望の使用特性を損う
表面欠陥を生じやすい切削加工を伴わずに表面処理がな
され１例えば、この金属体を光導電部材の支持体として
用いると、成膜の均一性、電気的、光学的乃至は光導電
的特性の均一性に優れた光導電部材が得られ、特に、電
子写真感光用として用いた場合１画像欠陥が少なく、高
品質の画像、特にレーザー光等の可干渉光を用いた場合
には、干渉縞のない画像を得ることができる。

また、表面に凹凸を形成した剛体球を用いて痕跡窪み内
に微小凹凸を形成するため、更に精密な凹凸の形成が可
能となると共に、散乱の効果も加わり、−居士渉縞のな
い優れた画像を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至は第４図は１本発明により形成される金属体
表面の凹凸の形状を説明するための模式図である、ｔ５
５図は、第１図中球状痕跡窪みの拡大断面図、第６図は
、本発明の表面処理用剛体球の断面図、第７図及び第８
図は、それぞれ本発明の表面処理金属体の製造法を実施
するための装置の一構成例を説明するための模式横断面
図及び模式縦断図、第９図はグロー放電分解法による光
導電部材の製造装置を示した模式図である。 １．１”、ｌ”、ｌ”” 拳・・表面処理金属体、 ２．２’、２”、２”’ ・−拳表面、 ３．３’、３″、３”” ９・・剛体球、 ４．４”、４”、４”” ・・−球状痕跡窪み、 ５−−・痕跡窪み内の微小凹凸、 ６中管番剛体球の表凹凸。 代理人　弁理士　山　下　積　平 第１図 ＄５図 第６図 第７図 １７１　　　ｄ１７ 第８図 第９図 手続補正書印発） 昭和６１年９月３日 特許庁長官　　黒　　１）　明　　雄　　殿■　事件の
表示 特願昭６０−１７６１７２号 ２　発明の名称 表面処理金属体、この製造法、これを用いた光導電部材
及び金属体表面処理用剛体球３　補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称　（１００）　　ギヤノン株式会社４　代理人 住所　東京都港区虎ノ門五丁目１３番１号虎ノ門４０森
ビル、明細書全文 ６　補正の内容 明　　細　　書 １、発明の名称 表面処理金属体、この製造法、これをｍいた光導電部材
及び金属体表面処理用剛体球２、特許請求の範囲 （１）　表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸が形成さ
れ、しかも前記球状痕跡窪み内に更に微小な凹凸が形成
されている金属体から成ることを特徴とする表面処理金
属体。 （２）　凹凸がほぼ同一の曲率半径及び幅の球状痕跡窪
みにより形成されている特許請求の範囲第（１）項記載
の表面処理金属体。 （３）　金属体表面に、表面に凹凸を有する複数の剛体
球を落下させて、前記金属体表面に前記剛体球の痕跡窪
みによる凹凸を形成せしめ、しかも前記剛体球の表面凹
凸により前記痕跡窪み内に更に微小な凹凸を形成せしめ
ることを特徴とする表面処理金属体の製造法。 （４）　ほぼ同一径の剛体球をほぼ同一高さから落下さ
せる特許請求の範囲第（３）項記載の表面処理金属体の
製造法。 （５）　支持体上に光導電層を有する光導電部材におい
て、前記支持体が５表面に複数の球状痕跡窪みによる凹
凸が形成され、しかも前記球状痕跡窪み内に更に微小な
凹凸が形成されている表面処理金属体から成ることを特
徴とする光導電部材。 （６）　凹凸がほぼ同一の曲率半径及び幅の球状痕跡窪
みにより形成されている特許請求の範囲第（５）項記載
の光導電部材。 （７）　球状痕跡窪みの曲率半径Ｒと幅ｒとが、０．０
３５　　≦　□　≦　０．５ を満足する値をとる特許請求の範囲第 （５）項又は第（６）項記載の光導電部材。 （８）　球状痕跡窪みの曲率半径Ｒが０．１ｍｍ≦Ｒ≦
２−’Ｏｍｍである特許請求の範囲第（５）項乃至第（
７）項のうちの１に記載の光導電部材。 （９）　球状痕跡窪みの輻ｒが０．０２ｍｍ≦ｒ≦０．
５ｍｍである特許請求の範囲第（５）項乃至第（８）項
のうちの１に記載の光導電部材。 （１０）　　球状痕跡窪み内の微小凹凸の高さが０．５
〜２０μｍである特許請求の範囲第（５）項乃至第（９
）項のうちの１に記載の光導電部材。 （１１）　表面に凹凸が形成された剛体球から成り、核
球を金属体表面に落下させたときに、球状痕跡窪みを形
成ししかも該痕跡性み内に更に微小な凹凸を付与せしめ
ることができることを特徴とする金属体表面処理用剛体
球。 （１２）　剛体球表面の凹凸が、化学的乃至は機械的処
理により形成されている特許請求の範囲第（１１）項記
載の金属体表面処理用剛体球。 （１３）　剛体球表面が膜体で被覆され凹凸の高さが調
整されている特許請求の範囲第 （１１）項又は第（１２）項記載の金属体表面処理用剛
体球。 （１４）　表面粗さが０．５〜２０μｍの範囲となって
いる特許請求の範囲第（１１）項乃至第（１３）項のう
ちの１に記載の金属体表面処理用剛体球。 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気乃至電子デバイスの構成部材、特に電子写
真感光体等光導電部材の基体として利用し得る表面処理
金属体、この製造法及びこの表面処理金属体を用いた光
導電部材及び前記金属体表面処理用剛体球に関する。 〔従来の技術〕 金属体表面には、用途に応じた表面形状を付与するため
、各種切削乃至研摩加工が施される。 例えば電子写真感光体等の光導電部材の基体（支持体）
として、板状、円筒状、無端ベルト状等の金属体が用い
られ、該支持体上に光導電層等の層を形成するため、鏡
面化切削加工等により表面を仕上げられる１例えば、旋
盤、フライス盤等を用いたダイヤモンドバイト切削によ
り、所定範囲内の平面度にされたり、場合によっては、
干渉縞防止のため所定形状乃至は任意形状の凹凸表面に
仕上げられる。 ところが、切削によりこの様な表面を形成すると、金属
体の表面近傍に存在する硬質の合金成分、酸化物等の微
細な介在物や空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ　）にバイトが当り
、切削の加工性が低下すると共に、切削により介在物等
に起因する表面欠陥が顕現し易いといった不都合を生ず
る０例えば支持体に用いる金属体として、アルミニウム
合金ヲ用いた場合、アルミニウム組織中に５ｉ−ＡＩ−
Ｆｅ系、Ｆｅ−Ａｌ系、ＴｉＨ２等の金属間化合物、Ａ
　Ｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｓ　ｔ、Ｆｅの酸化物などの介在物
やＨ２による空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ）が存在すると共に
、結晶方位の違う近隣ＡＩ組織間で生起する粒界段差と
いった表面欠陥が存在する。この様な表面欠陥のある支
持体により例えば電子写真感光体を構成すると、成膜の
均一性が悪くなり、延いては、電気的、光学的、光導電
的特性の均一性が損われ、美麗な画像が提供できなくな
り、実用に耐えないものとなる。 また、切削によれば、切粉や切削油の費消、切粉処分の
煩雑性、被切削面に残存する切削油の処理といった別の
問題点も生ずる。 また、切削とは別に、サンドブラストやショツトブラス
ト等旧来の塑性変形を生起させる手段により金属体表面
の平面度や表面粗さを調整することが行なわれているが
、これらの手段によっては金属体表面に付与される凹凸
形状、精度等を正確に制御することができない。 更には、この様な方法によって表面粗さを形成した場合
には表面上に不規則な凹凸（例えば比較的大きな鋭い凹
凸）が露出するため移米体としたときにクリーニング手
段等による繰返し摩擦に対して著しく耐久性を劣化させ
た。 〔発明の目的及び概要〕 本発明の第１の目的は、新規な方法により表面仕上げ乃
至は表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を提供する
ことにある。 本発明の第２の目的は、所望の使用特性を損なう表面欠
陥を生じ易い切削加工等を伴わずに、表面処理がなされ
た表面処理金属体を提供することにある。 本発明の第３の目的は、所望の程度の鏡面あるいは非鏡
面に仕上げられ、乃至は所望形状の凹凸が形成された表
面処理金属体を提供することにある。 本発明の第４の目的は、金属体表面を所望の程度の鏡面
あるいは非鏡面に仕上げ、乃至は金属体表面に所望形状
の凹凸を付与することのできる表面処理金属体の製造法
を提供することにある。 本発明の第５の目的は、表面欠陥等を顕現せずに所望の
表面仕上げや表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を
支持体として用いることにより、成膜の均一性、電気的
、光学的、光導電的特性、耐久性の均一性に優れた光導
電部材を提供することにある。 本発明の第６の目的は、表面処理により光学的な干渉縞
を消去する効果及び散乱の効果が得られる金属体を支持
体として用いることにより、干渉縞等の不都合が解消さ
れる高耐久の電子写真用の光導電部材を提供することに
ある。 本発明の第７の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得ることができる電子写真用の光導電部材を提供す
ることにある。 本発明の第８の目的は、干渉縞等のない高品質な画像を
形成することができる電子写真用光導電部材の支持体に
用いる金属体の表面処理に適した剛体球を提供すること
にある。 上記第１乃至第３の目的は１表面に複数の球状痕跡窪み
による凹凸が形成され、しかも前記球状痕跡窪み内に更
に微小な凹凸が形成されている金属体から成ることを特
徴とする本発明の表面処理金属体によって達成される。 上記第４の目的は、金属体表面に、表面に凹凸を有する
複数の剛体球を落下させて、前記金属体表面に前記剛体
球の痕跡窪みによる凹凸を形成せしめ、しかも前記剛体
球の表面凹凸により前記痕跡窪み内に更に微小な凹凸を
形成せしめることを特徴とする本発明の表面処理金属体
の製造法によって達成される。 上記第５乃至第７の目的は、支持体上に光導電層を有す
る光導電部材において、前記支持体が、表面に複数の球
状痕跡窪みによる凹凸が形成され、しかも前記球状痕跡
窪み内に更に微小な凹凸が形成されている表面処理金属
体から成ることを特徴とする本発明の光導電部材によっ
て達成される。 上記第８の目的は、表面に凹凸が形成された剛体球から
成り、核球を金属体表面に落下させたときに２球状痕跡
窪みを形成ししかも該痕跡窪み内に更に微小な凹凸を付
与せしめることができることを特徴とする本発明の金属
体表面処理用剛体球によって達成される。 〔発明の詳細な説明及び実施例〕 第１図に示した様に本発明の表面処理金属体ｌは、表面
２に複数の球状痕跡窪み４による凹凸を形成させている
ことを１つの特徴とする。 即ち、例えば剛体球３を表面２より所定高さの位置より
自然落下乃至は強制落下させて表面２に衝突させること
により１球状痕跡窪み４を形成する。従って、ほぼ同一
半径Ｒ′の複数の剛体球３をほぼ同一高さｈより落下さ
せることにより、表面２にほぼ同一曲率半径Ｒ２同一幅
ｒの複数の球状痕跡窪み４を形成することができる。 第２図及び第３図は、この様な場合に形成される痕跡窪
みを例示したものである。 第２図の例では、金属体１′の表面２′の異なる部位に
、ほぼ同一の半径の複数の球体３′、３′・・φをほぼ
同一の高さより落下させてほぼ−の曲率半径及び幅の複
数の窪み４′、４′・・・を互いに重複しない程度に疏
に生じせしめて凹　・凸を形成している。 第３図の例では、金属体１″の表面２″の異なる部位に
、ほぼ同一の半径の複数の球体３″、３″φ・・をほぼ
同一の高さより落下させてほぼ同一の曲率半径及び幅の
複数の窪み４″、４″・・φを互いに重複し合うように
密に形成して、第１図の例に比較して凹凸の高さく表面
粗さ）を小さくしている。なお、この場合、互いに重複
する窪み４″、４″・・拳の形成時期、即ち球体３″、
３″の金属体１″の表面２″への衝突時期が、当然のこ
とながら互いにずれる様に球体を自然下させる必要があ
る。 一方、第４図の例では、互いに異なる半径の数種の球体
３″′、３″′をほぼ同一の高さ又は異なる高さから落
下させて金属体１″′の表面２″′にそれぞれ異なる曲
率半径及び幅の複数の窪み４″′、４″′・・・を互い
に重複し合うように密に生じせしめて、表面に高さの不
規則な凹凸を形成している。 この様にすれば、剛体球と金属体表面との硬度、剛体球
の半径、落下高さ、落下球量等の条件を適宜調節するこ
とにより、金属体表面に所望の曲率半径、幅の複数の球
状痕跡窪みを所定密度で形成することができる。 従って、前記条件を選択することにより、金属体表面を
鏡面に仕上げたり、あるいは非鏡面に仕上げるなど、表
面粗さ、即ち凹凸の高さやビー２千等を自在に調節でき
るし、また、使用目的に応じて所望される形状の凹凸を
形成することもできる。 更には、ボートホール管、あるいはマンドレル押出し引
抜きＡｌ管表面の表面状態の悪さを、本発明の方法を用
いる事によって修正し、所望の表面状態に仕上げること
が出来る。これは、表面の規則な凹凸が剛体球の衝突に
より塑性変形されることによるものである。 また、本発明の表面処理金属体１は、球状痕跡窪み４内
に更に微小な凹凸が形成されていることをもう１つの特
徴とする。即ち、第５図に拡大して示した様に、球状痕
跡窪み４内表面の一部分乃至全体に微小な凹凸乃至凹凸
群５が形成されている。 この様な微小凹凸は、剛体球３として、例えば第６図に
示した様な、表面に凹凸６を有する剛体球を使用するこ
とにより形成される。 表面に凹凸を有する剛体球は、例えばエンボス、波付は
等の塑性加工処理を応用する方法、地荒し法（梨地法）
等の粗面化方法など、機械的処理により凹凸を形成する
方法、酸やアルカリによる食刻処理等化学的法により凹
凸を形成する方法などを用いて剛体球を処理することに
より作製することができる。また更に、この様に凹凸を
形成した剛体球表面に、電解研摩、化学研摩、仕上げ研
摩等、又は陽極酸化皮膜形成、化成皮膜形成、めっき、
はうろう、塗装、蒸着膜形成、ＣＶＤ法による膜形成な
どの表面処理を施して、凹凸形状、硬度などを適宜調整
することができる。 本発明の表面処理金属体の基材は、使用目的に応じたい
かなる種類の金属でもよいが、アルミニラム及びアルミ
ニウム合金、ステンレス、鋼鉄。 銅及び銅合金、マグネシウム合金などが実用的である。 また、金属体の形状は任意に選択することができるが、
例えば電子写真感光体の基体（支持体）としては、板状
、円筒状、柱状、無端ベルト状等の形状が実用的である
。 本発明で使用する剛体球は１例えばステンレス、アルミ
ニウム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属、セラミック、
プラスチック等の各種剛体球を使用することができ、と
りわけ耐久性及び低コスト化の理由により、ステンレス
及び鋼鉄の剛体球が好ましい０球体の硬度は、金属体の
硬度よりも高くても低くてもよいが、球体を繰返し使用
する場合は、金属体の硬度よりも高くすることが好まし
い。 本発明の表面処理金属体は、電子写真感光体等の光導電
部材の支持体、コンピューターメモリー用磁気ディスク
基板、レーザースキャン用のポリゴンミラー基体に適し
ている。また、これ等とは別に、従来、ダイヤバイトに
よる鏡面仕上げ、円筒研削仕上げ、ラッピング仕上げ等
の手段を用い好ましくはＲ’＝０．０５μｍ以下の平面
度ｍ　＆　Ｘ に仕上げられる各種電気乃至電子デバイスの構成部材と
しても最適である。 また１例えば、電子写真感光体ドラムの支持体として用
いる場合、アルミニウム合金等を通常の押出加工により
得られるボートホール管あるいはマンドレル管を、更に
引抜加工して得られる引抜管に必要に応じて熱処理、調
質等の処理を加え、この円筒（シリンダー）を、例えば
第７図（模式横断面図）及び第６図（模式縦断面図）に
示した構成の装置を用いて本発明方法を実施し、支持体
を作製する。 第７図及び第８図において、１１は支持体作成用の例え
ばアルミニウムシリンダーである。シリンダー１１は、
例えば引抜管のままでもよいし、適度に表面精度を仕上
げられていてもよい。 シリンダーｌｌは、回転軸（受）１２に軸支され、モー
タ等の適宜の駆動手段１３で駆動され、ほぼ軸芯のまわ
りで回転可使とされている。 １４は軸受１２に軸支され、シリンダー１１と同一の方
向に回転される回転容器であり、多数の、表面に凹凸を
有する剛体球１５を収容している。 剛体球１５は、容器１４内壁から突出した複数のリブ１
６に担持され、且つ容器１４の回転によって容器上部ま
で輸送され、シリンダー１１上に向は落下する。 回転速度及びシリンダー１１、剛体球１５を保持する回
転容器１４の径は、形成する痕跡窪みの密度及び剛体球
の供給量等を考慮して適宜に決定され制御される。 回転容器１４を回転させると適度の回転速度の時に容器
壁に付いて輸送される剛体球１５は落下し、シリンダー
１１に衝突し、その表面に痕跡窪みを形成し凹凸を生じ
せしめる。 なお、容器１４の壁に均一に孔を穿っておき、回転時に
容器１４外部のシャワー管１７より洗浄液を噴射する機
構にし、シリンダー１１と剛体球１５及び回転容器１４
を洗浄する様に構成することもできる。この場合、剛体
球同志、又は剛体球と回転容器との接触により生ずる静
電気によって付着するゴミ等を回転容器外へ洗い出すこ
とになり、所望の支持体を作製できる。 又、上記洗浄液として、乾燥むら、あるいは液だれを防
ぐため、不揮発性物質単独、又は、トリエタン、トリク
レン等の通常洗浄液との混合液を用いるのが好ましい。 以下、本発明の光導電部材の構成例について説明する。 この様な光導電部材は、支持体上に例えば有機光導電物
質や無機光導電物質を含む感光層を設けて構成される。 支持体の形状は、所望によって決定されるが、例えば電
子写真用として使用するのであれば、連続高速複写にの
場合には、無端ベルト状又は前述した様に円筒状とする
のが望ましい、支持体の厚みは、所望通りの光導電部材
が形成される様に適宜決定されるが、光導電部材として
可撓性が要求される場合には、支持体としての機能が十
分発揮される範囲内であれば可能な限り薄くされる。し
かしながら、この様な場合にも、支持体の製造上及び取
扱い上、更には機械的強度等の点から１通常は４００川
ｍ以上とされる。 支持体表面は、本川により表面処理を施され、鏡面とさ
れ乃至は干渉縞防止等の目的で非鏡面とされ、あるいは
所望形状の凹凸が付与される。 例えば支持体表面を非鏡面化したり、表面に凹凸を付与
して粗面化すると、支持体表面の凹凸の合せて感光層表
面にも凹凸が生ずるが、露光の際にこれら支持体表面及
び感光層表面での反射光に位相差が生じ、シェアリング
干渉による干渉縞を生じ、あるいは反転現像時に黒斑点
あるいはスジを生じて画像欠陥を生ずる。この様な現象
は特に可干渉光であるレーザビーム露光を行なった場合
に顕著に現れる。 本発明においては、この様な干渉縞を、支持体表面に形
成される球状痕跡窪みの曲率半径Ｒと幅ｒとを調節する
ことにより防１卜することができる。 即ち、本発明の表面処理金属体を支持体とした場合、□
を０．０３５以ヒとすると各々の痕跡窪み内にシェアリ
ング干渉によるニュートンリングが０．５本以上存在す
ることになり、光導電部材全体の干渉縞を各痕跡窪み内
に効果的に分散して存在させることができ、干渉防止が
より一層効果的に達成することが可能となる。また、　
　Ｒの上限は特に制限されないが、よりψましくは、 ０．０３５　　≦　□　≦　　０．５ ０．５を超えると、窪みの幅ｒが相対的に大きくなり、
画像ムラなどを派生し易い状況となる。 また、痕跡窪みの曲率半径Ｒは、Ｏ，１ｍｍ≦Ｒ≦２．
０ｍｍ、更には０．２ｍｍ≦Ｒ≦０．４ｍｍとされるの
が望ましい。Ｒが、０．１ｍｍ未満であると、剛体球を
小さく軽くして落下高さを確保しなければならず、痕跡
窪みの形成をコントロールしにくくなるため好ましくな
い、また、ｒの選択幅も必然的に狭くなる。また、Ｒが
２．０ｍｍを超えると、剛体球を大きく重くして、落下
高さを調節するため、例えばｒを比較的小さくしたい場
合に落下高さを極端に低くする必要があるなど、矢針痕
跡窪みの形成をコントロールしにくくなるため好ましく
ない。 また、痕跡窪みの幅ｒは、０．０２〜０．５ｍｍとされ
るのが望ましい。ｒが０．０２ｍｍ未満であると、矢張
、剛体球を小さく軽くして落下高さを確保しなければな
らず、痕跡窪みの形成をコントロールしにくくなるため
好ましくない。 またｒは光照射スポット径以下が望ましく、特に、レー
ザービームを使用する場合には、解像力以下とするのが
望ましい、この点で、ｒが０．５ｍｍを超えると画像ム
ラなどを派生し易くなると共に、解像力を超え易い状況
となるため好ましくない。 更に、各痕跡窪み内に微小凹凸を生ずる様、前述した様
に表面に凹凸を形成した剛体球を用いて処理すると、上
記の干渉防止効果に、微小凹凸による散乱効果が加わり
、干渉防止を一層確実なものとすることができる。 従来の技術の場合には、光導電部材に用いる金属支持体
はその表面をランダムに粗すことで、乱反射させ、干渉
縞の生じない様、工夫されていた。 しかし、この様な場合、画像転写後のクリーニングにお
いて、例えばブレードを用いた場合には、ブレード面は
光導電部材の凹凸の凸部に主に当たる為、クリーニング
性が悪く、又、凸部での光導電部材及びブレード表面の
摩耗が大きく、結果として、両者の耐久性は良くなかっ
た。 これに対し、本発明の表面処理金属体を支持体とした場
合には、元来、ある程度平滑にされた表面上に表面処理
を施すことができ、散乱表面は窪み（凹部）内に存在す
る為、クリーニング時において、ブレードは凸部で接触
するのではなく、全体に均−一様な平面で接触する事と
なる。 従って、ブレードや光導電部材表面に大きな負荷がかか
らず、両者の耐久性は向上する。 痕跡窪み内に付与される微小凹凸の高さ、即ちμｍの範
囲であることが好ましい、０．５μｍ未満であると散乱
の効果が十分に得られず、２０ＪＬｍを超えると痕跡窪
みによる凹凸と比較して微小凹凸が大きくなり過ぎ、痕
跡窪みが球状をなさなくなり、高画質を得るためには干
渉縞を防止する効果が十分に得られなくなる。また、光
導電層の不均一性を増長することとなり、画像欠陥を生
じ易くなるため好ましくない。 本発明の光導電３部材において、支持体上に、例えば有
機光導電体から成る感光層を設ける場合、この感光層を
電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離させることができ
る。また、これら感光層と支持体との間には、例えば感
光層から支持体へのキャリア注入を阻止するためや感光
層と支持体との接着性を改良するために１例えば有機樹
脂から成る中間層を設けることができる。電荷発生層は
、例えば、従来公知のアゾ顔料、キノン顔料、キノシア
ニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイ
ミダゾール顔料、キナクドリン顔料、特開昭５７−１６
５２６３号に記載されたアズレン化合物、無金属フタロ
シアニン顔料（ｍｅｔａｌｆｒｅｅ　ｐｈｔｈａｌｏｃ
ｙａｎｉｎｅ）、金属イオンを含むフタロシアニン顔料
等の１種もしくは２種以上を電荷発生物質とし、ポリエ
ステル、ポリスチレン、ポリビニールブチラール、ポリ
ビニールピロリドン、メチルセルロース、ポリアクリル
酸エステル類、セルロースエステルなどの結着剤樹脂中
に有機溶剤を用いてに分散し、塗布して形成される６組
成は、例えば電荷発生物質１００重量部に対して、結着
剤樹脂２０〜３００重量部とされる。電荷発生層の層厚
は、０　、０１−１　、　ＯＩＬｍ＋７）範囲が望まし
い。 また、電荷輸送層は、例えば主鎖又は側鎖にアントラセ
ン、ヒレン、フェナントレン、コロネンなどの多環芳香
族化合物、又はインドール、オキサゾール、インオキサ
ゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキ
サジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、ドリアプ
ールなどの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラゾ
ン化合物等の正孔輸送物質をポリカーボネート、ポリメ
タクリル酸エステル類、ボリアリレート、ポリスチレン
、ポリエステル、ポリサルホン、スチレン−７クリロニ
トリルコボリマー、スチレン−メタクリル酸メチルコポ
リマーなどの結着剤樹脂中に有機溶剤を用いて分散し、
塗布して形成される。 電荷輸送層の厚みは、５〜２０μｍとされる。 又、前記電荷発生層と電荷輸送層とを積層させる場合、
帰順は任意であり１例えば支持体側から、電荷発生層、
電荷輸送層の順で積層させることができるし、あるいは
、これとは逆の帰順とすることもできる。 又、前述の感光層としては、以上に限らず、例えば、Ｉ
　ＢＭ　　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｒｅ５ｅａ
ｒｃｈ　ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　、　１９７１
年１月、ｐｐ７５　Ｎ８９に開示されたポリビニールカ
ルバゾールとトリニトロフルオレノンからなる電荷移動
錯体、米国特許第４３９５１８３号、同第４３２７１６
９号公報などに記載されたピリリウム系化合物を用いた
感光層、あるいはよく知られている酸化亜鉛、硫化カド
ミウムなどの無機光導電物質を樹脂中に分散含有させた
感光層や、セレン、セレン−テルルなどの蒸着フィルム
、あるいはケイ素原子を含む非晶質材料から成る膜体等
を使用することも可能である。 このうち、感光層としてケイ素原子を含む非晶質材料か
ら成る膜体を用いた光導電部材は、前述した様な本発明
に係る支持体上に、例えば電荷注入阻止層、感光層（光
導電層）、及び表面保護層を順次積層した構成を有する
。 電荷注入阻止層は、例えば水素原子（Ｈ）及び／又はハ
ロゲン原子（Ｘ）を含有するアモルファスシリコン［ａ
−Ｓ　ｔ　（Ｈ，Ｘ）　］で構成されると共に、伝導性
を支配する物質として１通常半導体の不純物として用い
られる周期率表第１ＩＩ族乃至は第Ｖ族に属する元素の
原子が含有される。電荷注入阻止層：層の層厚は、好ま
しくは０．０１〜ｌＯｐ、　ｍ　、より好適には０　、
０５〜８　、ｗｍ、　＠適には０．０７〜５μｍとされ
るのが望ましい。 電荷注入阻止層の代りに、例えばＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ□
、Ｓｉ３Ｎ４．ポリカーボネート等の電気絶縁材料から
成る障壁層を設けてもよいし、あるいは電荷注入阻止層
と障壁層とを併用することもできる。 感光層は、例えば水素原子とハロゲン原子を含有するａ
−５ｉで構成され、所望により電荷注入阻止層に用いる
のとは別種の伝導性を支配する物質が含有される。感光
層の層厚は、好ましくは１〜ｉｏ０４ｍ、より好適には
１〜８０　ＩＬｍ、最適には２〜５０Ｂｍとされるのが
望ましい。 表面保護層は例えばＳｉＣ（０＜ｘ＜１）、Ｓ　ｉ　Ｎ
　　（０（ｘ＜　１）等で構成され、層厚は、好ましく
は０．０１〜１０Ｂｍ、より好適には０．０２〜５μｍ
、最適には０．０４〜５μｍとされるのが望ましい。 本発明において、ａ−５ｔ（Ｈ，Ｘ）で構成される光導
電層等を形成するには１例えばグロー放電法、スパッタ
リング法、あるいはイオンブレーティング法等の従来公
知の種々の放電現象を用する真空堆積法が適用される。 次に、グロー放電分解法による光導電部材の製造法の１
例について説明する。 第９図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装置
を示す、堆積槽２１は、ベースプレート２２と槽壁２３
とトッププレート２４とから構成され、この堆積槽２１
内には、カソード電極２５が設けられており、ａ−５ｔ
（Ｈ，Ｘ）堆積膜が形成される例えばアルミニウム合金
製の本発明に係る支持体２６はカソード電極２５の中央
部に設置され、７ノード電極としての役割も兼ねている
。 この製造装置を使用してａ−３ｉ　（Ｈ！　Ｘ　）堆積
膜を支持体上に形成するには、まず、原料ガス流入バル
ブ２７及びリークバルブ２８を閉じ、排気バルブ２９を
開け、堆積槽２１内を排気する。 −〇 真空計３０の読みが５Ｘ１０　　ｔｏｒｒになった時点
で原料ガス流入バルブ２７を開いて、マスフローコント
ロラー３１内で所定の混合比に調整された、例えばＳｉ
Ｈ４ガス、Ｓ　ｔ２　Ｈ６ガス、ＳｉＦ、ガス等を用い
た原料混合ガスを堆積槽２１内の圧力が所望の値になる
様に真空計３０の読みを見ながら排気バルブ２９の開口
度を調整する。そしてドラム状支持体２６の表面温度が
加熱ヒータ３２により所定の温度に設定されていること
を確認した後、高周波電源３３を所望の電力に設定して
堆積槽２１内にグロー放電を生起させる。 また、層形成を行なっている間は、！形成の均一化を図
るためにドラム状支持体２６をモータ３４により一定速
度で回転させる。このようにしてドラム状支持体２６上
にａ−３ｉ堆積膜を形成することができる。 以下、本発明を実施例に基きより詳細に説明する。 試験例　１ 径０．６ｍｍのＳＵＳステンレス製剛体球に化学的処理
を施して表面を食刻して凹凸を形成せしめた。使用する
処理剤としては、塩酸、フッ酸、硫酸、クロム酸等の酸
、苛性ソーダ等のアルカリを挙げることができる０本試
験例においては、濃塩酸ｌに対して純水１〜４の容量比
で混合した塩酸溶液を用い、剛体球の浸漬時間、酸濃度
等を変化させ、凹凸の形状を適宜調整した。 かくして処理された剛体球（表面凹凸の表面粗さＲ＝５
ｐｍ）を用い、第７図及び第８図ｍ　ａ　Ｘ に示した装置を用い、アルミニウム合金製シリンダー（
径　６０ｍｍ、長さ２９８ｍｍ）の表面を処理し、凹凸
を形成させた。 真球の半径Ｒ′、落下高さｈと痕跡窪みの曲率半径Ｒ，
＠ｒとの関係を調べたところ、痕跡窪みの曲率半径Ｒと
幅ｒとは、真球の半径Ｒ′と落下高さｈ等の条件により
決められることが確認された。また、痕跡窪みのピッチ
（痕跡窪みの密度、また凹凸のピッチ）は、シリンダー
の回転速度、回転数乃至は剛体真珠の落下量等を制御し
て所望のピッチに調整することができることが確認され
た。 また痕跡窪み内には、剛体球の表面凹凸あるいは表面粗
さに応じた微小凹凸が形成されることが確認された。 実施例　１〜６、比較例　ｌ 第１表に示した□に制御した以外は、試験例１と同様に
アルミニウム合金製シリンダーの表面を処理し、これを
電子写真用光導電部材の支持体として利用した。 その際、各表面処理シリンダーについて、表面処理後に
生じている表面欠陥（エグレ状の傷、ひび割れ、スジ状
キズ等）を目視及び金属顕微鏡により検査した。結果を
表に示した。 次に、これらの表面処理を施したアルミニウム合金製シ
リンダーのそれぞれの上に、第９図に示した光導電部材
の製造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従
い、下記の条件により光導電部材を作製した。 堆積膜の積層順序　使用原料ガス　膜厚（ｐｍ）■電荷
注入阻市層　ＳｉＨ４／　　　０．６２Ｈ６ ■光導電層　　　　ＳｉＨ４２０ ■表面阻止層　　　ＳｉＨ４／　　　０．Ｉ２Ｈ４ こうして得られた各光導電部材を、キャノン（株）製レ
ーザービームプリンターＬＢＰ−Ｘを改造した実験機に
設置して画出しを行ない、干渉縞、黒ポチ、画像欠陥等
の総合評価を行なった。 結果を第１表に示した。 なお、比較として、従来のダイヤモンドバイトにより表
面処理されたアルミニウム合金製シリンダーを用いて光
導電部材を作製し、同様に総合評価した。 第１表 第　１　表（続き） （＊）：Ｘ　　実用的に問題がある ム　高画質上では実用的に多少問題 がある Δ　高画質上でも実用に問題なし ０　高画質上でも実用性良好 Ｏ高画質上でも実用性特に良好 なお、実施例１〜６の光導電部材の支持体におけるＲは
何れも０．１〜２．０ｍｍ、ｒは何れも０．０２〜０．
５ｍｍの範囲とした。 実施例７〜１０、比較例２ の剛体球を用いた以外は実施例５と同様にして光導電部
材を作製した。かくして得られた光導電部材を用いて第
１表と同様の評価を行なった。結果を第２表に示した。 第　　　　２　　　表 第　　　２　　表（続き） じ 実施例１１．１２ 層構成を以下のとおりとした以外は、実施例１〜６と同
様の層構成の電子写真用の光導電部材を作製した。 なお、この際、アルミニウム合金製シリング−０，１（
実施例１２）とした２つの光導電部材を作製した。 まず、共重合ナイロン樹脂を溶剤に溶解した塗布液を用
いて層厚１ルｍの中間層を形成した。 次いで、ε型銅フタロシアニン、結着剤樹脂としてブチ
ラール樹脂を含む塗液を中間層上に塗布して、層厚０．
１５ｐｍの電荷発生層、次いで、ヒドラゾン化合物、結
着剤樹脂としてスチレン−メタクリル酸メチル共重合樹
脂を含む塗液を電荷発生層上に塗布して、層厚１６Ｂｍ
の電荷輸送層を順次形成して光導電部材を作製した。 かくして得られた光導電部材を実施例１〜６と同一の総
合評価により評価したところ、実施例１１及び実施例１
２共に、実用的であり、とりわけ実施例１１の光導電部
材が優れていることが分った。 （発明の効果〕 本川の表面処理・金属体によ、れば、所望の使用特性を
損う表面欠陥を生じやすい切削加工を伴わずに表面処理
がなされ、例えば、この金属体を光導電部材の支持体と
して用いると、成膜の均一性、電気的、光学的乃至は光
導電的特性の均一性に優れた光導電部材が得られ、特に
、電子写真感光用として用いた場合、画像欠陥が少なく
、高品質の画像、特にレーザー光等の可干渉光を用いた
場合には、干渉縞のない画像を得ることができる。 また、表面に凹凸を形成した剛体球を用いて朕跡窪み内
に微小凹凸を形成するため、更に精密な凹凸の形成が可
能となると共に、散乱の効果も加わり、−滑子渉縞のな
い優れた画像を形成することができる。 ４、図面の簡単な説明 第１図乃至は第４図は、本発明により形成される金属体
表面の凹凸の形状を説明するための模式図である、第５
図は、第１図中球状痕跡窪みの拡大断面図、第６図は、
本発明の表面処理用剛体球の断面図、第７図及び第８図
は、それぞれ本発明の表面処理金属体の製造法を実施す
るための装置の一構成例を説明するための模式横断面図
及び模式縦断図、第９図はグロー放電分解法による光導
電部材の製造装置を示した模式図である。 １．１’、１”、１”’ ・・中表面処理金属体、 ２．２’、２”、２”’ ・・・表面、 ３．３’、３”、３”’ ・ΦΦ剛体球、 ４．４’、４”、４”’ ・・・球状痕跡窪み、 ５拳・・痕跡窪み内の微小凹凸、 ６・・働剛体球の表凹凸。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸が形成され
   、しかも前記球状痕跡窪み内に更 に微小な凹凸が形成されている金属体から 成ることを特徴とする表面処理金属体。 （２）凹凸がほぼ同一の曲率及び幅の球状痕跡窪みによ
   り形成されている特許請求の範囲 第（１）項記載の表面処理金属体。 （３）金属体表面に、表面に凹凸を有する複数の剛体球
   を落下させて、前記金属体表面に 前記剛体球の痕跡窪みによる凹凸を形成せ しめ、しかも前記剛体球の表面凹凸により 前記痕跡窪み内に更に微小な凹凸を形成せ しめることを特徴とする表面処理金属体の 製造法。 （４）ほぼ同一径の剛体球をほぼ同一高さから落下させ
   る特許請求の範囲第（３）項記載 の表面処理金属体の製造法。 （５）支持体上に光導電層を有する光導電部材において
   、前記支持体が、表面に複数の球 状痕跡窪みによる凹凸が形成され、しかも 前記球状痕跡窪み内に更に微小な凹凸が形 成されている表面処理金属体から成ること を特徴とする光導電部材。 （６）凹凸がほぼ同一の曲率及び幅の球状痕跡窪みによ
   り形成されている特許請求の範囲 第（５）項記載の光導電部材。 （７）球状痕跡窪みの曲率Ｒと幅ｒとが、 ０．０３５≦（ｒ／Ｒ）≦０．５ を満足する値をとる特許請求の範囲第 （５）項又は第（６）項記載の光導電部 材。 （８）球状痕跡窪みの曲率Ｒが０．１ｍｍ ≦Ｒ≦２．０ｍｍである特許請求の範囲第 （５）項乃至第（７）項のうちの１に記載 の光導電部材。 （９）球状痕跡窪みの幅ｒが０．０２ｍｍ ≦ｒ≦０．５ｍｍである特許請求の範囲第 （５）項乃至第（８）項のうちの１に記載 の光導電部材。 （１０）球状痕跡窪み内の微小凹凸の高さが０．５〜２
   ０μｍである特許請求の範囲第 （５）項乃至第（９）項のうちの１に記載 の光導電部材。 （１１）表面に凹凸が形成された剛体球から成り、該球
   を金属体表面に落下させたとき に、球状痕跡窪みを形成ししかも該痕跡窪 み内に更に微小な凹凸を付与せしめること ができることを特徴とする金属体表面処理 用剛体球。 （１２）剛体球表面の凹凸が、化学的乃至は機械的処理
   により形成されている特許請求の 範囲第（１１）項記載の金属体表面処理 用剛体球。 （１３）剛体球表面が膜体で被覆され凹凸の高さが調整
   されている特許請求の範囲第 （１１）項又は第（１２）項記載の金属体 表面処理用剛体球。 （１４）表面粗さが０．５〜２０μｍの範囲となってい
   る特許請求の範囲第（１１）項乃 至第（１３）項のうちの１に記載の金属体 表面処理用剛体球。