JPS62287405A - 磁気ヘツド - Google Patents
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- JPS62287405A JPS62287405A JP13143586A JP13143586A JPS62287405A JP S62287405 A JPS62287405 A JP S62287405A JP 13143586 A JP13143586 A JP 13143586A JP 13143586 A JP13143586 A JP 13143586A JP S62287405 A JPS62287405 A JP S62287405A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〈産業上の利用分野〉
本発明は磁気ヘッド、特に高透磁率材ブロック上に高飽
和磁束密度膜を形成した磁気コアを有する磁気ヘッドに
関するものである。
和磁束密度膜を形成した磁気コアを有する磁気ヘッドに
関するものである。
〈従来の技術〉 −
従来、メタル塗布テープ、金属蒸着テープ等の高抗磁力
磁性媒体に適する磁気ヘッドとして、いわゆるMIG
(Metal in Gap) ヘッドと呼ばれる
ものがあり、既に実用に供されている。
磁性媒体に適する磁気ヘッドとして、いわゆるMIG
(Metal in Gap) ヘッドと呼ばれる
ものがあり、既に実用に供されている。
MIGヘッドは、コアの大部分にフェライト等の高透磁
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束密度
材、即ち、パーマロイ、センダスト、アモルファス等の
合金磁性材で形成した構造となっている。MIGヘッド
には、摺動面上における金属磁性材とフェライトとの境
界が、作動ギャップに平行なタイプ(これをPタイプと
呼ぶことにする。たとえば特開昭51−140708号
公報等が開示されている)と、前記境界が作動ギャップ
と非平行でアジマスが付いたタイプ(これをAタイプと
呼ぶことにする。たとえば、特開昭54−96013号
公報、特開昭60−32107号公報等に開示されてい
る。)とがあり、現在までのところAタイプのM I
Gヘッドが実用化されている。理由は、PタイプのM
I Gヘッドでは金属磁性材とフェライトとの境界が疑
似ギャップとして作用し、これによるコンタ−効果によ
り、周波数−出力特性にpeak−t。
率材を用いギャップ近傍の磁極先端部を高飽和磁束密度
材、即ち、パーマロイ、センダスト、アモルファス等の
合金磁性材で形成した構造となっている。MIGヘッド
には、摺動面上における金属磁性材とフェライトとの境
界が、作動ギャップに平行なタイプ(これをPタイプと
呼ぶことにする。たとえば特開昭51−140708号
公報等が開示されている)と、前記境界が作動ギャップ
と非平行でアジマスが付いたタイプ(これをAタイプと
呼ぶことにする。たとえば、特開昭54−96013号
公報、特開昭60−32107号公報等に開示されてい
る。)とがあり、現在までのところAタイプのM I
Gヘッドが実用化されている。理由は、PタイプのM
I Gヘッドでは金属磁性材とフェライトとの境界が疑
似ギャップとして作用し、これによるコンタ−効果によ
り、周波数−出力特性にpeak−t。
−peak値で数dB程度のリップルが現われるからで
ある。
ある。
ところ゛で上述の如′−きMIGヘッドにあっては、作
動磁気ギャップは、いわゆるツキ合わせ工程に依り形成
されていた。このように従来のツキ合わせ工程により作
動ギャップを形成したヘッドは、ギャップ幅のバラツキ
が多く、結果としてヘッド間の特性のバラツキも大きか
った。このバラツキを無くす目的でツキ合わせ工程を経
ずにギャップを形成したMIGヘッドも提案されている
。この種のヘッドでは金属磁性膜上に磁気ギャップとな
るギャップ材となる絶縁膜を形成して、更にこの絶縁膜
上に更に金属磁性膜が形成されている。
動磁気ギャップは、いわゆるツキ合わせ工程に依り形成
されていた。このように従来のツキ合わせ工程により作
動ギャップを形成したヘッドは、ギャップ幅のバラツキ
が多く、結果としてヘッド間の特性のバラツキも大きか
った。このバラツキを無くす目的でツキ合わせ工程を経
ずにギャップを形成したMIGヘッドも提案されている
。この種のヘッドでは金属磁性膜上に磁気ギャップとな
るギャップ材となる絶縁膜を形成して、更にこの絶縁膜
上に更に金属磁性膜が形成されている。
この様なツキ合せ工程を含まないMIGヘッドとしては
Aタイプのものが特開昭60−177314号公報に開
示され、Pタイプのものとしては本出願人に係る特願昭
60−187486号に開示している。
Aタイプのものが特開昭60−177314号公報に開
示され、Pタイプのものとしては本出願人に係る特願昭
60−187486号に開示している。
ツキ合せ工程を含まないAタイプM I Gヘッドのコ
ア半休を用いたヘッドはコンタ−効果を完全に防止でき
るという利点を有するが、製造工程が複雑になる上に、
要求される加工精度も高くなり、コストが高(なってし
まうという問題を有する。
ア半休を用いたヘッドはコンタ−効果を完全に防止でき
るという利点を有するが、製造工程が複雑になる上に、
要求される加工精度も高くなり、コストが高(なってし
まうという問題を有する。
従ってツキ合せ工程を含まないPクイブMIGヘッドに
於いてコンタ−効果による悪影響等の諸問題を伴わず製
造できればコスト面で極めて有利となる。
於いてコンタ−効果による悪影響等の諸問題を伴わず製
造できればコスト面で極めて有利となる。
第13図はツキ合せ工程を含まないPタイプのMIGヘ
ッドの例を示す図であり、1はフェライト等の高透磁率
材ブロック、2,7はセンダスト等の高飽和磁束密度材
よりなる磁性膜、3は巻線窓用溝、6は磁気ギャップ、
9.lOはガラス等の非磁性材である。
ッドの例を示す図であり、1はフェライト等の高透磁率
材ブロック、2,7はセンダスト等の高飽和磁束密度材
よりなる磁性膜、3は巻線窓用溝、6は磁気ギャップ、
9.lOはガラス等の非磁性材である。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、上述の如きツキ合せ工程を含まないPタ
イプMIGヘッドに於いては以下の如き問題がある。
イプMIGヘッドに於いては以下の如き問題がある。
第14図は従来のPタイプMIGヘッドの問題点につい
て説明するためのコア先端部を示す図である。
て説明するためのコア先端部を示す図である。
第14図に於いてDはギャップデプス、σ0.σ1゜σ
3は夫々媒体摺動面、Sgは磁気ギャップ形成面、Σは
フェライトlとセンダスト膜2との境界面であり、面S
gと面Σとは平行である。
3は夫々媒体摺動面、Sgは磁気ギャップ形成面、Σは
フェライトlとセンダスト膜2との境界面であり、面S
gと面Σとは平行である。
今、この磁気ヘッドを使用していくと、媒体摺動面はσ
0からσ8.σ3へと変化していく。この時媒体摺動面
に於いて露呈する磁性膜2を斜線にて示す。図より明ら
かな如くヘッドが使用されていき、ギャップデプスが変
化していくと、面σ1までは摺動面上に現われる金属磁
性材の形状は変化しないが、面σ3上では、フェライト
との境界が後退し媒体摺動方向に広くなってしまい、磁
気特性が劣化してしまう。
0からσ8.σ3へと変化していく。この時媒体摺動面
に於いて露呈する磁性膜2を斜線にて示す。図より明ら
かな如くヘッドが使用されていき、ギャップデプスが変
化していくと、面σ1までは摺動面上に現われる金属磁
性材の形状は変化しないが、面σ3上では、フェライト
との境界が後退し媒体摺動方向に広くなってしまい、磁
気特性が劣化してしまう。
また第14図のヘッドに於いては内部応力の蓄積により
、巻線窓用溝4に近いフェライト1中に、C,、C3で
示す如きクラックが入り、製品歩留りを低下させてしま
う原因となっていた。
、巻線窓用溝4に近いフェライト1中に、C,、C3で
示す如きクラックが入り、製品歩留りを低下させてしま
う原因となっていた。
更に、金属磁性膜とフェライトとの境界近傍に内部応力
が蓄積すると、境界における磁気的性質の不連続性が増
し、コンタ−効果も大きくなり、ヘッドの電磁変換特性
が悪化する。
が蓄積すると、境界における磁気的性質の不連続性が増
し、コンタ−効果も大きくなり、ヘッドの電磁変換特性
が悪化する。
本発明は上述の如き問題に鑑み、経時変化に対しても安
定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩留りが良く、磁気
特性が良好なコア構造を有する低コストの磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩留りが良く、磁気
特性が良好なコア構造を有する低コストの磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉
かかる目的下に於いて本発明の磁気ヘッドにあっては、
巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記溝の形成されている面に対し、前記溝を除
く部分の少なくとも前記溝より媒体摺動面側に形成され
た高飽和磁束密度材よりなる第1の磁性膜と、該第1の
磁性膜と前記ブロックとの境界面に対して前記媒体摺動
面に平行に形成され、磁気ギャップとなる絶縁膜と、該
絶縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2の
磁性膜とを有する構造を採用している。
巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記溝の形成されている面に対し、前記溝を除
く部分の少なくとも前記溝より媒体摺動面側に形成され
た高飽和磁束密度材よりなる第1の磁性膜と、該第1の
磁性膜と前記ブロックとの境界面に対して前記媒体摺動
面に平行に形成され、磁気ギャップとなる絶縁膜と、該
絶縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2の
磁性膜とを有する構造を採用している。
く作用〉
上述の如き磁気ヘッドに於いては巻線用溝の内部には第
1の磁性膜は形成されておらず、媒体摺動面に於ける第
1の磁性膜が摺動面の変化に係らず同じ形状となるため
経時変化に対しても安定な磁気特性が得られ、かつ内部
応力も大きくならない為製造時の歩留りも向上すると共
にコンタ−効果による磁気0性の劣化も最小限に抑えら
れるものである。
1の磁性膜は形成されておらず、媒体摺動面に於ける第
1の磁性膜が摺動面の変化に係らず同じ形状となるため
経時変化に対しても安定な磁気特性が得られ、かつ内部
応力も大きくならない為製造時の歩留りも向上すると共
にコンタ−効果による磁気0性の劣化も最小限に抑えら
れるものである。
〈実施例〉
第1図は、本発明の最も典型的な構成を有するヘッドの
実施例につき、その概略を示す斜視図、第2図〜第7図
は、第1図のヘッドの製造工程の概略を説明する図、第
8図(a)〜(c)は、摺動面上の構造が第1図のヘッ
ドと異なる種々の実施例を示す図である。
実施例につき、その概略を示す斜視図、第2図〜第7図
は、第1図のヘッドの製造工程の概略を説明する図、第
8図(a)〜(c)は、摺動面上の構造が第1図のヘッ
ドと異なる種々の実施例を示す図である。
第1図において、lは単結晶フェライト等の高透磁率材
ブロック、2は高透磁率材1上に、たとえばスパッタ等
の物理蒸着によって成膜されたパーマロイ、センダスト
、アモルファス等の高飽和磁束密度を有する第1の磁性
膜としての合金磁性材、6は5i03などのギャップ材
で、高飽和磁束密度材2上に同じ(スパッタ等により成
膜され、7は第2の磁性膜としての合金磁性材で、ギャ
ップ材7上に同じくスパッタ等により成膜される。
ブロック、2は高透磁率材1上に、たとえばスパッタ等
の物理蒸着によって成膜されたパーマロイ、センダスト
、アモルファス等の高飽和磁束密度を有する第1の磁性
膜としての合金磁性材、6は5i03などのギャップ材
で、高飽和磁束密度材2上に同じ(スパッタ等により成
膜され、7は第2の磁性膜としての合金磁性材で、ギャ
ップ材7上に同じくスパッタ等により成膜される。
3(3□〜33)は、巻線窓用溝、またその壁面5には
低融点ガラスが充填されている。9は低融点ガラス5と
同程度か低い融点を有する低融点ガラス、lO〜12は
保護板で、10は非磁性フェライトあるいは結晶化ガラ
スなど耐摩耗性の高い非磁性材、11はたとえばフェラ
イト単結晶の如き高透磁率材で、12は、低融点ガラス
9と同程度かより高い融点を有する接着剤であり、13
は巻線窓、である。
低融点ガラスが充填されている。9は低融点ガラス5と
同程度か低い融点を有する低融点ガラス、lO〜12は
保護板で、10は非磁性フェライトあるいは結晶化ガラ
スなど耐摩耗性の高い非磁性材、11はたとえばフェラ
イト単結晶の如き高透磁率材で、12は、低融点ガラス
9と同程度かより高い融点を有する接着剤であり、13
は巻線窓、である。
本ヘッドの製造上、構造上の特徴をい(つか示す。先ず
ヘッドとしての基本構造である磁極−ギャップ−磁極の
要素機−能は、高透磁率材基板1上に次々に成膜される
第1の磁極としての高飽和磁束密度材2と、ギャップ材
6、第2の磁極としての高飽和磁束密度材7とによって
満たされる。ヘッド摺動面上において、高透磁率材基板
1と高飽和磁束密度材2との境界は、ギャップ6に対し
平行になっており、コンタ−効果の出現を完全に抑制す
ることは困難であるが、後述する様な構造により実用上
問題とならない程度にまで抑圧できることが分かった。
ヘッドとしての基本構造である磁極−ギャップ−磁極の
要素機−能は、高透磁率材基板1上に次々に成膜される
第1の磁極としての高飽和磁束密度材2と、ギャップ材
6、第2の磁極としての高飽和磁束密度材7とによって
満たされる。ヘッド摺動面上において、高透磁率材基板
1と高飽和磁束密度材2との境界は、ギャップ6に対し
平行になっており、コンタ−効果の出現を完全に抑制す
ることは困難であるが、後述する様な構造により実用上
問題とならない程度にまで抑圧できることが分かった。
保護板は摺動面側が非磁性材10となっており、従って
第2の磁極7との間のスキ間あるいは接着剤層は疑似ギ
ャップとならない。また、保護板のギャップに面する側
の非磁性材10あるいは12の最下点P1は、巻線窓用
溝壁面3、の上端点P3と同程度の高さか、やや下(摺
動面を上として)に位置するが、可能な限り摺動面に近
い方が特性上好ましい。これは、保護板の高透磁率材1
1が摺動面に近い程、磁気回路の磁気抵抗が小さくなる
からである。このようなヘッド構造の場合、実効的なギ
ャップデプスは、点P、、P3の内6、摺動面に近い側
によって決められる。
第2の磁極7との間のスキ間あるいは接着剤層は疑似ギ
ャップとならない。また、保護板のギャップに面する側
の非磁性材10あるいは12の最下点P1は、巻線窓用
溝壁面3、の上端点P3と同程度の高さか、やや下(摺
動面を上として)に位置するが、可能な限り摺動面に近
い方が特性上好ましい。これは、保護板の高透磁率材1
1が摺動面に近い程、磁気回路の磁気抵抗が小さくなる
からである。このようなヘッド構造の場合、実効的なギ
ャップデプスは、点P、、P3の内6、摺動面に近い側
によって決められる。
従来提案されているつき合わせ工程を経ずに作られるヘ
ッドと本実施例との構造上量も異なる点は、第8図にお
いてフェライトコア1に刻ま゛れた巻線窓13を形成す
る為の溝3を形作る溝の壁面31゜33.33から可能
な限り金属磁性材が取除かれている事にある。さらに、
摺動面上、ギャップ6近傍のコア先端部はトラック幅出
しの為、はぼ平行な側面となるよう溝9が刻まれている
が、この溝加工によって現われるフェライトコアlの側
面にも金属磁性材は形成されていない。
ッドと本実施例との構造上量も異なる点は、第8図にお
いてフェライトコア1に刻ま゛れた巻線窓13を形成す
る為の溝3を形作る溝の壁面31゜33.33から可能
な限り金属磁性材が取除かれている事にある。さらに、
摺動面上、ギャップ6近傍のコア先端部はトラック幅出
しの為、はぼ平行な側面となるよう溝9が刻まれている
が、この溝加工によって現われるフェライトコアlの側
面にも金属磁性材は形成されていない。
以上のような構造上の特徴を有するヘッドの製造法を第
2図〜第7図を用いて説明する。
2図〜第7図を用いて説明する。
第2図において、lは、フェライト単結晶の直方体ブロ
ックの一部で、その−面には、物理蒸着、メッキ、CV
D等の方法により、高飽和磁束密度材2を厚さlOμm
〜50μm程度成膜する。ここで高飽和磁束密度材とし
てセンダストを用いる場合、膜2の表面がフェライトl
の表面と平行かやや凸状とすれば内部応力の発生を小さ
くできるものである。
ックの一部で、その−面には、物理蒸着、メッキ、CV
D等の方法により、高飽和磁束密度材2を厚さlOμm
〜50μm程度成膜する。ここで高飽和磁束密度材とし
てセンダストを用いる場合、膜2の表面がフェライトl
の表面と平行かやや凸状とすれば内部応力の発生を小さ
くできるものである。
成膜後、第3図に示すように、巻線窓用の第1の溝3を
切り、アルミ、銅、ニッケル、亜鉛、鉄等の細線4を溝
3に落し込み、融点が5509C〜600℃程の第1の
低融点ガラスで埋め込む。第4図では、溝を第1の低融
点ガラス5で埋め込んだ後、ギャップ面を形成するため
平面ラップした状態を示す。
切り、アルミ、銅、ニッケル、亜鉛、鉄等の細線4を溝
3に落し込み、融点が5509C〜600℃程の第1の
低融点ガラスで埋め込む。第4図では、溝を第1の低融
点ガラス5で埋め込んだ後、ギャップ面を形成するため
平面ラップした状態を示す。
平面ラップ後、第5図のように先ず5i03などのキャ
ップ材6を設計に応じ、たとえば0.2〜0.3μm1
続いてもう一方の磁極を形成するための第2の金属磁性
膜7をたとえば厚さlO〜501.Lm程成膜する。
ップ材6を設計に応じ、たとえば0.2〜0.3μm1
続いてもう一方の磁極を形成するための第2の金属磁性
膜7をたとえば厚さlO〜501.Lm程成膜する。
第6図は、ギャップ近傍のトラック幅を規制するため、
第2の溝8、〜85を加工した状態を示す。溝と溝とに
挟まれたトラック幅規制部の両側面はほぼ平行である。
第2の溝8、〜85を加工した状態を示す。溝と溝とに
挟まれたトラック幅規制部の両側面はほぼ平行である。
3層の膜2. 6. 7.相互及びフェライト1との密
着性その他に難があり、溝8.〜85を一度で加工でき
ない場合等には、トラフ、りの右側を規制する溝と、左
側を規制する溝とを2度に分けて加工する。また、溝を
低融点ガラスで埋める際には、金属磁性膜と低融点ガラ
スとの反応を防ぐ為、溝面に現われた金属磁性膜面上に
Cr、 Cr O3等の金属膜、金属酸化膜を薄く成
膜しておくと良い。第7図はトラック幅加工用の溝81
〜85を利用し、予め用意した保護ブロック10−12
を融点が500°C〜550℃程の第2の低融点ガラス
9I〜95で溶着した様子を示す。保護ブロックの上部
、摺動面側は、非磁性材lO1下部はフェライト単結晶
等の高透磁率材11であり、2つの部材は、融点が55
0°C〜600℃程の第3の低融点ガラス等の接着剤1
2で接着されている。このコアブロックから点線Ll+
L3で示したように切出したチップをカセイソーダ水溶
液などのアルカリ性液あるいは塩酸等の酸性液に浸漬す
るなどして巻線窓用溝に埋められた金属棒4を溶解除去
し、巻線窓を形成する。
着性その他に難があり、溝8.〜85を一度で加工でき
ない場合等には、トラフ、りの右側を規制する溝と、左
側を規制する溝とを2度に分けて加工する。また、溝を
低融点ガラスで埋める際には、金属磁性膜と低融点ガラ
スとの反応を防ぐ為、溝面に現われた金属磁性膜面上に
Cr、 Cr O3等の金属膜、金属酸化膜を薄く成
膜しておくと良い。第7図はトラック幅加工用の溝81
〜85を利用し、予め用意した保護ブロック10−12
を融点が500°C〜550℃程の第2の低融点ガラス
9I〜95で溶着した様子を示す。保護ブロックの上部
、摺動面側は、非磁性材lO1下部はフェライト単結晶
等の高透磁率材11であり、2つの部材は、融点が55
0°C〜600℃程の第3の低融点ガラス等の接着剤1
2で接着されている。このコアブロックから点線Ll+
L3で示したように切出したチップをカセイソーダ水溶
液などのアルカリ性液あるいは塩酸等の酸性液に浸漬す
るなどして巻線窓用溝に埋められた金属棒4を溶解除去
し、巻線窓を形成する。
摺動面等の外形加工を終えたヘッドチップの概略斜視図
が第8図である。
が第8図である。
アジマス記録用のヘッドの場合は、第7図のように、ギ
ヤ、ツブ長さ方向に対し垂直に切出すのではなく必要な
角度をつけて切ればよい。また、本発明の主旨を逸脱し
ない範囲内で、巻線窓用溝部壁面3に数μm程度の金属
磁性膜が残存しても良い。
ヤ、ツブ長さ方向に対し垂直に切出すのではなく必要な
角度をつけて切ればよい。また、本発明の主旨を逸脱し
ない範囲内で、巻線窓用溝部壁面3に数μm程度の金属
磁性膜が残存しても良い。
即ち、従来のつき合わせ工程を無くしたヘッドの製造工
程におけるように巻線窓用溝を形成した後、溝部を遮蔽
する工程を新規に導入し、その後金属磁性膜を成膜して
も良いが、遮蔽が不充分で、巻線窓用溝部壁面に若干の
金属磁性膜が付着するのは許容されるべきである。また
、従来の工程のように、巻線窓用溝部にも成膜した後、
それを必要な厚さ除去しても良い。要はギャップ部を構
成する部分の膜厚より、巻線窓用溝部の膜厚が実質的、
作為的に薄くなっていれば良い。
程におけるように巻線窓用溝を形成した後、溝部を遮蔽
する工程を新規に導入し、その後金属磁性膜を成膜して
も良いが、遮蔽が不充分で、巻線窓用溝部壁面に若干の
金属磁性膜が付着するのは許容されるべきである。また
、従来の工程のように、巻線窓用溝部にも成膜した後、
それを必要な厚さ除去しても良い。要はギャップ部を構
成する部分の膜厚より、巻線窓用溝部の膜厚が実質的、
作為的に薄くなっていれば良い。
本発明の第1図と類似の他の実施例につき、その摺動面
上の構成を第8図(a)〜(c)に示す。いずれ第8図
(a)、 (b)の実施例ではギャップを挾んでフェ
ライト1側の金属磁性膜2の厚さと、非磁性材10側の
金属磁性膜7の厚さが異なっている。
上の構成を第8図(a)〜(c)に示す。いずれ第8図
(a)、 (b)の実施例ではギャップを挾んでフェ
ライト1側の金属磁性膜2の厚さと、非磁性材10側の
金属磁性膜7の厚さが異なっている。
このような構成により、ギャップを挟んだ磁極構造の対
象性を(ずし、コンタ−効果を抑制している。第8図(
a)の場合、フェライトl側の金属磁性膜2は約20μ
m、非磁性材10側の金属磁性膜7は約35μmの厚さ
を有しており、非磁性材側のコアの磁気抵抗を少くする
観点からも、このように非磁性材側の金属磁性膜7の厚
さの方を厚くすることが好ましい。第8図(b)は、ト
ラック幅を規制するコア先端部の両側面が非平行な場合
を示すが、本実施例は高精度のトラック幅加工を要する
。
象性を(ずし、コンタ−効果を抑制している。第8図(
a)の場合、フェライトl側の金属磁性膜2は約20μ
m、非磁性材10側の金属磁性膜7は約35μmの厚さ
を有しており、非磁性材側のコアの磁気抵抗を少くする
観点からも、このように非磁性材側の金属磁性膜7の厚
さの方を厚くすることが好ましい。第8図(b)は、ト
ラック幅を規制するコア先端部の両側面が非平行な場合
を示すが、本実施例は高精度のトラック幅加工を要する
。
また膜厚を10μm以上に厚くすれば厚くする程、コン
タ−効果を抑制できる。
タ−効果を抑制できる。
構成の一部が異なる他の実施例をヘッドの斜視図として
第9図〜第11図に示す。
第9図〜第11図に示す。
第9図のヘッドチップを第1図のヘッドチップと比較す
ると明らかなように、ギャップ材6を下部コア側にまで
形成せず、従って下部コア側で第1の金属磁性膜2の少
くとも一部と、第2の金属磁性膜7とが直接密着するこ
ととなり、下部コアの磁気抵抗を下げる効果がある。
ると明らかなように、ギャップ材6を下部コア側にまで
形成せず、従って下部コア側で第1の金属磁性膜2の少
くとも一部と、第2の金属磁性膜7とが直接密着するこ
ととなり、下部コアの磁気抵抗を下げる効果がある。
第10図のヘッドチップと第1図のヘッドチップの違い
は、第10図のヘッドチップでは巻線窓13のあるコア
半休の巻線窓用溝3の壁面はもとより、溝3より下側に
も金属磁性膜が形成されていない。
は、第10図のヘッドチップでは巻線窓13のあるコア
半休の巻線窓用溝3の壁面はもとより、溝3より下側に
も金属磁性膜が形成されていない。
下部コアにおいて、磁束はギャップ7に対し垂直方向を
向(が、その磁束が変化すると、金属磁性膜中に渦電流
が流れ、記録再生効率の低下を招(からである。
向(が、その磁束が変化すると、金属磁性膜中に渦電流
が流れ、記録再生効率の低下を招(からである。
第11図の実施例では、コストダウンを目的として、保
護板全体を非磁性体14で形成しである。
護板全体を非磁性体14で形成しである。
以上第9〜11図に示した実施例は第1図の実施例にお
ける構成の一部分を変更したものであるが、これらを組
合わせて実施することもできる。また、たとえば第1O
図のヘッドにおいて、キャップ材6を第9図のヘッドの
如く下部コア側には設けず、さらに第10図の第2の磁
極7を下部コア側にまで形成せず下部コア側では高透磁
率材1と11が直接密接するか、一体となるような構造
をとることも可能である。
ける構成の一部分を変更したものであるが、これらを組
合わせて実施することもできる。また、たとえば第1O
図のヘッドにおいて、キャップ材6を第9図のヘッドの
如く下部コア側には設けず、さらに第10図の第2の磁
極7を下部コア側にまで形成せず下部コア側では高透磁
率材1と11が直接密接するか、一体となるような構造
をとることも可能である。
また本発明のすべての実施例において、高透磁率材1と
して、フェライト単結晶を用いる場合、摺動面上におけ
るフェライトの結晶方位を110面とすると耐摩耗性が
良、い。
して、フェライト単結晶を用いる場合、摺動面上におけ
るフェライトの結晶方位を110面とすると耐摩耗性が
良、い。
さらに磁極−ギャップ−磁極の層構造はそのすべである
いはその一部をフォトリソグラフィーの技術を用いて形
成することもできる。
いはその一部をフォトリソグラフィーの技術を用いて形
成することもできる。
第12図は上述した様な各実施例のヘッドに於けるコア
の先端部を示す図である。第12図に示すように、デプ
スエンドに対応する面σeまで媒体摺動面に於ける第1
の磁性膜の形状は変化しない。即ち、使用することによ
って摩耗しデプスが変化しても本実施例のヘッドは特性
が安定しているものである。
の先端部を示す図である。第12図に示すように、デプ
スエンドに対応する面σeまで媒体摺動面に於ける第1
の磁性膜の形状は変化しない。即ち、使用することによ
って摩耗しデプスが変化しても本実施例のヘッドは特性
が安定しているものである。
また、巻線窓用溝を有するコア半休のフェライト等、高
透磁率材上に形成する金属磁性膜の面積をできるだけ少
くし、ヘッド製造過程で生ずる内部応力の蓄積を少くし
た結果、金属磁性膜の膜ハガレや、フェライト、溶着ガ
ラスに発生するクラックが最小限におさえられ、ヘッド
製造上の歩留りが飛躍的に向上するものである。
透磁率材上に形成する金属磁性膜の面積をできるだけ少
くし、ヘッド製造過程で生ずる内部応力の蓄積を少くし
た結果、金属磁性膜の膜ハガレや、フェライト、溶着ガ
ラスに発生するクラックが最小限におさえられ、ヘッド
製造上の歩留りが飛躍的に向上するものである。
更に金属磁性材とフェライトとの境界近傍への内部応力
の蓄積を最小限に抑えることができたため、前記境界に
おける磁気的不連続性も少なくなりコンタ−効果による
リップルがピーク−ピーク値で1〜2dB以下と実用上
問題のないレベルにまで抑えられた。
の蓄積を最小限に抑えることができたため、前記境界に
おける磁気的不連続性も少なくなりコンタ−効果による
リップルがピーク−ピーク値で1〜2dB以下と実用上
問題のないレベルにまで抑えられた。
〈発明の効果〉
以上説明した様に本発明の磁気ヘッドは、低コストで経
時変化に対して安定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩
留りが良いコア構造を有するものであり、高保磁力の磁
気記録媒体に対して良好な磁気記録再生が行える磁気ヘ
ッドに対して極めて有効なものである。
時変化に対して安定な磁気特性を有し、かつ製造時の歩
留りが良いコア構造を有するものであり、高保磁力の磁
気記録媒体に対して良好な磁気記録再生が行える磁気ヘ
ッドに対して極めて有効なものである。
第1図は本発明の一実施例としての磁気ヘッドの構成の
概略を示す斜視図、 第2図〜第7図は第1図のヘッドの製造工程の概略を示
す図、 第8図(a)〜(C)は夫々第1図の磁気ヘッドとは異
なる媒体摺動面を有する他の実施例を示す図、 第9図〜第11図は夫々第1図の磁気ヘッドとは異なる
構造を有する更に他の実施例としての磁気ヘッドを示す
斜視図、 第12図は本発明の各実施例のヘッドに於けるコアの先
端部を示す図、 第13図は従来の磁気ヘッドの構造の一例を示す斜視図
、 第14図は、第13図に示すヘッドの問題点について説
明するため、コアの先端部を示す図である。 ■はフェライト単結晶などの高透磁率材ブロック、2は
第1の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束密度
材、 3は巻線窓用の溝、 4は金属棒、 5は低融点ガラス、 6はギャップとなる絶縁膜、 7は第2の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束
密度材、 8はトラック幅を規定する溝、 9は低融点ガラス、 13は巻線窓である。
概略を示す斜視図、 第2図〜第7図は第1図のヘッドの製造工程の概略を示
す図、 第8図(a)〜(C)は夫々第1図の磁気ヘッドとは異
なる媒体摺動面を有する他の実施例を示す図、 第9図〜第11図は夫々第1図の磁気ヘッドとは異なる
構造を有する更に他の実施例としての磁気ヘッドを示す
斜視図、 第12図は本発明の各実施例のヘッドに於けるコアの先
端部を示す図、 第13図は従来の磁気ヘッドの構造の一例を示す斜視図
、 第14図は、第13図に示すヘッドの問題点について説
明するため、コアの先端部を示す図である。 ■はフェライト単結晶などの高透磁率材ブロック、2は
第1の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束密度
材、 3は巻線窓用の溝、 4は金属棒、 5は低融点ガラス、 6はギャップとなる絶縁膜、 7は第2の磁性膜としての合金磁性材などの高飽和磁束
密度材、 8はトラック幅を規定する溝、 9は低融点ガラス、 13は巻線窓である。
Claims (1)
- 巻線用溝が形成されている高透磁率材ブロックと、該ブ
ロックの前記溝の形成されている面に対し、前記溝を除
く部分の少なくとも前記溝より媒体摺動面側に形成され
た高飽和磁束密度材よりなる第1の磁性膜と、該第1の
磁性膜と前記ブロックとの境界面に対して前記媒体摺動
面に平行に形成され、磁気ギャップとなる絶縁膜と、該
絶縁膜上に形成された高飽和磁束密度材よりなる第2の
磁性膜とを有する磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13143586A JPS62287405A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 磁気ヘツド |
US07/235,824 US4890378A (en) | 1985-08-28 | 1988-08-19 | Method for manufacturing a magnetic head core having a magnetic film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13143586A JPS62287405A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62287405A true JPS62287405A (ja) | 1987-12-14 |
Family
ID=15057895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13143586A Pending JPS62287405A (ja) | 1985-08-28 | 1986-06-06 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62287405A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259811A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53116809A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-12 | Hitachi Ltd | Magnetic head core |
JPS60179906A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-13 | Tdk Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP13143586A patent/JPS62287405A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53116809A (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-12 | Hitachi Ltd | Magnetic head core |
JPS60179906A (ja) * | 1984-02-24 | 1985-09-13 | Tdk Corp | 磁気ヘツドの製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259811A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドおよびその製造方法 |
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