JPS62284221A - Measuring method for beam spot diameter of optical head for optical disk - Google Patents
Measuring method for beam spot diameter of optical head for optical diskInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
［発明の技術分野］
この発明は、情報を高密度で記録し、再生することので
きる光ディスク装置における光学ヘッドのビームスポッ
ト径の測定方法に関するものである。Detailed Description of the Invention 3. Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a method for measuring the beam spot diameter of an optical head in an optical disc device capable of recording and reproducing information at high density. It is something.
［発明の技術的前ｍとその問題点］
情報を高密度で記録し、再生することのできる光ディス
ク装置は、透光性のディスク基体に記憶用の感光体７ｆ
Ｊ層が設けられて光ディスクが構成されている。[Technical background of the invention and its problems] An optical disc device capable of recording and reproducing information at high density has a photoconductor 7f for storage on a transparent disc base.
An optical disc is configured by providing a J layer.
一方、光学ヘッドにはレーザダイオード等の光源、およ
び対物レンズを含む光学系等が備えられ、対物レンズで
集光した光ビームのビームスポットが上記の感光体薄層
に照射されて情報の記録、或いは既に記録しである情報
の読出しが行なわれる。On the other hand, the optical head is equipped with a light source such as a laser diode and an optical system including an objective lens, and the beam spot of the light beam focused by the objective lens is irradiated onto the photoreceptor thin layer to record information. Alternatively, information that has already been recorded is read out.
このとき記録時の効率、および再生時の分解能は、ビー
ムスポット径に支配され、ビームスポット径が小さいほ
ど、これらの性能が向上する。At this time, the efficiency during recording and the resolution during reproduction are controlled by the beam spot diameter, and these performances improve as the beam spot diameter becomes smaller.
したがって光ディスク用の光学ヘッドの品質検査等にお
いて、その光学ヘッドがいかに微小なビームスポット径
まで集光できるかということは、極めて重要な検査項目
の一つとなっている。Therefore, in quality inspection of optical heads for optical discs, one of the extremely important inspection items is how well the optical head can focus light down to a minute beam spot diameter.
このような検査等に用いられてきた従来の光ディスク用
光学ヘッドのビームスポット径の測定方法としては、例
えば次のようなものがある。Examples of methods for measuring the beam spot diameter of conventional optical heads for optical discs that have been used for such inspections include the following.
この従来の測定方法は、ナイフェツジを用いるもので、
集光された光ビームのビームウェストを、一定速度で移
動するナイフェツジで光ビームの進行方向に対して垂直
に切断し、その時ナイフェツジ越しに通過してくる光量
変化のプロフィルを測定することによりビームスポット
径を求めるものである。This traditional measurement method uses a knife
The beam spot of the focused light beam is determined by cutting the beam waist of the focused light beam perpendicularly to the traveling direction of the light beam with a knife moving at a constant speed and measuring the profile of changes in the amount of light passing through the knife. This is to find the diameter.
そしてこの方法で正確なビームスポット径を測定するた
めには、ナイフェツジがビームウェストの中央部を、光
ビームの進行方向に対して垂直に横切ったときのプロフ
ィルを求める必要がある。In order to accurately measure the beam spot diameter using this method, it is necessary to find the profile when the knife crosses the center of the beam waist perpendicularly to the traveling direction of the light beam.
この手段として、この従来の測定方法では、微調整によ
りナイフェツジの走査位置を０．１μｍの精度で平行移
動させ、その都度求めた光量変化のプロフィルを比較し
て、最も急峻な光−変化を示したプロフィルからビーム
スポット径を求めるということが行なわれていた。As a means of this, in this conventional measurement method, the scanning position of the knife is translated in parallel with an accuracy of 0.1 μm by fine adjustment, and the profiles of changes in light amount obtained each time are compared to indicate the steepest light change. The beam spot diameter was determined from the profile.
しかしながら上記の光ディスク用光学ヘッドのビームス
ポット径の測定方法にあっては、ナイフェツジの走査位
置を微調整により０．１μｍ程度の精度で移動させ、そ
の都度ナイフェツジを光ビームの進行方向に対して垂直
方向に走査させる必要があるため、測定が面倒で時間が
かかり、また測定精度が低く再現性が悪いという問題点
があった。さらに測定環境にも左右され、撮動があると
測定精度が悪くなるという問題点もあった。However, in the above method for measuring the beam spot diameter of an optical head for an optical disk, the scanning position of the knife is moved with an accuracy of about 0.1 μm by fine adjustment, and each time the knife is moved perpendicular to the traveling direction of the light beam. Since it is necessary to scan in the same direction, there are problems in that measurement is troublesome and time-consuming, and measurement accuracy is low and reproducibility is poor. Furthermore, there was also the problem that the measurement accuracy was affected by the measurement environment, and the measurement accuracy deteriorated if there was filming.
［発明の目的］
この発明は、上記事情に基づいてなされたちので容易正
確に且つ再現性よくビームスポット径を測定することの
できる光ディスク用光学ヘッドのビームスポット径の測
定方法を提供することを目的とする。[Object of the Invention] The present invention was made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for measuring the beam spot diameter of an optical head for an optical disk, which can easily and accurately measure the beam spot diameter with good reproducibility. shall be.
［発明の概要］
この発明は、上記目的を達成するために、回転基板に該
回転基板の回転により被測定光学ヘッドから照射される
光ビームのビームスポットを光学的に検知するための測
定エツジを設け、この測定エツジがビームスポットを通
過する時間間隔を検知し、この時間間隔および測定エツ
ジの移動速度からビームスポット径を測定することによ
り、容易、正確で、且つ再現性よく光ディスク用光学ヘ
ッドから照射される光ビームのビームスポット径が測定
できるようにしたものである。[Summary of the Invention] In order to achieve the above object, the present invention provides a rotating substrate with a measurement edge for optically detecting a beam spot of a light beam emitted from an optical head to be measured by rotation of the rotating substrate. By detecting the time interval at which the measuring edge passes through the beam spot, and measuring the beam spot diameter from this time interval and the moving speed of the measuring edge, the beam spot diameter can be easily, accurately, and reproducibly measured from an optical head for an optical disk. The beam spot diameter of the irradiated light beam can be measured.
〔発明の実施例］
以下この発明の実施例を第１図〜第３図に基づいて説明
する。[Embodiments of the Invention] Examples of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.
第１図は回転基板の平面図、第２図は測定装置の構成図
、第３図は上記測定装置におけるオツシロスコープに表
示される測定波形例を示す波形図である。FIG. 1 is a plan view of the rotating board, FIG. 2 is a configuration diagram of the measuring device, and FIG. 3 is a waveform diagram showing an example of a measurement waveform displayed on an oscilloscope in the measuring device.
まずこの実施例に使用する回転基板を含む測定装置の構
成から説明する。First, the configuration of a measuring device including a rotating substrate used in this example will be explained.
第１図中、１は回転基板（プローブ基板）で、例えば厚
さ１．２ｍｍ程度のガラス板からなる透光性の板材を基
板本体２とし、この基板本体２の表面全面に金属反射膜
３がコーティングされている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a rotating substrate (probe substrate), and the substrate body 2 is a transparent plate material made of a glass plate with a thickness of about 1.2 mm, and a metal reflective film 3 is formed on the entire surface of the substrate body 2. is coated.
金属、反射膜３の部分には、予想されるビームスポット
径よりも十分に幅広の幅５μｍ程度の第１の透光性スリ
ット４が１ａＭ！ｉＱけられ、その側辺により測定エツ
ジ４ａが構成されている。A first translucent slit 4 with a width of about 5 μm, which is sufficiently wider than the expected beam spot diameter, is formed in the metal and reflective film 3 at 1 aM! iQ is eclipsed, and its sides constitute a measurement edge 4a.
また第１の透光性スリット４に隣接した部位に、予想さ
れるビームスポット径とほぼ同幅程度の幅１μｍの第２
の透光性スリット５が１０ａｌ配列されている。In addition, a second slit with a width of 1 μm, which is approximately the same width as the expected beam spot diameter, is placed adjacent to the first translucent slit 4.
Translucent slits 5 are arranged in an array of 10al.
ビームスポットが照射される半径位置における第２の透
光性スリット５・・・の周方向の配列ピッチ ・は、
例えば２μｍに正しく規定されている。侵述するように
この第２の透光性スリット５のスリット列により測定エ
ツジ４ａの移動速度（線速度）が測定される。The circumferential arrangement pitch of the second translucent slits 5 at the radial position where the beam spot is irradiated is as follows:
For example, it is correctly defined as 2 μm. As mentioned above, the moving speed (linear speed) of the measuring edge 4a is measured by the slit row of the second translucent slits 5.
第１の透光性スリット４、および複数個の第２の透光性
スリット５は、第１図の例では同一寸法形状のものが同
一半径位置に２組形成されている。In the example of FIG. 1, two sets of the first translucent slit 4 and the plurality of second translucent slits 5 are formed at the same radial position with the same size and shape.
６は回転ステージへの装着孔である。6 is a mounting hole for the rotation stage.
第２図は、上記の回転基板１を含む測定装置の全体構成
を示すもので、７は装着された回転基板１を一定速度で
回転させるための回転ステージ、８は光検出器、９はオ
ッシロスコープ、１１は被測定対象である光ディスク用
の光学ヘッドである。FIG. 2 shows the overall configuration of the measuring device including the above-mentioned rotating board 1, where 7 is a rotating stage for rotating the mounted rotating board 1 at a constant speed, 8 is a photodetector, and 9 is an oscilloscope. , 11 is an optical head for an optical disk to be measured.
光学ヘッド１１は、その光ビームが回転基板１の表面に
垂直で、且つ第１、第２の透光性スリット４．５の形成
位置に正しく照射されるように、回転基板１の所定半径
位置に対向した位置に配置される。また光検出器８は、
回転基板１を間にして光学ヘッド１１０反対側の位置に
配置される。The optical head 11 is positioned at a predetermined radial position of the rotating substrate 1 so that the light beam is perpendicular to the surface of the rotating substrate 1 and is correctly irradiated to the formation positions of the first and second translucent slits 4.5. It is placed in a position opposite to. Further, the photodetector 8 is
It is placed on the opposite side of the optical head 110 with the rotating substrate 1 in between.
次に測定方法を説明する。Next, the measurement method will be explained.
まず回転ステージ７に回転基板１を装着し、その回転基
板１の所定半径位置の直下に光学ヘッド１１を配置する
。First, the rotating substrate 1 is mounted on the rotating stage 7, and the optical head 11 is placed directly below the rotating substrate 1 at a predetermined radius position.
そして光学ヘッド１１内の対物レンズを含む焦点制１１
１ｍ構を作動させて、当該光学ヘッド１１から照射され
る光ビームのビームスポットが、回転基板１上の金属反
射１ｍ ３の膜面に形成されるようにする。and a focusing system 11 including an objective lens within the optical head 11;
The 1 m structure is operated so that a beam spot of the light beam irradiated from the optical head 11 is formed on a 1 m 3 film surface of the metal reflection on the rotating substrate 1.
回転ステージ７側を作動させて回転基板１を一定速度で
回転ざ往ると、第１の透光性スリット４、および第２の
透光性スリット５のスリット列が光ビームをよぎる時に
生じる透過光量の変化が光検出器８で捉えられ、これが
オッシロスコープ９に表示される。When the rotating stage 7 side is operated and the rotating substrate 1 is rotated at a constant speed, transmission occurs when the light beam crosses the slit rows of the first transparent slit 4 and the second transparent slit 5. Changes in the amount of light are detected by a photodetector 8 and displayed on an oscilloscope 9.
第３図は、オッシロスコープ９に表示される測定波形を
示すもので、第３図中、Ａが第２の透光性スリット５の
スリット列による光量変化の波形であり、Ｂが第１の透
光性スリット４による光量変化の波形である。FIG. 3 shows measurement waveforms displayed on the oscilloscope 9. In FIG. This is a waveform of a change in light amount due to the optical slit 4.
次いで、このオッシロスコープ９に表示された波形を観
測しながら、波形Ａの波形振幅１２が最大になるように
光学ヘッド１１の焦点制御機構を微調整する。Next, while observing the waveform displayed on the oscilloscope 9, the focus control mechanism of the optical head 11 is finely adjusted so that the waveform amplitude 12 of the waveform A is maximized.
波形Ａの波形振幅１２が最大になるように調整されたと
きが、第２の透光性スリット５のスリット列による読取
り分解能が最大となった状態で、この状態は光ビームの
ビームウェストの中央部が、透光性スリット４．５の形
成面に正しく合致したことを意味する。When the waveform amplitude 12 of the waveform A is adjusted to be maximum, the reading resolution by the slit row of the second translucent slit 5 is maximum, and this state is at the center of the beam waist of the light beam. This means that the portion correctly matches the forming surface of the translucent slit 4.5.
而してビームウェストの中央位置への透光性スリット４
．５の位置設定が容易且つ正確になされる。Therefore, a translucent slit 4 is placed at the center of the beam waist.
．． 5 can be easily and accurately positioned.
このように調整したのち、波形Ａ、Ｂから測定エツジ４
ａの移動速度、およびビームスポット径が測定される。After adjusting in this way, measure edge 4 from waveforms A and B.
The moving speed of a and the beam spot diameter are measured.
まず波形へから測定エツジ４ａの移動速度（線速度）が
測定される。First, the moving speed (linear speed) of the measurement edge 4a is measured from the waveform.
スリット列は、１０個の第２の透光性スリット５がピッ
チ２μｍで配列されているので、スリブ１−列の全体長
さは２０μｍである。したがってビームスポットが、こ
の２０μｍのスリット列を通過するのに要する時間を波
形Ａから読取れば、距離とその通過（１５間から測定エ
ツジ４ａの移動速度が求められる。In the slit row, ten second translucent slits 5 are arranged at a pitch of 2 μm, so that the entire length of the 1-slit row is 20 μm. Therefore, if the time required for the beam spot to pass through this 20 μm slit array is read from the waveform A, the moving speed of the measurement edge 4a can be determined from the distance and the distance (15).
次に波形Ｂから光ビームのビームスポット径が測定され
る。Next, the beam spot diameter of the light beam is measured from waveform B.
波形Ｂ中、１３はビームスポットが第１の透光性スリッ
ト４以外の基板本体２の部分で全て遮ぎられたときの遮
断レベル、１４はビームスポットが第１の透光性スリッ
ト４の中に完全に収まったときの透過光ａレベルで、こ
の両レベル１３．１４間の光量変化曲線１５が、測定エ
ツジ４ａがビームスポットをよぎったときの透過光ａの
変化曲線である。In waveform B, 13 indicates the blocking level when the beam spot is completely blocked by the parts of the substrate body 2 other than the first translucent slit 4, and 14 indicates the level at which the beam spot is inside the first translucent slit 4. The light amount change curve 15 between the two levels 13 and 14 is the change curve of the transmitted light a when the measuring edge 4a crosses the beam spot.
上記の遮断レベル１３、および透過光量レベル１４の間
の光量変化の所要時間が、測定エツジ４ａがビームスポ
ットを通過した時間に相当するので、先に求めた測定エ
ツジ４ａの移動速度Ｖと、この通過所要時間とからビー
ムスポット径が求められる。Since the time required for the light intensity change between the cutoff level 13 and the transmitted light intensity level 14 described above corresponds to the time for the measurement edge 4a to pass through the beam spot, the moving speed V of the measurement edge 4a obtained previously and this The beam spot diameter can be determined from the required time for passage.
ところで第３図の光量変化曲線１５において、その上下
方向の中央位置は、ビームスポットの中心位置に相当し
、これが光強度最大点である。そしてこの光強度最大点
からビームスポットの半径方向への光強度分布をガウシ
アン分布であると仮定したとき、ビームスポット径は、
最大光強度で規格化したときの１／ｅの光強度点のビー
ムスポット径、または１／ｅ２ （０，１３５）の光
強度点のビームスポット径を、それぞれ１ンｅビームス
ポツト径、または１／ｅ２ビームスポツト径と定義して
、これらのガウシアンビームの径によりビームスポット
径が表わされる。By the way, in the light amount change curve 15 in FIG. 3, the center position in the vertical direction corresponds to the center position of the beam spot, and this is the maximum light intensity point. Then, assuming that the light intensity distribution in the radial direction of the beam spot from this maximum light intensity point is a Gaussian distribution, the beam spot diameter is
The beam spot diameter at a light intensity point of 1/e or the beam spot diameter at a light intensity point of 1/e2 (0,135) when normalized by the maximum light intensity is the 1 e beam spot diameter or 1 e beam spot diameter, respectively. /e2 beam spot diameter, and the beam spot diameter is expressed by the diameter of these Gaussian beams.
なお通常は１／ｅ２ビームスポツト径が、ビームスポッ
ト径として用いられる。Note that 1/e2 beam spot diameter is usually used as the beam spot diameter.
第３図の波形Ｂ中、１７は遮断レベル１３および透過光
量レベル１４間の最大先回レベル差１６の８４％のレベ
ル差をとったもので、この８４％レベル差から求められ
るのが１／ｅビームスポツト径である。In waveform B in FIG. 3, 17 is a level difference of 84% of the maximum previous level difference 16 between the cutoff level 13 and the transmitted light amount level 14, and the value obtained from this 84% level difference is 1/ This is the e-beam spot diameter.
そして１／ｅビームスポツト径を求めるには、測定エツ
ジ４ａが８４％レベル差１７を通過するにの要する時間
ｔをオッシロスコープ９で読取り。To obtain the 1/e beam spot diameter, the time t required for the measurement edge 4a to pass through the 84% level difference 17 is read using the oscilloscope 9.
この時間ｔに、先に求めた測定エツジ４ａの移動速度■
を乗じた値ｖ−ｔから求められる。At this time t, the previously determined moving speed of the measurement edge 4a ■
It is obtained from the value v-t multiplied by .
また通常用いられる１／ｅ２ビームスポツト径は、上記
のようにして求めた１／ｅビニムスポツト径にさらにル
ート２を乗じれば求められる。The commonly used 1/e2 beam spot diameter can be obtained by further multiplying the 1/e vinyl spot diameter obtained as described above by root 2.
測定値の具体例を述べると、ＮＡ（開口数）が０．５の
対物レンズを用いた光学ヘッドの１／ｅ２ビームスポツ
ト径は、１．５μｍであった。To give a specific example of the measured values, the 1/e2 beam spot diameter of the optical head using an objective lens with NA (numerical aperture) of 0.5 was 1.5 μm.
このようにこの実施例に係るビームスポット径の測定方
法は、測定エツジ４ａが回転することによりオッシロス
コープ９に表示される光ｍ変化面１１５等の測定波形か
らビームスポット径を求めるので、測定環境に多少の撮
動が存在しても測定精度は殆んど影響を受けることがな
い。In this way, the method for measuring the beam spot diameter according to this embodiment calculates the beam spot diameter from the measurement waveform of the light m change surface 115 etc. displayed on the oscilloscope 9 by rotating the measurement edge 4a. Even if there is some imaging, the measurement accuracy is hardly affected.
なお第２図の測定装置では、光検出器８を、回転基板１
を間にして光学ヘッド１１の反対側の位置に配置し、透
光性スリット４．５を透過した光量の変化からビームス
ポット径を測定したが、回転基板１の表面には金属反射
膜３がコーティングされているので、光検出器８を光学
ヘッド１１と同じ側に配置して反射光量の変化を検出す
ることによっても同様にビームスポット径を測定するこ
とができる。In the measuring device shown in FIG. 2, the photodetector 8 is connected to the rotating substrate 1.
The beam spot diameter was measured from the change in the amount of light transmitted through the transparent slit 4.5, with the metal reflective film 3 on the surface of the rotating substrate 1. Since it is coated, the beam spot diameter can be similarly measured by placing the photodetector 8 on the same side as the optical head 11 and detecting changes in the amount of reflected light.
［発明の効果〕
以上説明したようにこの発明の構成によれば、回転基板
の板面にビームスポットが形成されるように光ビームを
回転基板に照射し、次いで回転基板を一定速度で回転さ
せると、測定エツジがビームスポットを通過する時間間
隔が光学的に検知され、この時間間隔と測定エツジの移
動速度からビームスポット径が求められる。したがって
光ディスク用光学ヘッドのビームスポット径を容易、正
確で、且つ再現性よく測定することができ、さらには多
少の振動性環境にあっても高い測定精度を得ることがで
きて、光ディスク用光学ヘッドの品質検査等を短時間で
正確に行なうことができ、極めて実用性の高いビームス
ポット径の測定方法を提供することができるという利点
がある。[Effects of the Invention] As explained above, according to the configuration of the present invention, the rotating substrate is irradiated with a light beam so that a beam spot is formed on the plate surface of the rotating substrate, and then the rotating substrate is rotated at a constant speed. Then, the time interval during which the measurement edge passes through the beam spot is optically detected, and the beam spot diameter is determined from this time interval and the moving speed of the measurement edge. Therefore, it is possible to measure the beam spot diameter of an optical head for an optical disk easily, accurately, and with good reproducibility, and even in a somewhat vibrating environment, high measurement accuracy can be obtained. This method has the advantage of being able to perform quality inspections, etc. accurately in a short period of time, and providing an extremely practical method for measuring beam spot diameter.
また回転基板に複数個の透光性スリットを所定ピッチで
配列し、ビームスポットが当該複数個の透光性スリット
を通過する時間から測定エツジの移動速度を測定するよ
うにした実施例によれば、上記共通の効果に加えて、さ
らにビームスポット径を求めるための測定エツジの移動
速度を容易且つ正確に求めることができるという利点が
ある。Further, according to an embodiment, a plurality of translucent slits are arranged at a predetermined pitch on a rotating substrate, and the moving speed of the measurement edge is measured from the time it takes for the beam spot to pass through the plurality of translucent slits. In addition to the above-mentioned common effects, there is an additional advantage that the moving speed of the measurement edge for determining the beam spot diameter can be easily and accurately determined.
第１図はこの発明に係る光ディスク用光学ヘッドのビー
ムスポット径の測定方法の実施例に使用する回転基板の
一例を示す平面図、第２図は同上実施例に使用する測定
装置の一例を示す構成図、第３図は同上装置による測定
波形の一例を示す波形図である。
・１：回転基板、 ３：金属反射膜、４：第１
の透光性スリット、
４ａ：測定エツジ、
５ニスリット列を構成する第２の透光性スリット、
７：回転ステージ、
８：光検出器、
９：オッシロスコープ、
１１：被測定対象である光学ヘッド。
代理人 弁理士 三 好 保 男
第１図
第２図FIG. 1 is a plan view showing an example of a rotating substrate used in an embodiment of the method for measuring the beam spot diameter of an optical head for an optical disk according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing an example of a measuring device used in the same embodiment. The configuration diagram and FIG. 3 are waveform diagrams showing an example of measurement waveforms by the same device.・1: Rotating substrate, 3: Metal reflective film, 4: First
4a: measurement edge; second light-transmitting slit constituting the 5-ni slit row; 7: rotation stage; 8: photodetector; 9: oscilloscope; 11: optical head as the object to be measured. Agent Patent Attorney Yasuo Miyoshi Figure 1 Figure 2
Claims (3)
ッドから照射される光ビームのビームスポットを光学的
に検知するための測定エッジを設け、該測定エッジがビ
ームスポットを通過する時間間隔を検知し、該時間間隔
および測定エッジの移動速度からビームスポット径を測
定することを特徴とする光ディスク用光学ヘッドのビー
ムスポット径の測定方法。(1) A measurement edge is provided on the rotating substrate to optically detect the beam spot of the light beam irradiated from the optical head to be measured by rotation of the rotating substrate, and the time interval during which the measurement edge passes the beam spot is determined. 1. A method for measuring a beam spot diameter of an optical head for an optical disc, the method comprising detecting the time interval and measuring the beam spot diameter from the moving speed of the measurement edge.
膜の部分に透光性スリットが設けられて、前記測定エッ
ジは該透光性スリットの側辺で構成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ディスク用光学
ヘッドのビームスポット径の測定方法。(2) A reflective film is formed on the surface of the rotating substrate, a translucent slit is provided in the reflective film, and the measurement edge is formed by a side of the translucent slit. A method for measuring a beam spot diameter of an optical head for an optical disk according to claim 1.
が所定ピッチで配列され、前記測定エッジの移動速度は
、ビームスポットが該複数個の透光性スリットを通過す
る時間から測定することを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載の光ディスク用光学ヘッドのビームスポット径
の測定方法。(3) A plurality of other translucent slits are arranged at a predetermined pitch on the rotating substrate, and the moving speed of the measurement edge is measured from the time it takes for the beam spot to pass through the plurality of translucent slits. A method for measuring a beam spot diameter of an optical head for an optical disk according to claim 2, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12582086A JPS62284221A (en) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Measuring method for beam spot diameter of optical head for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12582086A JPS62284221A (en) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Measuring method for beam spot diameter of optical head for optical disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62284221A true JPS62284221A (en) | 1987-12-10 |
Family
ID=14919748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12582086A Pending JPS62284221A (en) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Measuring method for beam spot diameter of optical head for optical disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62284221A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005285251A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Ricoh Co Ltd | Optical recording/reproducing system |
-
1986
- 1986-06-02 JP JP12582086A patent/JPS62284221A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005285251A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Ricoh Co Ltd | Optical recording/reproducing system |
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