JPS62283127A - ポリベンズオキサゾ−ル樹脂の製造方法 - Google Patents

ポリベンズオキサゾ−ル樹脂の製造方法

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JPS62283127A
JPS62283127A JP12515486A JP12515486A JPS62283127A JP S62283127 A JPS62283127 A JP S62283127A JP 12515486 A JP12515486 A JP 12515486A JP 12515486 A JP12515486 A JP 12515486A JP S62283127 A JPS62283127 A JP S62283127A
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、芳香族ポリベンズオキサゾール樹脂の新規な
製造方法に関する。一般に芳香族ポリベンズオキサ/−
ル樹脂は、優れた耐熱性、!111械的強度、電気的特
性を持つことが知られている。
一般に高分子樹脂の性質を決定する上で、分子量の与え
る影響は重要である0重合度が低く、分子量が小さい場
合は、粘性や柔軟性が不充分となり、膜、繊維、成形品
に加工することが困難である。また、加工しても、強度
や耐熱性等に充分な性質が得られない、一方、分子量が
大きすぎる場合は、樹脂の流動性が悪(なり、加工時の
障害となる。
〔従来の技術〕
ポリベンズオキサゾール樹脂は一般にジアミン化合物と
ジカルボン酸シバライドの反応により得られるポリアミ
ド樹脂を脱水環化反応させて得られ、その重合度はポリ
アミド樹脂の重合度に支配される。この重合度は原料の
ジアミン化合物と、ジカルボン酸シバライドの仕込量に
よって制御される。これらの反応成分を等モル量使用す
ると、高分子量の芳香族ポリベンズオキサゾール樹脂を
製造することができる。しかしながら、このような分子
量の制御は、原料である反応成分の反応性が充分商い場
合にのみ可能であり、反応性が悪い場合には、分子量の
低い反応生成物しか得られない。
従来、本発明の目的物である芳香族のポリベンズオキゾ
ール樹脂はその反応成分であるジアミン化合物の反応性
が悪いために、高分子量の重合体を得ることが困難であ
った。本発明者らは、充分に高分子量で、優れた性質を
発揮する芳香族ポリベンズオキサゾール樹脂を得るべく
鋭意努力した結果、本発明をなすに至った。
〔問題点を解決するための具体的な手段〕すなわち本発
明は、 一般式 (式中、Rは2価の芳香族基、Xは2価の有機基、nは
1〜200の整数を示す、) テ表すれる芳香族ポリベンズオキサゾール11脂を製造
するに当り、 一般式 (式中、R1は1価の有機珪素基、R2は水素、または
1価の有機珪素基、Xは2価の有機基を示す。)で表さ
れる芳香族ジアミンと、 一般式 %式%([) (式中、Rは2価の芳香族基、Yはハロゲンを示す。)
で表される芳香族ジカルボン酸シバライドとを有機溶媒
中で反応させて、 一般式 (式中、Rは2価の芳香族基、Xは2価の有機基、nは
1〜200の整数を示す。) で表わされる芳香族ポリアミド樹脂を製造し、しかる後
に当該ポリアミド樹脂を脱水環化反応させることを特徴
とする芳香族ポリベンズオキサゾール樹脂の製造方法で
ある。
上記一般式(rV)で表される芳香族ポリアミド樹脂は
、上記一般式(n)で表される芳香族ジアミンと、上記
一般式(ITI)で表されるジカルボン酸シバライドと
の反応によって!!遺される。一般式(U)で表される
芳香族ジアミンとしては、式中Xで表される2 11i
の有機基として、単結合、アルキレン基、ハロゲン化ア
ルキレン基、スルホン基、スルフィド基、アミノ基、カ
ルボニル基、エーテル基等があげられるが、より具体的
に例示すると、ビス(3−トリメチルシリルアミノ−4
−トリメチルシロキシフェニル)メタン、l−フェニル
−1,1−ビス(3−トリメチルアミノ−4−トリメチ
ルシロキシフェニル)エタン、2゜2−ビス (3−ト
リメチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキシフェニ
ル)プロパン、2.2−ビス(3−トリメチルシリルア
ミノ−4−トリメチルシロキシフェニル)へキサフルオ
ロプロパン、l−フェニル−1,1−ビス(3−トリメ
チルシリルアミノ−4−トリメチルシロキシフェニル)
トリフルオロエタン、1−トリフルオロメチル−1,1
−ビス(3−)ツメチルシリルアミノ−4−トリメチル
シロキシ)エタン、(4,4’−ビス(トリメチルシリ
ルアミノ) −3,3’−ビス(トリメチルシロキシ)
〕 ビフェニル、(3濯−ビス(トリメチルシリルアミ
ノ)−4,4’−ビス(トリメチルシロキシ)〕ビフェ
ニル、ビス(3−トリメチルシリルアミノ−4−トリメ
チルシロキシフェニル)スルホン、ビスクコ−トリメチ
ルシリルアミノ−4−トリメチルシロキシフェニル)ス
ルフィド、ビス(3−トリメチルシリルアミノ−4−ト
リメチルシロキシフェニル)エーテル、ビス(3−17
メチルシリルアミノー4− トリメチルシロキシフェニ
ル)ケトン、ビス (3−トリメチルシリルアミノ−4
−トリメチルシロキシフェニル)アミン等が有効である
一般式([1)で表される芳香族ジカルボン酸シバライ
ドとしては、例えばイソフタ、ル酸ジクロリド、テレフ
タル酸ジクロリド、4.4’−ビフェニルジカルボン酸
ジクロリド、ビフェニルエーテル4.4−ジカルボン酸
ジクロリド、ベンゾフェノン−4,41−ジカルボン酸
ジクロリド、ベンゾスルホン−4,4′−ジカルボン酸
ジクロリド、インプロピリデンビフェニル−4,41−
ジカルボン酸ジクロリド、ヘキサフルオロインプロピリ
デンビフェニル−4,41−ジカルボン酸ジクロリ下等
を例示できる。これらは単独でも、2種類以上を混合し
て用いてもよい。
この方法において、一般式(+)で表されるポリベンズ
オキサゾール樹脂の分子量は、一般式(II)で表され
るジアミン化合物と、一般式(+[[) ’c表される
ジカルボン酸シバライドの仕入量によって制限され、こ
れらの反応成分を等モル蒙使用すると高分子量の芳香族
ポリベンズオキサゾール樹脂を製造することができる。
本発明における一般式(n)で表される芳香族ジアミン
化合物と一般式(l[I)で表されるジカルボン酸シバ
ライドとの反応は、有n溶媒中、実質上無水の条件下で
、−10℃から溶媒の還流温度で数分から数時間反応さ
せて行われる。
この方法に使用できる有機溶媒は、一般に公知の非水系
有機溶媒を広IIIIu!に用いることができる。具体
的には、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリ
ジン等のアミドl^溶バ、ジメチルスルホキシド、テト
ラメチルスルホン等のイオウlf、 fa 8. 、ベ
ンゼン、トルエン、アニソール、ジフェニルエーテル、
ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、タレゾール、フェノ
ール等のベンゼン系溶媒、クロロホルム、トリクロルエ
タン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素水素等を例示
できるが、これに限定されるものではない。
一般式(rV)で表わされるポリアミド樹脂から一般式
(1)で表わされるポリベンズオキサゾール樹脂の製造
は、脱水剤の存在下、もしくは、非存在下で数秒から数
十時間、100〜500℃で加熱することによって行な
われる。ポリリン酸などの脱水剤の存在下では、より低
温で反応を行なうことができる。また、減圧下で加熱す
る方法によって反応温度を下げるごともできる。この反
応は、一般式(IV)で表わされるポリアミド樹脂を膜
や、繊維状に成形した後に反応させることもnJ能であ
る。
以下、本発明を実施列によって更に6を細に説明する。
(実施例−1) 容150mIVの三つロフラスコに2.2−ビス(3−
トリメチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキンフェ
ニル)へキサフルオロプロパン1.638g (2,5
mmol) 、ジメチルアセトアミド5mlを採り、窒
素ガス雰囲気下で攪拌溶解した。この溶液をドライアイ
ス−アセトン浴で凍結した後、イソフタル酸ジクロリド
0.50h (2,5m e )を添加した。
水冷塔に替えて、5時間ゆっくり攪拌した後、溶液を水
中に没入し、ポリドアミド樹脂の沈澱を得た。生成樹脂
の固有粘土は0.64 (0,5g/ dLジメチルア
セトアミド、30℃)であった。
赤外線吸収スペクトルおよび元素分析の結果式 の構造であることを確認した。
赤外線吸収スペクトル    1600cm  (N−
H)1650cm−’ (C=○) 元素分析 HN 計算値(%)  55.66 2.84 5.64実測
値(%)  55.44 2.68 5.88次いで、
このポリアミド樹脂をN−メチル−2−ピロリドンに溶
解し、ガラス板上に展開してフィルムを成形、した、こ
のフィルムを窒素ガス気流下、280〜300℃で10
時間加熱処理し、透明で強じんなフィルムを得た。
赤外吸収スペクトル、および元素分析の結果、次式で表
れるポリベンズオキサゾール4!41mであることを1
4認した。
し、」 赤外線吸収スペクトル    1620国−’ (C=
N)元素分析 CII    N 計算値(%)  60.01 2.19 6.08実測
値(%)59.94 2.03 6.+7(実施例−2
) (¥:施引例−1と同じ方法で、2.2−ビス(3−ト
リメチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキンフェニ
ル)へキサフルオロプロパン1.638g (2,5m
mol )と、テレフタル酸クロリドQ、508g (
2,5mmol )を反応させ、ポリアミド樹脂を得た
生成樹脂の固有粘土は、0.65 (0,5g/ dL
ジメチルアセトアミド、30℃)であった。
元素分析、赤外線吸収スペクトル分析の結果を第1&に
示した。  − (以ド、実施例、比較例の分析結果も合わせて第1表に
示した。) この結果より、F式の構造であることを確認した。
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは次式で
表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(実施例−3) (実施例−1)とIilじ方法で、2.2−ビス(3−
トリメチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキンフェ
ニル)・\キサフルオロ108フ1.638 酸クロリド0。254g (1.25mmol)  と
テレフタル酸クロリド0、254g ( 1.25mm
ol)を反応させ、ポリアミド樹脂を11また。
生成樹脂の固有粘度は0.86 ( 0.5g/ dL
ジメチルアセト′7ミド、30℃)であった0分析の結
果、次式の構造であった。
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは、次式
で表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(実施例−4) (J引例−1)と同じ方法で、2.2−ビス(3−トリ
メチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキシフェニル
)へキサフルオロプロパン1.638g (2.5mm
ol )と、ビフェニルエーテル−4.4−ジカルボン
酸ジクロリド0.131a (2.5mmol )を反
応させ、ポリアミド樹脂を得た。
生成樹脂の固有粘度は0.47 (0.5g/dLツメ
チルアトアミド、30℃)であった0分析の結果、次式
の構造であることをf!越した。
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た.このものは次式で
表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(人格rjl+ − 5 ) (実施例=1)と同じ方法で、2.2−ビス(3〜トリ
メチルシリルアミノ−4− トリメチルシロキシフェニ
ル)へキサフルオロプロパン1.638g (2.5m
mol )と2.6−サフタレンジカルボン酸ジクロリ
ド0.633g (2.5mmol )を反応させ、ポ
リアミド樹脂を1#た。生成樹脂の固有粘度は0.60
(0.5g/dLツメチルアセトアミド、30℃)であ
った0分析の結果、次式の構造であることを確認した。
(以下余白) このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは次式で
表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(実施例−6) (実施例−1)と同じ方法で、2.2−ビス(3−トリ
メチルシリルアミノ−4−トリメチルシロキシフェニル
)へキサフルオロプロパン1.638g (2.5nm
ol )と、ヘキサフルオロイソプロピリデンビフェニ
ル−4.4′−ジカルボン酸ジクロリド1.073g 
(2.5ffimol )を反応させ、ポリアミド樹脂
を得た.生成樹脂の固有粘度は0.40 (0.58/
dLジメチルアセトアミド、30℃)であった。分析の
結果、次式の構造であることを確認した。
(以下余白)− このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは次式で
表されろポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(実施例−7) (実施例−1)と同じ方法で、2.2−ビス(3−トリ
メチルシリルアミノ−4−トリメチルシ【tキシフェニ
ル)プロパン1.368g (2,5mmol )と、
イソフタル酸クロリド0.508g  (2,5mmo
l )を反応させ、ポリアミド樹脂を得た。生成樹脂の
固有粘度は0.55 (0,5g/ dLジメチルアセ
トアミド、30℃)であった。分析の結果、次式の構造
であることをr4認した。
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは次式で
表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(実施例−8) (実施例−1)と同じ方法で、4.4−ビス(トリメチ
ルシリルアミノ)−3,3−ビス (トリメチルシリル
シ)ビフェニル1.262g (2,5mmol )と
イソフタル酸クロリド0.508g (2,5auwo
l )を反応させ、ポリアミド樹脂を(また。
生成樹脂の固有粘度は0.50 (0,5g/ dLジ
メチルアセト°lミド、30℃)であった0分析の結果
、次式の構造であることを確認した。
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
し、透明で強じんなフィルムを得た。このものは次式で
表されるポリベンズオキサゾール樹脂であった。
(比較例−1) (実施例−1)と同じ条件で、2.2−ビス(3−アミ
ノ−4−ヒドロキシフェニル)へキサフルオロプロパン
0.915g(2,5m*ol )とイソフタル酸クロ
リド0.508g (2,5mmol )を反応させ、
ポリアミド樹脂を得た。生成物は、(実施例−1)で製
造したポリアミド樹脂と同じ構造であった。
生成ポリアミド樹脂の固有粘度は、0.08 (0,5
g/ dLジメチルアセトfミド、30℃)であった、
このポリアミド樹脂を(実施例−1)と同じ方法で処理
したがフィルムは得られず、粉末状のポリベンズオキサ
ゾールしか得られなかった。
[本発明の効果1 本発明は、一般式(1)で表される芳香族ポリベンズオ
キサゾール樹脂の有利な製造方法を提供するものである
。この樹脂は耐熱性、耐候性、機械強度、電気的特性等
の諸性質が良好であり、優れた工業的材料であることが
知られているが、従来、高分子量の樹脂を製造すること
が困難であった。これに対し、本発明は、充分に高分子
?の当Jf樹脂を製造するための有利な方法を提供する
ものであり、工業的価値が高い。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは2価の芳香族基、Xは2価の有機基、nは
    1〜200の整数を示す。) で表される芳香族ポリベンズオキサゾール樹脂を製造す
    るに当り、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1は1価の有機珪素基、R_2は水素また
    は1価の有機珪素基、Xは2価の有機基を示す。)で表
    される芳香族ジアミンと、 一般式(III) (式中、Rは2価の芳香族基、Yはハロゲンを示す。)
    で表される芳香族ジカルボン酸ジハライドを有機溶媒中
    で反応させて、 一般式(IV) (式中、Rは2価の芳香族基、Xは2価の有機基、nは
    1〜200の整数を示す。) で表わされる芳香族ポリアミド樹脂を製造し、しかる後
    に、当該ポリアミド樹脂を脱水環化反応させることを特
    徴とするポリベンズオキサゾール樹脂の製造方法。
JP12515486A 1986-05-30 1986-05-30 ポリベンズオキサゾ−ル樹脂の製造方法 Granted JPS62283127A (ja)

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US07/054,965 US4820793A (en) 1986-05-30 1987-05-28 Method of preparing aromatic polyamides and polybenzoxazoles
IT20732/87A IT1205115B (it) 1986-05-30 1987-05-29 Metodo per preparare poliammidi aromatiche e polibenzossazoli
DE19873718212 DE3718212A1 (de) 1986-05-30 1987-05-29 Verfahren zur herstellung von aromatischen polyamiden und polybenzoxazolen
FR878707596A FR2599370B1 (fr) 1986-05-30 1987-05-29 Procede de preparation de polyamides aromatiques et de polybenzoxazoles

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63305130A (ja) * 1987-05-18 1988-12-13 シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト 耐高熱性誘電体の製造方法
JPH01292034A (ja) * 1988-05-19 1989-11-24 Cosmo Oil Co Ltd ポリ(アミドベンゾオキサゾール)樹脂の製造方法
JPH02247225A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Honda Motor Co Ltd ポリベンゾビスオキサゾール前駆物質の製造方法
JP2007262158A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Osaka Prefecture ポリオキサゾール又はその前駆体の微粒子及びその製造方法

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