JPS62277385A

JPS62277385A - ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体、その製法及びこれを含有する除草剤

Info

Publication number: JPS62277385A
Application number: JP62117221A
Authority: JP
Inventors: エアハルト・ノルトホフ; ヴイルフリート・フランケ; フリードリツヒ・アルント; クレメンス・ケター
Original assignee: Schering AG
Current assignee: Bayer Pharma AG
Priority date: 1986-05-16
Filing date: 1987-05-15
Publication date: 1987-12-02
Also published as: AU7311087A; KR870011133A; TR24917A; FI871980A; EP0245860A2; CN87103495A; IL82532A0; PT84871A; DE3616849A1; HUT44132A; FI871980A0; ZA873507B; PT84871B; DK247787D0; DD256449A5; DK247787A; BR8702501A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、倉現のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ビリシン−得
体、その製法及びこれを含有する除草剤に関する。

従来の技術耽に、イミダシリン−騎導体が除草時性を有することは
公知である（西ドイツ国時Ｆｆ出難公開公権（ＤＥ−Ｏ
８）第２８３３２７４号明細書及び西ドイツ国特粁出顧
公開公報（ＤＥ−Ｏ８）第３１２１７３６号明ａ’４Ｆ
）。しかしながら公知化合物の除草作用は屡々十分では
なく、もしくは相応の除草作用の際に農業の主耕作物に
おける選択性の問題が生じる。

発明が解決しようとする問題点本出願の課題は、この欠点を示きずかつその生吻宇的特
注において従来公九の化合物を／！２駕する新規化合物
の製造である。

問題点を解決するための手段ところで、一般式Ｉ：〔式中Ｒ１はＣ】〜Ｃ４−アル中ル基を表わし　Ｈ２ハ
Ｃ】〜Ｃ６−アルキル基又はＣ３〜Ｃ６−シクロアルキ
ル基を表わし、又はＲ１及びＲ２は隣接する炭素原子と
一緒になってメチル基によってｔｉｉ＊されていてよい
０３〜ＣＩ、Ｉ−シクロアルキル基を表わし、ＡはＭ　
ＣＨ２０Ｈ、ＣＯＯＲ３又はＣ０ＮＲ’Ｒ６を表わし、
Ｒ３は水素原子、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ】〜
Ｃ１−アルコキシ基、０１〜Ｃ４−フルキルチオ基、０
３〜Ｃ６−シクロアルキル基、ベンジル基、フリル基、
テトラヒドロフリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル
＆、ｃ】〜Ｃ４−アルキルフェニル基、Ｃ，〜Ｃ４−フ
ルコキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、０１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル基、
Ｃ】〜Ｃ４−アルキルアミノ基又はジーｃ１〜ｃ４−ア
ルキルアミノ基によって置換されていてよく、１個又は
数個の酸素原子又は硫黄原子によって電灯さγムていて
よいＣ】〜Ｃ７２−アルキルｉ　ｃ。

〜Ｃｓ−フルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子に
よってｔｌを侯されていてよい０３〜ｃ８−フルケニル
ｉ　　ｃ、〜Ｃ３−フルコキシ基、フェニル基又はハロ
ゲン原子によってＩｔ換されていてよい０３〜ａＳ−ア
ルキニル基、メチル基によって置換されていてよい０３
〜Ｃ６−シクロアルキル基、Ｃ】〜Ｃ４−アルキリデン
イミノ基又はアルカリ金属、アルカリ土類金属、マンガ
ン、鋼、鉄、亜鉛、アンモニウム及び有機アンモニウム
化合物の群からの陽イオンを表わし　Ｒ４及びＲ５は互
いに無関保で、水素原子、ヒドロキシ基、１個又は数個
のヒドロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ】〜Ｃ３−アルコキ
シ基又はＣ】〜Ｃ３−フルキルチオ基によって＝：ｉｋ
されていてよいＣ】〜Ｃ４−アルキル基、Ｃ３−アルケ
ニル基又龜Ｃ３−アルキニル基金表わし、かつＲ４が水
素原子である場奮には、】１５はアミノ基、ジメチルア
ミノ基、アセチルアミノ基又はアニリノ基も我わし、Ｂ
は水素原子及びＡが基ＣＯＯＲ３でるるか、この場合Ｒ
３は水素原子又は塩形成陽イオンを表わさず、Ｗが酸ｇ
原子であシη・つ基Ｘ、　Ｙ及び２がアルキルアミノ−
、ヒドロキシ−又はヒドロキシアルキル基を表わざない
揚台には、同様に基Ｃ０Ｒ６又は５ｏ２Ｒ’を表わし、
Ｒ６はＣ７〜Ｃ８−アルキル基、Ｃ７〜Ｃ８−フルコキ
シ基、Ｃ７〜Ｃ８−フルキルチオ基、ジーＣ７〜Ｃ８−
アルキルアミ７基、０１〜Ｃｐｌ−ハロゲンアルキル基
、１個又は数個のハロゲン原子、ニトロ基、０１〜Ｃ４
−アルキル基又は０１〜Ｃ４−フルコキシ基によって置
換されてイテヨいフェニル基又は１個又は数個のへロケ
９ン原子、ニトロ基、Ｃ】〜Ｃじアルキル基又はＣ】〜
Ｃ４−アルコキシ基によってに′換されていてよいフェ
ノキシ基を表わし　Ｒ７はＣ】〜Ｃ８−アルキル基、ト
リフルオルメチル基、トリクロルメチル基又は１個又は
数個のハロビン原子、ニトロ基、Ｃ】〜Ｃ１−アルキル
基又はＣ７−〇４−アルコキシ基によってｗｍ−ａれて
いてよいフェニル基を表わし、Ｗは酸素原子又は億黄原
子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、ｃ】〜ｃ３−ア
ルキル基、Ｃ】〜Ｃ３−八ロデンアルキル基又はＣ】〜
Ｃ３−アルコキシ基を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、ｃ】〜ｃ３−フルコキシ力
ルポニル基、ビリゾル基、悶−メチルピロリル基、アミ
７基、Ｃ】〜Ｃ４−アルキルアミノ基、ジーＣ】〜Ｃ４
−アルキルアミノ基、０３〜Ｃ６−シクロアルキルアミ
ノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アジリジニル
基、モルホリニル基、Ｃ７〜Ｃ４−フルキルチオ基、０
．１〜ｃ６−シクロアルギルチオ基、Ｃ】〜Ｃ４−アル
コ午シａｌｅ　、Ｃ＊〜Ｃ＾−シクロアルコキシ基、Ｃ
】〜Ｃ１−フルキルスルホニル基、トリルスルホニル基
、ｃｓ〜ｃ６−シクロアルキル基、１個又ｔｒｓ、ｅｉ
個のハロゲン原子、Ｃ】〜Ｃ３−アルコキシＡ、Ｃ１〜
ｃ３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ１〜ｃ６−シ
クロアルキル基、シアノ基、フェニル基、フリル基、テ
トラヒドロフリル基Ｖ（よって直戻されていてよく、１
個又は数個の酸素原子又に轄貢原子によってｉＩＦ！Ｊ
ＴされていてよいＣ１〜Ｃｅ−アルキル基、１個又は数
個のハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃｒ５−アルキル基、Ｃ】〜
Ｃ３−フルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基に
よって宜侠されていてよいフェニル基、１伽又は数個の
ハロゲン原子、Ｃ】〜Ｃ３−アルキル基、Ｃ】〜Ｃ３−
フルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基によって
ｔｊ１換葛れていてよいフェノキシ基、０３〜Ｃ６−ア
ルケニル基又はＣ３〜Ｃ６−アルキニル基を表わし、か
つ２は水素原子、Ｃ，〜Ｃ３−フルコキシ力ルボニル基
、Ｃ】〜ｃａ−フェニルスルホニル基、フェニルスルホ
ニル基、ｃ、〜Ｃａ−フルキルスルホニル基、Ｃ。

〜Ｃ３−フルキルフェニルスルホニル基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、シアノ基、キリジル基、ナフ
チル基、アセチル基、ベンゾイル基、ジーＣ】〜Ｃ６−
１ルキルカルバモイル基、０３〜Ｃ＾−シクロアルキル
カルバモイル基、アミジノ基、０３〜Ｃ１−シクロアル
キル＆、Ｃ３〜Ｃ，−アルケニル基、０．１〜Ｃｌ９−
アルキニル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲ
ン原子、ヒドロキシ基、Ｃ】〜Ｃ１５−アルコキシ基、
Ｃ３〜Ｃ，−シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ６−シクロア
ルキルオキシ基、０１〜Ｃ４−アルキルチオ基、０３〜
Ｃ６−シクロアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ】〜Ｃ３−
アルキルアミノ基、ジーＣ１〜Ｃ３−フルキルアミ７基
、０３〜Ｃ６−シクロアルキルアミノ基、フェニル基又
はシアノ基によってＫｍされていてよく、１個又は数個
の酸素原子又はｆｉＲ＊原子によって通萌されていてよ
いＣ】〜Ｃ８−アルキル基、１個又は数個の、同じ又は
異なるハロゲン原子、Ｃ】〜Ｃ３−アルキル基、Ｃ】〜
Ｃ３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニト
ロ基によってｔｘｔ換されていてよいピリミジニル基又
は１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ】
〜Ｃ３−アルキル基、Ｃ】〜Ｃ３−アルコキシ基、ヒド
ロキシ基、シアノ基又はニトロ基によって１侯されてい
てよいフェニル基を表わす〕のピラゾロ１：３．４−ｂ
）ピリシン肪４坏亜ひＩｃ　ｗが酸素原子を表わしかつ
Ａか基ＣＯＯＲ３’１１”表わすが　Ｒ３は不結和アル
キル基でＶＷない場合には、この化金物のＮ−オキシド
　Ｒ１及びＲ２が四じものでにない場合には、この化合
物の光学的異性体及びＲ３が塩形ＩｆＸ、ｒＪＭイオン
でない場合には、この化合物の酸付加塩がム要な＠単作
用を示すことが判明し次。

１アルカリ金ｐＡｌとはナトリウム、カリウム及びリチ
ウムを包含する。

“有機アンモニウム化合物“とは、１〜４個の脂肪族基
と結合している陽荷電の窒素原子を有する基と定義され
、この場合各々は１〜１２個の炭素原子を有して良く、
例えばモノアルキルアンモニウム、ジアルキルアンモニ
ウム、トリアルキルアン゛モニウム、テトラアルキルア
ンモニウム、シクロアルキルアンモニウム、ピペリジニ
ウム、モルホリニウム及びピロリジニウムでるる。

１ハロケ９ン・とは弗素、塩素、臭累及び沃素を包含す
る。

扁異的にも本発明による化合ｖｌＪは技術水準から分類
の化金物よりも良好な辿択性、もしくは作用％注を示す
。新規化合物のうち、特に一般式Ｉにおいて　Ｒ１がＣ
】〜Ｃ１−アルギル基を表わし　ＨＭがＣ１〜Ｃ６−ア
ルキル基を表わし、Ａが基Ｃ０ＯＲ’又はＣＯＯＨ４Ｒ
５を表わし、Ｒ３が水素原子、Ｃ】〜Ｃ４−アルキル基
、０３〜Ｃ，ｌ−アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ６−アルキニ
ル基、テトラヒドロフルフリル基又は有機アンモニウム
化合物を表わし　Ｒ４が水素原子又は０１〜Ｃ４−アル
キル基を表わし、Ｒ５が水素原子又は０１〜Ｃ１−アル
キル基を表わし、Ｂが水素原子を表わし、Ｗが酸素原子
を表わし、Ｘが水素原子を表わし、Ｙが水素原子、Ｃ）
〜Ｃ４−アルキル基、ハロケ８ン−Ｃ】〜Ｃ４−アルキ
ル基、Ｃ１〜Ｃ１−アルコキシ基又は０１〜Ｃ１−アル
キルチオ基及びＺがメチル基又にフェニル基を衣わアも
のかその除草作用によって潰れている。

本発明による一般武■の化８物Ｈｚ　門えげ、Ａ）　　
ＡがＣ０ＯＨを衣わし、刀）つＢか水素原子を表わす〜
甘には、−ｆｉ式ＩＩ：乙〔式中Ｒ”、Ｒ’、Ｗ、　Ｘ、　Ｙ及びＺは前記のもの
である〕の化合物を、アルカリ性の東件下で環化し、Ｂ）　　ＡがＣ○ＯＲ’を表わすが、Ｒ３は水ｆＡ原子
又は塩形成陽イオンを表わさず、かつＢは水素原子を表
わす場合には、一般式Ｉ：〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｗ、Ｘ、Ｙ及び２は前記のも
のでりるが　Ｒ３は水Ａ原子又は塩形成吻イオ／ではな
い〕の化合物を、オギシ頃化燐及び五塩化−よりなる混
合物と反応させ、侍られる塚醒塩から鳩癌な塩基での中
和によってエステルを遊離させ、Ｃ）　　ＡかＣＯＯＲ３を次わすが　Ｒ３は水素原子又
は塩形成陽イオンを表わさず、Ｂは水素原子を表わし、
〃）つＷは識素原子を表わ−ｒ場合には、一般式Ｉｖ：Ｒ↓ 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ　、　Ｙ及びｚ　ｒｃ　ｎｔｔ記
のものである〕の化合物を、一般式：　Ｒ３−ＯＨＬ式
中Ｒ３は前記のものでるるか、水素原子又は塩形成陽イ
オンヲヘわさない〕のアルコール及び一般式：Ｒ３−０
Ｍ　［式中Ｒ”ｇよ甲■記のもりであるが、水素原子又
は塩形成陽イオンを衣わさず、かつＭｖユアルカリ金属
でりる〕り相応のアル刀り金桶アルコラードと、０剤の
存在又は不存在で反応させ、Ｄ）　　ＡかＣ０ＨＲ’Ｒ５を表わし、Ｂが水累原子″
ｔ″表わしかつＷがＩＲ系原子を表わす場合には、一般
式１ｖ：〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、　Ｙ及びＺは噛記のものである
〕の化合′？ｌＪを、一般式：　ＨＮＲ４Ｒ５［式中Ｒ
４及びＲ５は前記のものである〕のアミンと、各刑の使
用又は不使用下に反応ぢせ、Ｅ）　　ＡがＣＨ２０Ｈをｆセわし、Ｂが水素原子を表
わし、かつＷがＳ！水素原子衣わす場せには、一般式１
ｖ：〔式中Ｒ１，Ｒ２、Ｘ　、　Ｙ及びＺは前記のものでろ
る〕の化合物を、還元剤、味に７Ｘ索化硼素ナトリウふ
と反応させ、Ｆ）　　Ａ　Ｚｌｌｉ　Ｃ００Ｒ３ｋ　＆ワＬ、Ｒ３ｔ
−ｕｎ形成陽イオンを表わし、かつＢは水素原子を表わ
す場合には、一般式Ｉａ：〔式’ＰＲ”　％　Ｒ２、ｗＸＸ、Ｙ＆ひＺ　ｈ　ｐｊ
ｌ記のものでるる〕の化合＃を塩形戟創としての一基１
＠輩と反応させ、Ｇ）　　Ａ−ｂｉｃＯＯＲ”Ｆｓｔ）’ｔが、ｎ３ｒｘ
７？Ｃ２原子又は塩形成噂イオンを表わさず、ＢはＣＯ
Ｒ’又は５Ｏ２Ｒ’を表わし刀為つＷ（ｌ−を酸素原子
を表わす場合には、一般式Ｉｂ＝〔式中Ｒ１、Ｒ’　、Ｒ３、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のもの
でるるが　Ｒ３は水素原子又は塩形成陽イオン全表わさ
ない〕の化合物を、一般式：％式％のアシルハロデニド又は一般式：Ｒ６−Ｃｏ　−０−Ｃｏ　−Ｒ’ の酸無水物又は一般式：％式％し式中Ｒ６及びＲ７は１４ｒｌ記のものであジ、かつＨ
ａｌはハロゲン原子ｆ−Ａわ丁〕リスルホニルハロデニ
ドと、ｍ＊ｌＪ及び酸結合剤の存在又は不存在で反応さ
せ、又はＨ）　　Ａが０００Ｒ３ｔ−表わすが、Ｒ３は水素原子
又は塩形成１場イオンを表わさず、Ｂは水素原子を表わ
し、かつＷは酸素原子を表わす場せには、一般式Ｉｂ：〔式中ＲＬ　、Ｒ２、Ｒ”、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のもの
であるが　Ｒ３は水素原子又は塩形成陽イオンに表わさ
ない〕の化合物を、ハロビン化水素酸少なくとも１当軒
と、有機浴剤中で反応させて、ハロゲン化水素鹸−付加
塩にすることによって製産することができる。

変法人）は有利に次ｃ／）ように実施する、すなわち、
一般式…の出発′４！ｌＪ實を長時間、例えば０．５〜
２０時間、２０〜１００’ＣＬｙ）輸囲の温度で、水性
又は同僚に水性−アルコール性のアルカリ金楓水鈑化物
溶液、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム浴液
で処理し、この際水酸化物の量は、一般式Ｍの出発Ｗ＊
に対して、２〜１０モル自量でおる。引続き反応混合物
を冷却し、頻鉱酸、例えば鎖酸又は塩酸で酸性化する。

出発＠實として使用する一般式Ｈのアミドは次の式に相
応して製造することができる：■ （Ｖ）　　　　　　　　（Ｖｌ） ↓ 一般式Ｖ〔式中ＸＸＹ及びｚｆよ前記のもので公知でり
るか又は文献で公知の類似方法により装造することがで
きる〕を、式■１のオキデル酢酸ジエチルエステルとの
反応によシ一般式Ｖｔ＋のピラゾロ［３，４−ｂ：Ｉピ
リジンジカルボン酸ジエチルエステルに変僕することが
できる。

一般式Ｖｌｌのジエステルを加水分解して一般式鴇のピ
ラゾロ［３，４−ｂ）ピリジンジカルボン酸にすること
ができ、しかも強塩基、例えば水酸化カリウム又は水酸
化ナトリウムとの反応により加水分解することができる
。

一般式■の酸無水物は、引続き一般式市のピラゾロ（３
，４−ｂ〕ピリジンジカルボン酸を例えば無水酢酸で処
理することによシ侍ることかできる。

一般式Ｘ〔式中Ｒ１及びＲ２は前記のものである〕のア
ミノ酸アミドとの反応によシ一般式Ｈの化合物を得る。

一般式Ｈの化合物の多食は有機浴剤、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はＩｆ
ｆ［エステルの存在で、又はハロゲン化された浴剤、例
えは塩化メチレン又はクロロホルム中で行なう。反応は
２０°Ｃ〜１００℃の温度範囲で行なう。反応の際に少
量で生成する異性体ピラゾロ（３，４−ｂ）ピリジンカ
ルボン酸妨導体は再結晶又はクロマトグラフィーにより
容易に除宏することができる。

一般式ｖｕのピラゾロ（３，４−ｂ：］］ビリジンジ力
ルポシ教妨４の多くは、次の式によ）得ることもできる
： ↓　ＮＨ２−ＮＨ−Ｚ　　　　（Ｘｌｌ）一般式美〔式
中Ｘ及びＹは前記のものである〕り遡当に［決されたピ
リジンジカルボン酸エステルを、一般式店〔式中Ｚに前
記のものである〕のヒドラジンと、通描な浴剤、例えば
Ｃ３〜ｃ４−アルコール、塩化メチレン、クロロホルム
、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ドルオール、ペンゾール、ハロケ９ン化ペ
ンゾール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル又は水中で、０℃から浴剤の那騰温までの視度
範囲で反応させる。

一般式、Ｘ１１のヒドラゾンの塩、例えば塩酢塩を使用
する反応の之めに、場合によりば受答体、例えばｆｆ１
ｌ−１１ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリ
ウム及びアミン、例えげトリエチルアミンを麻加するこ
と力ｉできる。

一般式刀のビリシンジカルボン酸誘導体は部分的に文献
で公知でるるか又は文献で公知の類似方法によシ製造す
ることができる。

出発物置及び反応東件に従って中間生成物として生成す
る一般式店のヒドラゾンを単離することもできる。

一般式■のヒドラゾンを引続き一般式警１１のピラゾロ
（３，４−ｂ〕ピリジンジカルざン酸妨碑体に塩化する
。塩化のために、Ｖ、系、例えは無水酢酸、無水トリフ
ルオル酢酸、塩化チオニル、塩化スルフリル、塩化オキ
ザリル、オキシ塩化燐、ｄ硫酸、氷酢酸又は蟻酸を、場
合により浴剤、例えばクロロホルム、塩化メチレン、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ドルオー
ル又はペンゾール、及び塩基、例えばピリジン又はトリ
エチルアミンの冷加下に、０°Ｃから反応？昆合吻の部
騰謳度ｌでの扇度範囲で使用することができる。

一般式ｖ１１〔式ＣｐＹに弗素原子、塩素原子、某索原
子、大木原子、ヒドロキシ基又はシアン基を表わす〕の
ピラゾロＣ６，４−ｂ）ピリジンジカルボン酸誘纒体金
次の式により侍る：一股式唐〔式ｑＪＸ＆びＺは一般式
Ｉで挙げたものである〕の６−アミツービラソ市口〔６
゜４−ｂ〕ビリシン−ジカルボン敗ジエチルエステルを
相応の一般式ＸＶのジアゾニウム塩に変換することかで
きる。これを引続きサノドマイヤー（Ｓａｎｄｍｅｙｅ
ｒ　）−反応にょシ式Ｖｌｌ　（式中Ｙは塩ｇ原子、臭
素原子、沃素原子又はシアノ基である〕のピラゾロ（３
，４−ｂ：Ｉビリシンジカルボン緻ジエチルエステルに
変える。シアゾニウム塩を相応の溶剤中で黒海すること
により例えはヒドロキシ基及び弗素原子も置換基として
導入することができる。

ジアゾニウム塩の製造及びそのそれ以上の変換は文献で
公知の方法と同様にして行なう。

変法Ｂ）は有利に次のように実施する、すなわち、一般
式１の出発物質をオキシ塩化燐及び五塩化燐よシなる混
合物と室扇で直接反応させる。

反応は反応条件下で不活性の浴剤、列えはドルオール、
キジロール又はクロロホルムの存在で、Ｑ℃〜１００℃
のＴ！Ｍ度朝囲で要冷することもできる。遊ｈ１塩基を
その際生成する塩酸頃から自体常法によシ、例えば炭酸
ナトリウム又は炭酸水素ナトリウムとの反応によシ単離
する。

一般式■の出発物質を一般式Ｍの化合物から一般式：　
Ｒ３−ＯＨの相応のアルコールでの自体常法によるエス
テル化によシ侍る。

変法Ｃを有利に次の様に実力＆する、すなわち一般式１
ｖの出発物質をアルカリ笠輌水索化物、例えば水素化ナ
トリウム及び過剰量の式：　Ｒ３−ＯＨの相応のアルコ
ールよシなる混合物と０．５〜５時間室温から反応混合
物の那騰温度までの範囲の温度で反応させる。使用され
るアルコールはこの反応では反応体として並びＫｌ剤と
して用いられる。しかしながら付加的な溶剤、例えばテ
トラヒドロフラン、ジオキサン又は他の非プロトン性尋
剤を使用することもできる。

変法りを有利ｒ〔次の様に実流する、すなわち一般式１
ｖ）出発物質’ｒ−ｈ−Ｋ　：　ＨＮＲ４Ｒ５［式Ｒ４
及びＲ５は一般式Ｉに挙げたものである〕の−級又は二
級アミンと、２０”Ｃ〜１００　’Ｃの幌度範囲で、場
合によシ浴剤、例えばジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン又はジオキサンの使用下に反応させる。

変法Ｅを勇°利に次の禄に実画する、すなわち一般式１
ｖの出発ｖｌＪ負を還元剤、例えば水素化軸木ナトリウ
ムと、−１０℃〜６０℃の温度＃、囲で）適当な浴剤又
は溶剤混合物、例えばエタノール／テトラヒドロフラン
中で反応させる。

式ＩＶ　ノＩｔｌ　発？！Ｉ　Ｘ　ｋ　−般式ＩＣ（式
中Ａ　ｆｌ　Ｃ０ＯＨ基を表わし、Ｂは水素原子を表わ
し、かつＷは酸素原子を表わす〕の化合物刀１らジシク
ロへキシルカルボジイミドとの反応により製造すること
ができる。

反応は不暦性心剤、例えば塩素化され次炭化水素中で、
寺モル・針のカルざジイミドリ使用下に、２０’Ｃ〜６
０℃の温度範囲で、次の反応図に相応して行なわれる：Ｒ五変法Ｆは有利に次の様に実施する、すなわち式Ｉ〔式中
人はＣｏＯＨ基を表わし、かつＢは水素原子を表わす〕
の出発物質〒、塩形成剤として消量の塩基、例えはアル
カリ金属−又はアルカリ土類金属水酸仕切、水飯化アン
モニウム、又はアルキルアミン、向えばイソプロピルア
ミンと、２ｉＩ描な浴剤中で室諷で反応させる。

変法Ｇを次の僚に実施する、すなわち、変法Ｂ及びＣＫ
ａ応して侍られる一般式Ｉの出発物質を、一般式：　Ｒ
’−Ｃｏ−Ｈａノのアシルハロデニド、一般式：　Ｒ６
−Ｃｏ−０−Ｃｏ−Ｒ６の酸無水物又は式：Ｒγ−８０
２−ＨａノのスルホニルハロデニトＣ式中Ｒ’及びＲ７
は一般式１に挙げ友ものでめシ、かつＨａｔはハロダン
原子を茨わす〕の過＊Ｊｉｔと、場合によ４７溶剤及び
酸結合剤、例えはピリジンの存在で、５０℃〜１３０℃
の幌度で反応させる。

前記の変法によシミＢ造される本発明による化合物は常
法によシ、例えば反応混合物を氷水中に加え、生成物ｔ
−適当な浴剤で細めすることによって又は濾過すること
によって分離することにより、反応混合物から単離する
ことができる。

本発明による化合物は通例結晶性の又に枯住の物置でめ
シ、これはハロケ９ン化ぢれた炭化水素、クロロホルム
、スルホキシド、列えはジメチルスルホキシド、又ｈエ
ステル、例えはゴ１にエステル中に一部分は良好Ｋｌけ
る。

本発明による化合′９１ＪｒＩ：、継断的に重要な単−
及び双子葉の雑単に対する優れた除草作用を有する。撲
滅し難い多年生の雑草にも良好にこり作用が及ぶ。

この際、Ｍ物が傷櫨前−１出芽前−又は出芽後に啜嬶さ
ｎるかどうかは重要ではない。本発明による化合物を発
芽前に地表面上に施こす場合には、胚の出芽は完全には
阻止されない。報集は子茶期なで成長するが、その後そ
の成長は停止し、最恢にＦｉ、５死する。

化合物は根及び葉にから取シ込１れ、***組ｍ部位での
富化下に植物中に分布される。処理ちれた植物において
は噴精後にまもなく成長は中断ざｎる。黄白化が起こる
。多年生の雑草においては化合物は地下部分で輸送され
、従って再出芽（ｗｉｅｄｅｒａｕｓｔｒｉｅｂ）　ｉ
；ｃ　阻止される。

本発明ンζよる作用ｖｌＪ實は例えば次の偵物桟に対し
て使用することができる：イチビ（ＡｂｕｔｉＬｏｎ久
キク（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ）、アブラナ（Ｂｒ
ａｓｓｉｃａ）、ヒマワリ（Ｈｅｘｉａｎｔｎｕｓ）　
、ハツカ（Ｍｅｎｔｈａ）　、カラ２（Ｓｉｎａｐｉｓ
、）　、？メグノバイナズナ（Ｌｅｐｉ−ｄｉｕｍ）　
、ヤエムグラ（ＧａＬｉｕｍ）　、ハ：Ｆべ（３ｔｅｌ
ａ−ｒｉａ）　、カミレ（＊ｎｚｈｅｍｔｓ）　、アカ
ザ（Ｃ，ｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ入ハＹアカ＋ｒ　（Ａｔ
ｒｉｐｌｅｘ）　、ハンゴンンウ（Ｓｅｎｅｃｉｏ）　
、スベリヒエ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ）、サツマイモ（Ｉ
ｐｏｍｏｅａ）　、カミツル（Ｍａｔｒｌｃａｒｔａ）
　、ガリンンガ（Ｃｌａｌｌｏｓｏｇａ）　、イラクサ
（Ｕｒｔｌｃａ）　、ヒス（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ）　
、ヒルガオ（ＣｏｎｖｏｌｖｕＬｕｓ）　、ミチマナギ
（ＰｏＬｙｇｏｎｕｍ）　、セスバニア（５ｅｓｂａｎ
ｉａ　）、ブタフサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ）　、ノアデミ
（Ｃｌｒｓｉｕｍ）、カルデュウス（Ｃａｒｄｕｕｓ）
　、ノデシ（Ｓｏｎｃｈｕｓ）、ナｘ　（８ｏ１ａｎｕ
ｍ）　、イヌガラシ（Ｒｏｒｌｐｐａ）　、オドリコソ
ウ（Ｌａｍｉｕｍ）、クワガタソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ
７、チョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ、）　、スミレ
（Ｖｉｏｌａ人ヤグルマギク（Ｃｅｎｔ、ｒ！ｕｒｅａ
）　ｌｌ−びテシマオドリコ（ＧａＬｅｏｐｓｉｓ）　
ｇの双子葉雑草。カラスムギ（Ａｖｅｎａ）　、スズメ
ノテツボウ（Ａ−１ｏｐｅｃｕｒｕｓ）、ヒエ（Ｅｃｈ
ｉｎｏｃｈｌｏａ）、エノコａ　（Ｓｅｔａｒｉａ）、
キビ（Ｐａｎｉｃｕｍ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｚａｒｉ
ａ、）　、イチゴツナ−ｆ（Ｐｏａ、）、万ヒシバ（Ｆ
；Ｌｅｕｓｌｎｅ）、プラチアリア（Ｂｒａｃｈｉａｒ
ｌａ）　、ドクム’Ｆ’　（Ｌｏｌｉｕｍ）、キラ不ガ
ヤ（ＢｒｏｍｕＳ）、カヤツリグサ（Ｃｙｐａｒｕｓ、
）　、力士ゾグサ（＊ｇｒｏｐｙｒｏｎ）、オモタｙｙ
　（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ）、ジノトン（Ｃｙｎｏｄｏ
ｎ）　、：ｙす’Ｐ　（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ）、テン
ツキ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ）　、ハリイ（Ｅｌｅ
ｏｃｈａｒ　１ｓ入カモノハシ（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ）
及びアペラ（Ａｐｅｒａ）輌の早子業雑草。

化合物はＲ東王枡作物、例えば木綿、大豆及び他のマメ
科、コメ、トウモロコシ、小麦、人皮、カラスムギ、モ
ロコシ、サトウキビ及びパ１ノアップルで使用すること
ができる。

本発明による作用物質の使用は決して前記の雑草属及び
耕作植物に限定されるものではなく、同様の方１宍で他
の植物にも及ぶ。

化合物はよシ高い消費量で全体的雑草併誠に例えば工業
−及び軌条設備に及び通路及び広場にも適当である。同
様に化合物は持続性耕作物、例えば山林−１観賞樹−１
来吻−、ブドウ−、レモン−、クルミー、バナナ−、コ
ーヒー、茶−、ゴム−、アブラヤシー、刀刃オー、漿果
−及びホラｆ設υ阿における雑草快滅に使用することか
できる。

更に化合物に、種ｖｌＪ固有の代謝に調螢的に関与する
ことによって、相応の低い根皮で成長−歪剤的特注を耕
作植物に示し、従ってこれは例／ｌ＃２増殖的増殖性理
的酸量の一般的調贅のために使用することができる。

使用ちれる作用物置童はよシ大きな範囲で変動して艮い
。これは＊際には所望幼果の種類に依る。一般に消費量
は地顔１ヘクタール浩シ作用′ｌｌｌ！７質０．０１〜
５ゆ、殊に例えば雑草漢戴では１ヘクタ一ル当夛作用物
實０．１〜０．５ｋｇである。

本発明による化合物は単独で、相互に又は他の作用′ａ
實と混合して使用することができる。

場合によシ他の植物保護−又は害虫駆除剤を所望目的に
応じて添加することかできる。作用スペクトルの拡大が
意図されている限シは、他の除草剤を奈加することもで
きる。向えば除草剤として有効な混合成分は、ウイード
・アデストラクツ（Ｗｅｅｄ　Ａｂｓ　ｔｒａｃ　ｔｓ
　）　、Ｖｏｌ、　３４　％　／１６６　Ｎ１９８５Ｋ
、”！Ｊスト・オデ・コモン・ネームズ・アンド・アデ
リービエイションズ・エンプロｆ）’・フォー・カレン
ドリー・ニースト・ハービサイデス・アンド・プラント
グロース・レギュレイタース・イン・ウイード・アブス
トラクツ　（Ｌｉ５ｔ　　ｏｆ　　ｃｏｍｍｏｎ　　ｎ
ａｍｅｓ　　ａｎｄ　　ａｂｂｒｅｖｉａｔｉｏｎｓｅ
ｍｐｌｏｙｅｄ　ｆｏｒ　ｃｕｒｒｅｎｔｌｙ　ｕｓｅ
ｄ　ｈｅｒｂｉｃｌｄｅｓ　ａｎｄｐｌａｎｔｇｒｏｗ
ｔｈ　　ｒｅｇｕｌａｔｏｒｓ　　ｉｎ　　Ｗｅｅｄ　
　Ａｂｓｔｒａｃｔｓ）’の表題で挙げられている作用
＠寅が通描である。

作用頻度及び作用速度の促進は例えば作用壇加奈加剤、
例えば有機浴剤、湿潤剤及び油によって通成することが
できる。従ってこのような瘉加剤は場合によシ作用ｍ＊
投与を減少させることができる。

混合成分として更に燐脂質、例えばホスファチジルコリ
ン、水素化されたホスファチジルコリン、ホス７アチジ
ルエタノールアミン、Ｎ−７シルーホスフアチジルエタ
ノールアミン、ホスファチジルイノジット、ホスファチ
ゾルセリン、リゾレシチン及びホスファチゾルグリセロ
ールの評よりなるもの紫便用することができる。

特徴付けられ之作用装置又はその混合物は有利に調製剤
の形で、例えは粉末、噴精削、顆粒、溶液、乳化液又は
騰濁液で、液状及び／又は固体の賦形剤もしくは布釈剤
及び付７ｉｒ剤、湿潤剤、乳化剤及び／又は分散助剤の
６加下に使用する。

適当な敵状賦形剤は例えば脂肪族及び芳香展炭化水木、
例えばペンゾール、ドルオール、キジロール、シクロヘ
キサノン、インホロン、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミド、史に鉱油フラクション及び櫃物油であ
る。

固体の賦形剤としては鉱物、例えばベントナイト、シリ
カゾル、タルク、カオリン、アタパルジャイト、石灰石
及び種物性製品、例えば穀粉が適当である。

界面活性物質には例えばカルシウムリグニンスルホ＊−
ト、ポリエチレンアルキルフェニルエーテル、ナフタリ
ンスルホン酸及びそり塩、フェノールスルホン酸及びそ
の塩、ホルムアルデヒド粗金吻、ｍｒ肪アルコールスル
フェートａひにｔ＊ｍされたペンゾールスルホン酸及び
その塩が挙げられる。

個々のｒ４製斉り中の１個もしくは数（愼の作用吻質の
割合は広い範囲で変化して良い。例えば薬剤は作用物賞
約１０〜９１Ｅｔ％、液状又は固体の賦形剤約９０〜１
０Ｘ量％並びに場合によ少界面活性物買２０重量％まで
を含有する。

薬剤の散布は常法で、例えは賦形剤として水を用いて１
！Ｊ梯漱菫約１００〜１０００！Ｊツトル／ヘクタール
で行なうことかできる。いわゆる低−容量（Ｌｏｗ−Ｖ
ｏｌｕｍｅ　）及び超−低一容量（Ｕｌｔｒａ−Ｌｏｗ
−Ｖｏｌｕｍｅ　）法での薬剤の使用がいわゆる倣顆枚
の形でのその通用と同様に可能でるる。

これらの調製剤の製屑ニに自体公知の種類と方法で、例
えば粉砕−又は混合法により実施することができる。所
望の場せには、例えばいわゆる検温合法で実績に実施ち
れるように、単一成分の′７Ａ製刑をその便用直前では
じめて混合テることもできる。

種々のＦＡ製創の製逅のために例えば次の成分を便用す
る：Ａ）噴繕粉末１）作用物質　　　　　　　　　　２０創０カオリン　
　　　　　　　　　６８劃１リクニンスルホン酸のカル
シウム塩　　１ｏｗｎ％シアルキルナフタリンスルホネ
ート　　　２Ｈ量％２）作用′４Ｅ賞　　　　　　　　
　　４０重ｉｔチカオリン　　　　　　　　　　２５！
ｉｔ％コロイド珪酸　　　　　　　　２５１５に％リク
ニンスルホン酸のカルシウム塩　　　８夏ｉｔ％Ｂ〕水
溶性粉末作用物質　　　　　　　　　　　　１０重訃チ尿素　　
　　　　　　７５重甘せジアルキルナフタリンスルホネート　　　　１ｍｔ％Ｃ
）乳化績縮液作用物ｊＩｌ　　　　　　　　　　　　２ｏ＊ｔｓイソ
ホロン　　　　　　　　　　　７５］ｉ沿チエトキシル
化され之ヒマシ油　　　　　　　２！芦チ次例で本発明
による化合物の製造を詳述する。

例１（方法Ａ）６−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２
−イミダシリン−２−イル）−１−メチル−１Ｈ−ピラ
ゾロ［３，４−ｂ］ぎりシン−５−カルざン酸、−水和
物６−［Ｎ−（１−カルバモイル−１，２−ゾメテルプロ
ｔル）−カルバモイル〕−１−メチル−１Ｈ−２ラゾロ
［３，４−ｂ〕ぎりジン−５−カルボン酸７．５　Ｆ　
Ｃ０，０２２モル）および２．６Ｎ力性ソーダ洛液６Ｑ
ｒｎｌを室温で一緒にし引続き７０°Ｃで２時間撹拌し
た。水冷下に反応混合物を濃塩酸でＰＨ１まで酸性化し
、晶出された生成物を濾別した。

収量：　４．１　！ｉ＝理論値の５７．８係融点：２５
８°Ｃ分解（−水和物）分析：　Ｃ，５Ｈ，、Ｎ５０３Ｘ　Ｈ２Ｏ分子量：ｓｓ
ｓ、ｓｓ計算値：　５４．０５％Ｃ５，７５％Ｈ２１，
０１％Ｎ測定値：　５４．０６％Ｃ５，３７％Ｈ２０，
８６％Ｎ出発物質は、次のように製造した：ａ）一般式■の化合物の製造ａｌ）１−メチル−１ａ−ｖラゾロＩ”３．４−ｂ）ｆ
リジン−５，６−ジカルボン酸ジエチルエステル５−アミノ−４−ホルミル−１−メナルービラゾール１
−２　’ｌ　（９，６ｍモル）、オキサル酢酸ソエチル
エスｆｋ　１．８　＆　（９，６ｍモル）、ピペリジン
１Ｍおよびモレキュラーシープ（４Ａ１粉末化）１ｇを
８０℃で６時間攪拌し、引続き濾過しおよび＃に＃した
。残渣をシリカゲル上、展開剤とし℃ヘキサン／酢酸エ
ステルを用いてクロマトグラフィーにかけた。

収量：１．１．９＝理論値の４１．３％融点＝７４〜７
６°Ｃ分析：　Ｃ３Ｈ１５Ｎ３０４　　分子量：　２７７．２
８計算［：　５６．３１％Ｃ５，４５％Ｈ１５，１５％
Ｎ測定値：　５６．４７％Ｃ５，７５％Ｈ１４，８５％
Ｎａｚ）１．３−ジエチル−１Ｈ−ｋ”ラゾロ〔６゜４
−ｂ〕ピリジン−５，６−ジカルボン酸ジエチルエステ
ル、手水和物６−ヒドロキシ−５−（１−メチルヒドラゾノーエチル
）−２，３−Ｖ！リジンジカルボン酸−ジエチルエステ
ル２．０　ｇＣ０，００７モル）を氷酢酸３０Ｍに懸濁
しおよび一晩中室温で攪拌した。反応混合物を氷水１５
０Ｍに与え、塩化メチレンで抽出した。有機相を硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過および濃縮した。

収量：　０．３　ｇ　＝理論値の１４．６％融点：１１
６〜１１８℃ 分析’　Ｃ１４Ｈ１７Ｎ３０４　×２　Ｈ２Ｏ分子ｉｔ
　：　３００．３３１計算値：　５５．９８％Ｃ６，０
６％Ｈ１３，９９％Ｎ測定値：　５６．０６％Ｃ６，３
４％Ｈ１３，６６％Ｎａｚ）の出発物質は次のように製
造した：６−ヒドロギシー５−（１−メチルヒドラゾノ
ーエチル）−２，３−ビリゾη、゛カルボン酸−ゾエチ
ルエステル５−アセテルー６−ヒドロキシ−ぎりジン−５，６−ジ
カルボン酸−シエチルエステル８−４、！ｉ’−（０，
０３モル）をメタノール１０３ａ／に溶解し、メチルヒ
ドラゾン１．６１１１７　（０，０３七ル）ヲ滴加した
。反応混合物を２時間５０°Ｃに加熱し晶出された生成
物を冷却後濾別し、エタノールから再結晶した。

収量：　６．ＯＰ　＝理論値の６７．４％融点＝１５４
〜１５７℃ 分析”１４Ｈ１９Ｎ３０３　　　分子量：　３０９．３
２７計算値：　５４．５６％Ｃ６，１９％Ｈ１３，５８
％Ｎ測定値：　５４．３７％ｃ　　５．９６％Ｈ１３，
３６％Ｎ一般式■の次の化合物を同様に前記方法により
製造した：ｘｙ　　　　　ｚ　　　　　　融点ＨＨＣ，ｌ（５８６−８７℃ ＨＣＨ３ＣｅＨ５１１９°ＣＨａ　　　　　Ｈ１１０−１１２°ＣＨＣＨ３Ｈ１７３−１７５９ＣＨＣ２Ｈ，Ｅ（１３９−１４０°Ｃ）（ＣａＨｓ　　　　Ｈ１３６−１３７°ＣＨＣ２Ｈ３
ｃＨ３１１４°ＣＨ０Ｃ２Ｈ３ＣＨ３１０５−１０６°ＣＨＣＨ３Ｃ２Ｈ
ａ　　　　７４−７５°ＣＨＣｚＨｓ　　　Ｃ２Ｈ５６
４℃ ＨＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｈ３６５−６６°ＣＨＣＨ３Ｃ
Ｈ（ＣＩ（３）２　　油状物ＨＣＨ３Ｃ（ＣＨ３）２　
　８４−８５°ＣＨＣ２Ｈ５Ｃ６Ｈ５１１２°ＣＨＨＣ）１２Ｃ６Ｈ５２０６°Ｃ分解）（ＣＨ２（Ｊ　　　　ＣＨ３７８−８１°ＣＨ８ＣＨ
３ＣＨ５８５−８６’ＣＨ０ＣＨ３ＣＨ３９４−９５°ＣＨＣ）（３０Ｍ２ＣミＣＨ７９−８Ｌｌ’Ｃ）（ＯＨ３
０Ｈ２ＣＨ＝ＣＨ２５９−６２℃ＨＮＨ２Ｈ１４９−１
５２°ＣＨｃ）（２０ＣＨ３ＣＨ３５５−５７°Ｃｂ）一般式■
の化合物の製造１−メチル−１Ｈ−ピラゾロＣ３，４−ｂ　）ぎりジン
−５，６−ジカルボン酸１−メチル−１Ｈ−ピラゾロ（３，４−ｂ”１ヒリシン
−５，６−ジカルボン酸ジエチルエステル２０Ｊｉ’（
７２，１３ｍモル）を水１００Ｍ中の水酸化ナトリウム
８．７　！ｌ　（２１６，４ｍ−ｅル）から成る溶液に
与え、反応混合物ｔ６０℃で２０時間攪拌した。引続き
反応混合物を水冷下に濃塩酸でｐ）１１に酸性化し、晶
出した生成物を濾別した。

収ｔ：ｉ４．ｏ、ｙ＝理論値の８７．８％融点：２２５
°Ｃ分解分析：　Ｃ，Ｈ７Ｎ３０．　　　分子量：２２１．１７
計算値：　４８．８８％Ｃ３，１９％Ｈ１９，００％Ｎ
測定値：　４８．８８％Ｃ３，２４％）（１９，１０％
Ｎ一般式■の次の化合物を同様に、上記方法により製造
した：）Ｉ　　ＨＣ，Ｈ，２１２°Ｃ（分解）１（°ＣＨ３０
Ｈ，２１６°Ｃ（分解）Ｔ（ＣＨ２Ｏ，Ｈ５１９８°ＣＨＣＨ３Ｈ＞２５０°Ｃ×２Ｈ２０Ｉ（Ｃ２Ｈ６Ｈ＞２５０℃ ＨＣ２１１１，ｃ）１．、　　　　　２３２℃（分解）
ＨＱＣ２Ｈ，ＣＨ３＞２５０°Ｑ　　　　　ＸＨ２０Ｈ
ＯＨ３Ｃ２Ｈ５２０７°Ｃ（分解）ＨＣ，）１５　　　　Ｃ２Ｈ５２（Ｍ＋°Ｃ（分解）Ｈ
）１　　　　　　（Ｃ）＋２）２ＣＨ３２０１°Ｃ（分
解）Ｈｃｌ（３（ＣＨ２）２ＣＨ３１９３℃Ｈ’Ｆｉ　
　　　　　ＣＨ（ＣＨ３）２　　２１６°ＣＨＣＨ３０
Ｈ（ＣＨ３）２　　２０８°Ｃ（分解）ＨＯ２”＋５　
　　　ＣＨ（ＣＨ３）２　　１８５°ＣＨＨＣ（ＣＨｓ
）ｓ　　　２０５°Ｃ（分解）ＨＣ１（３Ｃ（ＯＨ：ｓ
）ｉ　　　２０５°Ｃ（分解）　　ＸＨ２０）（Ｃ２Ｈ
５Ｃ，Ｈ５２０１°０（分解）ＨＨＣＨ２Ｃ６Ｈ５２０
６°Ｃ（分解）×１／２Ｈ２０ＨＣＨ２０Ｈｃ）！３２
４３°Ｃ（分解）　　×２ＨｚＯＨＯＣＨ３ＣＨ３＞２
５０℃ Ｈ５ＣＨ３ＣＨ３１９８°Ｃ（分解）ＨＣＨ３ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２＞２５０°ＣＨＣＨ３ＣＨ
２Ｃ：：ＣＨ１７（ＳｏＣ（分解）ＨＣＨ２ＯＣＨ３Ｃ
Ｈ３２０８℃（分解）Ｃ）一般式■の化合物の製造１−メチル−１Ｈ−ざラゾロ［３，４−ｂ　）ピリジン
−５，６−無水二カルボン酸１−メチル−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−ｂ）ピリジン−
５，６−ジカルボン酸１０．０１（４５，２１ｍモル）
および無水酢酸５０μを還流下に２１４間加熱し、反応
混合物を引続きＯｏＣに冷却し、晶出した生成物を濾別
した。

収ｉｉ：　：　６．４．９　＝理論値の６９．７％融点
：１９６〜１９７°Ｃ分析：　Ｃ９Ｈ５Ｎ３０３　　　分子量：　２０３．１
６計算値：　５３．２１％Ｃ２，４８％Ｈ２０，６６％
Ｎ測定値：　５３．１６％Ｃ２，８４％Ｈ２０，５７％
Ｎ一般式■の次の化合物を同様に上記方法により製造し
た：ＯＨＨＣ，Ｈ，２１９−２２０°ＣＨＣＨ３Ｃ１（、２４７−２４９°ＣＨＣＨ２Ｏ，Ｈ，２３２−２３３℃ ｄ）一般式■の化合物の製造６−［Ｎ−（１−カルバモイル−１，２−ジメチルプロ
ピル）−力ルバモイル）−１−メチル−１Ｈ−ざラゾロ
ｌ”３．４−ｂ：ｌビリシン−５−カルボン酸１−メチル−１Ｈ−ピラゾロ［３，４−ｂ］ビリシン−
５，６−無水二カルボンｆｆ　６．２５　ｇ（３０，７
６ｍモル）をテトラヒドロ７ラン６０ＵにＭ＋％し、６
０℃でのアセトニトリル約１０ＩＩＩｔの添加により溶
解した。引続きアセトニトリル１０酎中の２−メチルバ
リン−アミド４．４１１！（３３，８４ｍモル）の溶液
を滴加し、６０°Ｃで２時間攪拌した。晶出された生成
物を濾別しエーテルおよびペンタンで洗浄した。

収量：９ｇ＝理論値の８７．８％融点：２１１°Ｃ分解分析’　Ｃ１５Ｈ１ｌＮ５０４　　　分子量：　３３３
．３５計３Ｉｆｉ　：　５４．０５％Ｃ５，７５％Ｈ２
１，００％Ｎ測定値：　５４．１０％Ｃ６，１８％Ｈ２
０，４７％Ｎ一般式…の次の化合物を同様に上記方法に
より製造した：例２（方法Ｆ〕６−（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキソ−２
−イミダシリン−２−イル）−１−メチル−１Ｈ−ピラ
ゾロ［３，４−ｂ）ピリジン−５−カルボン酸、イソプ
ロールーアンモニウム塩、−水和物塩化メチレン５Ｑｕ中の６−（４−イソプロピル−４−
メチル−５−オキソ−２−イミダシリン−２−イル）−
１−メチル−１Ｈ−ぎラゾロ［３，４−１″ｌぎりジン
−５−カルボンｉ！ｌ！２．９（６，３４ｍモル）およ
びイソプロざルアミン０．３８１１　（６，３４ｍそル
〕を室温で攪拌し、１時間後晶出した生成物を濾別した
。

収量：２．５９工理論値の９７％融点：２４０°Ｃ分解（−水和物）分析：　Ｃｌｌ５Ｈ１７Ｎ５０３ＸＨ２ＮＣＨ（ＣＨ３
）２ＸＩ（２０計算値二５５　、［］１％Ｃ７，１９％
’Ｈ２１，４１％Ｎ測定値：　５５．７７％Ｃ６，５０
％Ｈ２Ｌ７４％Ｎ例６（方法Ｃ）６−（４−インプロピル−４−メチル−５−オキンー２
−イミダシリン−２−イル〕−１−メチル−１Ｈ−ぎラ
ゾロ（３，４−ｂ’ｌピリジン−５−カルボン駿メチル
エステル６−イツゾロぎルー６．６−シメチルーイミダ
ゾール［１’、２’：１．２］−ピロロ〔３，４−ｂ）
ｆ２ゾロ［４，３−ｅ）ビリニア／−７゜９　ｔ　３　
Ｈ、６Ｈ）−ジオン３ｇ（１０，０９ｍモル）をメタノ
ール５０１１１Ｊに浴解し、触媒量の水素化す）　ＩＪ
ウムと一緒に３時間還流下に加熱し室温で１晩中放置し
、晶出した生成物を濾別した。

収量：　３．０９　＝理論値の９０．６％融点：２１２
９Ｃ分解分析”　１４ＨＩＮ５０３　　　分子Ｉｔ　：　３２９
．３６計算値：　５８．３５％Ｃ５，８１％Ｈ２１，２
（５％Ｎ測定値：　５８．１３％Ｃ５，８３％Ｈ２１，
０２％Ｎ出発物質は次のように製造した：６−イソプロざルー６．６−ジメチル−イミダゾール［
１’、２’：１，２］ピロロ［３，４−ｂ〕−ぎラゾロ
Ｃ４，３−ｅ）ビリシン−７゜９−Ｃ３Ｈ，６Ｈ）−ジ
オン塩化メチレン１２０α中の６−（４−インプロぎルー４
−メチル−５−オキソ−２−イミダシリン−２−イル）
−１−メチル−１Ｈ−ぎラゾロ［３，４−ｂｌｌ：リジ
ン−５−カルざン酸１２．７９　（４０，２８ｍモル）
およびジシクロへキシルカルボジイミド９．１４９（４
４，３０ｍモル〕を室温で２時間攪拌した。生じた尿素
を濾別し、徹底的に塩化メチレンで洗浄し、２１ｋ液を
濃縮し、生成物を得た。

収Ｊ＊：１１．８ｇ＝理論値の９９％融点：分析’　Ｃ］ＪＨ１５Ｎ５０２　　　分子量：　２９７
．３０計算値：６１．４０％Ｃ５，７６％Ｈ２２，４５
％Ｎ測定値：　６ＣＪ、６０％Ｃ５，０９％Ｈ２３，４
０％Ｎ−股式■の次の化合物を同様に上記方法により製
造した：ＨＨＣ６Ｈ５ＣＨ３ＣＨ（ＣＨ３）２　１７５°Ｃ分解
Ｈ分解Ｈ３ＣＨ（ＣＨ３）２　ＣＨ３ＣＨ（ＣＨ３）２
　１９０−１９４°ＣＨＣＨ２Ｃｌ　ＣＨ３ＣＨ３ＣＨ
（ＣＨ３）２　１３０°Ｃ分解例４（方法Ｄ）６−（４−イソプロンルー４−メチル−４−オキソ−２
−イミダシリン−２−イル）−１−メチル−１Ｈ−ぎラ
ゾロ（３，４−ｂ〕ぎりジン−５−カルボン酸アミド６−イソプロビル−３，６−ゾメチルーイミダゾ［１’
、２’：１，２）−ぎロロ［３，４−ｂ〕ピラゾロ［４
，３−ｅ〕ざリジン−７，９−（３Ｈｊ６Ｈ）−ジオン
３＆（１０，０９ｍモル）を塩化メチレン５０Ｍに浴解
し、１時間アンモニア−ガスを浴液全通して導き、引続
き生じた結晶を吸引濾過した。

収量：　２．２．９　＝理論値の６６％融点：２１６〜
２１４°Ｃ分析’　Ｃ１５Ｈ１８Ｎ６０３　　　分子量：　３３０
．３５計算値：　５４．５３％Ｃ５，４９％Ｈ２５，４
４％Ｎ測定値：　５４．８３％Ｃ５，１８％Ｈ２５，３
１％Ｎ同様の方法で一般式Ｉの次の化合物も製造した：工　　　Ｅｉ！＋　　　工　　　工　大　　　工　　　
１）　　工　工　工　エ　　　エ　工＾　　屯　　１％
　　　　　　　　　　　ｆ”＋　　　　　　／”％エ　
エ　　　エ　　　国　工　閑　　　工　工　頴　　　エ
　エ　エ　　　エ　エ　エ　　　ロへ（イ）　寸　い（
ｈ　■α０−へ梢　寸罰（ｉｐ　　　　　　　、Ｑ　　
　　　　Ｑ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　Ｐ、αコ　さ　　　０　？−へ　　　（イ）寸　ＬＬ
”１−０１’へ　の　　　さ　０−　　　へ　哨　寸　
　　り６６　　　ＨＣＦ３　　　　０Ｈ３６７ＨＣＦ、　　　　　　ＣＨ３６８ＨＣＦ３　　　　　　ＣＨ３（５９ＨＣＨ，ＯＨＣＨ。

７Ｑ　　　ＨＣＨ２０ＨＣＨ３７１ＨＣＨ２０ＨＣＨ３７２ＨＣＨ２ＯＣＨ３ＣＨ３７３ＨＣＨ，ＯＣＨ３ＣＨ３７４ＨＣＨ２０ＣＨｓ　　　ＣＨ３７５ＨＣＨ２０Ｃ２Ｈ５ＣＨ。

７６　　　Ｈｃｎｚｏｃ２Ｈｓ　　ＣＨ３７７ＨＣＨ２
０Ｃ２Ｈ５ＣＨ３７８ＨＣＨ２ＳＣＨ３ＣＨ３７９Ｅ　　　ＣＨ２ＳＣＨ３ＣＨ３８Ｑ　　　ＨＣＨ，ＳＣＨ３ＣＨ３８１ＨＣＨ，ＣＨ２ユ　ｃＨ，。

８２　　　ＨＣＨ２ＣＨ２Ｃｊ　　Ｃ１（。

８３　　　ＨＣＨ２ＣＨ２（Ｊ　　ＣＢ。

８４　　　Ｈｃａ５　　　　　ｃｎ２ｃミ鴨Ｈ８５ＨＣ
Ｈ３ＣＨ２ＣＨ＝鴨Ｈ８６ＨＣＨ３ＣＨ，ＣＨ＝ＣＨ８７ＨＣＨ３ＣＨ，ＣミＣＨ３９ＨＣｊ（３ＣＨ２ＣＨＣＨ３９ＨＣＨｒｒ　　　　　ＣＨａ　ＣＮ　ＣＨ９Ｑ　　
　ＨＣｊ　　　　　　　ＣＨ３９１ＨＢｒ　　　　　　
　ＣＨ３ＣＯ０Ｈ２２８°Ｃ０ＯＨｘ　Ｈ２ＮＯＨ（ＣＨ３ｈ０ＯＣＨ３ＣＯＯＨ１３５℃（分解）０ＯＨＸ　Ｈ２ＮＯＨ（ＣＨ３）２０ＯＣＲ３ＣＯＯＨ２２６−２２７℃ ０ＯＨＸ　Ｈ，ＮＣＨ（ＣＨ３）２０ＯＣＨｓＣＯＯＨ０ＯＨＸ　Ｈ２ＮＣＪＣＨａ）２０ＯＣＨ３ＣＯＯＨ’　　　　　２０（１℃ ０ＯＨＸ　Ｈ２ＮＯＨ（Ｃ）＝３）２ｏｏｃａ３ＣＯＯＨ２１１９Ｃ０ＯＨＸ　Ｈ２ＮＯＨ（ＣＨ，）２０ＯＣＨ３ＣＯＯＨ１９７−１９９℃ Ｃ０ＯＨ１７９−１８４℃ Ｘ　Ｈ２ＮＯＨ（ＣＨ３）。

Ｃ００ＣＨ。

Ｃ０ＯＨ１８８℃ ０ＯＨＸ　Ｈ，ＮＣＲ（ＣＨ３）２ＣＯＯＣＨ。

Ｃ０ＯＨ１９５℃（分％）ＣＯＯＨ１７６℃（分解９次例で本発明による化合物の適用性を詳述する：例Ａ温室で表に挙げられた本発明による化合物を水５００１
／ｈ＆に乳化ないしは懸濁して、作用物質３ｋｉ７／ｈ
ａの使用量で試験物質としてのブラシカ（Ｂｒａｓｓｉ
ｃａ　）　ｓｐｐ、およびソラヌム（Ｓｏｌａｎｕｍ　
）　ｓｐｐ、に出芽前処理−および出芽後処理方法によ
り噴きした。処理の３週間後、処理結果を査定し、その
際次の基準を使用した二〇＝作用なし１＝わずかな作用または植物生長の弱い阻止２＝平均的
作用または植物生長の阻止３＝完全な生長阻止４＝植物の完全な絶滅この試験で出芽前処理でも出芽後成理でも、双方の試験
植物での完全な植物絶滅（＝４）が例１〜９および１１
〜２９の化合物で示された。

例Ｂ＠室で上記植物を出芽前に、上記化合物で０．０３に９
作用物質／ｈａの適用量で処理した。化合物はこの目的
のために水５００１／ｈ＆を有する懸濁液として均一に
植物上に’５を霧した。処理の３週間後本発明による化
合物は大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅ　ｍａｘ、　）、ムラサキウマコ９ヤ
シ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ　５ａｔｉｖａ　）および小麦（
Ｔｒｉｔｉｃｕｍａｅｓｔ＋ｉｖｕｍ　）での選択性を
雑草に対する卓越した作用で示した。比較剤は明らかに
よりわずかに選択的であるかないしはよりわずかに作用
性であった。

０＝作用なし１＝わずかな作用または植物生長の弱い阻止２＝平均的
作用または植物生長の阻止３＝完全な生長阻止４＝植物の完全な絶滅（）ｌ　＝ダイズ（Ｇｌｙｃｉｎｅ　ｍａｘ、　）Ｍｓ
　＝ムラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ　５ａｚｉ
ｖａ）Ｔｒ　＝コムギ（Ｔｒｉｚｉｃｕｍ　ａｅｓｚｉ
ｖｕｍ　）Ｂｒ　＝ブラシカ（Ｂｒａｓｓｉｃａ　）　
ｓｐ。

Ｓｏ　＝ソラヌム（Ｓｏｌａｎｕｍ　）　ｓｐ。

Ｈｅ＝ヘリアントクス（Ｈｅ１ｉａｎｔ、ｈｕＢ）　ｓ
ｐ。

８Ｚ＝ステラリア（５ｚｅｌｌａｒｉａ　）　ｓｐ。

Ａｂ　＝アビュテイロン（ＡｂｕＺｉｌＯｎ　）　ｓｐ
。

Ｍ５１　＝−ｒトリカリア（Ｍａｚｒｉｃａｒｉａ　）
　ａｐ。

Ｄｉ　＝ジギタリア（Ｄｉｇｉｚａｒｉａ　）　ｓｐ。

例１　　０００３３３３３３３比較剤Ａ　　　　　　　　　０２３３３３３３３３Ｂ　　　　
　　　　　００００００００００Ａ＝２−（４−イソプ
ロピル−４−メチル−５−オキノー２−イミダシリン−
２−イル）−キノリンー６−カルポン酸Ｂ＝２−　（４−インプロｔルー４−メチルー５−オキ
ソ−２−イミダシリン−２−イル〕−４（５）−メチル
安息香酸−メチルエステ例Ｃ温室で上記植物を出芽後に、上記化合物を用いて０．０
３に９作用物質／ｈａの使用蓋で処理した。

化合物をこの目的のために水５００　Ａ！／ｈａを有す
る懸濁液として植物上に噴霧した。処理の３週間後本発
明による化合物はムラサキウマゴヤシ、コムギおよび大
豆での選択性を、雑草に対する卓越した作用で示した。

比較剤は明らかによりわずかに選択的であるか、ないし
はよりわずかに作用性であった。

０＝作用なし１＝わずかな作用または植物生長の弱い阻止２＝平均的
作用または植物生長の阻止６＝完全な生長阻止４＝完全な絶滅Ｍｅ　＝ムラサキウマゴヤシＴｒ＝コムイＧｌ　＝ダイズＢｒ　＝ブ２シカｓｐ。

Ｓｏ　＝ソラヌムｓｐ。

Ｈｅ　＝へりアントウスｓｐ。

Ｓｚ＝ステ２リアｓｐ。

Ａｂ　＝アビュテイロｙｓｐ。

Ｄｉ　＝ゾギタリアｓｐ。

例１　　　０００３３３３３３比較剤Ａ　　　　　　　　　２３０４４３３３３Ｂ　　　　　
　　　　０００００００００Ａ＝２−（４−インプロピ
ル−４−メチル−５−オキソ−２−イミダシリン−２−
イル）−キノリン−６−カルボン酸Ｂ＝２−　（４−イソプロピル−４−メチル−５−オキ
ソ−２−イミダシリン−２−イル）−４（５）−メチル
安息香酸−メチルエステ例り温室で表に挙げられた化合物を、同様に挙げられた使用
量で適用した。このために作用物質を水１５００１ｄを
有する容器に与えた。試験植物種類としてイヌビエ（Ｅ
ｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ　ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ　）、タ
マがヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ　Ｌｉｆｆｏｒｍｉｓ）お
よびシペルス　ニスカレントウス（Ｃｙｐｅｒｕｓｅｓ
ｃｕｌｅｎｚｕｓ　）　　を２〜５−子葉期で使用した
。

適用の３週間後植物の損傷を査定した。

表では次のものを懺わす：０＝損ｍなし１＝弱い損傷２＝平均的損傷６＝強い損傷４＝完全な絶滅Ｅｃ　＝イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ　ｃｒｕｓ
−ｇａｌｌｉ　）Ｃｄ　＝タマがヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕ
ｓ　ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ　）Ｃｅ　＝シペルス　ニスカ
レントウス（Ｃｙｐｅｒｕｓ　　ｅｓｃｕｌｅｎｚｕｓ　　）本発
明による化合物　　ｐｐｍ　　Ｅｃ　　Ｃｄ　　Ｃｅ例
　　１　　　　　　　１０　　４　　４　　４例１６　
　１０　４　３４例２２　　１０　２　３３例２３　　１０　３　３　３例２４　　１０　４　４４例２５　　１０　４　４４例２６　　１０　４　４４例４０　　１０　３　４− 結果が示すように、本発明による化合物はｌ要なコメ雑
草に対し強い作用を示した。

例ＥブラシカＳｐ−、ンラヌムｓｐ、、ベリアントクスｓｐ
、、ハコベ（５ｚｅｌｌａｒｉａ　ｍｅｄｉａ　）、ア
ビュテイＯｙ　（Ａｂｕｚｉｌｏｎ　）　ｓｐ、　％カ
ミツレ（Ｍａｚｒｉｃａｒｉａ　ｃｈａｍｏｍｉｌｌａ
　）、クリサンテムムセデトクム（Ｃｈｒｙｓａｎｚｈ
ｅｍｕｍ　ｓｅｇｅｚｕｍ　）、イボメア（Ｉｐｏｍｏ
ｅａ　）　ｓｐ、、オートムイ（Ａｖｅｎａｆａｚｕａ
　）　、アロベクルス・ミオスロイデス（Ａｌｏｐｅｃ
ｕｒｕｓ　ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ　）およびイヌビエ
の雑草播取土壌および大豆の培地を出芽前に上記化合物
で０．３に９作用物質／ｈａの使用量で処理した。化合
物をこの目的のために水５００Ｊ／ｈａを有する懸濁液
として均一に土壌上に噴霧した。処理の３週間後、処理
結果を査定した。

例１〜６．１２〜１４．１６〜１８．２０．２２〜２７
．２９〜６５．６７および６９〜４１０本発明による化
合物は大豆−培地の損傷なしに雑草播種土壌を完全に絶
滅した。

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＨ＿２ＯＨ、ＣＯＯＲ＾３又はＣＯ
ＮＲ＾４Ｒ＾６を表わし、Ｒ＾３は水素原子、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒドロ
フリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコ
キシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カルボ
キシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１〜Ｃ
＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよく、
１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断され
ていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子に
よつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハ
ロゲン原子によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８
−アルキニル基、メチル基によつて置換されていてよい
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−
アルキリデンイミノ基又はアルカリ金属、アルカリ土類
金属、マンガン、銅、鉄、亜鉛、アンモニウム及び有機
アンモニウム化合物の群からの陽イオンを表わし、Ｒ＾
４及びＲ＾６は互いに無関係で、水素原子、ヒドロキシ
基、１個又は数個のヒドロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルコキシ基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキ
ルチオ基によつて置換されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿４−
アルキル基、Ｃ＿３−アルケニル基又はＣ＿３−アルキ
ニル基を表わし、かつＲ＾４が水素原子である場合には
、Ｒ＾５はアミノ基、ジメチルアミノ基、アセチルアミ
ノ基又はアニリノ基も表わし、Ｂは水素原子及びＡが基
ＣＯＯＲ＾３であるが、この場合Ｒ＾３は水素原子又は
塩形成陽イオンを表さず、Ｗが酸素原子でありかつ基Ｘ、Ｙ及びＺがアルキルアミノ−、
ヒドロキシ−又はヒドロキシアルキル基を表わさない場
合には、同様に基ＣＯＲ＾６又はＳＯ＿２Ｒ＾７を表わ
し、Ｒ＾６はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿８−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルチオ基
、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルアミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿６−ハロゲンアルキル基、１個又は数個のハロゲン原
子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ＿１
〜Ｃ＿４−アルコキシ基によつて置換されていてよいフ
ェニル基又は１個又は数個のハロゲン原子、ニトロ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アル
コキシ基によつて置換されていてよいフェノキシ基を表
わし、Ｒ＾７はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、トリフル
オルメチル基、トリクロルメチル基又は１個又は数個の
ハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基
又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基によつて置換されて
いてよいフェニル基を表わし、Ｗは酸素原子又は硫黄原
子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキル基又
はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表わし、Ｙは水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルコキシカルボニル基、ピリジル基、Ｎ−メチル
ピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミ
ノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、ピロリジニル基、
ピペリジニル基、アジリジニル基、モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
−アルキルスルホニル基、トリルスルホニル基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又は数個のハロゲン
原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキル基、シアノ基、フェニル基、フリル基、テ
トラヒドロフリル基によつて置換されていてよく、１個
又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断されてい
てよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個のハ
ロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基に
よつて置換されていてよいフェニル基、１個又は数個の
ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基
によつて置換されていてよいフェノキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ
＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基
を表わし、Ｚは水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ
カルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシスルフィニ
ル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキ
ルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフェニルス
ルホニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、シ
アノ基、ピリジル基、ナフチル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルキルカルバモイル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−シクロアルキルカルバモイル基、ア
ミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル
基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロア
ルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿８−シクロアルキルア
ミノ基、フェニル基又はシアノ基によつて置換されてい
てよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて
遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個
又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換されて
いてよいピリミジニル基又は１個又は数個の、同じ又は
異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ
＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基
又はニトロ基によつて置換されていてよいフェニル基を
表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体並び
にＷが酸素原子を表わしかつＡが基ＣＯＯＲ＾３を表わ
すが、Ｒ＾３を不飽和アルキル基ではない場合には、こ
の化合物のＮ−オキシド、Ｒ＾１及びＲ＾２が同じもの
ではない場合には、この化合物の光学的異性体及びＲ＾
３が塩形成陽イオンでない場合には、この化合物の酸付
加塩。２、式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし
、Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基を表わし、Ａは
基ＣＯＯＲ＾３又はＣＯＮＲ＾４Ｒ＾５を表わし、Ｒ＾
３は水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基
、テトラヒドロフルフリル基又は有機アンモニウム化合
物を表わし、Ｒ＾４は水素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿４−ア
ルキル基を表わし、Ｒ＾５は水素原子又はＣ＿１〜Ｃ＿
４−アルキル基を表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは
酸素原子を表わし、Ｘは水素原子を表わし、Ｙは水素原
子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基、ハロゲン−Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基又
はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基を表わし、かつＺは
メチル基又はフェニル基を表わす、特許請求の範囲第１
項記載の化合物。３、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、ＡはＣＯＯＨを表わし、Ｂは水素原子を表わ
し、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｘは水素原子
、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−ハロゲンアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコ
キシ基を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル
基、ピリジル基、Ｎ−メチルピロリル基、アミノ基、Ｃ
＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４
−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル
アミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アジリジ
ニル基、モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチ
オ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿４−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
コキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスルホニル基、ト
リルスルホニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アル
コキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ基、ヒドロキ
シ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シアノ基、
フェニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基によつて
置換されていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄
原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アル
キル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲ
ンメチル基又はニトロ基によつて置換されていてよいフ
ェニル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロ
ゲンメチル基又はニトロ基によつて置換されていてよい
フェノキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿
３〜Ｃ＿６−アルキニル基を表わし、Ｚは水素原子、Ｃ
＿１〜Ｃ＿３アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８
−アルコキシスルフィニル基、フェニルスルホニル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキルフェニルスルホニル基、カルバモイル基、
チオカルバモイル基、シアノ基、ピリジル基、ナフチル
基、アセチル基、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルキルカルバモイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
キルカルバモイル基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−アルキニル基、１個又は数個の、同じ又は
異なるハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−
アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル
チオ基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基
ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキルアミノ基、フェニル基又はシアノ基
によつて置換されていてよく、１個又は数個の酸素原子
又は硫黄原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿
８−アルキル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロ
ゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ
基によつて置換されていてよいピリミジニル基又は１個
又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換されて
いてよいフェニル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ
〕ピリジン誘導体を製造するために、一般式II： ▲数式、化学式、表等があります▼（II）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｗ、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のもの
である〕の化合物をアルカリ性の条件下で環化させるこ
とを特徴とする、ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体の製法。４、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＯＯＲ＾３を表わし、Ｒ＾３はヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒ
ドロフリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ア
ルコキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１
〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよ
く、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断
されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子によつて置換
されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子
によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルキニ
ル基、メチル基によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿■−アルキリ
デンイミノ基を表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは酸
素原子又は硫黄原子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロ
ゲンアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表
わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピリジ
ル基、Ｎ−メチルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
アミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、
ピロリジニル基、ピペリジニル基、アジリジニル基、モ
ルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−
アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスルホニル基、トリルスルホ
ニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又は
数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シアノ基、フェニル基
、フリル基、テトラヒドロフリル基によつて置換されて
いてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつ
て遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１
個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基
又はニトロ基によつて置換されていてよいフェニル基、
１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキ
ル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル
基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェノキシ
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６
−アルキニル基を表わし、かつＺは水素原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−ア
ルコキシスルフィニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿８−アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルキルフェニルスルホニル基、カルバモイル基、チオ
カルバモイル基、シアノ基、ピリジル基、ナフチル基、
アセチル基、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アル
キルカルバモイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル
カルバモイル基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロ
アルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−アルキニル基、１個又は数個の、同じ又は異な
るハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アル
コキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−シクロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−
アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ
基、アミノ基Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−
Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキルアミノ基、フェニル基又はシアノ基によ
つて置換されていてよく、１個又は数個の酸素原子又は
硫黄原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−
アルキル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン
原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基に
よつて置換されていてよいピリミジニル基又は１個又は
数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロ
キシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換されていて
よいフェニル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピ
リジン誘導体を製造するために、一般式III： ▲数式、化学式、表等があります▼（III）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｗ、Ｘ、Ｙ及びＺは前
記のものである〕の化合物を、オキシ塩化燐及び五塩化
燐よりなる混合物と反応させ、得られる塩酸塩から過当
な塩基での中和によつてエステルを遊離させることを特
徴とする、ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体の製
法。５、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつてメチル基によつて置
換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基を
表わし、Ａは基ＣＯＯＲ＾３を表わし、Ｒ＾３はヒドロ
キシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒド
ロフリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アル
コキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カル
ボキシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよく
、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断さ
れていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子によつて置換
されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子
によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルキニ
ル基、メチル基によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキリ
デンイミノ基を表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは酸
素原子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキル
基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表わし、Ｙは水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピリジル基、Ｎ−メ
チルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
アミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、ピロリジニル
基、ピペリジニル基、アジリジニル基、モルホリニル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基
、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルキルスルホニル基、トリルスルホニル基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又は数個のハロゲ
ン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキル基、シアノ基、フェニル基、フリル基、
テトラヒドロフリル基によつて置換されていてよく、１
個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断されて
いてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個の
ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基
によつて置換されていてよいフェニル基、１個又は数個
のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ
基によつて置換されていてよいフェノキシ基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル
基を表わし、Ｚは水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキ
シカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシスルフィ
ニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アル
キルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフェニル
スルホニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、
シアノ基、ピリジル基、ナフチル基、アセチル基、ベン
ゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルキルカルバモイル
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルカルバモイル基、
アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニ
ル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、
ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロ
アルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ
＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル
アミノ基、フェニル基又はシアノ基によつて置換されて
いてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつ
て遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１
個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、
ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換され
ていてよいピリミジニル基又は１個又は数個の、同じ又
は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ
基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェニル基
を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体を
製造するために、一般式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のものであ
る〕の化合物を一般式：Ｒ＾３−ＯＨ〔式中Ｒ＾３は前
記のものである〕のアルコール及び一般式：Ｒ＾３−Ｏ
Ｍ〔式中Ｒ＾３は前記のものであり、かつＭにアルカリ
金属である〕の相応するアルカリ金属アルコラートと、
溶剤の存在又は不存在で反応させることを特徴とするピ
ラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジンの製法。６、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつてメチル基によつて置
換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基を
表わし、Ａは基ＣＯＮＲ＾４Ｒ＾５を表わし、Ｒ＾４及
びＲ＾５は互いに無関係で、水素原子、ヒドロキシ基、
１個又は数個のヒドロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチ
オ基によつて置換されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿４−アル
キル基、Ｃ＿３−アルケニル基又はＣ＿３−アルキニル
基を表わし、かつＲ＾４が水素原子である場合には、Ｒ
＾５はアミノ基、ジメチルアミノ基、アセチルアミノ基
又はアニリノ基も表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは
酸素原子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキ
ル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表わし、Ｙは
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピリジル基、Ｎ−
メチルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキ
ルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、ピロリジニ
ル基、ピペリジニル基、アジリジニル基、モルホリニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４−アルキルスルホニル基、トリルスルホニル基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又は数個のハロ
ゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキル基、シアノ基、フェニル基、フリル基
、テトラヒドロフリル基によつて置換されていてよく、
１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断され
ていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個
のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ
基によつて置換されていてよいフェニル基、１個又は数
個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニト
ロ基によつて置換されていてよいフェノキシ基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニ
ル基を表わし、かつＺは水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシス
ルフィニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８
−アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフ
ェニルスルホニル基、カルバモイル基、チオカルバモイ
ル基、シアノ基、ピリジル基、ナフチル基、アセチル基
、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルキルカルバ
モイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルカルバモイ
ル基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−ア
ルキニル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン
原子、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチ
オ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、アミノ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロア
ルキルアミノ基、フェニル基又はシアノ基によつて置換
されていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子
によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル
基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ
＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキ
シ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置
換されていてよいピリミジニル基又は１個又は数個の、
同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキ
ル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、
シアノ基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェ
ニル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘
導体を製造するために、一般式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のものであ
る〕の化合物を、一般式：ＨＮＲ＾４Ｒ＾５〔式中Ｒ＾
４及びＲ＾５は前記のものである〕のアミンと、溶剤の
使用又は不使用下に反応させることを特徴とする、ピラ
ゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体の製法。７、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＨ＿２ＯＨを表わし、Ｂは水素原子
を表わし、Ｗは酸素原子を表わし、Ｘは水素原子、ニト
ロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
ハロゲンアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基
を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニ
トロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピ
リジル基、Ｎ−メチルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アル
キルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ
基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アジリジニル基
、モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスルホニル基、トリルス
ルホニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個
又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シアノ基、フェニ
ル基、フリル基、テトラヒドロフリル基によつて置換さ
れていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子に
よつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基
、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アル
キル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチ
ル基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェニル
基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメ
チル基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェノ
キシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ
＿６−アルキニル基を表わし、かつＺは水素原子、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８
−アルコキシスルフィニル基、フェニルスルホニル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキルフェニルスルホニル基、カルバモイル基、
チオカルバモイル基、シアノ基、ピリジル基、ナフチル
基、アセチル基、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−
アルキルカルバモイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
キルカルバモイル基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−アルキニル基、１個又は数個の、同じ又は
異なるハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−
アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル
チオ基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基
、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキルアミノ基、フェニル基又はシアノ
基によつて置換されていてよく、１個又は数個の酸素原
子又は硫黄原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ
＿８−アルキル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハ
ロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニト
ロ基によつて置換されていてよいピリミジニル基又は１
個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、
ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換され
ていてよいフェニル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−
ｂ〕ピリジン誘導体を製造するために、一般式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のものであ
る〕の化合物に還元剤と反応させることを特徴とするピ
ラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジンの製法。８、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＯＯＲ＾３を表わし、Ｒ＾３はアル
カリ金属、アルカリ土類金属、マンガン、銅、鉄、亜鉛
、アンモニウム及び有機アンモニウム化合物の群からの
塩形成陽イオンを表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは
酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハ
ロゲンアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を
表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピリ
ジル基、Ｎ−メチルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキ
ルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基
、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アジリジニル基、
モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスルホニル基、トリルスル
ホニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又
は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シアノ基、フェニル
基、フリル基、テトラヒドロフリル基によつて置換され
ていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によ
つて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個のハロゲン
原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基によつて
置換されていてよいフェニル基、１個又は数個のハロゲ
ン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基によつ
て置換されていてよいフェノキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基を表わ
し、かつＺは水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカ
ルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシスルフィニル
基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキル
スルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフェニルスル
ホニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、シア
ノ基、ピリジル基、ナフチル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルキルカルバモイル基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルカルバモイル基、アミ
ジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基
、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
キルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミ
ノ基、フェニル基又はシアノ基によつて置換されていて
よく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮
断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又
は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒド
ロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換されてい
てよいピリミジニル基又は１個又は数個の、同じ又は異
なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又
はニトロ基によつて置換されていてよいフェニル基を表
わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体を製造
するために、一般式 I −ａ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｗ、Ｘ、Ｙ及びＺは前記のもの
である〕の化合物を、塩形成剤としての塩基１当量と反
応させることを特徴とする、ピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピ
リジン誘導体の製法。９、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＯＯＲ＾３を表わし、Ｒ＾３はヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒ
ドロフリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ア
ルコキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１
〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよ
く、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断
されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子によつて置換
されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子
によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルキニ
ル基、メチル基によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキリ
デンイミノ基を表わし、Ｂは基ＣＯＲ＾６又はＳＯ＿２
Ｒ＾７を表わし、Ｒ＾６はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−ア
ルキルチオ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルアミノ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−ハロゲンアルキル基、１個又は数個
のハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基によつて置換され
ていてよいフェニル基又は１個又は数個のハロゲン原子
、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ＿１〜
Ｃ＿４−アルコキシ基によつて置換されていてよいフェ
ノキシ基を表わし、Ｒ＾７はＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル
基、トリフルオルメチル基、トリクロルメチル基又は１
個又は数個のハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
−アルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基によつ
て置換されていてよいフェニル基を表わし、Ｗは酸素原
子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキル基又
はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表わし、Ｙは水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルコキシカルボニル基、ピリジル基、Ｎ−メチル
ピロリル基、アミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル
基、アジリジニル基、モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチ
オ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスル
ホニル基、トリルスルホニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シク
ロアルキル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シアノ基、フ
ェニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基によつて置
換されていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原
子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキ
ル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−
アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲン
メチル基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェ
ニル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲ
ンメチル基又はニトロ基によつて置換されていてよいフ
ェノキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３
〜Ｃ＿６−アルキニル基を表わし、かつＺは水素原子、
Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿８−アルコキシスルフィニル基、フェニルスルホニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキルフェニルスルホニル基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、シアノ基、ピリジル基、ナフ
チル基、アセチル基、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿
６−アルキルカルバモイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロ
アルキルカルバモイル基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基、１個又は数個の、同じ
又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキ
ルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、ア
ミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シク
ロアルキルアミノ基、フェニル基又はシアノ基によつて
置換されていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄
原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アル
キル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アル
コキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつ
て置換されていてよいピリミジニル基又は１個又は数個
の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ
基、シアノ基又はニトロ基によつて置換されていてよい
フェニル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジ
ン誘導体を製造するために、一般式 I ｂ：▲数式、化
学式、表等があります▼（ I ｂ）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｘ、Ｙ及びＺは前記の
ものである〕の化合物を、一般式：Ｒ＾６−ＣＯ−Ｈａｌ〔式中Ｒ＾６は前記のものであり
、かつＨａｌはハロゲン原子である〕のアシルハロゲニ
ド又は一般式：Ｒ＾６−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ＾６〔式中
Ｒ＾６は前記のものである〕の酸無水物又は一般式：Ｒ
＾７−ＳＯ＿２−Ｈａｌ〔式中Ｒ＾７は前記のものであ
り、かつＨａｌはハロゲン原子である〕のスルホニルハ
ロゲニドと、溶剤及び酸結合剤の存在又は不存在で反応
させることを特徴とするピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジ
ンの製法。１０、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＯＯＲ＾３を表わし、Ｒ＾３はヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒ
ドロフリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ア
ルコキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１
〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよ
く、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断
されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子によつて置換
されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子
によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルキニ
ル基、メチル基によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ
＿６−シクロアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキリ
デンイミノ基を表わし、Ｂは水素原子を表わし、Ｗは酸
素原子を表わし、Ｘは水素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキル
基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基を表わし、Ｙは水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、ピリジル基、Ｎ−メ
チルピロリル基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル
アミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、ピロリジニル
基、ピペリジニル基、アジリジニル基、モルホリニル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキルチオ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基
、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
４−アルキルスルホニル基、トリルスルホニル基、Ｃ＿
３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、１個又は数個のハロゲ
ン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿
３−アルキルチオ基、ヒドロキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−
シクロアルキル基、シアノ基、フェニル基、フリル基、
テトラヒドロフリル基によつて置換されていてよく、１
個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断されて
いてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個の
ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ基
によつて置換されていてよいフェニル基、１個又は数個
のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ハロゲンメチル基又はニトロ
基によつて置換されていてよいフェノキシ基、Ｃ＿３〜
Ｃ＿６−アルケニル基又はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル
基を表わし、かつＺは水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アル
コキシカルボニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシスル
フィニル基、フェニルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−
アルキルスルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフェ
ニルスルホニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル
基、シアノ基、ピリジル基、ナフチル基、アセチル基、
ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルキルカルバモ
イル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルカルバモイル
基、アミジノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アル
キニル基、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原
子、ヒドロキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、Ｃ
＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキルオキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ
基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、アミノ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ
＿３−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
キルアミノ基、フェニル基又はシアノ基によつて置換さ
れていてよく、１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子に
よつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基
、１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ
基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によつて置換
されていてよいピリミジニル基又は１個又は数個の、同
じ又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シ
アノ基又はニトロ基によつて置換されていてよいフェニ
ル基を表わす〕のピラゾロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導
体を製造するために、一般式 I ｂ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ）〔式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｘ、Ｙ及びＺは前記の
ものである〕の化合物を、ハロゲン化水素酸少なくとも
１当量と、有機溶剤中で反応させて、ハロゲン化水素酸
−付加塩にすることを特徴とする、ピラゾロ〔３，４−
ｂ〕ピリジン誘導体の製法。１１、少なくとも１種の一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、
Ｒ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキル基又はＣ＿３〜Ｃ＿
６−シクロアルキル基を表わし、又はＲ＾１及びＲ＾２
は隣接する炭素原子と一緒になつて、メチル基によつて
置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基
を表わし、Ａは基ＣＨ＿２ＯＨ、ＣＯＯＲ＾３又はＣＯ
ＮＲ＾４Ｒ＾６を表わし、Ｒ＾３は水素原子、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキル基、ベンジル基、フリル基、テトラヒドロ
フリル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキルフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコ
キシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ基、カルボ
キシル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシカルボニル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基又はジ−Ｃ＿１〜Ｃ
＿４−アルキルアミノ基によつて置換されていてよく、
１個又は数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断され
ていてよいＣ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハロゲン原子に
よつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８−アルケニル
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、フェニル基又はハ
ロゲン原子によつて置換されていてよいＣ＿３〜Ｃ＿８
−アルキニル基、メチル基によつて置換されていてよい
Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−
アルキリデンイミノ基又はアルカリ金属、アルカリ土類
金属、マンガン、銅、鉄、亜鉛、アンモニウム及び有機
アンモニウム化合物の群からの陽イオンを表わし、Ｒ＾
４及びＲ＾５は互いに無関係で、水素原子、ヒドロキシ
基、１個又は数個のヒドロキシ基、ハロゲン原子、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−アルコキシ基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−アルキ
ルチオ基によつて置換されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿４−
アルキル基、Ｃ＿３−アルケニル基又はＣ＿３−アルキ
ニル基を表わし、かつＲ＾４が水素原子である場合には
、Ｒ＾５はアミノ基、ジメチルアミノ基、アセチルアミ
ノ基又はアニリノ基も表わし、Ｂは水素原子及びＡが基
ＣＯＯＲ＾３であるが、この場合Ｒ＾３は水素原子又は
塩形成陽イオンを表わさず、Ｗが酸素原子でありかつ基
Ｘ、Ｙ及びＺがアルキルアミノ−、ヒドロキシ−又はヒ
ドロキシアルキル基を表わさない場合には、同様に基Ｃ
ＯＲ＾６又はＳＯ＿２Ｒ＾７を表わし、Ｒ＾６はＣ＿１
〜Ｃ＿８−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシ基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルチオ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿
８−アルキルアミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−ハロゲンアル
キル基、１個又は数個のハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルコキ
シ基によつて置換されていてよいフェニル基又は１個又
は数個のハロゲン原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−ア
ルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基によつて置
換されていてよいフェノキシ基を表わし、Ｒ＾７はＣ＿
１〜Ｃ＿８−アルキル基、トリフルオルメチル基、トリ
クロルメチル基又は１個又は数個のハロゲン原子、ニト
ロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿４
−アルコキシ基によつて置換されていてよいフェニル基
を表わし、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表わし、Ｘは水
素原子、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿３−ハロゲンアルキル基又はＣ＿１〜Ｃ＿３−
アルコキシ基を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカル
ボニル基、ピリジル基、Ｎ−メチルピロリル基、アミノ
基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜
Ｃ＿４−アルキルアミノ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロア
ルキルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ア
ジリジニル基、モルホリニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アル
キルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルチオ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シク
ロアルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルスルホニル
基、トリルスルホニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアル
キル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３
−アルコキシ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルチオ基、ヒ
ドロキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、シア
ノ基、フェニル基、フリル基、テトラヒドロフリル基に
よつて置換されていてよく、１個又は数個の酸素原子又
は硫黄原子によつて遮断されていてよいＣ＿１〜Ｃ＿８
−アルキル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１〜
Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、
ハロゲンメチル基又はニトロ基によつて置換されていて
よいフェニル基、１個又は数個のハロゲン原子、Ｃ＿１
〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基
、ハロゲンメチル基又はニトロ基によつて置換されてい
てよいフェノキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケニル基又
はＣ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基を表わし、かつＺは水
素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシカルボニル基、Ｃ
＿１〜Ｃ＿８−アルコキシスルフィニル基、フェニルス
ルホニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルキルスルホニル基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルフェニルスルホニル基、カル
バモイル基、チオカルバモイル基、シアノ基、ピリジル
基、ナフチル基、アセチル基、ベンゾイル基、ジ−Ｃ＿
１〜Ｃ＿６−アルキルカルバモイル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６
−シクロアルキルカルバモイル基、アミジノ基、Ｃ＿３
〜Ｃ＿６−シクロアルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルケ
ニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−アルキニル基、１個又は数個
の、同じ又は異なるハロゲン原子、ヒドロキシ基、Ｃ＿
１〜Ｃ＿６−アルコキシ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロア
ルキル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルオキシ基、
Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキルチオ基、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シ
クロアルキルチオ基、アミノ基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アル
キルアミノ基、ジ−Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキルアミノ基
、Ｃ＿３〜Ｃ＿６−シクロアルキルアミノ基、フェニル
基又はシアノ基によつて置換されていてよく、１個又は
数個の酸素原子又は硫黄原子によつて遮断されていてよ
いＣ＿１〜Ｃ＿８−アルキル基、１個又は数個の、同じ
又は異なるハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルコキシ基、ヒドロキシ基、シア
ノ基又はニトロ基によつて置換されていてよいピリミジ
ニル基又は１個又は数個の、同じ又は異なるハロゲン原
子、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−アルキル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ア
ルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基によ
つて置換されていてよいフェニル基を表わす〕のピラゾ
ロ〔３，４−ｂ〕ピリジン誘導体並びにＷが酸素原子を
表わしかつＡが基ＣＯＯＲ＾３を表わすが、Ｒ＾３は不
飽和アルキル基ではない場合には、この化合物のＮ−オ
キシド、Ｒ＾１及びＲ＾２が同じものではない場合には
、この化合物の光学的異性体及びＲ＾３が塩形成陽イオ
ンでない場合には、この化合物の酸付加塩を含有する除
草剤。１２、賦形剤及び／又は助剤と混合した特許請求の範囲
第１１項記載の薬剤。１３、特許請求の範囲第３項から第１０項までのいずれ
か１項に記載の方法により製造した少なくとも１種の化
合物を含有する特許請求の範囲第１１項記載の薬剤。