JPS62232611A - 画像走査記録装置のレ−ザ露光装置 - Google Patents

画像走査記録装置のレ−ザ露光装置

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JPS62232611A
JPS62232611A JP61076157A JP7615786A JPS62232611A JP S62232611 A JPS62232611 A JP S62232611A JP 61076157 A JP61076157 A JP 61076157A JP 7615786 A JP7615786 A JP 7615786A JP S62232611 A JPS62232611 A JP S62232611A
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laser
image
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image scanning
aperture
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JP61076157A
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Shigeaki Shimazu
嶋津 茂昭
Kenji Endo
遠藤 健次
Hidekazu Tamaoki
玉置 英一
Yasuyuki Wada
康之 和田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えばレーザプロッターやカラースキャナ等
のように、光変調されたレーザビームにより、所望画像
を記録するための画像走査記録装置にJ3けるレーザ露
光装置に関する。
〈従来技術〉 上記のような画像走査記録装置としては、例えば第8図
に示すようなレーザプロッタが知られている。このレー
ザプロッタは、コンソール部21と磁気テープ等の媒体
を介して入力したデータを演ヰ処理するデータ処理部2
2と、データ処理部22で処理されたデータを所要の記
録信号に変換するデータ変換生成部23と、記録信号に
基づいて記録シリンダ25上の感光シートに画像を走査
記録する記録部24とを具備して成り、プリント配線板
等の高精度のマスターパターンを高速で露光記録するよ
うにしたものである。
上記のような画像走査記録装置の記録部24には、所望
のパターンを記録するために、例えば第9図に示すよう
なレーザ露光装置30が装備されている。それは本出願
人が先に提案した特開昭6O−169f320号公報に
開示、されているように、レザー光源31からのレーザ
ビームB l lをビームスプリッタ32で複数本の平
行レーザビームB l 2に分割し、この複数本のレー
ザビームB1□をパータン信号に応じて多チャンネル型
音響又は電気光学変調器33でそれぞれ独立に変調し、
変調した複数本の平行レーザビームB11をズームレン
ズ35及び結像レンズ36からなる結像光学系34によ
ってそのビームピッチを所要の値に縮小してその結像面
Gに像14を形成し、記録シリング25に巻着した感光
シート26に所要のパターン画像を露光記録するように
構成したらである。
〈発明が解決しようとする問題点〉 上記従来例のレーザ露光装置30は簡単な構成の光学系
によって結像面Gに投影される光点列像のビームピンチ
を調整して露光し得るので、大変優れたものであるが、
下記に示すような点について、さらに改良の余地がある
(イ)上記従来例のものは、ビーム圧縮光学系34によ
って、そのビームピッチを縮小して所要の光点列像を形
成する際に、第7図に示すように各レーザビームの主光
線55を結像レンズ36で収束させ、結像位置Q上で所
要の光点列の’m W +を得るようにしているため、
その結像位置Qと記録位置GとのずれΔDにより、記口
位置G上の光点列の幅W、は変化することとなる。
さらにズームレンズでビームピッチは無段階に謳!整可
能に構成されているが、例えば使用する感光シート26
の厚みが異なるものを使用する場合等においてら上記ず
れΔDが変化するから、このような場合においてらビー
ムピッチの調整を必要とするのは不都合であり、その3
!l整作業も容易ではない。
(ロ) また上記従来例のものは、リス系のフィルムに
画像を露光記録したとしても、現像条件等により、画像
のエッヂのシャープネスが十分でない場合がある。それ
は次のような理由によるものと考えられる。
すなわち、レーザ光源31から射出されるレーザビーム
B l +の光強度分布は一様ではなく、例乏ば第6図
に示すような〃ウス分布I(実線部分)を有しており、
ビームの外周部は極度に光強度が低下しているため、こ
のようなレーザビームを用いて画線を描くと、その画線
のエッヂは硬調なリス型感光材を用いたとしても現像条
件により所要の濃度が得られないことあるからである。
これを解消するには、ビーム断面内での光強度を所要の
レベルで一様にすることが望ましく、第6図に示すよう
にがクス分布■の中心部、つまり比較的一様な部分Jで
例えばビーム整形板51の7バーチヤ61を照明すれば
よい。
しかし、レーザ光a31がらの射出ビームBl+はもと
もと小径であらから、その中心部の一様な光量部分Jを
取り出すだめのアパーチャ61は小さなものにする必要
があり、そうするとレーザ光の波長との相互関係により
回折現像が大きく影響し、一様であるべき光強度分布が
得られないこととなる。その上、このような小さいアパ
ーチャを高精度で形成することら容易ではない。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、結
像光学系の結像面と記録面とのずれが変化しても、ビー
ムピッチが変化しないようにすること、画線のエッヂの
シャープネスを向上させることをその目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明は上記目的を達成するため、前記従来例のレーザ
露光装置を例えば第1図〜第4図に示すように改良した
ものである。
即ち、結像光学系10に入る手前におかれたアパーチャ
5の像14を1以上のテレセットリック光学系で構成し
た結像光学系で記録面G上に結像し、その線を形成する
各レーザビーム66の主光線15が光軸16に対して平
行となるようにしたことを特徴とするものである。
〈作 用〉 アパーチャを通った複数本の平行レーザビームB4は、
テレセンドリンク光学系上り成る結像光学系10によっ
て、ビームピッチが縮小された像14として記録面G上
にアパーチャ像を結像する。
このとき、像14を形成する各レーザビームB6の主光
線15は光軸16に対して平行光線となる。
これにより、結像光学系10の結像面Qと記録面Gとの
開にずれΔDが生じるようなことがあっても、従来例の
ように像の寸法が変化することがない。
〈実 施 例〉 以下本発明によるレーザ露光装置の実施例を第1図〜第
5図に基づいて説明する。
第1図(A)はレーザ露光装置の概要を示す斜視図であ
り、この図において、符号1はレーザ光源、3はビーム
エキスパンダ、4はビームスプリッタ(分割手段)、5
(5a・5111)はビーム整形板、6はアパーチャ、
7は多チャンネル型光変調器、8はO次回折光遮断用ス
リット板、2及び9a・9bはミラー、10は結像光学
系である。
ビームエキスパンダ3は、−組のレンズ3a・3bを具
備して成り、レーザ光源1から射出されたレーザビーム
B、の径を拡大するためのらのである。
ビーム整形板5aは、ビームエキスパンダ3により拡大
されたレーザビームB2の中心部分を取り出すことによ
り、比較的一様な光強度分布を得るためのものである。
すなわち、レーザ光@1から射出されるレーザ光ビーム
B、のビームの光強度分布は一様でなく、前記のように
ビームの外周部は極度に光強度が低下しているため、こ
のようなレーザビームを用いて画線を描くと、その画線
のエッヂは硬調なリス型感光材を用いたとしても現像条
件により所要の濃度が得られないことがある。
従って、画線のエッヂのシャープネス低下の一つの原因
にもなることか呟ビーム整形板5aはビームエキスパン
ダ3を介した後に使用し、かかる不都合を解消する手段
として用いる。すなわち、このビーム整形板5aは単一
のアパーチャ6aを有し、ビームエキスパンダ3とビー
ムスプリッタ4との間に配置され、例えば第5図に示す
ように、このアパーチャ6aによりビーム断面Sの形状
及び大きさが規定されるとともに、拡大されたレーザビ
ームB2の中心部の比較的一様な光強度分布Jの部分を
取り出すことができる。これにより、ビームの外周部の
光強度の低下は無視できる。このようにして取り出した
レーザビームを用いて描いた画線は、そのエッヂのシャ
ープネスを十分確保することができる利点がある。
第1図(A)のようにビーム整形板5aをビームエキス
パンダ3の後に設ける場合には、ビームエキスパンダ3
によってレーザビームB2の径を十分大きくした後、ビ
ーム整形することができるので、そのアパーチャ6aの
直径を回折現象の影響を無視し得る程度まで拡げること
が可能である。
この場合にはそれだけ7パーナヤを高精度で形成するこ
とが容具となる利点がある。すちなみに、本実施例にお
いては、このアパーチャ6aの直径は約1.Sn+/m
程度である。
なお、上記ビーム整形板5aに代えて第1図(B)で示
す別実施例によるビーム整形板5bを用いることらでき
る。この別実施例によるビーム整形板5bは、ビームス
プリッタ4と光変調器7どの間に設けられ、ビームスプ
リッタ4から射出される平行ビームBコに対応させて直
列状に開口した複数の7バーチヤ6bを有しており、基
本的には上記のビム整形板5aと同様に、このアパーチ
ャ6bにより各レーザビームB、を光変調器7に入射さ
せる前に整形上かつ、比較的一様な光強度部分Jを取り
出すようにしたものである。
ビームスプリッタ4は、拡大されたレーザビームB2を
複数本の平行なレーザビームB、に分割するためのもの
であり、このビームスプリッタ4は、例えば特開昭52
−122135号公報に記載されているように、平行平
面を有するガラス板を具備して成り、一方の平面には完
全反射面を形成するコーティングが施され、他方の平面
には、その平面から射出する平行ビームB、の各ビーム
の光量が均一となるように透過率を段階的に変化させる
ようなコーティングが施されている。
多チャンネル型光変調器7は、例えば音響光学式のもの
が用いられ、周知のように複数個の超音波励振部材が単
一の音響光学媒体上に付着せしめられ、当該励振部材に
対応する音響光学媒体部分に各平行レーザビームB、を
入射させ、バタン信号に基づいて発せられる制御信号に
上り入射した各レーザビームB、をそれぞれ独立に変調
するように構成されている。
スリット板8は上記光変調調器7により変調された一次
回折光のみを通過させ、0次回折光を遮断除去するため
のものである。
スリッシ板8を通過した複数本の平行レーザビームB、
は、次の2つの平面ミラー9a・9bによってその方向
が変換され、結像光学系10に入射される。
結像光学系10は、二つの望遠鏡光学系11及び12を
テレセントリックに光学接続したテレセンドリンク光学
系として構成してあり、この構成により複数本の平行ビ
ームB、のビームピッチを圧縮してその結像面Fに所要
の幅W1をもった像14を形成するようにしである。
第2図はこの結像光学系10の概要図である。
L、及びL2はそれぞれ前段の望遠鏡光学系11の対物
レンズ及び接眼レンズを示す。この光学系11は全体と
して一つのテレセントリック光学系を構成し、対物レン
ズL1の前側焦点位置F1に配置されたビーム整形板5
からの複数本の平行ビームB4は接収レン′X:L2よ
り再び同じ本数の平行ビームB、となって射出し、11
1ルンズL2の後側焦点位置F 23に前段縮小倍率M
、にビームピッチを圧縮しすこ像13を形成する。
L、及びL4はそれぞれ後段の望遠鏡光学系12の対物
レンズ及び接眼レンズを示す、この光学系12ら前段光
学系11と同様に全体として一つのテレセンドリンク光
学系を構成し、対物レンズL、の前側焦点位置F 21
に形成された像13からの複数本の平行ビームB、は接
[L4より再び同じ本数の平行ビームBGとなって射出
し、接眼レンズL4の後側焦点位置Fに所要のビームピ
ッチに圧縮された像14を形成する。
後段の望遠鏡光学系12は、内部にズームレンズL、を
含んでおり、像14のビームピッチを無段階に調整する
ことができるようになっている。
上記のように、望遠鏡光学系11及び12を2段に接続
した場合には、それぞれの倍率を比較的低くできるので
一段階で縮小するよりも収差を小さくできるという利点
を生ずる。もなみにこの実施例ではビーム圧縮光学系1
0全体の縮小倍率は1/150〜1/300まで無段階
にi整可能となっている。
ズームレンズL、は必ずしも後段の光学系12に限るこ
となく、これに代えて前段の光学系11に含まれてもよ
く、あるいは縮小倍率を無段階に調整しない場合には第
3図に示すように省略することらできる。
結像光学系10をテレセントリック光学系で構成するこ
とによる利点は、fjrJ4図に示すように結像位置F
Qと記録位置Gとの間にずれ△Dが生じた場合でも、そ
れぞれの位置における像の寸法W1とW2とが実質的に
等しくなることである。つまり、前記のように後段の接
眼レンズL、から射出する各レーザビームB6の主光線
15がこの光学系12の光軸16に対して平行となるか
らである。但し、このような位置ズレは各ビームの結像
状態が劣化することを意味するので、結像位置Fと記録
位置Gとは可能な限り近接させることが望ましい。
なお、上記実施例においては、結像光学系10が望遠鏡
光学系11・12を2段に接続しだらのについて例示し
たがこれに限ることなく、全体としてテレセントリック
光学を構成するものであれば、単一のものでも3段以上
の多段に接続したものでもよい。
なお、遮断用スリット板8を直列状に開口した複数のア
パーチャにしてもよいし、結像光学系と多チャンネル型
光変調器との間の適宜の位置に直列状に開口した複数の
アパーチャを設けてもよい。
〈発明の効果〉 本発明によれば、結像光学系の結像面と記録面との間に
ずれが生ずるようなことがあっても、従来例のように像
の寸法が変化することがない、従って、例えば使用する
感光シートの厚みが変化しても、ピント調整だけ行えば
よく、像の寸法の変化を全く気にしなくてもよいから、
作業性が向上するとともに、結像光学系の組付調整ら容
易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は本発明によるレーザ露光装置の実施例
を示し、第1図(A)はレーザ露光装置の概要斜視図、
第1図(B)は別実施例の要部斜視図、第2図は第1図
におけるビーム圧縮光学系10の概要を示す平面図、第
3図は結像光学系の別実施例を示す第2図対応図、第4
図は結像光学系による結像位置近傍でのビームの態様を
示す平面図、第5図及び第6図はそれぞれビーム整形板
によるビーム整形の態様を示す説明図、!@7図〜第9
図は従来例を示し、第7図は従来の結像光学系による結
像位置近傍でのビームの態様を示す平面図、第8図はレ
ーザ露光装置が利用される画像走査記録装置の一例を示
すレーザプロフタの斜視図、第9図は従来例によるレー
ザ露光装置の概要斜視図である。 1・・・レーザ光源、  3・・・ビームエキスパンダ
、4・・・ビームスプリッタ、  5(5a・5b)・
・・ビーム整形板、 6(6a・6b)・・・アパーチ
ャ、7・・・多チャンネル型光変調器、  10・・・
結像光学系、  11・12・・・望遠鏡光学系、  
14・・・像。 第 1 図 (A’) 第 1 図 (B)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ光源からのレーザビームをビーム分割手段で
    複数本の平行レーザビームに分割し、複数本のレーザビ
    ームを多チャンネル型光変調器でそれぞれ独立に変調し
    、変調した複数本の平行レーザビームを複数のレンズで
    構成した結像光学系を介して、記録面上に投影するよう
    に構成した画像走査記録装置のレーザ露光装置において
    、 結像光学系に入る手前におかれたアパーチャの像を1以
    上のテレセットリック光学系で構成した結像光学系で記
    録面上に結像し、その線を形成する各レーザビームの主
    光線が光軸に対して平行となるようにしたことを特徴と
    する画像走査記録装置のレーザ露光装置 2、結像光学系がズームレンズを含んで成る特許請求の
    範囲第1項に記載した画像走査記録装置のレーザ露光装
    置 3、ビームエキスパンダを設けてレーザ光源から射出し
    たレーザビームの径を拡大し、当該レーザビームの光強
    度分布を比較的一様な部品のレーザビームでアパーチャ
    を照射する特許請求の範囲第1項に記載した画像走査記
    録装置のレーザ露光装置 4、ビーム整形板が単一のアパーチャを有し、ビームエ
    キスパンダとビームスプリッタとの間に配置された特許
    請求の範囲第3項に記載した画像走査記録装置のレーザ
    露光装置 5、ビーム整形板が直列状に開口した複数のアパーチャ
    を有しビームスプリッタと多チャネル型光変調器との間
    に配置された特許請求の範囲第3項に記載した画像走査
    記録装置のレーザ露光装置 6、ビーム型形板が結像光学系と多チャネル型光変調器
    との間に配置された特許請求の範囲第3項に記載の画像
    走査記録装置のレーザ露光装置
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