JPS62230972A - イオンビ−ムミキシング装置 - Google Patents
イオンビ−ムミキシング装置Info
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- JPS62230972A JPS62230972A JP7517386A JP7517386A JPS62230972A JP S62230972 A JPS62230972 A JP S62230972A JP 7517386 A JP7517386 A JP 7517386A JP 7517386 A JP7517386 A JP 7517386A JP S62230972 A JPS62230972 A JP S62230972A
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- Japan
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- rolls
- long
- ion beam
- roll
- ion beams
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000009684 ion beam mixing Methods 0.000 claims description 15
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- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 14
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はイオンビームミキシング装置に係シ、特に長尺
品、例えば圧延ロール、円筒2円柱等の表面を改質する
イオンビームミキシング装置に関する。
品、例えば圧延ロール、円筒2円柱等の表面を改質する
イオンビームミキシング装置に関する。
イオン注入処理による表面処理はザイメテイング(Zy
me t ing )プロセスとして知られている。こ
の処理方法は旧来の表面処理とは根本的に異なり、イオ
ン注入の手法で行なわれる。これは真空中で高エネルギ
ーイオンビームを材料表面に注ぎ、表面改質する。この
イオンビーム法は旧来の熱拡散かコーティングの手法に
比し多くの特徴を持っている。特長として処理材質や状
態図に無関係に不純物の注入が可能、非熱拡散プロセス
による低い処理温度、非コーテイング処理てよる非剥離
性、処理前寸法形状、表面状態の非変化性、仕上げ工程
の省略に伴うコストの節減、及び有毒物質を使用しない
ことによる安全性の確保等が挙げられる。
me t ing )プロセスとして知られている。こ
の処理方法は旧来の表面処理とは根本的に異なり、イオ
ン注入の手法で行なわれる。これは真空中で高エネルギ
ーイオンビームを材料表面に注ぎ、表面改質する。この
イオンビーム法は旧来の熱拡散かコーティングの手法に
比し多くの特徴を持っている。特長として処理材質や状
態図に無関係に不純物の注入が可能、非熱拡散プロセス
による低い処理温度、非コーテイング処理てよる非剥離
性、処理前寸法形状、表面状態の非変化性、仕上げ工程
の省略に伴うコストの節減、及び有毒物質を使用しない
ことによる安全性の確保等が挙げられる。
従来、イオンビームミキシングによる対象品の表面改質
は切削工具の刃先等に対して行なわれていた。例えば第
3図に示すようなイオンビームミキシング装置により行
なわれた。処理対象品の刃先21等が円盤状のホルダ2
2に並べられ、回転軸23によ多回転、及び角度調整が
行なわれる。
は切削工具の刃先等に対して行なわれていた。例えば第
3図に示すようなイオンビームミキシング装置により行
なわれた。処理対象品の刃先21等が円盤状のホルダ2
2に並べられ、回転軸23によ多回転、及び角度調整が
行なわれる。
そしてイオン源6からイオンビームIBを回転されてい
る刃先21に入射し、イオンを注入して行なわれた。刃
先21は回転ホルダ22にクランプ、又はロー付は等で
並べてられる。また刃先としてはダイス、タップ、ナイ
フ、スクルユー等の小面積の物であった。
る刃先21に入射し、イオンを注入して行なわれた。刃
先21は回転ホルダ22にクランプ、又はロー付は等で
並べてられる。また刃先としてはダイス、タップ、ナイ
フ、スクルユー等の小面積の物であった。
従来、イオンビームミキシングによる表面改質は切削工
具の刃先等の小面積に限られておp、被イオン注入品は
ホルダにクランプ又はロー付けされて固定され、ホルダ
を回転、水冷して行なわれた。そこで大面積を有する長
尺品にイオンビームミキシングする装置が望ま九でいた
。
具の刃先等の小面積に限られておp、被イオン注入品は
ホルダにクランプ又はロー付けされて固定され、ホルダ
を回転、水冷して行なわれた。そこで大面積を有する長
尺品にイオンビームミキシングする装置が望ま九でいた
。
本発明は、圧延ロール等の円筒、又は円柱の長尺品を対
象にしてイオンビームミキシングする装置を発明するこ
とを目的とするもので、大面積を有する長尺品を2本ロ
ールで支持してイオンを打込む装置を提供することにあ
る。
象にしてイオンビームミキシングする装置を発明するこ
とを目的とするもので、大面積を有する長尺品を2本ロ
ールで支持してイオンを打込む装置を提供することにあ
る。
本発明のイオンビームミキシング装置は、長尺品にイオ
ンを注入する装置において、前記長尺品を支持するホー
ルダとして2本ロールが設けられ、前記2本ロールの回
転により長尺品が回転されるようにされ、且つ前記長尺
品にイオンビームを注入するイオン源が設けられた装置
である。
ンを注入する装置において、前記長尺品を支持するホー
ルダとして2本ロールが設けられ、前記2本ロールの回
転により長尺品が回転されるようにされ、且つ前記長尺
品にイオンビームを注入するイオン源が設けられた装置
である。
また、前記ロールが中空に形成され、その中空部に冷媒
が導入される手段が必要に応じて設けられる。更に2本
ロール間の距離が長尺品のiff径に応じて可変される
手段が設けられることが好ましい。
が導入される手段が必要に応じて設けられる。更に2本
ロール間の距離が長尺品のiff径に応じて可変される
手段が設けられることが好ましい。
本装置の作用を述べる。圧延ロール等円筒又は円柱の長
尺品を2本ロールの上に載置し、ロールを回転させるこ
とにより長尺品を回転する。このと@2本ロールの中の
1本を動力によシ回転、駆動させ、他方のロールは回転
フリーとし、長尺品の回転によ多回転される。また、2
本ロールを中空にして冷媒流通孔を設けて、内部に冷媒
を導入してロール温度を調整する。また、2本のロール
の支持台間の距離を変えるように、支持台をスライドレ
ール等によシ容易に移動可能にし、長尺品の直径に応じ
て2本ロールの間隔を適切に変えるようにする。また長
尺材は断面が2本ロールで回転される形状のものならば
何でもよいが、円形が好ましい。またイオ源は通常イオ
ンビームを放射するものが使用される。
尺品を2本ロールの上に載置し、ロールを回転させるこ
とにより長尺品を回転する。このと@2本ロールの中の
1本を動力によシ回転、駆動させ、他方のロールは回転
フリーとし、長尺品の回転によ多回転される。また、2
本ロールを中空にして冷媒流通孔を設けて、内部に冷媒
を導入してロール温度を調整する。また、2本のロール
の支持台間の距離を変えるように、支持台をスライドレ
ール等によシ容易に移動可能にし、長尺品の直径に応じ
て2本ロールの間隔を適切に変えるようにする。また長
尺材は断面が2本ロールで回転される形状のものならば
何でもよいが、円形が好ましい。またイオ源は通常イオ
ンビームを放射するものが使用される。
上記の操作によυ長尺材は2本ロールで支持しながらイ
オンビームミキシングをさせて表面改質する。以下、実
施例で具体的に説明する。
オンビームミキシングをさせて表面改質する。以下、実
施例で具体的に説明する。
本発明イオンビームミキシング装置の概略を第1図及び
第2図で示し、第1図は正面図、第2図は第1図のA−
A部の断面図を示す。ミキシング装置は真空容器5内に
納められ、排気管14で排気される。真空容器5の内部
に2本ロール2.3が設けられ、ロール2を駆動ロール
、ロール3を従動ロールとする。そのロール2,3は中
空に形成されており、中空部に冷却水4がロール2,3
の端部の回転給水機構8を通して導入され、他端の回転
排水機構8′から排水4′される。また。
第2図で示し、第1図は正面図、第2図は第1図のA−
A部の断面図を示す。ミキシング装置は真空容器5内に
納められ、排気管14で排気される。真空容器5の内部
に2本ロール2.3が設けられ、ロール2を駆動ロール
、ロール3を従動ロールとする。そのロール2,3は中
空に形成されており、中空部に冷却水4がロール2,3
の端部の回転給水機構8を通して導入され、他端の回転
排水機構8′から排水4′される。また。
駆動ロール2の一端に歯車9が取付けられ、伝達歯車1
3を介して駆動軸12に連結され、駆動ロール2は駆動
軸12によ多回転駆動される。尚、駆動軸12は真空容
器5の壁をフィードスルー11によって貫通している。
3を介して駆動軸12に連結され、駆動ロール2は駆動
軸12によ多回転駆動される。尚、駆動軸12は真空容
器5の壁をフィードスルー11によって貫通している。
また、ロール2,3は支持台7に設けられた軸受によ多
回転可能にされ、従動ロール3の支持台7はガイドレー
ル10上にスライド可能に取付けられる。この装置にお
いて、イオンビームされる圧延ロール1は駆動ロール2
と従動ロール3の上に載置され、圧延ロールlの直径に
合せて従動ロール3の支持台7をスライドさせ、ロール
2と3の間隔が適宜に調整される。またイオン源6はロ
ール2,3の間隙の下に設けられ、イオンビームIBを
圧延ロール1に向けて放射する。
回転可能にされ、従動ロール3の支持台7はガイドレー
ル10上にスライド可能に取付けられる。この装置にお
いて、イオンビームされる圧延ロール1は駆動ロール2
と従動ロール3の上に載置され、圧延ロールlの直径に
合せて従動ロール3の支持台7をスライドさせ、ロール
2と3の間隔が適宜に調整される。またイオン源6はロ
ール2,3の間隙の下に設けられ、イオンビームIBを
圧延ロール1に向けて放射する。
また、必要に応じて駆動ロール2、従動ロール3の表面
には、熱伝導性の良いゴムでライニングされてもよい。
には、熱伝導性の良いゴムでライニングされてもよい。
この装置によシ、圧延ロール1は駆動ロール2と従動ロ
ール3で支持されて回転し、この駆動ロールド従動ロー
ル3との間隙からイオンビームの注入を受ける。この間
隙は従動ロール3を容易にスライドさせて圧延ロール1
の直径に対して間隙が調整される。また、イオンビーム
注入時に温度が上昇すれば、ロール2.3に冷却水の導
入にニジ圧延ロール1の表面が冷却され、適正な温度に
維持される。この様に圧延ロール1は回転されながらイ
オンビームの入射を受けるので、イオン注入量が一様に
され、均一な表面改質が得られる。
ール3で支持されて回転し、この駆動ロールド従動ロー
ル3との間隙からイオンビームの注入を受ける。この間
隙は従動ロール3を容易にスライドさせて圧延ロール1
の直径に対して間隙が調整される。また、イオンビーム
注入時に温度が上昇すれば、ロール2.3に冷却水の導
入にニジ圧延ロール1の表面が冷却され、適正な温度に
維持される。この様に圧延ロール1は回転されながらイ
オンビームの入射を受けるので、イオン注入量が一様に
され、均一な表面改質が得られる。
本発明のイオンビームミキシング装置は、圧延コール等
の円筒又は円柱等の長尺品が2本ロールによって支持、
回転されながらイオンビームの注入を受け、また2本ロ
ールの温度が調整される装置で、本装置により長尺材は
回転、冷却を同時に受けるので、適正温度で一様にイオ
ン注入を受けることができる。また、長尺材の直径が異
なっても2本ロールの間隔を調整できるので、各種長尺
材にも適用できる。従って長尺材は高精度で容易にイオ
ンビームミキシングされ、均一に表面改質され、耐摩耗
性、耐食性、X気的性質の優れた良品になシ得る。
の円筒又は円柱等の長尺品が2本ロールによって支持、
回転されながらイオンビームの注入を受け、また2本ロ
ールの温度が調整される装置で、本装置により長尺材は
回転、冷却を同時に受けるので、適正温度で一様にイオ
ン注入を受けることができる。また、長尺材の直径が異
なっても2本ロールの間隔を調整できるので、各種長尺
材にも適用できる。従って長尺材は高精度で容易にイオ
ンビームミキシングされ、均一に表面改質され、耐摩耗
性、耐食性、X気的性質の優れた良品になシ得る。
本発明のイオンビームミキシング装置について第1図は
正面口、第2図は断面図を示す。また。 従来の刃先のイオンビームミキシング装置を第3図に示
す。 1・・・圧延ロール、2・・・駆動ロール、3・・・従
動ロール、4・・・冷却水の給水、4′・・・冷却水の
排水、5・・・真空容器、6・・・イオン源、7・・・
支持台、10・・・スライドレール、21・・・刃先、
22・・・刃先ホルダ、IB・・・イオンビーム。
正面口、第2図は断面図を示す。また。 従来の刃先のイオンビームミキシング装置を第3図に示
す。 1・・・圧延ロール、2・・・駆動ロール、3・・・従
動ロール、4・・・冷却水の給水、4′・・・冷却水の
排水、5・・・真空容器、6・・・イオン源、7・・・
支持台、10・・・スライドレール、21・・・刃先、
22・・・刃先ホルダ、IB・・・イオンビーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、長尺品にイオン注入する装置において、前記長尺品
を支持するホールダとして2本ロールが設けられ、前記
2本ロールの回転により長尺品が回転されるようにされ
、且つ前記長尺品にイオンビームを注入するイオン源が
設けられたことを特徴とするイオンビームミキシング装
置。 2、前記ロールが中空に形成され、その中空部に冷媒が
導入される手段が設けられたことを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載のイオンビームミキシング装置。 3、前記2本ロール間の距離が可変される手段が設けら
れたことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
に記載のイオンビームミキシング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7517386A JPS62230972A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7517386A JPS62230972A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62230972A true JPS62230972A (ja) | 1987-10-09 |
Family
ID=13568542
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7517386A Pending JPS62230972A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | イオンビ−ムミキシング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62230972A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100977613B1 (ko) | 2008-03-26 | 2010-08-23 | 한전케이피에스 주식회사 | 고온용 부품의 윤활코팅장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4838312A (ja) * | 1971-09-18 | 1973-06-06 | ||
JPS5277729A (en) * | 1975-12-20 | 1977-06-30 | Ibm | Method of forming photoconductor layer with raster |
JPS59126540A (ja) * | 1983-01-08 | 1984-07-21 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造装置 |
-
1986
- 1986-04-01 JP JP7517386A patent/JPS62230972A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4838312A (ja) * | 1971-09-18 | 1973-06-06 | ||
JPS5277729A (en) * | 1975-12-20 | 1977-06-30 | Ibm | Method of forming photoconductor layer with raster |
JPS59126540A (ja) * | 1983-01-08 | 1984-07-21 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体の製造装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100977613B1 (ko) | 2008-03-26 | 2010-08-23 | 한전케이피에스 주식회사 | 고온용 부품의 윤활코팅장치 |
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