JPS62218736A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JPS62218736A JPS62218736A JP6212986A JP6212986A JPS62218736A JP S62218736 A JPS62218736 A JP S62218736A JP 6212986 A JP6212986 A JP 6212986A JP 6212986 A JP6212986 A JP 6212986A JP S62218736 A JPS62218736 A JP S62218736A
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- Japan
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- gasket
- mounting table
- heating chamber
- heating device
- end surface
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- Pending
Links
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Landscapes
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高周波加熱装置の食品9食器を載置する載置
台のシール構成に関するものであり、安価でシール性に
優れたガスケット構成を有する高周波加熱装置に関する
ものである0 従来の技術 一般に高周波加熱装置における食品の載置台の構成は、
第9図、第10図に示すように結晶化ガラス等の材質で
作った板状の載置台1の周辺に、シリコンゴム等の弾力
性があり高周波特性の良い材質熱加硫型シリコンゴムを
押出成形で作ったガスケノド2を、載置台1の端面に接
着剤3を塗布して貼付けて構成する方法か、又は、あま
り一般的には用いられていないが、第11図に示すよう
に上型4と下型5の間に載置台1を入れ、真空槽内で室
温硬化型シリコンゴムを注入し、型を装着したまま半日
以上放置し凝固させてガスケット2を載置台1に一体成
形する方法がある。
台のシール構成に関するものであり、安価でシール性に
優れたガスケット構成を有する高周波加熱装置に関する
ものである0 従来の技術 一般に高周波加熱装置における食品の載置台の構成は、
第9図、第10図に示すように結晶化ガラス等の材質で
作った板状の載置台1の周辺に、シリコンゴム等の弾力
性があり高周波特性の良い材質熱加硫型シリコンゴムを
押出成形で作ったガスケノド2を、載置台1の端面に接
着剤3を塗布して貼付けて構成する方法か、又は、あま
り一般的には用いられていないが、第11図に示すよう
に上型4と下型5の間に載置台1を入れ、真空槽内で室
温硬化型シリコンゴムを注入し、型を装着したまま半日
以上放置し凝固させてガスケット2を載置台1に一体成
形する方法がある。
発明が解決しようとする問題点
ところが、このような載置台の構成においては、下記の
ような問題点がある。第9図の構成においては、接着等
に手間がかかり、コーナ一部の突き合せ部のシールが困
難である。又、載置台1の外形寸法の加工バラツキに対
して、一定形状のガスケット2を接着する為に接着後の
載置台周辺のガスケット2を含めた外形寸法はバラツキ
やすい。
ような問題点がある。第9図の構成においては、接着等
に手間がかかり、コーナ一部の突き合せ部のシールが困
難である。又、載置台1の外形寸法の加工バラツキに対
して、一定形状のガスケット2を接着する為に接着後の
載置台周辺のガスケット2を含めた外形寸法はバラツキ
やすい。
したがって加熱室内壁に載置台を装着した時、加熱室内
壁に対するガスケット部の圧接シロがバラツキ、一定の
気密性能を確保することが困難である。また、第11図
の構成においては、多くの型を必要とし生産性が悪く非
常にコスト高なことと、室温硬化型シリコンゴムは凝固
後において引き裂き強度が弱いために、ガスケット2部
が製造時あるいは使用時において、傷や亀裂、引き裂き
が生じやすく気密性が劣化しやすいという問題がある。
壁に対するガスケット部の圧接シロがバラツキ、一定の
気密性能を確保することが困難である。また、第11図
の構成においては、多くの型を必要とし生産性が悪く非
常にコスト高なことと、室温硬化型シリコンゴムは凝固
後において引き裂き強度が弱いために、ガスケット2部
が製造時あるいは使用時において、傷や亀裂、引き裂き
が生じやすく気密性が劣化しやすいという問題がある。
溌揮はIHか
本発明はこのような従来の問題点を解消するものであり
、ゴムの弾力性を生かし、かつ加工バラツキのきわめて
少ない気密性に優れた載置台のガスケット構成を有する
高周波加熱装置を提供するものである。
、ゴムの弾力性を生かし、かつ加工バラツキのきわめて
少ない気密性に優れた載置台のガスケット構成を有する
高周波加熱装置を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明の高周波加熱装置は、載置台の周辺のガスケット
を液状シリコンゴムを用いて、載置台の周辺にインサー
ト成形によってガスケットを形成し、ガスケットの加熱
室内に装着する前の形状は、上端面を全周同一高さとし
、少なくとも3辺は上端面に平面部を設ける形状とし、
ガスケット内周の載置台上表面と接するガスケット先端
の厚みを0.5喘以下とし、載置台とガスケットの境界
線の段差を少なくした構成としたものである。
を液状シリコンゴムを用いて、載置台の周辺にインサー
ト成形によってガスケットを形成し、ガスケットの加熱
室内に装着する前の形状は、上端面を全周同一高さとし
、少なくとも3辺は上端面に平面部を設ける形状とし、
ガスケット内周の載置台上表面と接するガスケット先端
の厚みを0.5喘以下とし、載置台とガスケットの境界
線の段差を少なくした構成としたものである。
作 用
本発明の高周波加熱装置は、液状シリコンゴムを用いて
結晶化ガラス等で作った載置台の周辺に、インサート成
形によってガスケットを形成する構成であり、射出成形
あるいは圧縮成形方法にて作ることができる。したがっ
て、数分以内に載置台周辺にガスケットを形成すること
ができ、量産性に優れ安価に提供することができる。ま
た、成形されたガスケットは熱加硫型シリコンゴムで押
出成形された従来のガスケット同様、強度、耐熱性。
結晶化ガラス等で作った載置台の周辺に、インサート成
形によってガスケットを形成する構成であり、射出成形
あるいは圧縮成形方法にて作ることができる。したがっ
て、数分以内に載置台周辺にガスケットを形成すること
ができ、量産性に優れ安価に提供することができる。ま
た、成形されたガスケットは熱加硫型シリコンゴムで押
出成形された従来のガスケット同様、強度、耐熱性。
電気特性、耐薬品性、耐候安定性等において良好であり
、さらに載置台へのガスケットの接着力も強い。また、
ガスケットの上端面を全周同一高さとし、少なくとも3
辺は上端面に平面部を設ける形状としたことにより、金
型のパーティングラインが同一面となり、金型の作成が
容易であり成形性も良く均一なガスケットを形成するこ
とができる。また、ガスケット内周の載置台上表面と接
するガスケット先端の厚みを0.5 mm以下とし、載
置台とガスケットの境界線の段差を少なくしたことによ
り、載置台内周辺のガスケット端面に汚れがたまりにく
くなり、手入れが容易である。また、端面に食器が当っ
たり、手入れ時に引っかけたりしてガスケットを引きは
がす等のことが防止でき、長期に気密性を維持すること
ができる。
、さらに載置台へのガスケットの接着力も強い。また、
ガスケットの上端面を全周同一高さとし、少なくとも3
辺は上端面に平面部を設ける形状としたことにより、金
型のパーティングラインが同一面となり、金型の作成が
容易であり成形性も良く均一なガスケットを形成するこ
とができる。また、ガスケット内周の載置台上表面と接
するガスケット先端の厚みを0.5 mm以下とし、載
置台とガスケットの境界線の段差を少なくしたことによ
り、載置台内周辺のガスケット端面に汚れがたまりにく
くなり、手入れが容易である。また、端面に食器が当っ
たり、手入れ時に引っかけたりしてガスケットを引きは
がす等のことが防止でき、長期に気密性を維持すること
ができる。
また、ガスケットを一体成形で形成することにより、コ
ーナ一部の気密性についても何ら問題がなくなる。
ーナ一部の気密性についても何ら問題がなくなる。
実施例
゛以下、本発明の一実施例の高周波加熱装置を図面を参
照して説明する。第1図に示すように、結晶化ガラスで
作った板状の載置台1の周辺に、液状シリコンゴムを用
いてガスケット2を一体成形する。液状シリコンゴムは
A液、B液の2液温合であり、これを金型に載置台を装
着後ゲートより射出する。液状シリコンゴムの硬化機構
の概略を以下に示す。
照して説明する。第1図に示すように、結晶化ガラスで
作った板状の載置台1の周辺に、液状シリコンゴムを用
いてガスケット2を一体成形する。液状シリコンゴムは
A液、B液の2液温合であり、これを金型に載置台を装
着後ゲートより射出する。液状シリコンゴムの硬化機構
の概略を以下に示す。
温度
(80〜170℃)
載置台1の周辺に一体成形したガスケット2の断面形状
は、第2図、第3図に示すように、第1図のA−A/、
B−B/、C−α断面は第2図の形状にし、第1図のD
−α断面は第3図の形状としている。第2図、第3図に
ついて以下に説明する0ガスケツト2の全厚みHを四辺
とも同一高さとしている。又、ガスケット2の上端面部
&に平面部を設け、ガスケット2内周の載置台1上表面
と接するガスケット2先端の厚みhを0.5++IIm
以下とし、載置台1とガスケット2の境界線の段差を少
なくする形状としている。次に第4図〜第7図を参照し
て説明する。第4図は高周波加熱装置の正面矢視断面図
である。載置台1の周辺にガスケット2を一体成形した
状態で加熱室6内に装着する。装着後のガスケット2部
の形状をb部を拡大して第6図に示す。加熱室壁7の一
部を絞り載置台1の支持部8を設けている。ガスケット
2の先端部は加熱室壁7に沿って屈折し、ゴムの弾力に
よって加熱室壁7に圧接し、載置台1によって仕切られ
た加熱室6下部への水、油、汁等の浸入を防ぐ気密を保
つ構成としている。第6図は高周波加熱装置の側面矢視
断面図である。ドア9側のガスケット2部の形状を0部
を拡大して第7図に示す。加熱室前壁1oの先端を折り
曲げて、載置台1支持部11を設けている。ガスケット
2の側面及び下面が、ゴムの弾力によって加熱室前壁1
oに圧接する構成としている。尚、第8図に示すように
ガスケット2の形状は、加熱室壁7の載置台1の支持部
8に接する複数箇所以外の部分について、ガスケット2
下面の形状を省略することができる。
は、第2図、第3図に示すように、第1図のA−A/、
B−B/、C−α断面は第2図の形状にし、第1図のD
−α断面は第3図の形状としている。第2図、第3図に
ついて以下に説明する0ガスケツト2の全厚みHを四辺
とも同一高さとしている。又、ガスケット2の上端面部
&に平面部を設け、ガスケット2内周の載置台1上表面
と接するガスケット2先端の厚みhを0.5++IIm
以下とし、載置台1とガスケット2の境界線の段差を少
なくする形状としている。次に第4図〜第7図を参照し
て説明する。第4図は高周波加熱装置の正面矢視断面図
である。載置台1の周辺にガスケット2を一体成形した
状態で加熱室6内に装着する。装着後のガスケット2部
の形状をb部を拡大して第6図に示す。加熱室壁7の一
部を絞り載置台1の支持部8を設けている。ガスケット
2の先端部は加熱室壁7に沿って屈折し、ゴムの弾力に
よって加熱室壁7に圧接し、載置台1によって仕切られ
た加熱室6下部への水、油、汁等の浸入を防ぐ気密を保
つ構成としている。第6図は高周波加熱装置の側面矢視
断面図である。ドア9側のガスケット2部の形状を0部
を拡大して第7図に示す。加熱室前壁1oの先端を折り
曲げて、載置台1支持部11を設けている。ガスケット
2の側面及び下面が、ゴムの弾力によって加熱室前壁1
oに圧接する構成としている。尚、第8図に示すように
ガスケット2の形状は、加熱室壁7の載置台1の支持部
8に接する複数箇所以外の部分について、ガスケット2
下面の形状を省略することができる。
このようにすれば、載置台1の周辺にガスケット2を射
出成形あるいは圧縮成形方法にて一体成形することがで
き、数分以内に成形でき、きわめて量産性に侵れ安価に
提供することができる。また、成形されたガスケット2
は、熱加硫型シリコンゴムで押出成形された従来のガス
ケット2同様、強度、耐熱性、電気特性等において良好
な結果が得られる。特にガスケットとして必要な特性は
、J I S −Ke301に規定された測定法に基づ
くと、硬度5oHs、引張強さ60匂/−以上、伸び2
00−以上という結果が得られている。又、高周波特性
においても、高周波加熱装置に実装し無負荷にてSOO
時間以上連続運転してもガスケット2部に異常はみられ
ていない。また、載置台1をインサートする一体成形で
あることにより、載置台1の外形寸法のバラツキに左右
されることなく、載置台1周辺に形成したガスケット2
部を含めた外形寸法は一定である。したがって加熱室壁
7への圧接シロを安定して確保することができ、気密性
を確保することが容易である0 また、ガスケット2の全厚みHを四辺とも同一高さとし
、上端面部aに平面部を設けることにより、金型のパー
ティングラインが同一面となり、金型の作成が容易であ
り成形性も良く均一なガスケットを形成することができ
製造時に載置台1を積み重ねて保管をしても、ガスケッ
ト2先端部の形状を損わずに維持することができる。ま
た、ドア9に面したガスケット2の左右コーナ一部の加
熱室壁7への嵌合にスキマがなく、見栄えも良くなる。
出成形あるいは圧縮成形方法にて一体成形することがで
き、数分以内に成形でき、きわめて量産性に侵れ安価に
提供することができる。また、成形されたガスケット2
は、熱加硫型シリコンゴムで押出成形された従来のガス
ケット2同様、強度、耐熱性、電気特性等において良好
な結果が得られる。特にガスケットとして必要な特性は
、J I S −Ke301に規定された測定法に基づ
くと、硬度5oHs、引張強さ60匂/−以上、伸び2
00−以上という結果が得られている。又、高周波特性
においても、高周波加熱装置に実装し無負荷にてSOO
時間以上連続運転してもガスケット2部に異常はみられ
ていない。また、載置台1をインサートする一体成形で
あることにより、載置台1の外形寸法のバラツキに左右
されることなく、載置台1周辺に形成したガスケット2
部を含めた外形寸法は一定である。したがって加熱室壁
7への圧接シロを安定して確保することができ、気密性
を確保することが容易である0 また、ガスケット2の全厚みHを四辺とも同一高さとし
、上端面部aに平面部を設けることにより、金型のパー
ティングラインが同一面となり、金型の作成が容易であ
り成形性も良く均一なガスケットを形成することができ
製造時に載置台1を積み重ねて保管をしても、ガスケッ
ト2先端部の形状を損わずに維持することができる。ま
た、ドア9に面したガスケット2の左右コーナ一部の加
熱室壁7への嵌合にスキマがなく、見栄えも良くなる。
また、ガスケット2内周の載置台1上表面と接するガス
ケット2先端の厚みhを0.5mm以下とし、載置台1
とガスケット2の境界線の段差を少なくする形状とする
ことによシ、載置台1内周辺のガスケット2端面に汚れ
がたまりにくくなり、手入れが容易である。また、端面
に食器が当たったシ、手入れ時に引っかけたりして、ガ
スケット2を引きはがす等の防止をすることができ、長
期に気密性を維持することができる。
ケット2先端の厚みhを0.5mm以下とし、載置台1
とガスケット2の境界線の段差を少なくする形状とする
ことによシ、載置台1内周辺のガスケット2端面に汚れ
がたまりにくくなり、手入れが容易である。また、端面
に食器が当たったシ、手入れ時に引っかけたりして、ガ
スケット2を引きはがす等の防止をすることができ、長
期に気密性を維持することができる。
発明の効果
以上のように本発明の高周波加熱装置は、載置台のガス
ケットを液状シリコンゴムを用いて、載置台の周辺にイ
ンサート成形によってガスケットを一体成形で形成し、
ガス欠y)の上端面全周を同−高さとし、少なくとも3
辺は上端面に平面部を設け、ガスケットの内周の載置台
上表面と接するガスケット先端の厚みを0.5mm以下
とする形状としたものである0したがってバラツキの少
ない均一なガスケットを、安定して作ることができ、強
度及びその他特性的にも優れ手入れも容易であり長期に
気密性を維持することができる。特に、本発明によれば
金型作成も容易であり、射出成形あるいは圧縮成形方法
にて一体成形することができることにより、きわめて量
産性に優れ安価に提供することができ、実用上きわめて
有利なものである。
ケットを液状シリコンゴムを用いて、載置台の周辺にイ
ンサート成形によってガスケットを一体成形で形成し、
ガス欠y)の上端面全周を同−高さとし、少なくとも3
辺は上端面に平面部を設け、ガスケットの内周の載置台
上表面と接するガスケット先端の厚みを0.5mm以下
とする形状としたものである0したがってバラツキの少
ない均一なガスケットを、安定して作ることができ、強
度及びその他特性的にも優れ手入れも容易であり長期に
気密性を維持することができる。特に、本発明によれば
金型作成も容易であり、射出成形あるいは圧縮成形方法
にて一体成形することができることにより、きわめて量
産性に優れ安価に提供することができ、実用上きわめて
有利なものである。
第1図は本発明の一実施例における高周波加熱装置の載
置台にガスケットを一体形成した平面図および正面図、
第2図、第3図はそれぞれ同要部拡大断面図、第4図は
同高周波加熱装置の正面矢視断面図、第5図は同要部拡
大図、第6図は同高周波加熱装置の側面断面図、第7図
は同要部拡大断面図、第8図はその他の実施例のガスケ
ット部の断面図、第9図は従来の高周波加熱装置の載置
台とガスケットの分解斜視図、第10図は同要部断面図
、第11図はその他の従来例の断面図である。 1・・・・・・載置台、2・・・・・・ガスケット、3
・・・・・・接着剤、4・・・・・上型、5・・・・・
・下型、6・・・・・・加熱室、7・・・・・・加熱室
壁、8・・・・・・支持部、9・・・・・・ドア、1゜
・・・・・・加熱室前壁、11・・・・・・支持部、1
2・・・・・・食品、13・・・・・・マグネトロン、
14・・自・・アンテナ、15・・・・・・モーター。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名+−
−Klぢ 第 1 図
2−−−カ・ス1,7トB′ 1−[1も 2−−−り゛ス1ツY 第6図 0゛−°朋2τ 7−− ・・ ! 6 (?−)−アー 第7図 11−支特彎 C) −〇〜 図 − Uつ 踪 法 訣 ロー
置台にガスケットを一体形成した平面図および正面図、
第2図、第3図はそれぞれ同要部拡大断面図、第4図は
同高周波加熱装置の正面矢視断面図、第5図は同要部拡
大図、第6図は同高周波加熱装置の側面断面図、第7図
は同要部拡大断面図、第8図はその他の実施例のガスケ
ット部の断面図、第9図は従来の高周波加熱装置の載置
台とガスケットの分解斜視図、第10図は同要部断面図
、第11図はその他の従来例の断面図である。 1・・・・・・載置台、2・・・・・・ガスケット、3
・・・・・・接着剤、4・・・・・上型、5・・・・・
・下型、6・・・・・・加熱室、7・・・・・・加熱室
壁、8・・・・・・支持部、9・・・・・・ドア、1゜
・・・・・・加熱室前壁、11・・・・・・支持部、1
2・・・・・・食品、13・・・・・・マグネトロン、
14・・自・・アンテナ、15・・・・・・モーター。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名+−
−Klぢ 第 1 図
2−−−カ・ス1,7トB′ 1−[1も 2−−−り゛ス1ツY 第6図 0゛−°朋2τ 7−− ・・ ! 6 (?−)−アー 第7図 11−支特彎 C) −〇〜 図 − Uつ 踪 法 訣 ロー
Claims (4)
- (1)本体内に食品を収納して加熱調理する加熱室と、
加熱室内に高周波を放射する高周波発生装置と、食品を
載置する載置台と、前記載置台の周辺にガスケットを備
え、前記ガスケットが前記加熱室内壁に圧接することに
よって載置台を加熱室内に保持するとともに前記載置台
によって仕切られた加熱室下部への気密を保ち、かつ前
記ガスケットは液状シリコンゴムを用いて、前記載置台
の周辺にインサート成形によって一体成形したものであ
る高周波加熱装置。 - (2)ガスケットの加熱室内に装着する以前の形状は、
ガスケットの上端面全周を同一高さとし、少なくとも3
辺は上端面に平面部を設ける形状としたことを特徴とし
た特許請求の範囲第1項記載の高周波加熱装置。 - (3)載置台周辺のガスケットを、載置台上面及び側面
(載置台の板厚面)は全周連続して形成し、裏面につい
ては加熱室内壁の載置台を支持する部分にのみ設ける構
成とした特許請求の範囲第1項記載の高周波加熱装置。 - (4)ガスケットの内周の載置台上表面と接するガスケ
ット先端の厚みを0.5mm以下とし、載置台とガスケ
ットとの境界線の段差を少なくした構成とする特許請求
の範囲第1項記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6212986A JPS62218736A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6212986A JPS62218736A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62218736A true JPS62218736A (ja) | 1987-09-26 |
Family
ID=13191154
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6212986A Pending JPS62218736A (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62218736A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4954680A (en) * | 1988-07-26 | 1990-09-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High frequency heating apparatus having sealable and detachable mounting rock |
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