JPS62209400A - Radiation picture conversion panel with protective layer by vapor-phase deposition - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、輝尽性螢光体を用いた放射線画像変換パネル
に関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐
えうる放射線画像変換パネルに関するものである。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a radiation image conversion panel using a photostimulable phosphor, and more specifically to a radiation image conversion panel that can withstand long-term use. It is related to.

（発明の背景） Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。このＸ線画像を得るために、被写体を透
過したＸ線を螢光体層（螢光スクリーン）に照射し、こ
れにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真を
とるときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射し
て現像した、いわゆる放射線写真が利用されている。し
かし、近年銀塩を塗布したフィルムを使用しないで螢光
体層から直接画像を取り出す方法が工夫されるようにな
った。(Background of the Invention) Radiographic images such as X-ray images are often used for disease diagnosis. In order to obtain this X-ray image, the X-rays that have passed through the subject are irradiated onto a phosphor layer (fluorescent screen), which generates visible light. So-called radiography is used in which a film using silver salt is irradiated and developed. However, in recent years, methods have been devised to directly extract images from the phosphor layer without using a film coated with silver salt.

この方法としては被写体を透過した放射線を螢光体に吸
収せしめ、しかる後この螢光体を例えば光又は熱エネル
ギーで励起することによりこの螢光体が上記吸収により
蓄積している放射線エネルギーを螢光として放射せしめ
、この螢光を検出して画像化する方法がある。具体的に
は、例えば米国特許３，８５９，５２７号及び特開昭５
５−１２１４４号には輝尽性螢光体を用い可視光線又は
赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法がホされ
ている。この方法は支持体上に輝尽性螢光体層を形成し
た放射線画像変換パネルを便用するもので、この放射線
画像変換パネルの輝尽性螢光体層に被写体を透過した放
射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対応する放射
線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、しかる後にこ
の輝尽性螢光体層を輝尽励起光で走査することによって
各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれを
光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を得
るものである。この最終的な画像はノ・−トコビーとし
て再生しても良いし、ＣＲＴ上に再生しても良い。This method involves making a phosphor absorb the radiation that has passed through the object, and then exciting the phosphor with, for example, light or thermal energy, so that the phosphor releases the radiation energy accumulated through the absorption. There is a method of emitting it as light, detecting this fluorescent light, and creating an image. Specifically, for example, U.S. Pat.
No. 5-12144 describes a radiation image conversion method using a photostimulable phosphor and using visible light or infrared rays as photostimulation excitation light. This method conveniently uses a radiation image conversion panel in which a stimulable phosphor layer is formed on a support, and the radiation that has passed through the object is applied to the stimulable phosphor layer of this radiation image conversion panel. Radiation energy corresponding to the radiation transmittance of each part of the object is accumulated to form a latent image, and then this photostimulable phosphor layer is scanned with photostimulation excitation light to radiate the accumulated radiation energy of each part. This is converted into light, and an image is obtained using an optical signal based on the intensity of this light. This final image may be reproduced as a notebook or on a CRT.

この放射組画像変換方法に用いられる輝尽性螢光体層を
有する放射線画像変換パネルは、前述の螢光スクリーン
を用いる放射線写真法の場合と同様に放射線吸収率およ
び光変換率（両者を含めて以下「放射線感度」という）
が高いことは言うに及ばず画像の粒状性が良り、シかも
高鮮鋭性であることが要求される。The radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer used in this radiation set image conversion method has a radiation absorption rate and a light conversion rate (including both) as in the case of radiography using a fluorescent screen described above. (hereinafter referred to as "radiation sensitivity")
Needless to say, the image must have high graininess and high sharpness.

ところが、一般に輝尽性螢光体層を有する放射線画像変
換パネルは粒径１〜３０μｍ程度の粒状の輝尽性螢光体
と有機結着剤とを含む分散液を支持体あるいは保護層上
に塗布、乾燥して作成されるので、輝尽性螢光体の充填
密度が低く（充填率５０％）、放射線感度を充分高くす
るには輝尽性螢光体層の層厚を厚くする必要があった。However, in general, a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer is prepared by dispersing a dispersion containing a particulate photostimulable phosphor with a particle size of about 1 to 30 μm and an organic binder on a support or a protective layer. Since it is created by coating and drying, the packing density of the photostimulable phosphor is low (filling rate 50%), and the layer thickness of the photostimulable phosphor layer needs to be thick to obtain sufficiently high radiation sensitivity. was there.

一方、これに対し前記放射線画像変換方法における画像
の鮮鋭性は、放射線画像変換パネルの輝尽性螢光体層の
層厚が薄いほど高い傾向にあり、鮮鋭性の向上のために
は、輝尽性螢光体層の薄層化が必要であった。On the other hand, in the radiation image conversion method, the image sharpness tends to be higher as the thickness of the photostimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel becomes thinner. It was necessary to thin the exhaustible phosphor layer.

また、前記放射線画像変換方法における画像の粒状性は
、放射線量子数の場所的ゆらぎ（量子モトル）あるいは
放射線画像変換パネルの輝尽性螢光体層の構造的乱れ（
構造モトル）等によって決定されるので、輝尽性螢光体
層の層厚が薄くなると、輝尽性螢光体層に吸収される放
射線量子数が減少して量子モトルが増加したり、構造的
乱れが顕在化して構造モトルが増加したりして画質の低
下を生ずる。よって画像の粒状性を向上させるためには
輝尽性螢光体層の層厚は厚い必要があった。In addition, the granularity of the image in the radiation image conversion method is caused by local fluctuations in the number of radiation quanta (quantum mottles) or structural disturbances in the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel.
Therefore, when the layer thickness of the photostimulable phosphor layer becomes thinner, the number of radiation quanta absorbed by the photostimulable phosphor layer decreases, and the quantum mottle increases, and the structure As a result, structural mottles increase and the image quality deteriorates. Therefore, in order to improve the graininess of the image, the stimulable phosphor layer needs to be thick.

即ち、前述のように、従来の放射線画像変換パネルは放
射線に対する感度および画像の粒状性と、画像の鮮鋭性
とが輝尽性螢光体層の層厚に対してまったく逆の傾向を
示すので、前記放射線画像変換パネルは放射線に対する
感度と粒状性と鮮鋭性間のある程度の相互犠牲によって
作成されてきた。That is, as mentioned above, in conventional radiation image conversion panels, sensitivity to radiation, image graininess, and image sharpness tend to be completely opposite to each other with respect to the layer thickness of the stimulable phosphor layer. , the radiation image conversion panels have been made with some trade-off between sensitivity to radiation and graininess and sharpness.

本出願人は、このような特性間の相反性に鑑みて、特願
昭５９−１９６３６５号において輝尽性螢光体層に結着
剤を含有しない放射線画像変換パネル及びその製造方法
を提案している。これによれば、前記放射線画像変換パ
ネルの輝尽性螢光体層が結着剤を含有しないの、で輝尽
性螢光体層の充填率が著しく向上すると共に輝尽性螢光
体層中での輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が向上し、
放射線画像変換パネルの放射線に対する感度と画像の粒
状性が改善されると同時に画像の鮮鋭性も改善される。In view of the conflict between these characteristics, the applicant proposed in Japanese Patent Application No. 59-196365 a radiation image conversion panel that does not contain a binder in the stimulable phosphor layer and a method for manufacturing the same. ing. According to this, since the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel does not contain a binder, the filling rate of the stimulable phosphor layer is significantly improved, and the stimulable phosphor layer The directionality of stimulated excitation light and stimulated luminescence inside is improved,
The sensitivity of the radiation image conversion panel to radiation and the graininess of the image are improved, as well as the sharpness of the image.

この種の放射線画像変換パネルは、放射線画像情報を蓄
積した後輝尽励起光の走査によって蓄積エネルギーを放
出するので、走査径再度放射線画像の蓄積を行うことが
でき、繰り返し便用が可能である。This type of radiation image conversion panel stores radiation image information and then releases the stored energy by scanning the stimulable excitation light, so it is possible to store radiation images again within the scanning diameter and can be used repeatedly. .

そこで、前記放射線画像変換パネルは、長期間に亘り、
放射線画像形成特性が保持される耐久性、あるいは多数
回の繰り返しの使用に耐える性能を有することが望まし
い。そのためには前記放射線画像変換パネル中の輝尽性
螢光体層が外部からの物理的あるいは化学的刺激から十
分に保護される必要がある。Therefore, the radiation image conversion panel has been used for a long period of time.
It is desirable that the material has the durability to maintain its radiation image forming properties or the ability to withstand repeated use many times. For this purpose, the stimulable phosphor layer in the radiation image conversion panel needs to be sufficiently protected from external physical or chemical stimulation.

特に前記輝尽性螢光体層が水分を吸収すると前記放射線
画像変換パネルの放射線感度が低下したり、あるいは輝
尽励起光照射を受けるまでに蓄積エネルギーの減衰が起
こり、得られる放射線画像の画質の劣化をもたらすため
、前記輝尽性螢光体層に水分が到達しないよう保護する
ことが望まれてきた。In particular, when the photostimulable phosphor layer absorbs moisture, the radiation sensitivity of the radiation image conversion panel decreases, or the stored energy decreases before being irradiated with photostimulable excitation light, resulting in the quality of the resulting radiation image. Therefore, it has been desired to protect the stimulable phosphor layer from moisture reaching the stimulable phosphor layer.

更に、〔放射線画像の撮影→輝尽励起光の走査（読み取
り）→残存エネルギーの消去〕→再び放射線画像の撮影
という繰返しサイクルの各ステップ進行に伴い前記放射
線画像変換パネルの輝尽性螢光体層に亀裂等の傷が生ず
ると得られる放射線画像の画質が劣化するため、該輝尽
性螢光体層は搬送系その他の機械部分から受ける物理的
衝撃から十分に保護されることが望まれてきた。特に、
前記結着剤を含有しない放射線画像変換パネルは輝尽性
螢光体層自身の柔軟性がないために、放射線画像変換パ
ネルへの外部からの物理的作用に対して輝尽性螢光体層
に亀裂その池の傷を生じ易いという欠点を有しており、
物理的衝撃からの保護を要する。Furthermore, as each step in the repeating cycle of [radiation image capture → scanning (reading) of stimulable excitation light → erasure of residual energy] → radiographic image capture again is progressed, the stimulable phosphor of the radiation image conversion panel is If scratches such as cracks occur in the layer, the quality of the radiographic image obtained will deteriorate, so it is desirable that the stimulable phosphor layer be sufficiently protected from physical impact from the transport system and other mechanical parts. It's here. especially,
In the radiation image conversion panel that does not contain a binder, since the photostimulable phosphor layer itself does not have flexibility, the photostimulable phosphor layer is resistant to external physical action on the radiation image conversion panel. It has the disadvantage of being prone to cracks and scratches,
Requires protection from physical impact.

従来の放射線画像変換パネルにおいては、前記゛　の問
題の解決を図るため、放射線画像変換パネルの支持体上
の輝尽性螢光体層面を被覆する保護層を設ける方法がと
られてきた。In order to solve the above problem in conventional radiation image conversion panels, a method has been adopted in which a protective layer is provided to cover the surface of the stimulable phosphor layer on the support of the radiation image conversion panel.

この保護層は、たとえば％開昭５９−４２５００号に記
述されているように、保護層用塗布液を輝尽性螢光体層
上に直接塗布して形成されるか、あるいは、必らかしめ
別途形成した保護層を輝尽性螢光体層上に接着する方法
により形成されている。This protective layer may be formed by directly applying a protective layer coating liquid onto the stimulable phosphor layer, as described in % 1985-42500, or it may be formed by caulking. It is formed by adhering a separately formed protective layer onto the stimulable phosphor layer.

しかしながら、一般的に用いられる有機高分子から成る
保護層はめる程度の水分透過性であり、輝尽性螢光体層
が水分を吸収し、その結果放射線画像変換パネルの放射
線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの蓄
積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の画
質の劣化をもたらしていた。However, it is moisture permeable to the extent that a protective layer made of a commonly used organic polymer can be inserted, and the photostimulable phosphor layer absorbs moisture, resulting in a decrease in the radiation sensitivity of the radiation image conversion panel or a photostimulable phosphor layer. The accumulated energy until the excitation light is irradiated is attenuated significantly, resulting in a deterioration in the quality of the obtained radiation image.

また、前述のような保護層を有する従来の放射線画像変
換パネルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬
送時における搬送ローラ等の機械部分との接触により保
護層表面に傷を生じたり、輝尽性螢光体層中に亀裂、折
れを生じ易く、得られる放射線画像の画質が繰り返し使
用回数の増大とともに劣化する欠点を有しており改良が
望まれていた。In addition, in conventional radiation image conversion panels having the above-mentioned protective layer, the surface hardness of the protective layer is low, so contact with mechanical parts such as conveyance rollers during conveyance may cause scratches or shine on the surface of the protective layer. It has the disadvantage that cracks and folds are easily generated in the exhaustible phosphor layer, and the quality of the obtained radiographic image deteriorates as the number of repeated uses increases, and an improvement has been desired.

また、有機高分子から成る保護層を設けた従来の放射線
画像変換パネルは、輝尽性螢光体層と保護層との境界面
において、両者の屈折率の違いによる輝尽励起光及び輝
尽発光の反射及じ今たは散乱を生じ、そのために輝尽発
光強度や鮮鋭性の低下を招いていた。In addition, in conventional radiation image conversion panels provided with a protective layer made of an organic polymer, at the interface between the photostimulable phosphor layer and the protective layer, photostimulable excitation light and photostimulable Reflection and scattering of the emitted light occurs, resulting in a decrease in stimulated luminescence intensity and sharpness.

気相堆積法により設けられた結着剤を含有しない輝尽性
螢光体層から成る放射線画像変換パネルにおいても、そ
の特徴である高感度、高鮮鋭性、高粒状性を長期間にわ
た９維持するためには、反射率が小さくて物理的強度が
大きく、シかもより耐湿性の優れた保護層の形成が望ま
れていた。Even in a radiation image conversion panel consisting of a stimulable phosphor layer that does not contain a binder and is formed by a vapor deposition method, it is possible to maintain its characteristics of high sensitivity, high sharpness, and high granularity over a long period of time9. In order to maintain this, it has been desired to form a protective layer with low reflectance, high physical strength, and even better moisture resistance.

おける前記要求を満たすためになされたものであり、本
発明の目的は、気相堆積法により設けられた輝尽性螢光
体層を外部からの化学的刺激、特に水分に対して十分保
護することができ、気相堆積螢光体層の特徴（高感度、
高鮮鋭性、高粒状性）を長期間にわたり維持し、良好な
状態で使用することが可能である耐久性及び耐用性の高
い放射線画像変換パネルを提供することにある。The object of the present invention is to sufficiently protect a photostimulable phosphor layer provided by a vapor deposition method from external chemical stimuli, especially moisture. characteristics of the vapor-deposited phosphor layer (high sensitivity,
The object of the present invention is to provide a highly durable and long-lasting radiation image conversion panel that maintains high sharpness and high graininess for a long period of time and can be used in good condition.

また本発明の他の目的は、前記輝尽性螢光体層を外部か
らの物理的刺激に対して保護することにより長期及び繰
返し使用に対する耐久性及び耐用性を向上させた放射線
画像変換パネルを提供することにある。Another object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that has improved durability and durability for long-term and repeated use by protecting the stimulable phosphor layer from external physical stimuli. It is about providing.

更に、本発明の他の目的は、前記輝尽性螢光体層と保護
層との光学的マツチングが良く、輝尽励起光及び／また
は輝尽発光の損失の少ない放射線画像変換パネルを提供
することにある。Furthermore, another object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that has good optical matching between the photostimulable phosphor layer and the protective layer and has little loss of stimulated excitation light and/or stimulated luminescence. There is a particular thing.

（発明の構成） 前記した本発明の目的は、支持体と該支持体上に気相堆
積法により設けられた輝尽性螢光体層および該螢光体層
上に設けられた少くとも一層の保護層力蕩質的に構成さ
れている放射線画像変換パｌネルに於て、該保護層の少
くとも一層が気相堆積法によシ得られたものであること
を特徴とする放射線画像変換パネルによって達成される
。(Structure of the Invention) The object of the present invention described above is to provide a support, a photostimulable phosphor layer provided on the support by a vapor deposition method, and at least one layer provided on the phosphor layer. A radiation image conversion panel having a protective layer structure, characterized in that at least one layer of the protective layer is obtained by a vapor deposition method. Achieved by a conversion panel.

次に、本発明の詳細な説明する。Next, the present invention will be explained in detail.

第１図に本発明の放射線画像変咲パネルの態様例の＠面
図を示す。FIG. 1 shows a @ side view of an embodiment of the radiation image changing panel of the present invention.

第１図（１）において１１は支持体、１２は気相堆積法
により設けられた輝尽性螢光体層、】３ａは同じく気相
堆積法により設けられた無機物質の保護層である。In FIG. 1(1), 11 is a support, 12 is a stimulable phosphor layer provided by vapor deposition, and 3a is a protective layer of an inorganic material also provided by vapor deposition.

気相堆積法による輝尽性螢光体層の形成については特願
昭５９−１９６３６５号において提示されているように
蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ　法等、種々の方法で製造
可能である。本発明における気相堆積法により設けられ
た無機物質から成る保護層も上記と同様、蒸着法、スパ
ッタ法、ＣＶＤ法などにより製造可能であるが製造コス
ト等を考慮すると蒸着法またはスパッタ法が好ましい。The stimulable phosphor layer can be formed by vapor deposition using various methods such as vapor deposition, sputtering, and CVD, as disclosed in Japanese Patent Application No. 59-196365. The protective layer made of an inorganic material provided by the vapor deposition method in the present invention can be manufactured by vapor deposition, sputtering, CVD, etc., as described above, but vapor deposition or sputtering is preferable in consideration of manufacturing costs. .

保護層に用いられる無機物質としては、輝尽性螢光体層
の水分吸収による特性の低下を防ぐために耐湿性の優れ
た物質が好ましい。The inorganic substance used in the protective layer is preferably a substance with excellent moisture resistance in order to prevent the properties of the photostimulable phosphor layer from deteriorating due to moisture absorption.

また放射線画像変換パネルは搬送時における搬送ローラ
等の機械部分との接触により保護層表面に傷を、生じ易
く、得られる放射線画像の画質が繰り返し使用回数の増
大とともに劣化する。これを防ぐために保護層の強度は
硬いことが望まれる。Furthermore, the surface of the protective layer of the radiation image conversion panel is likely to be scratched due to contact with mechanical parts such as transport rollers during transport, and the quality of the obtained radiation image deteriorates as the number of repeated uses increases. In order to prevent this, it is desirable that the protective layer has high strength.

また輝尽励起光、輝尽発光のいずれに対しても高い透過
率を有することが好ましい。これは輝尽励起光のエネル
ギーをできるだけ有効に輝尽性螢光体の輝尽発光発生釦
用い、さらにその輝尽発光をできる限り高感度で検出す
るためである。Further, it is preferable that the material has high transmittance for both stimulated excitation light and stimulated luminescence. This is to use the energy of the stimulated excitation light as effectively as possible to the stimulated luminescence generation button of the photostimulable phosphor, and to detect the stimulated luminescence with as high sensitivity as possible.

更に保護層の透過率と共に屈折率の面から輝尽性螢光体
層と保護層との境界面での輝尽励起光及び／−！たは輝
尽発光の反射率を低下させることが好ましい。Furthermore, from the perspective of the refractive index as well as the transmittance of the protective layer, the stimulated excitation light and /-! Alternatively, it is preferable to reduce the reflectance of stimulated luminescence.

今、輝尽性螢光体層の屈折率を０１、保護層の屈折率を
０２とするとｎ、＝ｎ２であれば保護層をつけたことに
よる反射率の変化は見られない。またｎｌ）ｎ２であれ
ば保護層をつけることにより反射率は低下し、しかも保
護層の光学的膜厚を光波長、ｍ＝ｏ、１，２．・・・・
・・）とすることにより最小の反射率を得ることができ
る。Now, if the refractive index of the photostimulable phosphor layer is 01 and the refractive index of the protective layer is 02, then if n=n2, no change in reflectance is observed due to the addition of the protective layer. In addition, if nl) n2, the reflectance decreases by adding a protective layer, and the optical thickness of the protective layer is determined by the wavelength of light, m=o, 1, 2.・・・・・・
), the minimum reflectance can be obtained.

しかしながら光学的膜厚が２ｍ／４λの時は保護層をつ
けない場合と同一である。一方、’ｌ＜０２のときは反
射率は増加するが保護層の光学的膜厚ｍ を□λとすることにより保護層をつけない場曾と同一の
反射率にすることができる。However, when the optical film thickness is 2 m/4λ, it is the same as when no protective layer is provided. On the other hand, when 'l<02, the reflectance increases, but by setting the optical thickness m of the protective layer to □λ, the reflectance can be made the same as that without the protective layer.

従って、前記条件を満足するように保護層の層厚を選択
すれば最も好ましい放射線画像変換パネルを得ることが
できる。尚、一般的には保護層の層厚は０．１〜１００
μｍが好ましい。Therefore, the most preferable radiation image conversion panel can be obtained by selecting the thickness of the protective layer so as to satisfy the above conditions. In addition, the thickness of the protective layer is generally 0.1 to 100
μm is preferred.

第１図（１）は気相堆積法による保護層が一層の場合で
あるが、第１図（２）のように二層構造あるいはそれ以
上の多層保護層構造としてもよい。また第１図（３）の
ごとく気相堆積法による保護層の上に特開昭５９−４２
５００号に提案されている保護層用塗布液を直接塗布し
た多層保護層を形成してもよいし、保護層の材質として
特願昭６０−１８９３４号で提案されている、放射線お
よび／または熱によって硬化された樹脂を含有する保護
層を形成してもよい。また、これら有機高分子から成る
保護層と気相堆積法による保護層はいかなる組合わせで
用いられてもよい。Although FIG. 1(1) shows a case in which the protective layer is formed by vapor deposition in one layer, it may have a two-layer structure or a multilayer structure with more layers as shown in FIG. 1(2). In addition, as shown in Fig. 1 (3), JP-A-59-42
A multilayer protective layer may be formed by directly applying the protective layer coating liquid proposed in Japanese Patent Application No. A protective layer containing a resin cured by the method may be formed. Moreover, the protective layer made of these organic polymers and the protective layer formed by vapor deposition may be used in any combination.

以上述べた保護層において気相堆積法により形成される
保護層に用いられる無機物質としては、フッ化物系及び
酸化物系素材が好ましい素材としてあげられる。As the inorganic substance used in the above-mentioned protective layer formed by a vapor deposition method, fluoride-based and oxide-based materials are preferred.

フッ化物系素材としてはＣａＦ、、　０ＭｇＦ２　＋　
ＣｅＦ２＋ＢａＦ、　、　ＳｒＦ２　　酸化物素材とし
ては、５ｔ０３１Ｓｉｎ２　、Ａ１２０ｇ　　、ＴｉＯ
２，Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２，ＭｇＯ。Fluoride-based materials include CaF, 0MgF2 +
CeF2+BaF, , SrF2 oxide materials include 5t031Sin2, A120g, TiO
2, Y2O3, ZrO2, MgO.

Ｇｄ、０３　、５ｃ２０３　、　Ｈ［）２．　ＣｅＯ２
などである。Gd, 03, 5c203, H[)2. CeO2
etc.

また気相堆積法による保護層と組み合わせて用いられる
有機高分子から成る保護層（例えば第１図（３）の１４
）は特願昭５９−４２５００号に開示されているように
透明性の高い高分子物質を適当な溶媒に溶解して調整、
した溶液を保護層を設置すべき面に塗布し、乾燥させて
保護層を形成する方法や、同じく特開昭５９−４２５０
０号に開示されているように透明な高分子物質より成る
薄膜の片面に適当な接着剤を付与し、保護層を設置すべ
き面に接着する方法がある。In addition, a protective layer made of an organic polymer used in combination with a protective layer formed by a vapor deposition method (for example, 14 in Figure 1 (3))
) is prepared by dissolving a highly transparent polymeric substance in an appropriate solvent as disclosed in Japanese Patent Application No. 59-42500,
A method of forming a protective layer by applying a solution prepared on the surface on which a protective layer is to be installed and drying it is also disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-4250.
As disclosed in No. 0, there is a method in which a suitable adhesive is applied to one side of a thin film made of a transparent polymeric substance, and the protective layer is adhered to the surface on which the protective layer is to be provided.

前記の方法において用いられる保護層用材料としては、
たとえば酢酸セルロース、ニトロセルロース、エチルセ
ルロースなどのセルロース誘導体、あるいはポリメチル
メタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、ポリア
クリロニトリル、ポリメチルアリルアルコール、ポリメ
チルビニルケトン、セルロースジアセテート、セルロー
ストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリグリシン、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアミン、ポ
リエチンンテレ７タレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド（ナイロン）、
ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、
ポリプロピレン、四７７　化エチレンー六フフ化プロピ
レン共重合体、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリス
チレンなどがあげられる。The protective layer materials used in the above method include:
For example, cellulose derivatives such as cellulose acetate, nitrocellulose, and ethylcellulose, or polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polymethyl allyl alcohol, polymethyl vinyl ketone, cellulose diacetate, cellulose triacetate, Polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyglycine, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylamine, polyethine ntele 7-thaleate, polyethylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, polyamide (nylon),
polytetrafluoroethylene, polytrifluoroethylene chloride,
Examples include polypropylene, 477-ethylene-hexafluorinated propylene copolymer, polyvinyl isobutyl ether, and polystyrene.

また、特願昭６０−１８９３４号に述べられているよう
に放射線硬化型樹脂または熱硬化型樹脂の少なくともい
ずれか一方を含有する塗布液を保護層を設置すべき面に
塗布し、特願昭６０−１８９３４号に示したような装置
を用いて紫外線あるいは電子線などの放射線の照射及び
／または加熱を施して前記塗布液を硬化させる方法があ
る。Furthermore, as described in Japanese Patent Application No. 18934/1984, a coating solution containing at least one of radiation-curable resin and thermosetting resin is applied to the surface on which the protective layer is to be installed. There is a method of curing the coating liquid by applying radiation such as ultraviolet rays or electron beams and/or heating using an apparatus as shown in Japanese Patent No. 60-18934.

前記放射線硬化型樹脂としては、不飽和二重結合を有す
る化合物またはこれを含む組成物であればよく、このよ
うな化合物は、好ましくは不飽和二重結合を２個以上有
するプレポリマー及び／またはオリゴマーであり、更に
、これらに不飽和二重結合を有する単量体（ビニルモノ
マー）を反応性希釈剤として含有させることができる。The radiation-curable resin may be a compound having an unsaturated double bond or a composition containing the same, and such a compound is preferably a prepolymer and/or a composition having two or more unsaturated double bonds. These are oligomers, and can further contain a monomer (vinyl monomer) having an unsaturated double bond as a reactive diluent.

次に、本発明の気相堆積法による保護層の形成に用いら
れる装置及び方法を述べる。Next, the apparatus and method used to form the protective layer by the vapor deposition method of the present invention will be described.

第２図は、装置の一例であり、無機物質の保護層を電子
ビーム蒸着法により形成する場合であり、しかも支持体
上に輝尽性螢光体層を形成したのち、引続き無機物質の
保護層を連続形成する場合を表わしている。Figure 2 shows an example of an apparatus in which a protective layer of an inorganic substance is formed by electron beam evaporation, and after forming a stimulable phosphor layer on a support, the protective layer of an inorganic substance is This shows the case where layers are formed continuously.

同図において２１　Ｆｉペルジャー（真空槽）、２４ハ
輝尽性螢光体を蒸着すべき支持体、部は蒸発させる輝尽
性螢光体（蒸発原資２９）及び保護層を形成する無機物
質（蒸発原資３０）を入れる坩堝、２６は電子ビームガ
ン（ＥＢガン）、２７．２８はＥＢガンより放射される
電子ビームである。In the same figure, 21 Fi Pelger (vacuum chamber), 24 C a support on which the photostimulable phosphor is to be deposited, and the stimulable phosphor to be evaporated (evaporation source 29) and the inorganic material (29) forming the protective layer. 26 is an electron beam gun (EB gun), and 27.28 is an electron beam emitted from the EB gun.

３４はメインパルプ、３３は補助パルプ、３５はリーク
パルプであって排気装置（図示せず）と連動してペルジ
ャー２１内の所定真空度の現出、その保持、調整に用い
られる。34 is a main pulp, 33 is an auxiliary pulp, and 35 is a leak pulp, which are used to create, maintain, and adjust a predetermined degree of vacuum in the Pel Jar 21 in conjunction with an exhaust device (not shown).

まず、蒸発源資四、３０を坩堝に仕込んだ後、支持体２
４を坩堝に対向させて設置する。支持体２４は加熱ヒー
ター乙によって加熱されても良い。First, after charging 4.30 evaporation source resources into a crucible, the support 2
4 is placed facing the crucible. The support body 24 may be heated by a heating heater B.

次いでメインパルプ３４等を操作してペルジャー２１の
内部の気体を排除しＩｆｆ’〜１０’−’Ｔｏｒｒの真
空度にもたらす。同この際アルゴン等の不活性ガスを混
入してもよい。Next, the main pulp 34 and the like are operated to remove the gas inside the Pel jar 21 and bring about a vacuum degree of Iff' to 10'-'Torr. At this time, an inert gas such as argon may be mixed.

次いでＩｆｌＢガンがから電子ビームｎを蒸発源質２９
局部に入射させ輝尽性螢光体を少量宛蒸発させ、膜厚モ
ニタ四によって蒸着速度、蒸着厚みを監視しなから輝尽
性螢光体層の蒸着を進め、所定の厚みになったら蒸着を
停止する。The IflB gun then directs an electron beam from the evaporation source material 29
A small amount of the stimulable phosphor is evaporated by directing the stimulable phosphor to a local area, and the stimulable phosphor layer is deposited while monitoring the evaporation speed and thickness using the film thickness monitor 4. When the stimulable phosphor layer reaches a predetermined thickness, the stimulable phosphor layer is deposited. stop.

尚、輝尽性螢光体層の形成は、特願昭６０−１８８２３
７号で本発明者等が提案している方法に準じて形成すれ
ばよい。The formation of the photostimulable phosphor layer is described in Japanese Patent Application No. 18823/1986.
It may be formed according to the method proposed by the present inventors in No. 7.

次にＥＢ双ガン６より放射される電子ビームをｎから２
８に変えて蒸発原資３０を蒸発させ、保護層を形成する
。この際、アルゴン等の不活性ガスあるいは酸素などを
混入してもよい０膜厚モニター２２によって保護層の蒸
着速度、蒸着厚みを監視しながら蒸着を進め、所定の厚
みになったら蒸着を停止する。Next, the electron beam emitted from the EB double gun 6 is
8 to evaporate the evaporation source 30 to form a protective layer. At this time, the deposition proceeds while monitoring the deposition rate and deposition thickness of the protective layer using a film thickness monitor 22, which may contain an inert gas such as argon or oxygen, and stops the deposition when a predetermined thickness is reached. .

このようにして製造された放射線画像変換パネルは製造
段階で水分がパネルにとり込まれることがないので初期
性能が高いと同様に長期間にわたって性能が維持される
。The radiation image conversion panel manufactured in this manner does not have moisture incorporated into the panel during the manufacturing stage, so that the initial performance is high and the performance is maintained over a long period of time.

また第３図に示すように、あらかじめ支持体に気相堆積
法によシ輝尽性螢光体層を設け、これを同図の冴の位置
に配置し、保護層を形成するための蒸発原資Ｉを坩堝に
入れペルジャー内を排気したのち前記と同様にして保護
層を形成してもよい。In addition, as shown in Figure 3, a photostimulable phosphor layer was previously provided on the support by vapor deposition, and this was placed at the position shown in the figure, followed by evaporation to form a protective layer. The protective layer may be formed in the same manner as described above after putting the raw material I in a crucible and evacuating the inside of the Pelger.

岡、排気の際、輝尽性螢光体層を加熱するのが好ましい
。It is preferable to heat the stimulable phosphor layer during evacuation.

このようにして製造された放射線画像変換パネルも輝尽
性螢光体層と保護層を同一ペルジャー内で連続して形成
した場合と同様、水分の取込みを防ぐことができる。The radiation image conversion panel manufactured in this manner can also prevent moisture from being taken in, as in the case where the stimulable phosphor layer and the protective layer are successively formed in the same Pelger.

輝尽性螢光体層及び保護層の形成方法はそれぞれ蒸着、
スパッタリングなど種々の気相堆積法で形成することが
可能なので、それぞれの層形成に最適な気相堆積法を選
択してやることにより優れた放射線画像変換パネルを提
供することが可能である。The methods of forming the stimulable phosphor layer and the protective layer are vapor deposition and
Since they can be formed by various vapor deposition methods such as sputtering, it is possible to provide an excellent radiation image conversion panel by selecting the vapor deposition method most suitable for forming each layer.

本発明の放射組画像変換パネルにおいて輝尽性螢光体と
は、最初の光もしくは高エネルギー放射線が照射きれた
後に、先約、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺
激（輝尽励起）により、最初の光もしくは高エネルギー
放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す螢光体を言う
が、実用的な而から好ましくは５００ｎｍ以上の輝尽励
起光によって輝尽発光を示す螢光体である。本発明の放
射線画像変換パネルに用いられる輝尽性螢光体としては
、利えば特開昭４８．−８０４８７号に記載されている
ｌ３ａＳＯ，：　Ａｘ　（但しＡはＤＹ　、　Ｔ’ｂ及
びＴｍのうち少なくとも１種であり、Ｘは０．００１≦
ｘ（１モル％である。）で表わされる螢光体、特開昭４
８−８０４８８号記載のＭｇ５Ｏ，：　Ａｘ　（但しＡ
　ｆ３　Ｈｏ或いはＤｙのうちいずれかであｐ、０．０
０１≦Ｘ≦１モル％である）で表わされる螢光体、特開
昭４８−８０４８９号に記載されているＳｒＳＯ４：　
Ａｘ　（但しＡばＤＹ。In the radiation set image conversion panel of the present invention, the stimulable phosphor refers to a stimulable phosphor that is stimulated by a priori, thermal, mechanical, chemical, electrical, etc. A phosphor that exhibits stimulated luminescence corresponding to the amount of initial light or high-energy radiation irradiation due to (excitation), but for practical reasons it preferably exhibits stimulated luminescence by stimulated excitation light of 500 nm or more. It is a fluorescent material. The photostimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention is preferably disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 48. l3aSO, described in No.-80487: Ax (where A is at least one of DY, T'b and Tm, and X is 0.001≦
Fluorescent substance represented by x (1 mol%), JP-A-4
Mg5O described in No. 8-80488: Ax (However, A
p, 0.0 in either f3 Ho or Dy
01≦X≦1 mol %), SrSO4 described in JP-A-48-80489:
Ax (However, A is DY.

ＴＩ）及びＴｍのうち少なくとも１種であり、Ｘは０．
００１≦Ｘく１モル％である。）で表わされている螢光
体、特開昭５１−２９８８９号に記載されているＮａ２
５ｏ４．　ＣａＳＯ４及びＢ　ａ　Ｓ　Ｏ４等にＭｎ、
Ｄｙ及びＴｂのうち少なくとも１種を添加した螢光体、
特開昭５２−３０４８７号に記載されているＢｅＯ、Ｌ
ｉＦ　。TI) and Tm, and X is 0.
001≦X and 1 mol%. ), Na2 described in JP-A No. 51-29889
5o4. Mn, CaSO4, B a SO4, etc.
A phosphor containing at least one of Dy and Tb;
BeO, L described in JP-A No. 52-30487
iF.

Ｍｇ５Ｏ，及びＣａＦ、、等の螢光体、特開昭５３−３
９２７７号に記載されているＬｉ２Ｂ４Ｏ，：　Ｃｕ　
、　　Ａｇ等の螢光体、特開昭５４−４７８８３号に記
載きれているＬｉ　２０・（Ｂ２０２）ｘ　：　Ｃｕ　
（但しＸは２くＸ≦３）、及びＬｉ２Ｏ−（Ｂ２０□）
ｘ　：　Ｃｕ　、　Ａｇ　（但しＸば２　（ｘ≦３）等
の螢光体、米国特許３，８５９，５２７号に記載されて
いるＳｒＳ　：　Ｃｅ　、　Ｓｍ　、　ＳｒＳ　：　Ｅ
ｕ　、　Ｓｍ　、　Ｌａ２Ｏ２Ｓ：　Ｅｕ　、　Ｓｍ及
び（Ｚｎ、　Ｃｄ　）Ｓ　：Ｍｎ、　Ｘ（但しＸはハロ
ゲン）で表わされる螢光体が挙げられる。Fluorescent materials such as Mg5O, CaF, etc., JP-A-53-3
Li2B4O, described in No. 9277: Cu
, Ag, etc., Li20.(B202)x : Cu, which is fully described in JP-A No. 54-47883.
(However, X is 2×X≦3), and Li2O−(B20□)
x: Cu, Ag (however, Xba2 (x≦3), etc.), SrS: Ce, Sm, SrS: E described in US Pat.
Examples include phosphors represented by u, Sm, La2O2S: Eu, Sm, and (Zn, Cd)S: Mn, X (where X is a halogen).

また、特開昭５５−１２１４２号に記載されているＺｎ
Ｓ：　Ｃｕ　、　Ｐｂ螢光体、一般式がＢａＯ−ｘＡｌ
２Ｏ３：　Ｐｕ（但し０．８≦Ｘ≦１０　）で表わされ
るアルミン酸バリウム螢光体、及び一般式がＭ’Ｏ−ｘ
ｓｉ０２　：　Ａ（但しＭｌはＭｇ、　Ｃａ、　Ｓｒ、
　Ｚｎ、　Ｃｄ又はＢａでありＡはＣｅ　、　Ｔｂ　、
　Ｅｕ　、　Ｔｍ、　Ｐｂ　、　ＴＩ、　Ｂｉ及びＭｎ
のうち少なくとも１種であり、Ｘは０．５≦ｘ　（２，
５である。）で表わされるアルカリ土類金属珪酸塩系螢
光体が°挙げられる。また、一般式が（Ｂａ、−ｘ　−
ｙＭｇｘＣａｙ　）　ＦＸ　：　ｅＥｕ”（但しＸはＢ
ｒ及びＣＩの中の少なくとも１つであり、ｘ、ｙ及びｅ
はそれぞれ０　（ｘ　＋　ｙ≦０，６、ｘｙ〆０及び１
０′≦ｅ≦５　Ｘ　１０（なる条件を満たす数である。In addition, Zn described in JP-A No. 55-12142
S: Cu, Pb phosphor, general formula is BaO-xAl
2O3: Barium aluminate phosphor represented by Pu (0.8≦X≦10) and whose general formula is M'O-x
si02: A (However, Ml is Mg, Ca, Sr,
Zn, Cd or Ba, and A is Ce, Tb,
Eu, Tm, Pb, TI, Bi and Mn
at least one of the following, and X is 0.5≦x (2,
It is 5. Examples include alkaline earth metal silicate phosphors represented by: Also, the general formula is (Ba, -x -
yMgxCay) FX: eEu” (X is B
at least one of r and CI, x, y and e
are respectively 0 (x + y≦0,6, xy〆0 and 1
0'≦e≦5×10 (This is a number that satisfies the condition.

）で表わされるアルカリ土類弗化ハロゲン化物螢光体、
特開昭５５−１２１４４号に記載されている一般式が ＬｎＯＸ　：　ｘＡ （但しＬｎはＬａ、Ｙ、Ｃｄ及びＬｕの少なくとも１つ
を、ＸはＣ１及び／又はＢ「を、ＡはＣｅ及び／又はＴ
ｂを、ＸはＯ（ｘ　（０，１を満足する数を表わす。）
で表わされる螢光体、特開昭５５−１２１４５号に記載
されている一般式が （Ｂａｌ　−ｘＭ’ｘ　）　ＦＸ　：　ｙＡ（但しＭｌ
は、Ｍｇ、　Ｃａ　、　Ｓｒ　、　Ｚｎ及びＣｄのうち
の少なくとも１つを、Ｘは（４，８ｒ及び■のうちの少
なくとも１つを、Ａは１ｉｅｕ、　Ｔｂ、　Ｃｅ、　Ｔ
ｍ。) an alkaline earth fluorohalide phosphor,
The general formula described in JP-A-55-12144 is LnOX:xA (where Ln represents at least one of La, Y, Cd and Lu, X represents C1 and/or B', and A represents Ce and/or or T
b, X is O(x (represents a number that satisfies 0, 1)
The general formula of the phosphor represented by JP-A-55-12145 is (Bal-xM'x) FX: yA (where Ml
is at least one of Mg, Ca, Sr, Zn and Cd, X is at least one of (4,8r and ■), A is 1ieu, Tb, Ce, T
m.

Ｄｙ、　Ｐｒ　　、　ＩＩｏ、　Ｎｄ、　Ｙｂ及びＥｒ
のうちの少なくとも１つを、Ｘ及びｙはＯ≦Ｘ≦０，６
及びＯ≦ｙ≦０．２なる条件を満たす数を表わす。）で
表わされる螢光体、特開昭５５−８４３８９号に記載さ
れている一般式がＢａＦＸ　：　ｘＣｅ　、　ｙＡ　（
但し、ＸはＣ１。Dy, Pr, IIo, Nd, Yb and Er
at least one of the following, X and y are O≦X≦0,6
and represents a number that satisfies the conditions O≦y≦0.2. ), the general formula described in JP-A-55-84389 is BaFX: xCe, yA (
However, X is C1.

Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも１つ、ＡはＩｎ　、　Ｔ
Ｉ　。at least one of Br and I, A is In, T
I.

Ｇｄ　、　Ｓｍ及びＺｒのうちわ少なくとも１つであり
、Ｘ及びｙはそれぞれＯ（ｘ≦２　Ｘ　１０−’及び０
＜ｙ≦５　Ｘ　１０−２である。）で表わされる螢光体
、特開昭５５−１６００７８号に記載されている一般式
がＭ’ＦＸ　　　−ｘＡ　　：　　ｙＴＪｎ（但しＭｌ
はＭｇ、　Ｃａ、　Ｂａ、　Ｓｒ、　Ｚｎ及びＣｄのう
ちの少なくとも１種、ＡはＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ。at least one of Gd, Sm and Zr, and X and y are respectively O(x≦2X10-' and 0
<y≦5×10−2. ), the general formula described in JP-A-55-160078 is M'FX -xA : yTJn (however, Ml
is at least one of Mg, Ca, Ba, Sr, Zn, and Cd, and A is BeO, MgO, and CaO.

ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３，Ｌａ
２ｏｌ　’ｎ２０３゜５ｉ０２．　ＴｉＯ２，、ＺｒＯ
２，Ｇｅｍ２．　ＳｎＯ□、　Ｎｂ２Ｏ５，Ｔａ２Ｏ。SrO, BaO, ZnO, Al2O3, Y2O3, La
2ol'n203゜5i02. TiO2,, ZrO
2, Gem2. SnO□, Nb2O5, Ta2O.

及びＴｈ０２のうちの少なくとも１（、ｉ、ＬｎはＥｕ
　。and Th02 (, i, Ln is Eu
.

Ｔｂ、　Ｃｅ、　Ｔｍ、　Ｄｙ、　Ｐｒ、　Ｈｏ、　Ｎ
ｄ、　Ｙｂ、　Ｂｒ。Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, N
d, Yb, Br.

Ｓｍ及びＱｄのうちの少なくとも１種でろｐ、ｘｈＣ１
，Ｂｒ及び１のうちの少なくとも１種であり、Ｘ及びｙ
はそれぞれ５×１０″≦Ｘ≦０．５及び０＜ｙ・≦０．
２なる条件を満たす数である。）で表わされる希土類元
素付活２価金属フルオロハライド螢光体、一般式がＺｎ
Ｓ：Ａ、ＣｄＳ　：Ａ、　　（Ｚｎ、　　Ｃｄ　）Ｓ　
：Ａ’。At least one of Sm and Qd, xhC1
, Br and 1, and X and y
are 5×10″≦X≦0.5 and 0<y・≦0., respectively.
This is a number that satisfies the condition of 2. ) rare earth element-activated divalent metal fluorohalide phosphor, whose general formula is Zn
S:A, CdS:A, (Zn, Cd)S
:A'.

ＺｎＳ：Ａ、Ｘ及びＣｄＳ：Ａ、Ｘ（但しＡはＣｕ　。ZnS: A, X and CdS: A, X (However, A is Cu.

Ａｇ、Ａｕ、又はＭｎでめジ、Ｘは）＼ログンでろる。Ag, Au, or Mn is meji, and X is)\logon.

）で表わされる螢光体、特開昭５７−１４８２８５号に
記載されている下記いずれかの一般式 ％式％： ： （式中、Ｍ及びＮはそれぞれＭｇ、　Ｃａ　、　Ｓｒ。), any of the following general formulas described in JP-A No. 57-148285: (where M and N are Mg, Ca, and Sr, respectively).

Ｂａ、Ｚｎ及びＣｄのうち少なくとも１種、ＸはＦ。At least one of Ba, Zn and Cd, and X is F.

Ｃ１，Ｂｒ及びＩのうち少なくとも１ｓ、ＡｆｉＥｕ。At least 1s of C1, Br and I, AfiEu.

Ｔｂ、　Ｃｅ、　Ｔｍ、　Ｄｙ、　　Ｐｒ、　Ｈｏ、　
Ｎｄ、　Ｙｂ、　Ｅｒ。Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho,
Nd, Yb, Er.

Ｓｂ　、　ＴＩ　、　Ｍｎ及び８口のうち少なくとも１
種を表わす。また、Ｘ及びｙはＯくＸ≦６．０≦ｙ≦１
なる条件を満たす数である。）で表わされる螢光体、下
記いずれかの一般式 ％式％： （式中、Ｒｅ　／４　Ｌａ　、　Ｇｄ　、　Ｙ　、　　
Ｔ、ｕのうち少なくとも１種、Ａはアルカリ土類金属、
Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａのうち少なくとも１種、Ｘ及びＸ′は
Ｆｓ　Ｃｌｌ　、　Ｂｒのうち少なくとも１種を表わす
。また、Ｘ及びｙは、Ｉ　Ｘ１０−’（ｘ（３Ｘｌ０−
’、　Ｉ　Ｘｌ０−’（ｙ（Ｉ　Ｘ１ｆｆ’なる条件を
満たす数であり、ｎ　／　ｒｎはＩ　Ｘ　１Ｏ−３（ｎ
　／　ｍ　（７Ｘ　１０−’なる条件を満たす。）で表
わ嘔れる螢光体、及び下記一般式 ％式％ （但し、ＭｌはＬｉ、Ｎａ、に、Ｒｂ及びＣｓから選ば
れる少なくとも１種のアルカリ金属であり　ＭｌはＢｅ
、　Ｍｇ、　Ｃａ、　Ｓｒ、　Ｂａ、　Ｚｎ、　Ｃｄ　
、　Ｃｕ及びＮ１から選ばれる少なくとも１種の二価金
属である　ＭｌはＳｃ、　Ｙ、　Ｌａ　、　Ｃｅ、　Ｐ
ｒ　、　Ｎｄ　、　Ｐｍ。Sb, TI, Mn and at least one of the eight
Represents a species. Also, X and y are 0, X≦6.0≦y≦1
This is a number that satisfies the condition. ), any of the following general formula % formula %: (wherein Re /4 La , Gd , Y ,
At least one of T and u, A is an alkaline earth metal,
At least one of Ba, Sr, and Ca, and X and X' represent at least one of Fs Cll and Br. Moreover, X and y are I X10-'(x(3X10-
', I Xl0-'(y(I X1ff'), and n/rn is I
/ m (satisfying the condition of 7X 10-'), and the following general formula % (where Ml is Li, Na, at least one selected from Rb and Cs). Ml is an alkali metal and Be
, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd
, Cu and N1 Ml is at least one divalent metal selected from Sc, Y, La, Ce, P
r, Nd, Pm.

Ｓｍ、　Ｈｕ、　Ｇｄ、　Ｔｂ、　Ｄｙ　、　ｌ−１ｏ
、　Ｅｒ、　Ｔｍ、　Ｙｂ。Sm, Hu, Gd, Tb, Dy, l-1o
, Er, Tm, Yb.

Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ及びＩｎから選ばれる少なくとも１種
の三価金属である。ｘ、ｘ’及びＸ“はＦ、Ｃ１゜Ｂｒ
及びＴから選ばれる少なくとも１種の７・ロゲンである
。ＡはＥｕ　、　　Ｔｂ　、　Ｃｅ　、　Ｔｍ、　Ｄｙ
　、　Ｐｒ。At least one trivalent metal selected from Lu, Al, Ga, and In. x, x' and X" are F, C1°Br
and at least one type of 7-rogen selected from T. A is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy
, Pr.

１−Ｔｏ、　　Ｎｄ、　　Ｙｂ、　　Ｅｒ　　、　　Ｇ
ｄ、　　Ｌｕ、　　Ｓｍ、　　Ｙ、Ｔｌ。1-To, Nd, Yb, Er, G
d, Lu, Sm, Y, Tl.

Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ及びＭｇから選ばれる少なくとも１種
の金属である。At least one metal selected from Na, Ag, Cu, and Mg.

またａは、０≦ａ　（０，５の範囲の数値であり、ｂは
０≦ｂ　＜　０．５の範囲の数値であり、Ｃは０〈Ｃ５
０，２の範囲の数値である。）で表わされるアルカリハ
ライド螢光体等が挙げられる。特にアルカリハライド螢
光体は、蒸着、スパッタリング等の方法で輝尽性螢光体
層を形成させやすく好ましい。In addition, a is a numerical value in the range of 0≦a (0,5, b is a numerical value in the range of 0≦b<0.5, and C is a numerical value in the range of 0≦b<0.5.
It is a numerical value in the range of 0,2. ) and the like can be mentioned. In particular, alkali halide phosphors are preferred because they facilitate the formation of a stimulable phosphor layer by methods such as vapor deposition and sputtering.

しかし、本発明の放射線画像変換パネルに用いられる輝
尽性螢光体は、前述の螢光体に限られるものではなく、
放射線を照射した後、輝尽励起光を照射した場合に輝尽
発光を示す螢光体であればいかなる螢光体であってもよ
い。However, the photostimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention is not limited to the above-mentioned phosphor,
Any phosphor may be used as long as it exhibits stimulated luminescence when irradiated with radiation and then irradiated with stimulated excitation light.

本発明の放射線画像変換パネルは前記の輝尽性螢光体の
少なくとも一４類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽性
螢光体層から成る輝尽性螢光体層群であってもよい。ま
た、それぞれの輝尽性螢光体層に含まれる輝尽性螢光体
は同一であってもよいが異っていてもよい。The radiation image conversion panel of the present invention is a photostimulable phosphor layer group comprising one or more photostimulable phosphor layers containing at least 14 types of the above-mentioned photostimulable phosphors. Good too. Furthermore, the stimulable phosphors contained in each stimulable phosphor layer may be the same or different.

本発明の放射線画像変換パネルの輝尽性螢光体層の層厚
は放射線画像変換パネルの放射線に対する感度、輝尽性
螢光体の種類等によって異なるが、加μｒｒＬ〜１００
０μｍの範囲から選ばれるのが好ましく、５０μｒｒＬ
〜８００μｍの範囲から選ばれるのがより好ましい。The layer thickness of the photostimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel of the present invention varies depending on the radiation sensitivity of the radiation image conversion panel, the type of photostimulable phosphor, etc.
Preferably selected from the range of 0μm, 50μrrL
More preferably, it is selected from the range of ~800 μm.

本発明の放射線画像変換パネルにおいては、輝尽性螢光
体層に自己支持能がない場合には該輝尽性螢光体層を支
域するための支持体が設けられる。In the radiation image conversion panel of the present invention, if the photostimulable phosphor layer does not have self-supporting ability, a support is provided to support the photostimulable phosphor layer.

前記支持体としては各種高分子材料、ガラス、金属等が
用いられ、セルロースアセテートフィルム、ポリエステ
ルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテー
トフィルム、ポリカーボネイトフィルム等のプラスチッ
クフィルム、アルミニウムシート、鉄シート、銅シート
等の金属シート或は該金属酸化物の被覆層を有する金属
シートが好ましい。Various polymer materials, glass, metals, etc. are used as the support, and include plastic films such as cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate film, polyamide film, polyimide film, triacetate film, and polycarbonate film, aluminum sheet, and iron sheet. , a metal sheet such as a copper sheet, or a metal sheet having a coating layer of the metal oxide.

これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性螢
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は第４図（ａ）に示すような
凹凸面４１としてもよいし、（１））に示すように隔絶
されたタイル状板４３を敷きつめた構造でもよい。第４
図（ａ）の場合には輝尽性螢光体層が第４図（Ｃ）の断
面図に示すように凹凸面４】によって細分化される゛の
で画像の鮮鋭性が一段と向上する。The surface of these supports may be smooth or matte for the purpose of improving adhesion to the stimulable phosphor layer. Further, the surface of the support body may have an uneven surface 41 as shown in FIG. 4(a), or may have a structure in which isolated tile-like plates 43 are laid out as shown in (1)). Fourth
In the case of FIG. 4(a), the stimulable phosphor layer is subdivided by the uneven surface 4 as shown in the cross-sectional view of FIG. 4(c), so that the sharpness of the image is further improved.

第４図（ｂ）の場合には輝尽性螢光体層が支持体のタイ
ル状板４３の輪郭を維持しながら堆積するので、結果的
には輝尽性螢光体層は第４図（ｄ）の断面図に示すよう
に亀裂４６によって隔絶された輝尽性螢光体の柱状ブロ
ック４５から成るため、画像の鮮鋭性が一段と向上する
。In the case of FIG. 4(b), the photostimulable phosphor layer is deposited while maintaining the contour of the tile-like plate 43 of the support, so that as a result, the photostimulable phosphor layer is deposited as shown in FIG. As shown in the cross-sectional view of (d), the image is composed of columnar blocks 45 of photostimulable phosphor separated by cracks 46, so that the sharpness of the image is further improved.

さらにこれら支持体は、輝尽性螢光体層との接着性を向
上させる目的で輝尽性螢光体層が設けられる面に下引層
を設けてもよい。また、これら支持体の層厚は用いる支
持体の材質等によりて異なるが、一般的には関μｍ〜２
０００μｍであり、取扱い上の点からさらに好ましくは
８０μｍ　”　ｔｏｏｏ　、ａｍである。Furthermore, these supports may be provided with a subbing layer on the surface on which the photostimulable phosphor layer is provided for the purpose of improving adhesion to the photostimulable phosphor layer. In addition, the layer thickness of these supports varies depending on the material of the support used, but is generally about 2 μm to 2 μm.
000 μm, more preferably 80 μm from the viewpoint of handling.

本発明の放射線画像変換パネルは第５図に概略的に示さ
れる放射線画像変換方法に用いられた場合、優れた鮮鋭
性、粒状性および感度を与える。The radiographic image conversion panel of the present invention provides excellent sharpness, graininess and sensitivity when used in the radiographic image conversion method shown schematically in FIG.

すなわち、第５図において、５１は放射線発生装置、５
２は被写体、５３は本発明の放射線画像変換パネル、５
４は輝尽励起光源、５５は該放射線画像変換パネルより
放射された輝尽発光を検出する光電変換装置、５６は５
５で検出された信号を画像として再生する装置、５７は
再生された画像を表示する装置、５８は輝尽励起光と輝
尽発光とを分離し、輝尽発光のみを透過させるフィルタ
ーである。尚５５以降は５３からの光情報を何らかの形
で画像として再生できるものであればよく、上記に限定
されるものではない。That is, in FIG. 5, 51 is a radiation generating device;
2 is a subject, 53 is a radiation image conversion panel of the present invention, 5
4 is a stimulated excitation light source, 55 is a photoelectric conversion device that detects stimulated luminescence emitted from the radiation image conversion panel, and 56 is 5
5 is a device for reproducing the detected signal as an image; 57 is a device for displaying the reproduced image; and 58 is a filter that separates stimulated excitation light and stimulated luminescence and allows only stimulated luminescence to pass through. It should be noted that the elements after 55 are not limited to the above, as long as they can reproduce the optical information from 53 as an image in some form.

第５図に示されるように、放射線発生装置５１からの放
射線は被写体５２を通して本発明の放射線画像変換パネ
ル５３に入射する。この入射した放射線は放射線画像変
換パネル５３の輝尽性螢光体層に吸収でれ、そのエネル
ギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形成される。As shown in FIG. 5, radiation from a radiation generating device 51 enters a radiation image conversion panel 53 of the present invention through a subject 52. This incident radiation is absorbed by the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel 53, its energy is accumulated, and an accumulated radiation image is formed.

次にこの蓄積像を輝尽励起光源５４からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光として放出せしめる。放射線画像変換
パネル５３ハ、輝尽性螢光体層中に結着剤が含まれてお
らず輝尽性螢光体層の輝尽励起光及び輝尽発光の指向性
が高いため前記輝尽励起光による走査の際に、輝尽励起
光が輝尽性螢光体層中で拡散するのが抑制される。Next, this accumulated image is excited with stimulated excitation light from the stimulated excitation light source 54 to emit stimulated luminescence. The radiation image conversion panel 53c does not contain a binder in the photostimulable phosphor layer, and the stimulable phosphor layer has high directivity of stimulated excitation light and stimulated luminescence. During scanning with excitation light, diffusion of the photostimulable excitation light in the stimulable phosphor layer is suppressed.

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置５５で光電変換し、画像再生装置５６
によって画像として再生し、画像表示装置５７によって
表示することにより、被写体の放射線透過像を観察する
ことができる。Since the strength of the emitted stimulated luminescence is proportional to the amount of accumulated radiation energy, this optical signal is photoelectrically converted by a photoelectric conversion device 55 such as a photomultiplier tube, and an image reproduction device 56
By reproducing the image as an image and displaying it on the image display device 57, a radiographic image of the subject can be observed.

〔実施例〕〔Example〕

次に実施例によって本発明を説明する。 Next, the present invention will be explained by examples.

実施例１ 支持体として５００μｍ厚の化学強化ガラスを第２図に
示した蒸着器中に設置した。次いで水冷した坩堝の四に
アルカリ・・ライド輝尽性螢光体（ＲｂＢｒ　；０．０
００６　Ｔｌ　）を入れ、３０には保護層形成物質（Ｍ
ｇＦ２）を入れ、続いて蒸着器を排気して２　Ｘ　１Ｏ
−６Ｔｏｒｒの真空度とした。次にＩＢＢガンに電力を
供給して、まず、坩堝の２９に電子ビームを照射し、輝
尽性螢光体を蒸発させ層厚が３００μｍの厚さになるま
で堆積させ、輝尽性螢光体層を形成した。続いて、電子
ビームを坩堝め加に照射し保護層形成物質を蒸発させ、
層厚が４．１μｍになるまで堆積さ騒てＭｇＦ、保護層
を形成し、　本発明の放射線画像変換パネルＡを得た。Example 1 A chemically strengthened glass having a thickness of 500 μm was placed as a support in the vapor deposition apparatus shown in FIG. Next, in a water-cooled crucible, an alkali-ride stimulable phosphor (RbBr; 0.0
006 Tl), and 30 contains a protective layer forming substance (M
gF2) and then evacuated the evaporator to 2 x 1O
The degree of vacuum was -6 Torr. Next, power is supplied to the IBB gun, and the crucible 29 is irradiated with an electron beam to evaporate the photostimulable phosphor and deposit it to a layer thickness of 300 μm. Formed a body layer. Next, the crucible is irradiated with an electron beam to evaporate the protective layer forming material.
A protective layer of MgF was deposited until the layer thickness reached 4.1 μm, and a radiation image conversion panel A of the present invention was obtained.

実施例２ ５００μｍ厚の化学強化ガラス支持体に、あらかじめア
ルカリハライド輝尽性螢光体（ＲｂＢｒ：０．０００６
Ｔｌ）を蒸発原資として３００μｍＥＢガンを用いて蒸
着したもの（パネルＰ）を第３図に示した蒸着器中に設
置した。次いで水冷した坩堝の３０に保護層形成物質（
ＭｇＦｚ）を入れ蒸着器を排気して２×１０″６Ｔｏｒ
ｒの真空度とした。Example 2 Alkali halide stimulable phosphor (RbBr: 0.0006
A sample (panel P) in which Tl) was deposited using a 300 μm EB gun as an evaporation source was placed in the evaporator shown in FIG. Next, a protective layer forming substance (
MgFz) and exhaust the evaporator to 2×10″6 Tor.
The degree of vacuum was set to r.

次にＩＢＢガンに電力を供給して電子ビームを坩堝の３
０に照射し保護層形成物質を蒸発させ層厚が４．１μｍ
になるまで堆積させてＭｇＩ’２保護層を形成し、本発
明の放射線画像変換ノ、クネルＢを得た。Next, power is supplied to the IBB gun and the electron beam is placed in the crucible.
0 to evaporate the protective layer forming substance and the layer thickness is 4.1 μm.
A protective layer of MgI'2 was formed by depositing the quenchel B of the radiation image converter of the present invention.

実施例３ 実施例２で用いた放射線画像変換ノくネルＰを第２図に
示す蒸着器中に設置した。保護層形成物質としてＳｉＯ
、ＢａＦ２を水冷した坩堝２９．３０にそれぞれ入れ蒸
着器を排気して２　Ｘ　１０＝　Ｔｏｒｒの真空度とし
た。Example 3 The radiation image conversion channel P used in Example 2 was placed in a vapor deposition apparatus shown in FIG. SiO as a protective layer forming material
, BaF2 were respectively placed in water-cooled crucibles 29 and 30, and the evaporator was evacuated to a vacuum degree of 2×10=Torr.

まず、蒸着器内に酸素をＩ　Ｘ　１０″′４Ｔｏｒｒ導
入し、次いで電子ビームを坩堝２９に照射しＳｉＯを蒸
発させた。輝尽性螢光体層に５ｉ２０３層が１μｍの層
厚になるまで堆積させて、第１の保護層を形成した。First, oxygen was introduced into the evaporator at I x 10'''4 Torr, and then the crucible 29 was irradiated with an electron beam to evaporate SiO. A first protective layer was deposited.

次いで蒸着器を排気して２　Ｘ　１０’　Ｔｏｒｒの真
空度としたのち、電子ビームを坩堝３０に照射し、Ｂａ
ｄ、を蒸発させ層厚３．８μｍになるまで堆積させて第
２の保護層を形成した。このようにして本発明の放射線
画像変換パネルＣを得た。Next, the evaporator was evacuated to a vacuum level of 2 x 10' Torr, and then an electron beam was irradiated onto the crucible 30 to release Ba.
d was evaporated and deposited to a layer thickness of 3.8 μm to form a second protective layer. In this way, the radiation image conversion panel C of the present invention was obtained.

実施例４ 実施例】で得られた放射線画像変換パネルＡに厚さ５μ
ｍのポリエチレンフィルムにポリエステル系接着剤を付
与したものを接着して第２の保護ノーを形成し、本発明
の放射線画像変換ノ（ネルＤを得た。Example 4 The radiation image conversion panel A obtained in Example 4 had a thickness of 5 μm.
A second protective layer was formed by adhering a polyester adhesive to the polyethylene film of No.m to form a radiation image conversion layer (Fellow D) of the present invention.

尚、実施例１〜４で、形成した無機物質保護層の層厚は
、輝尽性螢光体層と無機物質保護層の境界面における輝
尽励起光及び輝尽発光いずれの反射率も最小となるよう
に設定した。In Examples 1 to 4, the thickness of the inorganic material protective layer formed was such that the reflectance of both stimulated excitation light and stimulated luminescence at the interface between the photostimulable phosphor layer and the inorganic material protective layer was the minimum. It was set so that

比較例１ 実施例２で用いた放射線画像変換パネルＰの輝尽性螢光
体層面に実施例４同様、厚さ５μｍのポリエチレンフィ
ルムにポリエステル系接着剤を付与したものを接着して
保護層を形成し、比較の放射線画像変換パネルＥを得た
。Comparative Example 1 As in Example 4, a 5 μm thick polyethylene film coated with a polyester adhesive was adhered to the stimulable phosphor layer surface of the radiation image conversion panel P used in Example 2 to form a protective layer. A comparative radiation image conversion panel E was obtained.

比較例２ 実施例２で用いた放射線画像変換パネルｐの輝尽性螢光
体層面に厚さ１０μｍの塩化ビニリデン−塩化ビニル共
重合体フィルムの片面にエポキシ変性ポリオレフィン系
接着剤を付与したものを接着して保護層を作成し、比較
の放射線画像変換パネルＦを得た。Comparative Example 2 An epoxy-modified polyolefin adhesive was applied to one side of a 10 μm thick vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer film on the stimulable phosphor layer surface of the radiation image conversion panel p used in Example 2. A protective layer was created by adhesion, and a radiation image conversion panel F for comparison was obtained.

以上のように得られた本発明の放射線画像変換パネルＡ
、　Ｂ、　Ｃ，Ｄおよび比較の放射線画像変換パネルＥ
、Ｆについて、それらの保護層の耐湿性を次のようにし
て評価した。Radiographic image conversion panel A of the present invention obtained as described above
, B, C, D and comparative radiographic image conversion panel E
, F, the moisture resistance of their protective layers was evaluated as follows.

前記パネルＡ、　Ｂ、　Ｃ，ＤおよびＥ、Ｆを気温５０
℃、相対湿度５０％の便法恒湿槽内に３５０時間放置し
、その処置前後での放射線に対する感度を測定して放置
後の放射線感度の、放置前の放射線感度に対する比を求
め、その比の値により耐湿性を評価した。その結果を表
１に示す。The above panels A, B, C, D and E, F were heated to 50°C.
℃ and relative humidity of 50% for 350 hours, measure the sensitivity to radiation before and after the treatment, calculate the ratio of the radiation sensitivity after the treatment to the radiation sensitivity before the treatment, and calculate the ratio. Moisture resistance was evaluated based on the value of . The results are shown in Table 1.

表より明らかなように、本発明のパネルＡ、Ｂ。As is clear from the table, panels A and B of the present invention.

Ｃ，Ｄはいずれも比較のパネルＥ、Ｆに対し、２倍近い
放射線感度比を得た。このことは本パネル中に気相堆積
法により設けられた保護層が耐湿性に対して著しい効果
をもつことを示している。Both C and D obtained radiation sensitivity ratios nearly twice that of comparative panels E and F. This shows that the protective layer provided in this panel by vapor deposition has a significant effect on moisture resistance.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の放射線画像・変換パネルは、その保護層の少く
とも一部が気相堆積法により設けられたものであること
から、強度に優れ、また保護層を設けたことによる感度
、鮮鋭性の低下を防ぎ、なおかつ耐湿性が特に優れてい
るため輝尽性螢光体層の吸湿による劣化を防ぐことがで
き、長期間にわたり良好な状態で使用することができる
。The radiation image/conversion panel of the present invention has excellent strength because at least a part of its protective layer is provided by a vapor deposition method, and also has improved sensitivity and sharpness due to the provision of the protective layer. Moreover, since it has particularly excellent moisture resistance, it can prevent deterioration of the stimulable phosphor layer due to moisture absorption, and it can be used in good condition for a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は、本発明の放射線画像変換パネルの基本的構造
を示す断面図である。第２図、第３図は本発明の実施に
用いられる気相堆積法の中の一例である電子ビーム加熱
蒸着装置の断面概要図である。第４図は支持体の蒸着素
地表面の形状を例示している。第５図は放射線画像変換
方法を説明する図である。 １１・・・・・・支持体、１２・・・・・・輝尽性螢光
体層、１３ａ、　１３ｂ。 及び１４・・・・・・保護層。 出願人　小西六写真工業株式会社 第１・図 １２−−一一桿永性螢免体層 ＋３ａ、１３ｂａひ゛１４−ｉ１：Ｊ、屑第２図 第４図 （ａ）　　　　　　　　　　　　　　（ｂ）第５図 弘FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of the radiation image conversion panel of the present invention. FIGS. 2 and 3 are schematic cross-sectional views of an electron beam heating evaporation apparatus, which is an example of the vapor deposition method used to carry out the present invention. FIG. 4 illustrates the shape of the vapor deposition base surface of the support. FIG. 5 is a diagram illustrating a radiation image conversion method. 11... Support, 12... Stimulable phosphor layer, 13a, 13b. and 14...protective layer. Applicant Konishi Roku Photo Industry Co., Ltd. No. 1, Figure 12--11 Permanent fluorescent body layer + 3a, 13ba Hi 14-i1: J, Scraps Figure 2 Figure 4 (a) (b) Figure 5 Hiroshi

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 支持体と該支持体上に気相堆積法により設けられた輝尽
性螢光体層および該螢光体層上に設けられた少なくとも
一層の保護層から実質的に構成されている放射線画像変
換パネルにおいて、該保護層の少なくとも一層が気相堆
積法により設けられたものであることを特徴とする放射
線画像変換パネル。A radiation image conversion device consisting essentially of a support, a stimulable phosphor layer provided on the support by vapor deposition, and at least one protective layer provided on the phosphor layer. A radiation image conversion panel, characterized in that at least one of the protective layers is provided by a vapor deposition method.