JPS62207853A - 発熱抵抗体 - Google Patents

発熱抵抗体

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Publication number
JPS62207853A
JPS62207853A JP61047438A JP4743886A JPS62207853A JP S62207853 A JPS62207853 A JP S62207853A JP 61047438 A JP61047438 A JP 61047438A JP 4743886 A JP4743886 A JP 4743886A JP S62207853 A JPS62207853 A JP S62207853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating resistor
heating
type structure
resistor
oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61047438A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Iimura
飯村 勉
Ryoichi Shibata
良一 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS62207853A publication Critical patent/JPS62207853A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、複写機のヒートロールあるいはポット、ジャ
ー等の加熱装りとして使用する発熱抵抗体に関する。
従来の技術 従来の発熱抵抗体としては、複写機のヒートロールの芯
体外周にアルミナとニッケル、クロム等の合金をプラズ
マ溶射して形成したものが知られている。ヒートロール
等に使用する発熱抵抗体は、温度上昇を早める為には昇
温開始から終了まで同一電圧がかかる。このように同一
電圧をかける場合には抵抗値の温度係数が小さいこと、
すなわち抵抗体温度により比抵抗が変らないものが望ま
しく、このような条件を満足するにはプラズマ溶射の溶
射距離を一定に保つなど特別な工夫が必要であった。
発明が解決しようとする問題点 従来のように、発熱抵抗体の材料がアルミナとニッケル
、クロム等の混合物からなるものは、ニッケル、クロム
等とアルミナの抵抗値の差が大きく溶射の状況により比
抵抗に差が生じ、比抵抗の安定した発熱抵抗体が得られ
なかった。
抵抗をR1発熱抵抗体の断面積と、長さをそれぞれA、
Lとすると、比抵抗ρとの間には次の関係がある。
R= ρ L/A そして複写機のヒートロールとして所定のRとするには
、ρは通常的0.01〜1.0Ω*C+Sが望ましい、
しかし、プラズマ溶射する場合、円筒状芯体の全体に均
一の溶射条件を保つことは困難であり、前記のように比
抵抗の安定したものを得るのは容易でなかった。
問題点を解決するための手段 本発明の発熱抵抗体は、ペロブスカイト型構造を有する
酸化物をプラズマ溶射して、比抵抗(Ω争cm)が0.
01〜1.0となるように形成される。
ABOzの化学式を持つペロブスカイト型構造の原料と
しては、Aが3価の希土類元素あるいは2価のアルカリ
土類金属、Bが遷移金属である化合物が該当する0例え
ば、Y FeO1、GdFe0 z、CaMn0 zに
なるようなY203 、 Fe20) 、 Gd20y
 、 Cab、Mn20xやMnOなどの原料、あるい
は加熱によりペロブスカイト型構造の酸化物になる原料
を使用してもよい、しかし電、プラズマ溶射による原料
の流動性、装とに対する耐食性又は対環境性を考えた場
合には酸化物として用いるのが最も望ましい、なお、プ
ラズマ溶射後の抵抗体は、比抵抗をコントロールするた
めにペロブスカイト型構造と一部酸化物の混晶体であっ
ても何ら差支えない。
作用 1記手段の発熱抵抗体に、電極を介して電圧を印加すれ
ば、発熱抵抗体は高温になる。なお、発熱抵抗体が所定
温度になった後は、適宜スイッチで電圧印加が中断され
、所定温度に保つようにして使用される。
実施例1 本発明の発熱抵抗体を複写機のヒートロールに適用した
実施例を第1因により説明する。
ペロブスカイト型構造になり得る原料のY2O3とα−
Fe203の混合物を平均粒子径30gmに製作し、こ
の粒子をプラズマ溶射に使用した。第1図の如く円筒状
芯体1の外周に順次、結合層2、絶縁層3を設けてその
外周に、前記混合物粒子をプラズマ溶射して発熱抵抗体
層4を形成した。
なお発熱抵抗体R4の直径を3001、軸方向長さを2
38■とした。そして発熱抵抗体層4の両端に電極5.
5′を設け、絶縁層を介して最外周に保護層6を設けて
ヒートロールとした。このばあいプラズマ溶射の条件は
、次のように行なった。
溶射粉末Y2O3とα−Fe20iの混合粉の粒度は1
0〜44gm、電圧は75〜80V、電流は500A、
プラズマガスはAr801 / sinとH2151/
膳inの混合ガスを使用した。
E記条件でプラズマ溶射を行ない、溶射距離をそれぞれ
10.12.15.18.21(cm)と変えた場合の
比抵抗を測定した。その測定結果は第2図のグラフにA
!として示したように、いずれの場合も比抵抗は約0.
02であって、ヒートロールに使用する発熱抵抗体とし
て望ましいものである。なお、従来例との比較のため、
アルミナ中に6重量%のニッケル、クロムを混入した合
金を使用して従来の発熱抵抗体層を前記実施例と同一の
大きさに作成し、その比抵抗を前記実施例と同一条件で
測定してその結果をffg2図に破線で示した。
また前記実施例に使用したY203 とα−Fe203
の代りに、Gd203 トa−Fez O3ヲWKNニ
してペロブスカイト型構造となるようにしたもの、およ
び加熱(焼結)によりペロブスカイト型構造の酸化物G
dFe03となるものをそれぞれプラズマ溶射して発熱
抵抗体層を作成し、前記と同一条件で測定した結果も第
2図にそれぞれA2. A3として示した。
第2図かられかる通り、従来例に比較して、本発明のペ
ロブスカイト型構造となる酸化物原料を使用した方が、
溶射距離が異なっても比抵抗が安定した発熱抵抗体が得
られることがわかる。
実施例2 ペロブスカイト型構造の素原料としてCaOとMnOを
モル比でそれぞれ50モル%秤量し、ボールミルで混合
し、最後に平均粒子径が30JLmになるように造粒し
た。これを第1実施例の条件で円筒芯体にプラズマ溶射
して発熱抵抗体層を作成し、その比抵抗を測定して第2
図に旧として示した。
また前記:52実施例の原料CaOとMnO2を使用し
、1200℃で2時間空気中で焼結してCaMn03と
し、これをプラズマ溶射して発熱抵抗体層を作成し、そ
の比抵抗を同様に測定して第2図に82として示した。
第2図からペロブスカイト型構造となる原料を使用した
第2実施例の場合も、比抵抗が約0.13の安定した抵
抗体が得られることがわかる。
なお、前記実施例では発熱抵抗体をヒートロールに適用
したものを説明したが、その外、ポット、ジャー等の面
発熱体にも適用できる。
発明の効果 以上の通り本発明の発熱抵抗体は、ペロブスカイト型構
造となる原料を使用しているので、プラズマ溶射により
形成する発熱抵抗体の比抵抗が従来例に比較して非常に
安定したものとなる。よって複写機のヒートロールある
いはポット等の発熱部材として使用するのに望ましく、
また温度係数も小さい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の発熱抵抗体を使用したヒートロールの
概略断面図、第2図は溶射距離と比抵抗との関係を示す
グラフである。 1;芯体      4;発熱抵抗体層5.5°;電極

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ペロブスカイト型構造となる酸化物原料をプラズ
    マ溶射により形成する発熱抵抗体。
  2. (2)比抵抗が0.01〜1.0(Ω・cm)であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の発熱抵抗
    体。
  3. (3)ペロブスカイト型構造となる酸化物原料は、Y_
    2O_3とα−Fe_2O_3の混合物、Gd_2O_
    3とα−Fe_2O_3の混合物、CaOとMnOの混
    合物のうちの1つの混合物である特許請求の範囲第1項
    に記載の発熱抵抗体。
JP61047438A 1986-03-06 1986-03-06 発熱抵抗体 Pending JPS62207853A (ja)

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