JPS62207235A - イソプロペニルエ−テル又はエステル誘導体の製造方法 - Google Patents

イソプロペニルエ−テル又はエステル誘導体の製造方法

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JPS62207235A
JPS62207235A JP5006886A JP5006886A JPS62207235A JP S62207235 A JPS62207235 A JP S62207235A JP 5006886 A JP5006886 A JP 5006886A JP 5006886 A JP5006886 A JP 5006886A JP S62207235 A JPS62207235 A JP S62207235A
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ester derivative
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JP5006886A
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English (en)
Inventor
Makoto Shimizu
真 清水
Yuko Nakahara
中原 悠子
Eiichi Tanaka
栄一 田中
Hirosuke Yoshioka
吉岡 宏輔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、種々の生理活性物質を製造するために用いる
中間体として有用なイソプロペニルエーテル又はエステ
ル誘導体の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
モノフルオロイソプロペニルエーテル及びエステルにつ
いては、これまでにベンジルエーテルの合成例のみが報
告されている。そして、この方法では1.3−ジフルオ
ロ−2−プロパツールを対応するアルコキシドに変化さ
せた後、ベンジルプロミドを用いてエーテル化し、さら
に塩基を用いてフッ化水素を脱離させて目的とするモノ
フルオロイソプロペニルエーテル誘導体を合成していた
しかしながら、この方法では反応工程が多く煩雑である
うえ、適応範囲もアルキルエーテルに限られるという問
題がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕 従って、本発明は簡易な手段で、かつ高収率でイソプロ
ペニルエーテル及びエステルを製造する方法を提供する
ことを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、1.3位にハロゲン又はアルキルスルホニル
オキシ基を有するイソプロピルエーテル又はエステルに
第4級アンモニウムフルオリドを作用させると容易にオ
レフィン化とフッ素の導入ができ、上記問題点を有効に
解決できるとの知見に基づいてなされたのである。
すなわち、本発明は、一般式(I) :H2X ■ (式中、R1は炭化水素基、複素環基又はキル基を示す
)であり、Xはハロゲン又はアルキルスルホニルオキシ
基を示す。) で表わされるイソプロピルエーテル又はエステルl導体
に第4級アンモニウムフルオリドを作用させて、HX 
(Xは上記と同じ意味を有する。)を脱離させることを
特徴とする一般式(■)=(式中、R,とXは上記と同
じ意味を有する。)で表わされるインプロペニルエーテ
ル又はエステル誘導体の製造方法、及び該生成物を第4
級アンモニウムフルオリドでフッ素化することを特徴と
する一般式(■): (式中、R,は上記と同じ意味を有する。)で表わされ
るイソプロペニルエーテル又はエステル誘導体の製造方
法を提供する。
本発明において出発原料として用いる一般式(1)で表
わされるイソプロピルエーテル誘導体、イソプロピルカ
ルバミン酸エステル誘導体は、例えば式(■): ll2X で表わされるハロ炭酸エステルや式(V):で表わされ
るスルホナートから容易に合成される。
又、式(1)中、Xがアルキルスルホニルオキシ基であ
る化合物は、Xが−OHである対応する化合物にアルキ
ルスルホニルハライドなどを反応させて容易に合成され
る。
本発明においては、式(I)で表わされる化合物のうち
、式中のR1としては、炭素数1〜50のアルキル基、
炭素数6〜14の芳香族基、炭素数3〜13の複素環基
が好ましく、特に好ましくは、フェニル基、ベンジル基
、ナフチル基、テトラヒドロピラニル基、α−エトキシ
エチル基が例示される。式中のR2及びR3としては炭
素数1〜50のアルキル基が好ましい。又式中、Xとし
ては塩素及び臭素が好ましく、アルキルスルホニルオキ
シ基のアルキル基としては炭素数1〜7のものが好まし
い。
本発明では上記化合物(I)に第4級アンモニウムフル
オリドを作用させて下記の反応を行なうのである。
ここで用いる第4級アンモニウムフルオリドとしては、
下記一般式(■): (式中、R1−R7は、炭素数1〜16のアルキル基、
アルケニル基又は芳香族基を示す。)で表わされる第4
級アンモニウムフルオリドを用いるのが好ましい。上記
式(Vl)において、R4−R1は同一でも異なってい
てもよく、特にR4−R7は炭素数1〜16のアルキル
基が好ましい。
又、式中芳香族基としてはフェニル基、ベンジル基など
が好ましい。上記第4級アンモニウム塩として、具体的
には、テトラ(n−ブチル)アンモニウムフルオリド(
以下、TBAFという)、テトラエチルアンモニウムフ
ルオリド、テトラメチルアンモニウムフルオリド、ペン
ジルトリメチルアンモニウムフルオリドが例示される。
本発明では、上記第4級アンモニウム塩を、カルバミン
酸エステルに対して、1.0〜10当量、好ましくは1
〜5当量の割合で存在させ、−10〜50℃の温度に3
〜48時間加熱して上記の反応を行なうのである。さら
に、上記反応は、テトラヒドロ7ラン(THF)ジエチ
ルエーテル、1゜4−ジオキサンなどの不活性溶媒の下
で行なうことができ、又、モレキュラーシーブを共存さ
せることが望ましい。
尚、上記反応において、一般式(II)で表わされる化
合物を高収率で得るためには、反応を低温、例えば−1
O〜0℃で行なうのがよい。
本発明において上記反応を行なうに際し、一般式(I)
にふいてXがアルキルスルホニルオキシ基である化合物
を用いる場合には、Xが−OHである対応する化合物に
アルキルスルホニルハライド特に好ましくは炭素数1〜
7のアルキルスルホニルハライドを第4級アンモニウム
フルオリドとともに作用させることによって、対応する
化合物(■)及び(III)を容易に製造することがで
きる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、1,3位にハロゲン又はアルキルスル
ホニルオキシ基を有するイソプロピルエーテル又はエス
テル誘導体から簡易な手段でかつ高収率でイソプロペニ
ルエーテル又はエステル誘導体を製造することができる
ので工業的な製法として極めてすぐれたものである。
次に実施例により本発明を説明する。
〔実施例〕
実施例1 ドライバツク中、30mj!ナス型フラスコにテトラ(
n−ブチル)アンモニウムフルオリド・3水和物531
mg (Thx3)、モレキュ5−シー14 A 1.
0 gを入れ、さらに無水テトラヒドロフラン(THF
)5mlを加えた後、窒素気流下室温で攪拌した。その
後、反応液を0℃に冷却し1.3−ジブロモ−2−プロ
ビルジイソプロピル力ルバメー) 194mg (0,
562mモル)を加え、0℃で2時間攪拌した。次に、
反応液をシリカゲルで濾過し、モレキュラーシーブ4A
を除去し、酢酸エチルで生成物を抽出した。更に、抽出
液の溶媒を減圧下で留去し、残金をシリカゲルカラムク
ロマトにより精製したところ、l−(ブロモメチル)エ
チニルジイソプロピルカルバメート129mg(収$ 
86.9%)を得た。
NMR(C口α、)    61.26  (d、  
6H、J=7.20Hz)3、70−4.20 (br
、  2h)  4.10 (S、  2H)4、86
−5.06 (m、  2h)実施例2 ドライバツク中、30m1ナス型フラスコにTBAF−
3水和物460mg (ThX 5 )及びモレキュラ
ーシーブ4 A 1.0 gを入れ、さらに無水THF
5mlを加えた後、窒素気流下室温で攪拌した。その後
、1.3−ジブロモ−2−プロビルジイソプロビル力ル
バメー) 100mg (0,2897mモル)を加え
、50℃で18時間加熱攪拌した。
次に、反応液をシリカゲルで濾過し、モレキュラーシー
ブ4Aを除去し、更に、濾液を水に注いだ後、酢酸エチ
ルで生成物を抽出し、水洗した。得られた酢酸エチル層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮し、残金をシ
リカゲルカラムクロマトにより精製したところ、1−(
フルオロメチル)エチニルジイソプロピル力ルバメー)
30mg(収率50.9%)を得た。
NMR(CDα、) 51.26 (d、6H、J=7
.20Hz>3.60−4.16(br、 2B) 4
.86(d、 2H。
J=46.80)1z)、5.04(不溶分S、 2)
1)実施例3 ドライバツク中、30mA’ナス型フラスコにTBAF
 −3永和物741mg (Thx8.1 )及びモレ
キュラーシーブ4 A 1.4 gを入れ、さらに無水
THF3mlを加えた後、窒素気流下室温で攪拌した。
その後、メタンスルホニルフルオリド113mg (T
hx 4 )と1−(1,3−ジヒドロキシ−2−プロ
ピルオキシ)ナフタレン63mg (0,2886mモ
ル)を加え、4時間加熱、還流した。
次に、室温に冷却し、反応液をシリカゲルで濾過し、モ
レキュラーシーブ4Aを除去した後、ジエチルエーテル
で生成物を抽出し、更に、溶媒を減圧下で留去し、残金
を薄層クロマトで分離精製したところ、1−((1−(
フルオロメチル)エチニル)オキシ)すjフタシン28
mg (収率48.0%)を辱た。
J=46.801iz) 、7.10−8.07(+a
、 7H) 実施例4 1.3−ジブロモ−2−プロパツールのテトラヒドロピ
ランエーテルにTHF中4Aモレキュラーシーブス存在
下2.5当量のTBAF・3水塩を作用させ50℃で5
時間反応させた後、水処理しPLCにより分離精製した
ところフルオロイソプロペニルエーテルを69%の収率
で得た。又、原料を1,3−ジクロロ−2−プロパツー
ルのテトラヒドロビランエーテルに代えて反応を行なっ
たところ、フルオロイソプロペニルエーテルを46%の
収率で得た。
? CH,F NMR(CDα、) 61.20−1.88 (m、6
H)3、44−4.00 (m、 2H) 4、36−4.48 (m、LH) 4、48−4.56 (m、 IH) 4.72 (d、28. J=46.8Hz)5.16
−5.32(n、  IH) 実施例5 原料の種類をいろいろかえて、実施例2と同様の条件で
反応を行なった。結果をまとめて表−1に示す。
各生成物の同定データを下記に示す。
Nα1の生成物: N1111([:[)α3):δ1.20(t、 3)
ISJ=7.20Hz)1.42(d、 3H,J=5
.40Hz)3.52(q、  2HS Jニア、20
Hz)4、24−4.40 (m、 2fl)4.68
(d、 2H,J=46.8tlz)5.20(q、 
IH,J=5.4011z)Nα2の生成物: NMR(CDCj+) :δ4.16−4.30(m、
 HIL4JO−4,40(m、 1)1)、4.77
(d、 2HSJ=46.8Hz>、4.81(3,2
旧、7.36 (brs。
5H) Nα3の生成物: NMR(CDαa) :δ1.16(t、6HSJ=7
.201(z)、3、32 (q、 4H1J=7.2
0Hz)、4.8(i(d、 2N、 J=46.80
Hz>、5、04 (m、 2H) Nα4の生成物:

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ( I ) (式中、R_1は炭化水素基、複素環基又は▲数式、化
    学式、表等があります▼で示される基(R_2及びR_
    3はアルキル基を示す)であり、Xは、ハロゲン又はア
    ルキルスルホニルオキシ基を示す。) で表わされるイソプロピルエーテル又はエステル誘導体
    に第4級アンモニウムフルオリドを作用させて、HX(
    Xは上記と同じ意味を有する。)を脱離させることを特
    徴とする一般式(II):▲数式、化学式、表等がありま
    す▼・・・・・・・・・(II) (式中、R_1とXは上記と同じ意味を有する。)で表
    わされるイソプロペニルエーテル又はエステル誘導体の
    製造方法。
  2. (2)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ( I ) (式中、R_1は炭化水素基、複素環基又は▲数式、化
    学式、表等があります▼で示される基(R_2及びR_
    3はアルキル基を示す。)であり、Xはハロゲン又はア
    ルキルスルホニルオキシ基を示す。) で表わされるイソプロピルエーテル又はエステル誘導体
    に第4級アンモニウムフルオリドを作用させて、HX(
    Xは上記と同じ意味を有する)を脱離させた後フッ素化
    することを特徴とする一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    (II) (式中、R_1は上記と同じ意味を有する。)で表わさ
    れるイソプロペニルエーテル又はエステル誘導体の製造
    方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011173830A (ja) * 2010-02-24 2011-09-08 Nippon Zeon Co Ltd アルキンの製造方法及び2−ブチンの精製方法
JP2013510149A (ja) * 2009-11-03 2013-03-21 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ビニルエーテル化合物並びにそれらの製造及び使用方法

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