JPS62207206A - 爪のエナメル除去剤 - Google Patents
爪のエナメル除去剤Info
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- JPS62207206A JPS62207206A JP4852886A JP4852886A JPS62207206A JP S62207206 A JPS62207206 A JP S62207206A JP 4852886 A JP4852886 A JP 4852886A JP 4852886 A JP4852886 A JP 4852886A JP S62207206 A JPS62207206 A JP S62207206A
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Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、使用しても、指先や爪を傷めない(荒さな
い)性質を有する爪のエナメル除去剤に関するものであ
る。
い)性質を有する爪のエナメル除去剤に関するものであ
る。
〈従来の技術〉
従来の爪のエナメル除去剤は、酢酸エチルのような何I
!溶媒を主剤として製造されたものか大部分てあったの
で、これを使用すると、爪の艷が無くなったり、指の先
か荒れたりする欠点かあった。そのため、爪や指の荒れ
の手当が別に必要であったり、その他にも、溶剤(溶媒
)の匂が強よ過ぎること、これを誤ってこぼすと、鏡台
の塗りがはげ落ちたつする弊害かあって困っていた。
!溶媒を主剤として製造されたものか大部分てあったの
で、これを使用すると、爪の艷が無くなったり、指の先
か荒れたりする欠点かあった。そのため、爪や指の荒れ
の手当が別に必要であったり、その他にも、溶剤(溶媒
)の匂が強よ過ぎること、これを誤ってこぼすと、鏡台
の塗りがはげ落ちたつする弊害かあって困っていた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
従って、刺激が少なくて爪や指(肌)を傷めず、こぼれ
にくい爪のエナメル除去剤の開発が望まれていたのであ
る。
にくい爪のエナメル除去剤の開発が望まれていたのであ
る。
〈問題点を解決するための手段〉
本願は、主剤として(イ)γ−ブチロラクトン、(ロ)
ベンジルアルコール(または、ペンジルヘンゾエイト)
、(ハ)γ−ブチロラクトン、及びヘンシルアルコール
(または、ベンジルベンゾエイト)の混合物を用い、主
剤単独、またはこれらの主剤に次の(1)〜(4)に記
載するゼリー化剤、皮1id(爪)の保護剤、皮膚(爪
)の保湿・保護剤、及びゼリー(ゲル)化安定核剤を添
加して製造される、全部で6発明から構成されている。
ベンジルアルコール(または、ペンジルヘンゾエイト)
、(ハ)γ−ブチロラクトン、及びヘンシルアルコール
(または、ベンジルベンゾエイト)の混合物を用い、主
剤単独、またはこれらの主剤に次の(1)〜(4)に記
載するゼリー化剤、皮1id(爪)の保護剤、皮膚(爪
)の保湿・保護剤、及びゼリー(ゲル)化安定核剤を添
加して製造される、全部で6発明から構成されている。
(1)主成分がフクール酸ジエチル、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、またはポリビニルピロリドンからなるゼ
リー化剤 (2)主成分が天然、または合成スクアランからなる皮
膚(爪)の保護剤 (3)主成分が尿素、またはジメチルスルホキシド(D
MSO□)からなる皮膚(爪)の保湿・保護剤 (4)ジベンジリデンソルビトール、またはリン酸ビス
(4−tブチルフェニル)ナトリウムからなるゼリー(
ゲル)化安定核剤」 γ−ブチロラクトンは、無水マレイン酸の水添により製
造される。
ルセルロース、またはポリビニルピロリドンからなるゼ
リー化剤 (2)主成分が天然、または合成スクアランからなる皮
膚(爪)の保護剤 (3)主成分が尿素、またはジメチルスルホキシド(D
MSO□)からなる皮膚(爪)の保湿・保護剤 (4)ジベンジリデンソルビトール、またはリン酸ビス
(4−tブチルフェニル)ナトリウムからなるゼリー(
ゲル)化安定核剤」 γ−ブチロラクトンは、無水マレイン酸の水添により製
造される。
前記したゼリー(ゲル)化安定核剤であるジベンジリデ
ンソルビトールは、皮膚の保湿・保護剤であるジメチル
スルホキシドに1〜40%の範囲内で溶解した後、この
液をエナメル除去剤全体の5〜20%の範囲内で添加す
るのが普通である。
ンソルビトールは、皮膚の保湿・保護剤であるジメチル
スルホキシドに1〜40%の範囲内で溶解した後、この
液をエナメル除去剤全体の5〜20%の範囲内で添加す
るのが普通である。
また、ヒドロ主ジプロピルセルロース、またはポリビニ
ルピロリドンからなるゼリー化剤は、1〜2o%のエタ
ノール溶液とし、エナメル除去剤全体の1〜20%の範
囲で添加するのが普通である。
ルピロリドンからなるゼリー化剤は、1〜2o%のエタ
ノール溶液とし、エナメル除去剤全体の1〜20%の範
囲で添加するのが普通である。
ヒドロキシプロヒルセルロースのアルコール溶液、及び
エステル類を添加することにより、エナメル除去剤全体
が、粘性をもったゼリー状となり、チューブに充填して
必要な量だけ取り出せるようにすることができる。
エステル類を添加することにより、エナメル除去剤全体
が、粘性をもったゼリー状となり、チューブに充填して
必要な量だけ取り出せるようにすることができる。
以上に記載した物質は、いずれも化粧品原料基準に合格
しており、人体に対して安全であることが保証されでい
る。
しており、人体に対して安全であることが保証されでい
る。
本願に係る爪のエナメル除去剤は、主剤のみでも充分エ
ナメル除去剤としての効果を有するが、より使用効果を
高めるために、前記した種々の作用を有する物質8添加
する。
ナメル除去剤としての効果を有するが、より使用効果を
高めるために、前記した種々の作用を有する物質8添加
する。
前記した物質を添加して爪のエナメル除去剤の製造する
方法の一例を示すと次の通りである。
方法の一例を示すと次の通りである。
温度の調整が可能な反応槽(品温か50℃になるように
設定)にγ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール等の
主剤(両者を使用するときは予め混合しておく)ヲ入れ
、攪拌しながら、別に作成しであるヒドロキシプロピル
セルロース、ポリビニルピロッドン等からなるセリー化
剤(1〜20%のエタノール溶液)を加えて充分攪拌・
混合する。更に皮膚の保護剤であるスクアランを添加し
、別に作成しである、前記したゼリー(ゲル)化安定核
剤であるジベンジリデンソルビトールの、ジメチルスル
ホキシド(皮膚の保湿・保護剤)1〜40%溶液を徐々
に添加・注入する。約30分攪拌してから賦香料を添加
し攪拌と加温を停止し常温に放置しで冷却する。
設定)にγ−ブチロラクトン、ベンジルアルコール等の
主剤(両者を使用するときは予め混合しておく)ヲ入れ
、攪拌しながら、別に作成しであるヒドロキシプロピル
セルロース、ポリビニルピロッドン等からなるセリー化
剤(1〜20%のエタノール溶液)を加えて充分攪拌・
混合する。更に皮膚の保護剤であるスクアランを添加し
、別に作成しである、前記したゼリー(ゲル)化安定核
剤であるジベンジリデンソルビトールの、ジメチルスル
ホキシド(皮膚の保湿・保護剤)1〜40%溶液を徐々
に添加・注入する。約30分攪拌してから賦香料を添加
し攪拌と加温を停止し常温に放置しで冷却する。
〈実施例1〉
γ−ブチロラクトン30部と、ヘンシルアルコール25
部を反応槽(品温50℃に設定)に入れて50rpmで
約10分攪拌した後、別に溶解槽で作成しであるNPC
の10%アルコール溶液を20部加える。更に10分攪
拌しで、合成スフフラン2部を添加した後、撹拌速度を
1500rpmにしで、これに、別の溶解槽で調整しで
あるジベンジリデンソルビトールの20%DMS○2溶
解液を15部注入する。また同時に、5部の尿素を添加
し、更に賦香料のオレンジを3部添加して約30分周加
温を継続しながら攪拌し、上部に遊離液を認めなくなっ
たら、すべての作動を停止しで、常温で放言する。でき
た製品を貯蔵槽に移動し、一部を分注器でチューブに充
填し商品とした。
部を反応槽(品温50℃に設定)に入れて50rpmで
約10分攪拌した後、別に溶解槽で作成しであるNPC
の10%アルコール溶液を20部加える。更に10分攪
拌しで、合成スフフラン2部を添加した後、撹拌速度を
1500rpmにしで、これに、別の溶解槽で調整しで
あるジベンジリデンソルビトールの20%DMS○2溶
解液を15部注入する。また同時に、5部の尿素を添加
し、更に賦香料のオレンジを3部添加して約30分周加
温を継続しながら攪拌し、上部に遊離液を認めなくなっ
たら、すべての作動を停止しで、常温で放言する。でき
た製品を貯蔵槽に移動し、一部を分注器でチューブに充
填し商品とした。
このチューブ内のゼリー状の液を、マニキュアエナメル
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく塗り、同様にして他方の爪にも5遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した後手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく塗り、同様にして他方の爪にも5遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した後手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
〈実施例2〉
γ−ブチロラクトン25部と、ベンジルアルコール30
部を反応槽(品温50℃に設定)に入れて80rpmで
約10分攪拌する。これに、別に溶解槽で作成しである
NPCとPvPの混合物(2:1)の10%アルコール
溶液を20部加え、更に10分攪拌した後、スフフラン
2部を添加しで、攪拌速度を2000rpmにして、こ
れに尿素を5部、及び別の溶解槽で調整しであるジベン
ジリデンソルビトールの20%DMSO□溶解液を15
部加えて、最後に賦香料のストロ−ベリーを3部加えて
約30分加温・攪拌し、その後室温にlIMLtで、チ
ューブに充填し商品とした。
部を反応槽(品温50℃に設定)に入れて80rpmで
約10分攪拌する。これに、別に溶解槽で作成しである
NPCとPvPの混合物(2:1)の10%アルコール
溶液を20部加え、更に10分攪拌した後、スフフラン
2部を添加しで、攪拌速度を2000rpmにして、こ
れに尿素を5部、及び別の溶解槽で調整しであるジベン
ジリデンソルビトールの20%DMSO□溶解液を15
部加えて、最後に賦香料のストロ−ベリーを3部加えて
約30分加温・攪拌し、その後室温にlIMLtで、チ
ューブに充填し商品とした。
このチューブ内のゼリー状の液を、マニキュアエナメル
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく塗り、同様にして他方の爪にも5遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した後手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく塗り、同様にして他方の爪にも5遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した後手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
〈実施例3〉
γ−7チロラクトン20部と、ヘンシルアルコール(ま
たは、ヘンシルヘンシェード)30部を品温が50’C
になるように設定した反応槽に入れて80rpmで約1
0分攪拌する。これに、別に溶解槽で作成しであるPV
P T 5%エタノール溶液1Fr20部加え、更に1
0分攪拌した後、スフフラン2部8添加して、攪拌速度
2000rpmで急速に攪拌し、これに尿素を5部、及
び別の溶解槽で調整しであるジベンジリデンソルビトー
ルの15%DMSO2溶解液20部を同時に加えで、最
債に賦香料のクマリンを3部加えた。これを攪拌速度2
00Orpmで約30分間急速に加温・攪拌し、その後
室温に放冒しで、チューブに充填し商品とした。
たは、ヘンシルヘンシェード)30部を品温が50’C
になるように設定した反応槽に入れて80rpmで約1
0分攪拌する。これに、別に溶解槽で作成しであるPV
P T 5%エタノール溶液1Fr20部加え、更に1
0分攪拌した後、スフフラン2部8添加して、攪拌速度
2000rpmで急速に攪拌し、これに尿素を5部、及
び別の溶解槽で調整しであるジベンジリデンソルビトー
ルの15%DMSO2溶解液20部を同時に加えで、最
債に賦香料のクマリンを3部加えた。これを攪拌速度2
00Orpmで約30分間急速に加温・攪拌し、その後
室温に放冒しで、チューブに充填し商品とした。
このチューブ内のゼリー状の液を、マニキュアエナメル
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく潰り、同様にして他方の爪に6万遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した復手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
をした5本の指の爪に一滴ずつ落し、他の手指で爪に5
遍なく潰り、同様にして他方の爪に6万遍なく塗り、1
〜2分してからティッシュ、またはガーゼで爪を拭いた
らエナメルを奇麗に落すことができた。尚、エナメルを
落した復手を洗わなかったが、何の異常も認められなか
った。
〈発明の効果〉
以上の実施例を通して明かなように、本願■こ係る爪の
エナメル除去剤は、従来品と比較して次のような特徴を
有する。
エナメル除去剤は、従来品と比較して次のような特徴を
有する。
(1)手で自分の爪に直接塗って使用することができる
。従来品は脱脂綿等で塗る必要があったのに比べて簡単
である。
。従来品は脱脂綿等で塗る必要があったのに比べて簡単
である。
(2)液体でないから塗るときにこぼすことがない、従
来品をこぼしたりすると、鏡台の塗装が剥げたりした。
来品をこぼしたりすると、鏡台の塗装が剥げたりした。
(3)従来品のようないやな臭いがない。
(4)引火性がほとなどないので安全である。
(5)従来品のように爪が白くなったり割れたりしない
で、爪の保!i1[をする。
で、爪の保!i1[をする。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]γ−ブチロラクトン(γ−Butyrolact
one)を主剤とする爪のエナメル除去剤。 [2]γ−ブチロラクトンに次の(1)〜(4)に記載
する物質を1種以上添加することを特徴とする爪のエナ
メル除去剤。 (1)主成分がフタール酸ジエチル、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、またはポリビニルピロリドン(PVP)
からなるゼリー化剤 (2)主成分が天然、または合成スクアランからなる皮
膚(爪)の保護剤 (3)主成分が尿素、またはジメチルスルホキシド(D
MSO_2)からなる皮膚(爪)の保湿・保護剤 (4)ジベンジリデンソルビトール、またはリン酸ビス
(4−tブチルフェニル)ナトリウムからなるゼリー(
ゲル)化安定核剤 [3]ベンジルアルコール(ベンジルベンゾエイト)を
主剤とする爪のエナメル除去剤。 [4]ベンジルアルコール(または、ベンジルベンゾエ
イト)に次の(1)〜(4)に記載する物質を1種以上
添加することを特徴とする爪のエナメル除去剤。 (1)主成分がフタール酸ジエチル、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、またはポリビニルピロリドンからなるゼ
リー化剤 (2)主成分が天然、または合成スクアランからなる皮
膚(爪)の保護剤 (3)生成分が尿素、ジメチルスルホキシドからなる皮
膚(爪)の保湿・保護剤 (4)ジベンジリデンソルビトール、またはリン酸ビス
(4−tブチルフェニル)ナトリウムからなるゼリー(
ゲル)化安定核剤 [5]γ−ブチロラクトン、及びベンジルアルコール(
または、ベンジルベンゾエイト)の混合物を主剤とする
爪のエナメル除去剤。 [6]γ−ブチロラクトン、及びベンジルアルコール(
または、ベンジルベンゾエイト)の混合物にに次の(1
)〜(4)に記載する物質を1種以上添加することを特
徴とする爪のエナメル除去剤。 (1)主成分がフタール酸ジエチル、ヒドロキシプロピ
ルセルロース(HPC)、またはポリビニルピロリドン
からなるゼリー化剤 (2)主成分が天然、または合成スクアランからなる皮
膚(爪)の保護剤 (3)主成分が尿素、ジメチルスルホキシドからなる皮
膚(爪)の保湿・保護剤 (4)ジベンジリデンソルビトール、またはリン酸ビス
(4−tブチルフェニル)ナトリウムからなるゼリー(
ゲル)化安定核剤
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4852886A JPS62207206A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 爪のエナメル除去剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4852886A JPS62207206A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 爪のエナメル除去剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207206A true JPS62207206A (ja) | 1987-09-11 |
Family
ID=12805859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4852886A Pending JPS62207206A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 爪のエナメル除去剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62207206A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000012052A3 (en) * | 1998-08-31 | 2000-06-29 | Univ Brandeis | Thickened butyrolactone-based nail polish remover |
KR102067375B1 (ko) * | 2019-09-16 | 2020-01-16 | 김동섭 | 네일젤 제거용 조성물 |
WO2021152910A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 三協化学株式会社 | 美爪料除去剤 |
JP7144891B1 (ja) * | 2021-07-08 | 2022-09-30 | 三協化学株式会社 | 美爪料除去剤 |
-
1986
- 1986-03-07 JP JP4852886A patent/JPS62207206A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000012052A3 (en) * | 1998-08-31 | 2000-06-29 | Univ Brandeis | Thickened butyrolactone-based nail polish remover |
KR102067375B1 (ko) * | 2019-09-16 | 2020-01-16 | 김동섭 | 네일젤 제거용 조성물 |
WO2021152910A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 三協化学株式会社 | 美爪料除去剤 |
JP7144891B1 (ja) * | 2021-07-08 | 2022-09-30 | 三協化学株式会社 | 美爪料除去剤 |
WO2023281678A1 (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-12 | 三協化学株式会社 | 美爪料除去剤 |
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