JPS62194140A - クリ−ンル−ム - Google Patents
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- JPS62194140A JPS62194140A JP61035125A JP3512586A JPS62194140A JP S62194140 A JPS62194140 A JP S62194140A JP 61035125 A JP61035125 A JP 61035125A JP 3512586 A JP3512586 A JP 3512586A JP S62194140 A JPS62194140 A JP S62194140A
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- Japan
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- clean room
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 4
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 3
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、クリーンルームに適用して特に有効な技術に
関するもので、たとえば、半導体装置製造のための清浄
環境を提供するクリーンルームに利用して有効な技術に
関するものである。
関するもので、たとえば、半導体装置製造のための清浄
環境を提供するクリーンルームに利用して有効な技術に
関するものである。
[従来の技術]
クリーンルームについては、たとえば本出願人による特
開昭56−162335号公報があり、その概要は、ク
リーントンネルモジュール式の空気清浄機構を提供する
ものである。
開昭56−162335号公報があり、その概要は、ク
リーントンネルモジュール式の空気清浄機構を提供する
ものである。
本発明者ハ、クリーンルームのスペースユーティリティ
について検討した。以下の技術は本発明者によって検討
された事項であり、その概要は以下の通りである。
について検討した。以下の技術は本発明者によって検討
された事項であり、その概要は以下の通りである。
すなわち、半導体装置の製造工程等において、処理中に
ウェハの表面に塵埃等の異物が付着してウニハネ良とな
るのを防止するために、上記公報に示されるような各種
のクリーンルームが提案されている。
ウェハの表面に塵埃等の異物が付着してウニハネ良とな
るのを防止するために、上記公報に示されるような各種
のクリーンルームが提案されている。
クリーントンネルモジュール式の空気清浄機構は、たと
えば第2図に示すように、建屋lの内部が作業室3と、
その作業室3を囲むようにして壁部材5a、5bにより
仕切られた保全室7a、7bに分割されたものであり、
該作業室3と保全室7a、7bの下方には、さらに排気
室9が形成されている。
えば第2図に示すように、建屋lの内部が作業室3と、
その作業室3を囲むようにして壁部材5a、5bにより
仕切られた保全室7a、7bに分割されたものであり、
該作業室3と保全室7a、7bの下方には、さらに排気
室9が形成されている。
作業室3は更に中央の作業者(図示せず)の位置する作
業空間11と、この作業空間11をはさんで対向位置に
区画された処理空間13a、13bとに分割されており
、この処理空間138.13bには、リソグラフィ装置
、拡散装置あるいは熱酸化炉等の各種の処理装置15が
載置される。
業空間11と、この作業空間11をはさんで対向位置に
区画された処理空間13a、13bとに分割されており
、この処理空間138.13bには、リソグラフィ装置
、拡散装置あるいは熱酸化炉等の各種の処理装置15が
載置される。
また、保全室?a、7bには処理空間13a。
13bに載置された処理装置15の補助装置17等が載
置される。
置される。
作業空間11の上部には、各空間毎にフィルタ19a、
19b、19cが各々取付けられており、このフィルタ
19a−19cを介して清浄空気が垂直層流となって作
業室3の各空間11,13a。
19b、19cが各々取付けられており、このフィルタ
19a−19cを介して清浄空気が垂直層流となって作
業室3の各空間11,13a。
13bを流通していく構造となっている。この層流は床
部材21を流通して排気室に流れ込み、さらに保全室7
a、7bを下方から上方に流通して再度フィルタ+9a
−1’9cを通過して作業室3の各空間11.13a、
13bに送られる構造となっている。
部材21を流通して排気室に流れ込み、さらに保全室7
a、7bを下方から上方に流通して再度フィルタ+9a
−1’9cを通過して作業室3の各空間11.13a、
13bに送られる構造となっている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、上記構造のクリ−ルームでは、第2図に示す
ように、保全□室7a、7bに補助装置17が設置され
ており、この保全室?a、7bには保全作業のために作
業者が立ち入る必要がある。
ように、保全□室7a、7bに補助装置17が設置され
ており、この保全室?a、7bには保全作業のために作
業者が立ち入る必要がある。
そのため、保全室7a、7bの室幅を大きく必要とする
。このため、建屋1の全体の幅が大きくなってしまうこ
とが本発明者によって明らかにされた。
。このため、建屋1の全体の幅が大きくなってしまうこ
とが本発明者によって明らかにされた。
本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は少ない立地条件でも建設可能なりリーンルー
ムを提供することにある。
その目的は少ない立地条件でも建設可能なりリーンルー
ムを提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
[問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、作業室の下方に設けられた排気室に補助設備
を設置したクリーンルーム構造とするものである。
を設置したクリーンルーム構造とするものである。
[作用]
上記した手段によれば、補助設備を作業室の下方に配置
するため、作業室の側方にスペースをとられることなく
、わずかな立地面積でクリーンルームを建設することが
可能となる。
するため、作業室の側方にスペースをとられることなく
、わずかな立地面積でクリーンルームを建設することが
可能となる。
[実施例]
第1図は、本発明の一実施例であるクリーンルームを模
式的に示す説明図である。
式的に示す説明図である。
本実施例のクリーンルームは、いわゆるクリーントンネ
ルモジュール方式のクリーンルームであり、建屋31は
作業室33と、この作業室33の両側方に隔壁されて設
けられた流通室35.35と、前記作業室33と流通室
35.35の下方に床部材37により仕切られた排気室
39とを有している。
ルモジュール方式のクリーンルームであり、建屋31は
作業室33と、この作業室33の両側方に隔壁されて設
けられた流通室35.35と、前記作業室33と流通室
35.35の下方に床部材37により仕切られた排気室
39とを有している。
上記作業室33は、リソグラフィ装置、拡散装置等の処
理装置41の載置される一対の処理空間43.43と、
図示しない作業者の位置する作業空間45とに区画され
ている。
理装置41の載置される一対の処理空間43.43と、
図示しない作業者の位置する作業空間45とに区画され
ている。
また流通室35.35は、主として空気の流通目的のた
めに設けられた空間を有しており、保全装置59等の諸
設備はここには配置されていない。
めに設けられた空間を有しており、保全装置59等の諸
設備はここには配置されていない。
したがって、流通室35.35の室幅は前記目的にそっ
て空気の流通が可能な幅があれば十分である。
て空気の流通が可能な幅があれば十分である。
ところで、作業室33と流通室35の床部材37は、処
理装置41等が載置される部位ではセメントプレート板
47等のように層流の流通を妨げるものが用いられてい
るが、その他の部分では、たとえばすのこ状の層流の流
通が可能な金属部材で形成され、このすのこ部分は実質
的に排気口49および吸気口51を構成している。
理装置41等が載置される部位ではセメントプレート板
47等のように層流の流通を妨げるものが用いられてい
るが、その他の部分では、たとえばすのこ状の層流の流
通が可能な金属部材で形成され、このすのこ部分は実質
的に排気口49および吸気口51を構成している。
排気室39の床部は二重構造となっており、第一床53
はすのこ状の金属部材で形成されており、第二床55は
実質的な床としてセメント等で形成されている。第二床
55の中央部分には排水溝57が設けられており、この
排水溝57に向かって床面ばわずかに傾斜を有するよう
に形成されている。したがって、処理装置41等の汚水
洩れおよびクリーニングの汚水は排気室39を経て床面
の排水溝57より排出されるようになっている。
はすのこ状の金属部材で形成されており、第二床55は
実質的な床としてセメント等で形成されている。第二床
55の中央部分には排水溝57が設けられており、この
排水溝57に向かって床面ばわずかに傾斜を有するよう
に形成されている。したがって、処理装置41等の汚水
洩れおよびクリーニングの汚水は排気室39を経て床面
の排水溝57より排出されるようになっている。
排気室39中1作業室33の直下部分には処理装置41
の補助設備である保全装置59等が配置され、この空間
が排気空間であるとともに実質的に保全空間を形成して
、いる。したがって、保全作業を行うため、この空間は
作業者の立ち入りが可能な高さ、たとえば2〜3m程度
となっている。
の補助設備である保全装置59等が配置され、この空間
が排気空間であるとともに実質的に保全空間を形成して
、いる。したがって、保全作業を行うため、この空間は
作業者の立ち入りが可能な高さ、たとえば2〜3m程度
となっている。
また、排気室39内で、流通室35の直下部分には電気
系統の集合配vA61、給排気用のダクト63等が設け
られている。
系統の集合配vA61、給排気用のダクト63等が設け
られている。
一方、作業空間45及び処理空間43の天井近傍には各
々空気清浄機65a、65b、65cが取付けられてい
る。この空気清浄機6.5a〜65Cは第2図に示した
ものと同様の構造のファンおよびフィルタを備えており
、このフィルタは、たとえばガラス繊維もしくはナイロ
ン繊維のシートがリボン状に折り畳んだ状態で収容され
た構造のものである。空気清浄機65aには流通室35
からのダクト67が接続されており、また空気清浄16
5b、65Cは流通室35と連通された構造となってお
り、流通室35を流通してきた復流空気をファンにより
各空間43.45に送り出すようになっている。
々空気清浄機65a、65b、65cが取付けられてい
る。この空気清浄機6.5a〜65Cは第2図に示した
ものと同様の構造のファンおよびフィルタを備えており
、このフィルタは、たとえばガラス繊維もしくはナイロ
ン繊維のシートがリボン状に折り畳んだ状態で収容され
た構造のものである。空気清浄機65aには流通室35
からのダクト67が接続されており、また空気清浄16
5b、65Cは流通室35と連通された構造となってお
り、流通室35を流通してきた復流空気をファンにより
各空間43.45に送り出すようになっている。
次に、本実施例の作用について説明する。
図示しない空気調整機によって所定の温度・湿度に調整
された調整空気はダクトを通って空気清浄機65aに送
られる。ここで調整空気は空気清浄機65a内のファン
により加圧されてフィルタを通り、作業空間45に吹き
出される。作業空間45は、その床部がすのこ状の排気
口49となっているため、調整空気は天井から床方向に
垂直層流69aとなって流れ、作業空間45内を清浄化
する。さらに空気69aは排気口49から排気室39に
流れ込む、排気室39を流通した空気69aは、吸気口
51より流通室35内に復流69bとなって流れ込む、
2iiL通室35を通過した復流69bの一部は再度空
気清浄機65aに送られフィルタを経て作業空間に吹き
出される。
された調整空気はダクトを通って空気清浄機65aに送
られる。ここで調整空気は空気清浄機65a内のファン
により加圧されてフィルタを通り、作業空間45に吹き
出される。作業空間45は、その床部がすのこ状の排気
口49となっているため、調整空気は天井から床方向に
垂直層流69aとなって流れ、作業空間45内を清浄化
する。さらに空気69aは排気口49から排気室39に
流れ込む、排気室39を流通した空気69aは、吸気口
51より流通室35内に復流69bとなって流れ込む、
2iiL通室35を通過した復流69bの一部は再度空
気清浄機65aに送られフィルタを経て作業空間に吹き
出される。
また、復流の一部69cは、画処理空間43゜43の直
上にある空気清浄4!165b、65cに送られ、ファ
ンにより加圧されてフィルタを通り、処理空間43.4
3に吹き出される。ここで、処理空間43.43上の空
気清浄機65b、65cのファンの加圧は、作業空間4
5上の空気清浄機65aのファンの加圧よりも若干強く
なっているため、作業空間45よりも画処理空間43.
43の方が陽圧に維持される状態となっている。このよ
うに、処理空間43の方が作業空間45よりも陽圧とな
っているため、作業空間45からの塵埃等の侵入による
処理空間43の汚染が防止される。
上にある空気清浄4!165b、65cに送られ、ファ
ンにより加圧されてフィルタを通り、処理空間43.4
3に吹き出される。ここで、処理空間43.43上の空
気清浄機65b、65cのファンの加圧は、作業空間4
5上の空気清浄機65aのファンの加圧よりも若干強く
なっているため、作業空間45よりも画処理空間43.
43の方が陽圧に維持される状態となっている。このよ
うに、処理空間43の方が作業空間45よりも陽圧とな
っているため、作業空間45からの塵埃等の侵入による
処理空間43の汚染が防止される。
処理空間43内を流れた空気は排気口49より排気室3
9に送られ、さらに吸気口51より流通室35を通過し
て空気清浄165a、65’bあるいは65Cに再度復
流される。
9に送られ、さらに吸気口51より流通室35を通過し
て空気清浄165a、65’bあるいは65Cに再度復
流される。
このように復流が繰り返し空気清浄1a65a〜65c
のフィルタを循環することによって、処理空間43では
クラス10相当の清浄度が実現される。
のフィルタを循環することによって、処理空間43では
クラス10相当の清浄度が実現される。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
できる。
(1)0作業室33の下方に設けられた排気室39内に
保全装置59等の補助設備を配置することにより、作業
室33の側方を復fi69b、69cの流通室35とし
てのみ使用できるため、少ない床面積で建設可能な省ス
ペース形のクリーンルームを提供することができる。
保全装置59等の補助設備を配置することにより、作業
室33の側方を復fi69b、69cの流通室35とし
てのみ使用できるため、少ない床面積で建設可能な省ス
ペース形のクリーンルームを提供することができる。
(2)、保全装置59等の補助設備を作業室33の下方
の排気室33に配置することにより、保全装置59等の
作動時の振動が作業室33内の処理装置41に伝達され
にくい構造となり、信転性の高い処理を実現できる。
の排気室33に配置することにより、保全装置59等の
作動時の振動が作業室33内の処理装置41に伝達され
にくい構造となり、信転性の高い処理を実現できる。
(3)、排気室39の床55に排水溝57を設け、当該
排水溝57に向かって床面をわずかに傾斜を有する状態
で形成することによって、処理装置41等から生しる汚
水洩れおよび床下クリーニングの汚水が前記排水溝57
より排出されるため、作業室33内の汚染を防止できる
。
排水溝57に向かって床面をわずかに傾斜を有する状態
で形成することによって、処理装置41等から生しる汚
水洩れおよび床下クリーニングの汚水が前記排水溝57
より排出されるため、作業室33内の汚染を防止できる
。
(4)、上記(2)および(3)により、クリーンルー
ム内での処理の信幀性を向上させることができる。
ム内での処理の信幀性を向上させることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、実施例ではク
リーントンネルモジエール式空気清浄機構で説明したが
、前面ダウンフロ一式の空気清浄機構であってもよい。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。たとえば、実施例ではク
リーントンネルモジエール式空気清浄機構で説明したが
、前面ダウンフロ一式の空気清浄機構であってもよい。
また、排気室の床構造についても二重構造である必要は
なく、単に傾斜床構造のものであってもよい。
なく、単に傾斜床構造のものであってもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、半導体装置の製造に用いられる
クリーンルームに適用した場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、たとえば食品製造あるい
は医療分野等で清浄環境を提供するためのクリーンルー
ムに通用できる。
をその利用分野である、半導体装置の製造に用いられる
クリーンルームに適用した場合について説明したが、こ
れに限定されるものではなく、たとえば食品製造あるい
は医療分野等で清浄環境を提供するためのクリーンルー
ムに通用できる。
[発明の効果]
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、処理装置の載置された作業室の下方に層流の
流通可能な床材によって仕切られた排気室が形成され、
該排気室に補助設備が配置されたクリーンルーム構造と
することにより、作業室の側方のスペースを小さくする
ことができ、わずかな立地面積でクリーンルームを建設
することが可能となり、省スペース化を実現できる。
流通可能な床材によって仕切られた排気室が形成され、
該排気室に補助設備が配置されたクリーンルーム構造と
することにより、作業室の側方のスペースを小さくする
ことができ、わずかな立地面積でクリーンルームを建設
することが可能となり、省スペース化を実現できる。
第1図は、本発明の一実施例であるクリーンルームを模
式的に示す説明図、 第2図は、従来技術におけるクリーンルームを模式的に
示す説明図である。 1・・・建屋、3・・・作業室、5a、5b・・・壁部
材、?a、7b・・・保全室、9・・・排気室、11・
・・作業空間、13a、13b・・・処理空間、15・
・・処理装置、17・・・補助装置、19.a、19b
、19c・・・フィルタ、21・・・床部材、31・・
・建屋、33・・・作業室、35・・・流通室、37・
・・床部材、39・・・排気室、41・・・処理装置、
43・・・処理空間、45・・・作業空間、47・・・
セメントプレート板、49・・・排気口、51・・・吸
気口、53・・・第一床、55・・・第二床、57・・
・排水溝、59・・・保全装置(補助設備)、61・・
・集合配線、63・・・給排気用ダクト、65a、65
b、65c・・・空気清浄機、67・・・ダクト、69
a・・・層流、69b、69C・・・復流。 第 1 図
式的に示す説明図、 第2図は、従来技術におけるクリーンルームを模式的に
示す説明図である。 1・・・建屋、3・・・作業室、5a、5b・・・壁部
材、?a、7b・・・保全室、9・・・排気室、11・
・・作業空間、13a、13b・・・処理空間、15・
・・処理装置、17・・・補助装置、19.a、19b
、19c・・・フィルタ、21・・・床部材、31・・
・建屋、33・・・作業室、35・・・流通室、37・
・・床部材、39・・・排気室、41・・・処理装置、
43・・・処理空間、45・・・作業空間、47・・・
セメントプレート板、49・・・排気口、51・・・吸
気口、53・・・第一床、55・・・第二床、57・・
・排水溝、59・・・保全装置(補助設備)、61・・
・集合配線、63・・・給排気用ダクト、65a、65
b、65c・・・空気清浄機、67・・・ダクト、69
a・・・層流、69b、69C・・・復流。 第 1 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、処理装置の載置された作業室の下方に、層流の流通
可能な床材によって仕切られた排気室が形成され、該排
気室に前記処理装置の補助設備が配置されてなることを
特徴とするクリーンルーム。 2、クリーントンネルモジュール式空気清浄機構を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のクリー
ンルーム。 3、前記排気室の床面に排水溝が形成され、該排水溝方
向が低部となるように床面が水平方向よりも所定角度だ
け傾斜して形成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項または第2項記載のクリーンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035125A JPS62194140A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | クリ−ンル−ム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035125A JPS62194140A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | クリ−ンル−ム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62194140A true JPS62194140A (ja) | 1987-08-26 |
Family
ID=12433212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61035125A Pending JPS62194140A (ja) | 1986-02-21 | 1986-02-21 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62194140A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5058491A (en) * | 1990-08-27 | 1991-10-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Building and method for manufacture of integrated circuits |
WO1997003234A1 (en) * | 1995-07-10 | 1997-01-30 | Seh America, Inc. | Crystal growing cell and installation |
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