JPS62163250A - 質量分析装置用イオン源 - Google Patents
質量分析装置用イオン源Info
- Publication number
- JPS62163250A JPS62163250A JP61002946A JP294686A JPS62163250A JP S62163250 A JPS62163250 A JP S62163250A JP 61002946 A JP61002946 A JP 61002946A JP 294686 A JP294686 A JP 294686A JP S62163250 A JPS62163250 A JP S62163250A
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- JP
- Japan
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- sample
- ionization chamber
- ion source
- porous member
- ionization
- Prior art date
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、液体試料を直接イオン化室内に導入し、電子
衝撃あるいは化学イオン化によりイオン化することので
きる質量分析装置用イオン源に関するものである。
衝撃あるいは化学イオン化によりイオン化することので
きる質量分析装置用イオン源に関するものである。
［従来技術］
近時、液体りＯマドグラフで展開された試料液を質量分
析装置のイオン源に導入してイオン化する方式として、
特開昭５２−１１７１９１号に記載されているベルト方
式や、特開昭５７−８３６号に記載されている直接噴霧
方式等がある。
析装置のイオン源に導入してイオン化する方式として、
特開昭５２−１１７１９１号に記載されているベルト方
式や、特開昭５７−８３６号に記載されている直接噴霧
方式等がある。
［発明が解決しようとする問題点］
ところが、ベルト方式では、ベルトをイオン源内へ導入
するための真空保持数構が大がかりになり、ベルトの汚
染による所謂メモリ効果の問題もある。
するための真空保持数構が大がかりになり、ベルトの汚
染による所謂メモリ効果の問題もある。
又、直接噴霧方式では、極めて精巧な噴霧ノズルが必要
であり、そのノズルもつまり易く、イオン化室内へ試料
液を安定して導入することがむずかしいという問題点が
ある。
であり、そのノズルもつまり易く、イオン化室内へ試料
液を安定して導入することがむずかしいという問題点が
ある。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、簡単
な構成でイオン化室内に試料液を安定して導入し、イオ
ン化することのできるイオン源を提供することを目的と
している。
な構成でイオン化室内に試料液を安定して導入し、イオ
ン化することのできるイオン源を提供することを目的と
している。
［問題点を解決するための手段］
この目的を達成するため、本発明にかかるイオン源は、
イオン化室と、該イオン化室内へ入射させる電子線を発
生するための手段と、試料液を外部から該イオン化室内
へ導入するための導入管と、該導入管の先端に取付けら
れる多孔性部材とから構成されることを特徴としている
。
イオン化室と、該イオン化室内へ入射させる電子線を発
生するための手段と、試料液を外部から該イオン化室内
へ導入するための導入管と、該導入管の先端に取付けら
れる多孔性部材とから構成されることを特徴としている
。
［作用コ
導入管を介してイオン化室内に導入され、多孔性部材を
通ってその表面に滲み出て来た試料液は、気化した後電
子衝撃によりイオン化される。以下、図面を用いて本発
明の実施例を詳述する。
通ってその表面に滲み出て来た試料液は、気化した後電
子衝撃によりイオン化される。以下、図面を用いて本発
明の実施例を詳述する。
［実施例］
第１図は本考案を電子衝撃イオン化型（Ｅｌ）イオン源
に適用した実施例の一例を示す断面図であり、同図にお
いて１は質量分析装置の買は分析部、２はイオン化室、
３は電子線を発生するフィラメント、４．５はイオン化
室２に開けられた電子入射口及び電子出射口、６はイオ
ン化ｖ２内で生成されたイオンを外部へ取出し、加速と
収束を行うスリット電極、７は高速液体クロマトグラフ
、８はイオン化室２へ液体クロマトグラフ７で展開され
た試料液を送るための導入管である。上記導入管８とし
ては、例えば内径４０μｍ程度のフユーズドシリ力管が
用いられる。
に適用した実施例の一例を示す断面図であり、同図にお
いて１は質量分析装置の買は分析部、２はイオン化室、
３は電子線を発生するフィラメント、４．５はイオン化
室２に開けられた電子入射口及び電子出射口、６はイオ
ン化ｖ２内で生成されたイオンを外部へ取出し、加速と
収束を行うスリット電極、７は高速液体クロマトグラフ
、８はイオン化室２へ液体クロマトグラフ７で展開され
た試料液を送るための導入管である。上記導入管８とし
ては、例えば内径４０μｍ程度のフユーズドシリ力管が
用いられる。
この導入管８の先端部にはステンレス管９が被せられる
と共に、その外側にガラス管１０が被せられ、更にその
外側に加熱用のヒータ１１が巻回されている。そして、
導入管８の開口部を塞ぐように多孔性部材１２が取付け
られている。この多孔性部材としては、例えばステンレ
スの粉末を焼結して作成したフィルタ（フリット）が使
用される。尚、上記ステンレス管９にはりベラ電源１３
から適宜なりベラ電圧が印加される。
と共に、その外側にガラス管１０が被せられ、更にその
外側に加熱用のヒータ１１が巻回されている。そして、
導入管８の開口部を塞ぐように多孔性部材１２が取付け
られている。この多孔性部材としては、例えばステンレ
スの粉末を焼結して作成したフィルタ（フリット）が使
用される。尚、上記ステンレス管９にはりベラ電源１３
から適宜なりベラ電圧が印加される。
上述の如き構成において、液体クロマトグラフで展開さ
れた試料液は、イオン源の排気能力に応じた時間当り流
量例えば５μ９／分で導入管を介してイオン化室２へ向
けて送られる。送られて来た試料液は、ヒータ１１によ
って適宜な温度に設定されている多孔性部材１２を通っ
て徐々にその表面に滲み出て、気化する。その際、多孔
性部材の表面付近では、沸点の低い試料液中の溶媒が優
先的に高速で気化し、沸点の高い試料成分は比較的ゆっ
くりと気化するため、相対的に多孔性部材表面における
試料成分の濃度は高まることになる。
れた試料液は、イオン源の排気能力に応じた時間当り流
量例えば５μ９／分で導入管を介してイオン化室２へ向
けて送られる。送られて来た試料液は、ヒータ１１によ
って適宜な温度に設定されている多孔性部材１２を通っ
て徐々にその表面に滲み出て、気化する。その際、多孔
性部材の表面付近では、沸点の低い試料液中の溶媒が優
先的に高速で気化し、沸点の高い試料成分は比較的ゆっ
くりと気化するため、相対的に多孔性部材表面における
試料成分の濃度は高まることになる。
このようにして、多孔性部材表面に濃縮された試料成分
が存在するため、多孔性部材表面近傍には、気化した試
料成分が比較的高い濃度で存在し、この高い濃度の気化
試料成分は、入射口４から出射口５へ向けてイオン化室
内を通る電子線の衝撃を受けてイオン化される。
が存在するため、多孔性部材表面近傍には、気化した試
料成分が比較的高い濃度で存在し、この高い濃度の気化
試料成分は、入射口４から出射口５へ向けてイオン化室
内を通る電子線の衝撃を受けてイオン化される。
尚、電子線と多孔性部材表面との相対位置関係を比較的
厳密に調整することが必要なので、多孔性部材１２を前
後方向に移動する＠Ｉを設けることが望ましい。
厳密に調整することが必要なので、多孔性部材１２を前
後方向に移動する＠Ｉを設けることが望ましい。
第２図は本発明を化学イオン化（ＣＩ）イオン源に適用
した実施例を示す断面図であり、イオン化室内に管１４
を介してＣＩガスを導入できるようにした点と、イオン
化室をＣＩに適した比較的高い圧力に保つため、電子入
射口４及びイオン取出し口を小さくし電子出射口５をな
くした点が第１図の実施例と異なっているだけで他の部
分は同じ構成となっている。
した実施例を示す断面図であり、イオン化室内に管１４
を介してＣＩガスを導入できるようにした点と、イオン
化室をＣＩに適した比較的高い圧力に保つため、電子入
射口４及びイオン取出し口を小さくし電子出射口５をな
くした点が第１図の実施例と異なっているだけで他の部
分は同じ構成となっている。
本実施例では、入射口４を介して導入される電子線によ
って先ずＣＩガスがイオン化され、その後、ＣＩガスイ
オンとの反応によって気化試料成分がイオン化される。
って先ずＣＩガスがイオン化され、その後、ＣＩガスイ
オンとの反応によって気化試料成分がイオン化される。
第３図はＥＩ−ＣＩ複合イオン源に本発明を適用した実
施例の構成を示し、ＥＩ用の大きな電子入射０４Ｅと電
子出射口５を備えたイオン化室２Ｅ内に、ＣＩ用の小さ
な電子入射口４Ｇを備えたイオン化室２Ｃを摺動可能に
挿入した構成となっている。
施例の構成を示し、ＥＩ用の大きな電子入射０４Ｅと電
子出射口５を備えたイオン化室２Ｅ内に、ＣＩ用の小さ
な電子入射口４Ｇを備えたイオン化室２Ｃを摺動可能に
挿入した構成となっている。
第３図の状態はＣＩモードであり、イオン化室２Ｃを破
線の位置へ引出し、管１４を介しての（：Ｉガス導入を
停止すれば、入射口４Ｅと出射口５との間を電子線が通
過し、ＥＩモードでのイオン化が可能である。
線の位置へ引出し、管１４を介しての（：Ｉガス導入を
停止すれば、入射口４Ｅと出射口５との間を電子線が通
過し、ＥＩモードでのイオン化が可能である。
尚、第３図に示したＥｌ−ＣＩ複合イオン源の他にも、
第１図の実施例の斜線を施した部分Ａに外部と連通ずる
通路を設け、この通路を介して一次中性ビーム又はイオ
ンビームを多孔性部材の表面に照射できるようにすれば
、ＥＩによるイオン化と一次粒子ビーム衝撃によるイオ
ン化を行うことのできる複合イオン源が実現される。
第１図の実施例の斜線を施した部分Ａに外部と連通ずる
通路を設け、この通路を介して一次中性ビーム又はイオ
ンビームを多孔性部材の表面に照射できるようにすれば
、ＥＩによるイオン化と一次粒子ビーム衝撃によるイオ
ン化を行うことのできる複合イオン源が実現される。
［効果１
以上詳述した如く、本発明によれば、多孔性部材を導入
管の先端に取付けるという簡単な構成で、液体試料をイ
オン化室内に導入し、イオン化することのできる質量分
析装置用イオン源が実現される。
管の先端に取付けるという簡単な構成で、液体試料をイ
オン化室内に導入し、イオン化することのできる質量分
析装置用イオン源が実現される。
３、発明の詳細な説明
第１図乃至第３図は夫々本発明の一実施例の構成を示す
断面図である。
断面図である。
１：貿恒分析部 ２：イオン化至
３；フィラメント ４：電子入射口
５：電子出射口 ６：スリツト電極７：高速液体ク
ロマトグラフ
ロマトグラフ
Claims (4)
- （１）イオン化室と、該イオン化室内へ入射させる電子
線を発生するための手段と、試料液を外部から該イオン
化室内へ導入するための導入管と、該導入管の先端に取
付けられる多孔性部材とから構成されることを特徴とす
る質量分析装置用イオン源。 - （２）前記導入管の先端部分にリペラ電極を取付け、更
にその先に前記多孔性部材を取付けるようにしたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の質量分析装置用
イオン源。 - （３）液体クロマトグラフを前記導入管に接続したこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第２項のいずれ
かに記載の質量分析装置用イオン源。 - （４）前記室内に反応ガスを導入し、化学イオン化によ
り試料をイオン化できるようにした特許請求の範囲第１
項乃至第３項のいずれかに記載の質量分析装置用イオン
源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002946A JPH0630238B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 質量分析装置用イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002946A JPH0630238B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 質量分析装置用イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62163250A true JPS62163250A (ja) | 1987-07-20 |
| JPH0630238B2 JPH0630238B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=11543534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61002946A Expired - Lifetime JPH0630238B2 (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | 質量分析装置用イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630238B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01281651A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Jeol Ltd | 質量分析装置用イオン源 |
| JPH01299454A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57126064U (ja) * | 1981-01-30 | 1982-08-06 |
-
1986
- 1986-01-10 JP JP61002946A patent/JPH0630238B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57126064U (ja) * | 1981-01-30 | 1982-08-06 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01281651A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Jeol Ltd | 質量分析装置用イオン源 |
| JPH01299454A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0630238B2 (ja) | 1994-04-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |