JPS621610B2 - - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 42
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 26
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 26
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 24
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 24
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 21
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- -1 aromatic phenols Chemical class 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDCPNGVVOWVKJG-VAWYXSNFSA-N 2-[(e)-dodec-1-enyl]butanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C(C(O)=O)CC(O)=O QDCPNGVVOWVKJG-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methylpyrazol-3-amine Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1N TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C)C=CCCC1C(O)=O ODGCZQFTJDEYNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 4-[1,2,2-tris(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100365539 Drosophila melanogaster Sesn gene Proteins 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YCZWJBIXAUQULS-UHFFFAOYSA-M bis(4-methylphenyl)iodanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC(C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 YCZWJBIXAUQULS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012761 high-performance material Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N sbb061129 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C=C(C)C2C1 JIYNFFGKZCOPKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N selenium;tin Chemical compound [Sn]=[Se] MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Epoxy Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な硬化性樹脂組成物に関する。さ
らに詳しくは、光または放射線照射により硬化し
うるエポキシ樹脂および多官能無水カルボン酸か
らなる硬化性樹脂組成物に関する。
らに詳しくは、光または放射線照射により硬化し
うるエポキシ樹脂および多官能無水カルボン酸か
らなる硬化性樹脂組成物に関する。
従来よりエポキシ樹脂は高性能材料として広い
分野で利用されている。とくに酸無水物硬化エポ
キシ樹脂は機械的性質、電気的性質および熱的性
質にすぐれたものであることが知られている。
分野で利用されている。とくに酸無水物硬化エポ
キシ樹脂は機械的性質、電気的性質および熱的性
質にすぐれたものであることが知られている。
エポキシ樹脂を酸無水物(すなわち無水カルボ
ン酸)で硬化させるばあいには、通常1個のエポ
キシ基に対して0.5〜1.0個のカルボキシル基が導
入されるようにエポキシ樹脂および酸無水物が配
合され、また加熱硬化触媒として第3級アミン類
や金属キレート化合物が添加される。このエポキ
シ樹脂配合物は被処理物に塗布、含浸または注型
されたのちに加熱硬化される。
ン酸)で硬化させるばあいには、通常1個のエポ
キシ基に対して0.5〜1.0個のカルボキシル基が導
入されるようにエポキシ樹脂および酸無水物が配
合され、また加熱硬化触媒として第3級アミン類
や金属キレート化合物が添加される。このエポキ
シ樹脂配合物は被処理物に塗布、含浸または注型
されたのちに加熱硬化される。
従来法の酸無水物によるエポキシ樹脂の硬化に
は、高温で長時間加熱(たとえば150〜180℃で数
時間〜数十時間)を要し、省エネルギーという観
点から好ましくない。またこの樹脂配合物を含浸
用または注型用として用いるばあいには、加熱中
に被処理物から樹脂配合物が漏れ出て被処理物に
空隙ができたり、垂れが発生するおそれがある。
は、高温で長時間加熱(たとえば150〜180℃で数
時間〜数十時間)を要し、省エネルギーという観
点から好ましくない。またこの樹脂配合物を含浸
用または注型用として用いるばあいには、加熱中
に被処理物から樹脂配合物が漏れ出て被処理物に
空隙ができたり、垂れが発生するおそれがある。
本発明は前記のような従来の硬化性樹脂組成物
の欠点を排除するためになされたものであり、ま
ず光または放射線照射を行ない、しかるのち加熱
することによつて完全硬化しうる硬化性樹脂組成
物を提供することを目的としている。
の欠点を排除するためになされたものであり、ま
ず光または放射線照射を行ない、しかるのち加熱
することによつて完全硬化しうる硬化性樹脂組成
物を提供することを目的としている。
本発明者らはこの目的を達成するためにエポキ
シ樹脂−無水カルボン酸系組成物を硬化させる硬
化触媒としてルイス酸に着目し、鋭意検討を重ね
た結果、光または放射線照射によりルイス酸を放
出する化合物およびルイス酸の第4級アンモニウ
ム塩をエポキシ樹脂−無水カルボン酸系組成物に
添加することにより、前記目的を達成しうること
を見出し、本発明を完成するにいたつた。
シ樹脂−無水カルボン酸系組成物を硬化させる硬
化触媒としてルイス酸に着目し、鋭意検討を重ね
た結果、光または放射線照射によりルイス酸を放
出する化合物およびルイス酸の第4級アンモニウ
ム塩をエポキシ樹脂−無水カルボン酸系組成物に
添加することにより、前記目的を達成しうること
を見出し、本発明を完成するにいたつた。
すなわち本発明は(a)分子中に少なくとも2個以
上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、(b)前記エ
ポキシ樹脂と共重合可能な多官能の無水カルボン
酸、(c)光または放射線照射によつてルイス酸を放
出する化合物および(d)ルイス酸の第4級アンモニ
ウム塩からなり、エポキシ樹脂のエポキシ基1モ
ルあたりカルボキシル基0.2〜0.8モルに相当する
無水カルボン酸を有し、かつエポキシ樹脂と無水
カルボン酸の混合物100部(重量部、以下同様)
に対し、光または放射線放射によつてルイス酸を
放出する化合物0.05〜5部およびルイス酸の第4
級アンモニウム塩0.05〜5部をそれぞれ含有して
なる先に光または放射線を照射し、あとから熱を
かけて硬化せしめるための樹脂組成物に関するも
のであつて、含浸用または注型用樹脂組成物とし
て前記特定の成分からなる硬化性樹脂組成物を用
いることにより、従来の硬化性樹脂組成物におけ
るごとく加熱硬化中に被処理物から樹脂組成物が
漏れ出て被処理物に空隙ができたり、また垂れが
発生するといつた叙上の欠点が完全に排除され、
被処理物中に含浸した硬化性樹脂組成物が光また
は放射線照射によつて半ゲル状〜ゲル状に硬化さ
れるので、加熱硬化中に被処理物から樹脂組成物
が漏れ出すことがなく、したがつて被処理物に空
隙や垂れのない成形物がえられるというきわめて
顕著な効果が奏される。
上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、(b)前記エ
ポキシ樹脂と共重合可能な多官能の無水カルボン
酸、(c)光または放射線照射によつてルイス酸を放
出する化合物および(d)ルイス酸の第4級アンモニ
ウム塩からなり、エポキシ樹脂のエポキシ基1モ
ルあたりカルボキシル基0.2〜0.8モルに相当する
無水カルボン酸を有し、かつエポキシ樹脂と無水
カルボン酸の混合物100部(重量部、以下同様)
に対し、光または放射線放射によつてルイス酸を
放出する化合物0.05〜5部およびルイス酸の第4
級アンモニウム塩0.05〜5部をそれぞれ含有して
なる先に光または放射線を照射し、あとから熱を
かけて硬化せしめるための樹脂組成物に関するも
のであつて、含浸用または注型用樹脂組成物とし
て前記特定の成分からなる硬化性樹脂組成物を用
いることにより、従来の硬化性樹脂組成物におけ
るごとく加熱硬化中に被処理物から樹脂組成物が
漏れ出て被処理物に空隙ができたり、また垂れが
発生するといつた叙上の欠点が完全に排除され、
被処理物中に含浸した硬化性樹脂組成物が光また
は放射線照射によつて半ゲル状〜ゲル状に硬化さ
れるので、加熱硬化中に被処理物から樹脂組成物
が漏れ出すことがなく、したがつて被処理物に空
隙や垂れのない成形物がえられるというきわめて
顕著な効果が奏される。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いる分子中に少
なくとも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ
樹脂としては、たとえば2・2′−ビス(p−ヒド
ロキシフエニル)プロパン、2・2′−ビス(4−
ヒドロキシ−3・5−ジブロムフエニル)プロパ
ン、1・1・2・2−テトラキス(p−ヒドロキ
シフエニル)エタン、4・4−ジヒドロキシジフ
エニル、レゾルシン、カテコール、ヒドロキノン
などの芳香族フエノールのグリシジルエーテル、
フエノールノボラツク、クレゾールノボラツクな
どのグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセン
ジエポキシド、リモネンジエポキシド、ジシクロ
ペンタジエンジエポキシド、(3′・4′−エポキシ
シクロヘキシルメチル)−3・4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、(3′・4′−エポキ
シ−6′−メチルシクロヘキシルメチル)−3・4
−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、3−(3′・4′−エポキシシクロヘキシ
ル)−2・4−ジオキサスピロ(5・5)−8・9
−エポキシウンデカン、3−(グリシジルオキシ
エトキシエチル)−2・4−ジオキサスピロ
(5・5)−8・9−エポキシウンデカンなどの脂
環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレ
ート、5・5−ジメチルヒダトインのN・N′−
ジグリシジル誘導体などの複素環式エポキシ樹脂
などがあげられ、それらの1種または2種以上が
使用される。なおそのばあい分子中にエポキシ基
を1個含有するエポキシ化合物を希釈剤として配
合することも差しつかえない。
なくとも2個以上のエポキシ基を有するエポキシ
樹脂としては、たとえば2・2′−ビス(p−ヒド
ロキシフエニル)プロパン、2・2′−ビス(4−
ヒドロキシ−3・5−ジブロムフエニル)プロパ
ン、1・1・2・2−テトラキス(p−ヒドロキ
シフエニル)エタン、4・4−ジヒドロキシジフ
エニル、レゾルシン、カテコール、ヒドロキノン
などの芳香族フエノールのグリシジルエーテル、
フエノールノボラツク、クレゾールノボラツクな
どのグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセン
ジエポキシド、リモネンジエポキシド、ジシクロ
ペンタジエンジエポキシド、(3′・4′−エポキシ
シクロヘキシルメチル)−3・4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート、(3′・4′−エポキ
シ−6′−メチルシクロヘキシルメチル)−3・4
−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、3−(3′・4′−エポキシシクロヘキシ
ル)−2・4−ジオキサスピロ(5・5)−8・9
−エポキシウンデカン、3−(グリシジルオキシ
エトキシエチル)−2・4−ジオキサスピロ
(5・5)−8・9−エポキシウンデカンなどの脂
環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレ
ート、5・5−ジメチルヒダトインのN・N′−
ジグリシジル誘導体などの複素環式エポキシ樹脂
などがあげられ、それらの1種または2種以上が
使用される。なおそのばあい分子中にエポキシ基
を1個含有するエポキシ化合物を希釈剤として配
合することも差しつかえない。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いる前記エポキ
シ樹脂と共重合可能な多官能の無水カルボン酸と
しては、たとえばフタル酸、テトラヒドロフタル
酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、メチル
ナジツク酸、メチルテトラヒドロフタル酸、コハ
ク酸、ドデセニルコハク酸、メチルコハク酸、シ
トラコン酸などの二塩基性酸無水物、無水トリメ
リツト酸、無水ピロメリツト酸などの多塩基性酸
無水物などがあげられ、いずれも単独または混合
して用いることができる。そのばあいえられる硬
化物の橋かけ密度を調節するために、一塩基性カ
ルボン酸無水物を配合することも可能である。
シ樹脂と共重合可能な多官能の無水カルボン酸と
しては、たとえばフタル酸、テトラヒドロフタル
酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、メチル
ナジツク酸、メチルテトラヒドロフタル酸、コハ
ク酸、ドデセニルコハク酸、メチルコハク酸、シ
トラコン酸などの二塩基性酸無水物、無水トリメ
リツト酸、無水ピロメリツト酸などの多塩基性酸
無水物などがあげられ、いずれも単独または混合
して用いることができる。そのばあいえられる硬
化物の橋かけ密度を調節するために、一塩基性カ
ルボン酸無水物を配合することも可能である。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いる光または放
射線照射によつてルイス酸を放出する化合物とし
ては、たとえば一般式(1): (式中、MXnは錯陰イオンを表わし、MはSb、
Fe、Sn、Bi、Al、Ga、In、Ti、Zr、Sc、V、
Cr、Mn、Coなどの遷移金属類またはB、P、
Asなどの非金属類など、XはF、Clなどのハロ
ゲン、nは整数であり、たとえばBF− 4、PF− 6、
AsF− 6、SbF− 6、FeCl2− 4、SnCl− 6、SbCl− 6、
BiCl2− 5
などである。Yはニトロ基、水酸基、ハロゲン
基、N−モルホリノ基、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アミノ基、アリールアミノ基、
アリールメルカプト基など、mはMXnの価数で
ある)で示されるルイス酸のジアゾニウム塩、一
般式(2): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、R1およびR2
はニトロ基、水酸基、ハロゲン基、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アリール
アミノ基、アリールメルカプト基などである)で
示されるルイス酸のジアリールイオドニウム塩、
一般式(3): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Q1はS、
SeSnなどの第a族元素である)で示されるル
イス酸のトリフエニルオニウム塩および一般式
(4): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Q2はP、
N、Sbなどの第a族元素、R3は脂肪族基また
は芳香族基である)で示されるルイス酸のトリフ
エニルアルキル(またはアルコキシ、アリールな
ど)オニウム塩などがあげられ、とくに好ましい
ものとしては、一般式(2)、(3)および(4)で示される
ルイス酸を放出する化合物である。
射線照射によつてルイス酸を放出する化合物とし
ては、たとえば一般式(1): (式中、MXnは錯陰イオンを表わし、MはSb、
Fe、Sn、Bi、Al、Ga、In、Ti、Zr、Sc、V、
Cr、Mn、Coなどの遷移金属類またはB、P、
Asなどの非金属類など、XはF、Clなどのハロ
ゲン、nは整数であり、たとえばBF− 4、PF− 6、
AsF− 6、SbF− 6、FeCl2− 4、SnCl− 6、SbCl− 6、
BiCl2− 5
などである。Yはニトロ基、水酸基、ハロゲン
基、N−モルホリノ基、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アミノ基、アリールアミノ基、
アリールメルカプト基など、mはMXnの価数で
ある)で示されるルイス酸のジアゾニウム塩、一
般式(2): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、R1およびR2
はニトロ基、水酸基、ハロゲン基、アルキル基、
アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アリール
アミノ基、アリールメルカプト基などである)で
示されるルイス酸のジアリールイオドニウム塩、
一般式(3): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Q1はS、
SeSnなどの第a族元素である)で示されるル
イス酸のトリフエニルオニウム塩および一般式
(4): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Q2はP、
N、Sbなどの第a族元素、R3は脂肪族基また
は芳香族基である)で示されるルイス酸のトリフ
エニルアルキル(またはアルコキシ、アリールな
ど)オニウム塩などがあげられ、とくに好ましい
ものとしては、一般式(2)、(3)および(4)で示される
ルイス酸を放出する化合物である。
本発明の硬化性樹脂組成物に用いるルイス酸の
第4級アンモニウム塩としては、たとえば一般式
(5): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Z1、Z2、Z3
およびZ4は炭素数1〜8個からなるアルキル基、
アルコキシ基などの脂肪族基、ハロゲン基、ニト
ロ基、アミノ基などで置換された前記脂肪族基、
炭素数6〜15個からなるフエニル基、トリル基、
ベンジル基、ナフチル基などの芳香族基またはハ
ロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基などで置
換された前記芳香族基であり、かつ同じものでも
よく、また異なるものであつてもよい)で示され
るルイス酸の第4級アンモニウム塩があげられ、
とくに好ましいものとしては、一般式(5)において
Z1〜Z4が前記脂肪族基または前記置換された脂肪
族基からなるルイス酸の第4級アンモニウム塩で
ある。
第4級アンモニウム塩としては、たとえば一般式
(5): (式中、MXnおよびmは前記と同じ、Z1、Z2、Z3
およびZ4は炭素数1〜8個からなるアルキル基、
アルコキシ基などの脂肪族基、ハロゲン基、ニト
ロ基、アミノ基などで置換された前記脂肪族基、
炭素数6〜15個からなるフエニル基、トリル基、
ベンジル基、ナフチル基などの芳香族基またはハ
ロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基などで置
換された前記芳香族基であり、かつ同じものでも
よく、また異なるものであつてもよい)で示され
るルイス酸の第4級アンモニウム塩があげられ、
とくに好ましいものとしては、一般式(5)において
Z1〜Z4が前記脂肪族基または前記置換された脂肪
族基からなるルイス酸の第4級アンモニウム塩で
ある。
本発明の硬化性樹脂組成物において、エポキシ
樹脂と無水カルボン酸の配合割合としては、エポ
キシ樹脂のエポキシ基1モルあたりカルボキシル
基0.2〜0.8モルに相当する無水カルボン酸が採用
され、それにより機械的特性、電気的特性、熱的
性質などの諸特性にすぐれた硬化物を与えうる硬
化性樹脂組成物がえられる。無水カルボン酸の配
合割合がエポキシ樹脂のエポキシ基1モルあたり
カルボキシル基0.8モルに相当する無水カルボン
酸より多いときはえられる硬化性樹脂組成物の硬
化性がいちじるしく低下し、またカルボキシル基
0.2モルに相当する無水カルボン酸より少ないと
きは硬化性樹脂組成物の硬化性が低下するばかり
でなく、えられる硬化物の諸特性も低下し、いず
れも好ましくない。また光または放射線照射によ
つてルイス酸を放出する化合物およびルイス酸の
第4級アンモニウム塩の配合割合としては、エポ
キシ樹脂と無水カルボン酸の混合物100部(重量
部、以下同様)に対し、0.05〜5部がそれぞれ採
用され、それにより光または放射線照射により速
やかに硬化する硬化性樹脂組成物がえられる。光
または放射線照射によつてルイス酸を放出する化
合物およびルイス酸の第4級アンモニウム塩の配
合割合がエポキシ樹脂と無水カルボン酸の混合物
100部に対し0.05部よりそれぞれ少ないときは光
または放射線照射によつて、また熱によつて硬化
する速度が遅くなり、また5部よりそれぞれ多い
ときは硬化速度の上昇率が低下するばかりでな
く、えられる硬化物の諸特性も低下する傾向があ
り、いずれも好ましくない。
樹脂と無水カルボン酸の配合割合としては、エポ
キシ樹脂のエポキシ基1モルあたりカルボキシル
基0.2〜0.8モルに相当する無水カルボン酸が採用
され、それにより機械的特性、電気的特性、熱的
性質などの諸特性にすぐれた硬化物を与えうる硬
化性樹脂組成物がえられる。無水カルボン酸の配
合割合がエポキシ樹脂のエポキシ基1モルあたり
カルボキシル基0.8モルに相当する無水カルボン
酸より多いときはえられる硬化性樹脂組成物の硬
化性がいちじるしく低下し、またカルボキシル基
0.2モルに相当する無水カルボン酸より少ないと
きは硬化性樹脂組成物の硬化性が低下するばかり
でなく、えられる硬化物の諸特性も低下し、いず
れも好ましくない。また光または放射線照射によ
つてルイス酸を放出する化合物およびルイス酸の
第4級アンモニウム塩の配合割合としては、エポ
キシ樹脂と無水カルボン酸の混合物100部(重量
部、以下同様)に対し、0.05〜5部がそれぞれ採
用され、それにより光または放射線照射により速
やかに硬化する硬化性樹脂組成物がえられる。光
または放射線照射によつてルイス酸を放出する化
合物およびルイス酸の第4級アンモニウム塩の配
合割合がエポキシ樹脂と無水カルボン酸の混合物
100部に対し0.05部よりそれぞれ少ないときは光
または放射線照射によつて、また熱によつて硬化
する速度が遅くなり、また5部よりそれぞれ多い
ときは硬化速度の上昇率が低下するばかりでな
く、えられる硬化物の諸特性も低下する傾向があ
り、いずれも好ましくない。
本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させるには、
まず光または放射線照射を行なうのがよい。光照
射のばあいには、光源として280〜400mmの波長を
有する光を効率よく発生するランプ、たとえば高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプなどが用いられ、たとえば照射
距離5〜50cmで1秒〜10分程度の照射が行なわれ
る。また放射線照射のばあいには、放射線源とし
て電子線、γ線などが用いられ、吸収線量0.05〜
10Mrad程度の照射が行なわれる。この光または
放射線照射により、少なくとも樹脂表面層が硬化
し、半ゲル状となり流動性がいちじるしく低下す
る。ついでこの半ゲル状の樹脂を加熱することに
より樹脂組成物の完全硬化が行なわれる。加熱条
件としては、用いる加熱硬化触媒の種類により異
なるが、たとえば温度120〜180℃で数時間程度が
採用される。
まず光または放射線照射を行なうのがよい。光照
射のばあいには、光源として280〜400mmの波長を
有する光を効率よく発生するランプ、たとえば高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタ
ルハライドランプなどが用いられ、たとえば照射
距離5〜50cmで1秒〜10分程度の照射が行なわれ
る。また放射線照射のばあいには、放射線源とし
て電子線、γ線などが用いられ、吸収線量0.05〜
10Mrad程度の照射が行なわれる。この光または
放射線照射により、少なくとも樹脂表面層が硬化
し、半ゲル状となり流動性がいちじるしく低下す
る。ついでこの半ゲル状の樹脂を加熱することに
より樹脂組成物の完全硬化が行なわれる。加熱条
件としては、用いる加熱硬化触媒の種類により異
なるが、たとえば温度120〜180℃で数時間程度が
採用される。
本発明の硬化性樹脂組成物にあつては、機械的
性質、電気的性質および熱的性質にすぐれた酸無
水物硬化エポキシ樹脂がえられ、とくに含浸、注
型などに用いるばあいにはその効果は大きい。す
なわち本発明の硬化性樹脂組成物を被処理物に含
浸し、常温で光または放射線照射して被処理物表
面層の樹脂組成物を硬化させ、しかるのちに加熱
して完全硬化を行なうのであるが、そのばあいに
被処理物表面層の樹脂組成物が硬化しているの
で、加熱時に樹脂粘度の低下による樹脂組成物の
流出が防止される。また本発明の硬化性樹脂組成
物を注型に用いるばあいにも前記と同様な理由に
より、たとえば使用する「型」の簡略化などが図
られる。
性質、電気的性質および熱的性質にすぐれた酸無
水物硬化エポキシ樹脂がえられ、とくに含浸、注
型などに用いるばあいにはその効果は大きい。す
なわち本発明の硬化性樹脂組成物を被処理物に含
浸し、常温で光または放射線照射して被処理物表
面層の樹脂組成物を硬化させ、しかるのちに加熱
して完全硬化を行なうのであるが、そのばあいに
被処理物表面層の樹脂組成物が硬化しているの
で、加熱時に樹脂粘度の低下による樹脂組成物の
流出が防止される。また本発明の硬化性樹脂組成
物を注型に用いるばあいにも前記と同様な理由に
より、たとえば使用する「型」の簡略化などが図
られる。
また本発明の硬化性樹脂組成物には、エポキシ
樹脂−無水カルボン酸系組成物の光または放射線
硬化性や加熱硬化性をいちじるしく阻害しない程
度であれば、粘度調節用有機溶媒、無機充填剤、
染料、顔料、紫外線吸収剤などを適宜添加しても
よい。
樹脂−無水カルボン酸系組成物の光または放射線
硬化性や加熱硬化性をいちじるしく阻害しない程
度であれば、粘度調節用有機溶媒、無機充填剤、
染料、顔料、紫外線吸収剤などを適宜添加しても
よい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、たとえば金属、
プラスチツク、木材、ガラス、コンクリート、セ
ラミツクスなどの材料に塗布、含浸または注型し
て用いられる。
プラスチツク、木材、ガラス、コンクリート、セ
ラミツクスなどの材料に塗布、含浸または注型し
て用いられる。
つぎに実施例をあげて本発明の硬化性樹脂組成
物を具体的に説明する。
物を具体的に説明する。
実施例 1
エピコート828(シエル化学社製のエポキシ樹
脂、商品名、エポキシ当量:198)100gおよび
HN−2200〔日立化成工業(株)製の無水カルボン
酸、商品名、主成分:無水メチルテトラヒドロフ
タル酸〕80gの混合物に、4・4′−ジメチルジフ
エニルイオドニウムヘキサフロロホスフエート
0.9gおよびテトラエチルアンモニウムヘキサフ
ロロホスフエート0.9gを配合して硬化性樹脂組
成物を調製した。
脂、商品名、エポキシ当量:198)100gおよび
HN−2200〔日立化成工業(株)製の無水カルボン
酸、商品名、主成分:無水メチルテトラヒドロフ
タル酸〕80gの混合物に、4・4′−ジメチルジフ
エニルイオドニウムヘキサフロロホスフエート
0.9gおよびテトラエチルアンモニウムヘキサフ
ロロホスフエート0.9gを配合して硬化性樹脂組
成物を調製した。
ついで調製した硬化性樹脂組成物を離型剤を塗
布したアルミシヤーレに深さ約3mmになるように
それぞれ秤取し、これに高圧水銀灯〔H25−
UVA、三菱電機(株)製〕を用いて照射距離15cmコ
ンベア速度4m/分において空気中でPass回数
をかえてそれぞれ紫外線照射した。そのばあい硬
化性樹脂組成物は半ゲル状〜ゲル状に硬化した。
布したアルミシヤーレに深さ約3mmになるように
それぞれ秤取し、これに高圧水銀灯〔H25−
UVA、三菱電機(株)製〕を用いて照射距離15cmコ
ンベア速度4m/分において空気中でPass回数
をかえてそれぞれ紫外線照射した。そのばあい硬
化性樹脂組成物は半ゲル状〜ゲル状に硬化した。
この半ゲル状〜ゲル状に硬化した樹脂をアルミ
シヤーレよりはずして多量のアセトン中に入れ、
室温で72時間抽出を行ない、ついで100℃で真空
乾燥したのち秤量してゲル分率をそれぞれ測定し
た。調製した硬化性樹脂組成物のゲル分率と紫外
線照射量(Pass回数)の関係を第1図に示す。
シヤーレよりはずして多量のアセトン中に入れ、
室温で72時間抽出を行ない、ついで100℃で真空
乾燥したのち秤量してゲル分率をそれぞれ測定し
た。調製した硬化性樹脂組成物のゲル分率と紫外
線照射量(Pass回数)の関係を第1図に示す。
第1図から、本発明の硬化性樹脂組成物は、光
照射により容易に硬化することが明らかである。
照射により容易に硬化することが明らかである。
実施例 2
実施例1で調製した硬化性樹脂組成物を用い、
かつ実施例1と同様にして20Pass紫外線照射し
てえられたゲル状硬化樹脂を光にさらさないよう
にして130℃において加熱時間をかえてそれぞれ
加熱した。
かつ実施例1と同様にして20Pass紫外線照射し
てえられたゲル状硬化樹脂を光にさらさないよう
にして130℃において加熱時間をかえてそれぞれ
加熱した。
ついで加熱処理した硬化樹脂のゲル分率を実施
例1と同様にしてそれぞれ測定した。加熱処理し
た硬化樹脂のゲル分率と加熱時間の関係を第2図
に示す。
例1と同様にしてそれぞれ測定した。加熱処理し
た硬化樹脂のゲル分率と加熱時間の関係を第2図
に示す。
第2図から、本発明の硬化性樹脂組成物は、光
照射したのち加熱によつても硬化が進行すること
が明らかである。
照射したのち加熱によつても硬化が進行すること
が明らかである。
比較例 1
実施例1で用いた組成物からテトラエチルアン
モニウムヘキサフロロホスフエートをのぞいたも
のについて、実施例1と同様にして高圧水銀灯を
照射してゲル分率を測定したところ、第3図のと
おりであつた。
モニウムヘキサフロロホスフエートをのぞいたも
のについて、実施例1と同様にして高圧水銀灯を
照射してゲル分率を測定したところ、第3図のと
おりであつた。
比較例 2
比較例1で用いた組成物に高圧水銀灯を照射し
て20回パスさせたものについて実施例2と同様に
して加熱硬化を行ないゲル分率を測定したとこ
ろ、第4図のとおりであつた。
て20回パスさせたものについて実施例2と同様に
して加熱硬化を行ないゲル分率を測定したとこ
ろ、第4図のとおりであつた。
比較例 3〜6
実施例1で用いたテトラエチルアンモニウムヘ
キサフロロホスフエート0.9gのかわりにジシア
ンジアミド0.9g、イミダゾール0.9g、第3級ア
ミンであるベンジルジメチルアミン0.9gまたは
有機酸金属塩であるCo()アセチルアセトナ
ート0.9g(それぞれ比較例3〜6に対応)を用
いたものについて、実施例1と同様にして高圧水
銀灯を照射して40回パスさせたが、いずれもゲル
分率0であつた。
キサフロロホスフエート0.9gのかわりにジシア
ンジアミド0.9g、イミダゾール0.9g、第3級ア
ミンであるベンジルジメチルアミン0.9gまたは
有機酸金属塩であるCo()アセチルアセトナ
ート0.9g(それぞれ比較例3〜6に対応)を用
いたものについて、実施例1と同様にして高圧水
銀灯を照射して40回パスさせたが、いずれもゲル
分率0であつた。
さらに前記組成物を実施例2と同様の条件で8
時間加熱したが、硬化速度は著しくおそかつた。
時間加熱したが、硬化速度は著しくおそかつた。
比較例 7
実施例3において、ジフエニルイオドニウムテ
トラフロロボレート0.5gを用いず、高圧水銀灯
の照射を行なわない以外は実施例3と同様にして
硬化させようとしたが、熱硬化中に樹脂組成物が
漏れ出し、まともな硬化物はえられなかつた。
トラフロロボレート0.5gを用いず、高圧水銀灯
の照射を行なわない以外は実施例3と同様にして
硬化させようとしたが、熱硬化中に樹脂組成物が
漏れ出し、まともな硬化物はえられなかつた。
実施例 3
エピコート828(前出)100gおよびHN−2200
(前出)50gの混合物に、ジフエニルイオドニウ
ムテトラフロロボレート0.5gおよびテトラ−n
−ブチルアンモニウムヘキサフロロホスフエート
1.0gを配合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(前出)50gの混合物に、ジフエニルイオドニウ
ムテトラフロロボレート0.5gおよびテトラ−n
−ブチルアンモニウムヘキサフロロホスフエート
1.0gを配合して硬化性樹脂組成物を調製した。
ついで調製した硬化性樹脂組成物を用いてコイ
ル(外径:22cm、内径:20cm、長さ:25cm)を真
空含浸処理し、樹脂含浸コイルをえた。えられた
樹脂含浸コイルを回転させながら、高圧水銀灯
(前出)を用いて垂直照射距離15cm、コイルの回
転数20回転/分、照射時間5分の射照条件におい
て空気中で紫外線照射した。照射されたコイル
は、コイル表面の樹脂組成物が硬化されており、
また外観はきわめて良好であつた。
ル(外径:22cm、内径:20cm、長さ:25cm)を真
空含浸処理し、樹脂含浸コイルをえた。えられた
樹脂含浸コイルを回転させながら、高圧水銀灯
(前出)を用いて垂直照射距離15cm、コイルの回
転数20回転/分、照射時間5分の射照条件におい
て空気中で紫外線照射した。照射されたコイル
は、コイル表面の樹脂組成物が硬化されており、
また外観はきわめて良好であつた。
ついで照射されたコイルを130℃の炉中に静置
して8時間加熱し、コイルの含浸樹脂組成物を硬
化させた。えられたコイルはきわめてすぐれた外
観を有する樹脂で包埋されたものであつた。
して8時間加熱し、コイルの含浸樹脂組成物を硬
化させた。えられたコイルはきわめてすぐれた外
観を有する樹脂で包埋されたものであつた。
第1図は本発明の硬化性樹脂組成物のゲル分率
と紫外線照射量(Pass回数)の関係を示すグラ
フ、第2図は本発明の硬化性樹脂組成物を
20Pass紫外線照射したのち、130℃において加熱
してえられた硬化物のゲル分率と加熱時間の関係
を示すグラフ、第3図は実施例1の組成物からテ
トラエチルアンモニウムヘキサフロロホスフエー
トをのぞいたものについてのゲル分率と紫外線照
射量との関係を示すグラフおよび第4図は比較例
1の組成物に高圧水銀灯を照射し20回パスさせた
ものについて熱硬化を行なつたものについてのゲ
ル分率と加熱時間との関係を示すグラフである。
と紫外線照射量(Pass回数)の関係を示すグラ
フ、第2図は本発明の硬化性樹脂組成物を
20Pass紫外線照射したのち、130℃において加熱
してえられた硬化物のゲル分率と加熱時間の関係
を示すグラフ、第3図は実施例1の組成物からテ
トラエチルアンモニウムヘキサフロロホスフエー
トをのぞいたものについてのゲル分率と紫外線照
射量との関係を示すグラフおよび第4図は比較例
1の組成物に高圧水銀灯を照射し20回パスさせた
ものについて熱硬化を行なつたものについてのゲ
ル分率と加熱時間との関係を示すグラフである。
Claims (1)
- 1 (a)分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基
を有するエポキシ樹脂、(b)前記エポキシ樹脂と共
重合可能な多官能の無水カルボン酸、(c)光または
放射線照射によつてルイス酸を放出する化合物お
よび(d)ルイス酸の第4級アンモニウム塩からな
り、エポキシ樹脂のエポキシ基1モルあたりカル
ボキシル基0.2〜0.8モルに相当する無水カルボン
酸を含有し、かつエポキシ樹脂と無水カルボン酸
の混合物100重量部に対し光または放射線照射に
よつてルイス酸を放出する化合物0.05〜5重量部
およびルイス酸の第4級アンモニウム塩0.05〜5
重量部をそれぞれ含有してなる先に光または放射
線を照射し、あとから熱をかけて硬化せしめるた
めの樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7395180A JPS57122A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | Curable resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7395180A JPS57122A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | Curable resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57122A JPS57122A (en) | 1982-01-05 |
JPS621610B2 true JPS621610B2 (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=13532894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7395180A Granted JPS57122A (en) | 1980-05-30 | 1980-05-30 | Curable resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57122A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0127779Y2 (ja) * | 1986-05-14 | 1989-08-23 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4891569A (en) * | 1982-08-20 | 1990-01-02 | Versatex Industries | Power factor controller |
JPH064694B2 (ja) * | 1983-04-28 | 1994-01-19 | 三井東圧化学株式会社 | 紫外線硬化組成物 |
JPS60150511A (ja) * | 1984-01-18 | 1985-08-08 | 東洋紡績株式会社 | 被覆導電性薄膜 |
JPH0752610B2 (ja) * | 1985-02-21 | 1995-06-05 | 東洋紡績株式会社 | 被覆導電性薄膜 |
JP3472629B2 (ja) * | 1993-09-14 | 2003-12-02 | 関西ペイント株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
US20200208019A1 (en) * | 2015-12-02 | 2020-07-02 | Threebond Co., Ltd. | Cation-curable resin composition |
-
1980
- 1980-05-30 JP JP7395180A patent/JPS57122A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0127779Y2 (ja) * | 1986-05-14 | 1989-08-23 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57122A (en) | 1982-01-05 |
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