JPS6215082A - バフ基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は金属表面を主とした固体表面の研摩として行な
われるバフ研摩に使用されるバフ（別布）に関するもの
であり、金属研摩の分野で利用されるものである。

〈従来の技術〉 バフ研摩は、布、皮革などの柔軟性材料を回転体として
構成したバフ（別布）を用い、これを高速度で回転させ
、バフと加工物との間に発生する圧力によって、金属又
は非金属の表面を機械的に加工する方法である。この時
研摩効率を高めるために、バフの外周面に研摩材（砥粒
）ｔ−接着剤で固定するか、バフ外周面に研摩材（砥粒
）が適当な媒体によって一時保持されるようにして使用
することもある。

バフ研摩は精密加工や超仕上などとは異なり、一般的に
は寸法精度を目的とするものではなく主として平滑面あ
るいはつや消し面を得るために行なわれる。しかもこれ
らが容易に、しかも迅速に目的を達することができるの
で、その適用分野は広範囲にわたっている。

バフ研摩に使用されるバフは、布、皮革などの柔軟性材
料が回転運動ができるよう軸対称に構成されている。

バフの本体を構成する基材としてはいろいろな柔軟材料
が用いられているが、多量に用いられているのは綿布で
、次いでサイザル麻、フェルト。

皮革などの順になっておフ、バフ研摩の工程で使いわけ
られている。

バフ研摩では通常粗研摩、仕上研摩の２工程がとられる
。粗研摩では研摩力が要求され、仕上研摩では光沢発現
力が要求される。

〈発明が解決しようとする問題点〉 これら従来のバフ材に於て、サイザル麻は繊維が粗硬で
あるので、研摩力が要求される粗研摩には適しているが
、光沢発現力の要求される仕上研摩にはきすが多発して
不適当である。また綿、フェルト、皮革は光沢発現力は
あるが、研摩力は小さく、仕上研摩罠しか使えなかった
。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明者らは、ビスコース法で作られた繊維が他のセル
ロース繊維と異なり、表面にスキン層と呼ばれる緻密な
層を有し、このため摩耗が少なく耐久性が良好であるこ
と、単糸デニールが太くなると繊維が剛直となり、これ
に回転による遠心力が加わって非常に硬くなって研摩力
が良好となるが、単糸デニールが小であると繊維の硬さ
が小さくなり表面を適度に摩擦して光沢発現が良好とな
ること、及びフィラメントの偏平比によって研摩力と光
沢発現性に変化を及ぼすこと等の物性を相互勘案して従
来品の有していた研摩力と光沢発現性の二律背反的関係
を調和させて従来品を有効に改善することを達成した。

即ち本発明は、ビスコース法で作られた再生繊維素繊維
の長繊維及び短繊維の単糸デニールが３ｄ以上４０ｄ以
下、糸太さが１００　ｄ　（５３′ｓ）以上１，０００
　ｄ　（５，３′ｓ）以下である糸を経４５本／インチ
〜８０本／インチ、緯４５本／インチ〜９０本／インチ
で織成した織物を用いて前記従来品の欠陥を改善した。

〈実施例〉 本発明を構成するビスコース法で作られた再生繊維素繊
維は表面にスキン層を持っており、適度の硬さを持って
いる。また表面に凹凸を持っているので研摩材（砥粒）
の保持または支持が容易である。

織物を構成しているビスコース法で作られた再生繊維素
長繊維および短繊維の単糸デニールが大きいと、研摩力
が出るが光沢発現力は劣る。すなわち繊維を構成する単
糸デニールが大きいと研摩力は出るが光沢発現力は劣る
。また逆に単糸デニールが小さいと光沢発現力は出るが
研摩力は劣る。

研摩力、光沢発現力ともに良好なのは単糸デニールが３
デニール以上４０デニール以下、好ましくは６デニール
から１５デニールの間であり下表のとおりである。

偏平比については、偏平比（長径／短径）が大である程
可挽性が増加するため、太い耐久性のあるフィラメント
でも光沢発現力を有することを実験的に見出した。また
短繊維紡績糸は同一フィラメント使用でもマルチフィラ
メント糸より可撓性に富むため、単糸デニール、糸太さ
、偏平比共同−の場合に、マルチ糸よりも短織糸の方が
光沢発現性に優れることとなったが、耐久性ではその糸
構造に起因する繊維の脱落によシ短織糸はマルチ糸より
劣った。織物の密度はバフ研摩中のほつれおよび織物の
品位０品質に関係する。糸太さが１００　ｄ　（５３’
ｇ　）〜１０００ｄ（５，３′ｓ）の糸を用いて、経、
緯密度４５本／インチ以下では研摩中の＃１つれが大き
くて使用できない。経密度８０本／インチ、緯密度９０
本／インチを越すと、製織中に糸切れが多発し、結び目
が多くなって、織物の品位・品質が著るしく低下した。

例１：ビスコース法による再生線維素繊維の長繊維６０
０デニール／１００フイラメント（単糸デニール６デニ
ール、偏平比、１）を経糸に、４５０デニール／３０フ
イラメント（単糸デニール１５デニール、偏平比、２０
）を緯糸に使って平織に織成した。この時の密度は経５
５本／インチ、緯糸は５０本／インチであった。この織
物をバイアスにし、直径３５０ミリメートルの円に切取
り、これを１６枚合わせてバフを作った。

これを使って次の条件で研摩したが、研摩力、光沢発現
力ともに良好な結果が得られた。

被研摩物ニステンレススチール（５ＵＳ３０４）回転数
　：　２０００回転／分 荷　重　：８キログラム 研摩材　：青棒に−１（酸化クロム粉末を油脂で固めた
もの） なお、研摩中にほつれの発生はなく、さらに耐久性は良
好であった。

例２：ピスコース法による再生繊維素繊維の短繊維２０
’５（２６６ｄ）（単糸デニール２デニール。

偏平比１）を経糸に、３０’ａ（１７７ｄ）（単糸デニ
ール１．５デニー−’　　−一平比１）を緯糸に使って
平織に織成した。この時の密度は経７４本／インチ、緯
８３本／インチであった。この織物を使ってバフを作り
前例と同条件で研摩した。

光沢発現力は良好であったが研摩力は劣った。

ホツレの発生はなかったが耐久性は前例の経、緯。

長繊維使いのものに比較して劣った。

以上の開示から、偏平比を適正（１０〜２０）に選択す
れば、耐久性と光沢発現性を兼備した製品が得られるこ
と、短繊維紡績糸を用いれば耐摩耗性の大な太デニール
フィラメントを用いても又偏平比の小な比較的剛直なフ
ィラメントヲ用いても光沢発現性の高いこと等は当業者
にとって自明であろう。

〈発明の作用効果〉 ３ｄ以上４０ｄ以下の単糸デニールのために研摩力と光
沢発現力を兼備し、しかも本発明の糸太さと緻密度とし
たために、製織性を阻害することなく、且つバフ基材と
して必要なほつれ防止能を備えたものとなり、同一素材
で研摩力の要求と光沢発現力の要求を完全に満たすバフ
材の提供が可能となった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ビスコース法で作られた再生繊維素繊維フィラメン
   トの単糸デニールが３デニール以上４０デニール以下で
   糸太さが１００ｄ（５３′ｓ）以上１，０００ｄ（５．
   ３′ｓ）以下である糸を、経密度４５本／インチ以上８
   ０本／インチ以下、緯密度４５本／インチ以上９０本／
   インチ以下で織成したバフ基材。 ２、再生繊維素繊維の偏平断面フィラメントを用いた特
   許請求の範囲第１項記載のバフ基材。