JPS62150524A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS62150524A JPS62150524A JP29546585A JP29546585A JPS62150524A JP S62150524 A JPS62150524 A JP S62150524A JP 29546585 A JP29546585 A JP 29546585A JP 29546585 A JP29546585 A JP 29546585A JP S62150524 A JPS62150524 A JP S62150524A
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- magnetic layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
近年磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの磁気
記録媒体はますます高記録密度となる傾向にあり、これ
に伴い磁気記録媒体の磁性層の膜厚を従来の約1μ工程
度から01μm以下まで薄<シ7、保磁力(Hc)もよ
り高くする必要がある。そのため磁気記録媒体の製造方
法もサブミクロンオーダでは磁性層の膜厚が不均一にな
るスピンコード法に代って、均一な薄膜を容易に形成す
ることが可能なスパッタ法やメッキ法が注目されるとと
もに、従来の鉄酸化物例えばr −Fe 203の磁性
層は、その磁気特性、特に残留磁束密度が小さく出力が
低いということから、磁性層として、スパッタ法によっ
て形成されるコバル)(Co)系合金、例えはコバルト
−ニッケル(Ni )合金磁性薄膜が使用されるように
なった。この合金のNi含有址v)範囲は20〜30a
t%がよいことが知られている。
記録媒体はますます高記録密度となる傾向にあり、これ
に伴い磁気記録媒体の磁性層の膜厚を従来の約1μ工程
度から01μm以下まで薄<シ7、保磁力(Hc)もよ
り高くする必要がある。そのため磁気記録媒体の製造方
法もサブミクロンオーダでは磁性層の膜厚が不均一にな
るスピンコード法に代って、均一な薄膜を容易に形成す
ることが可能なスパッタ法やメッキ法が注目されるとと
もに、従来の鉄酸化物例えばr −Fe 203の磁性
層は、その磁気特性、特に残留磁束密度が小さく出力が
低いということから、磁性層として、スパッタ法によっ
て形成されるコバル)(Co)系合金、例えはコバルト
−ニッケル(Ni )合金磁性薄膜が使用されるように
なった。この合金のNi含有址v)範囲は20〜30a
t%がよいことが知られている。
第5図に例えばCo−Ni合金磁性薄膜の磁性層を備え
たディスク状磁気記録媒体の安岸)構成断面図を示す。
たディスク状磁気記録媒体の安岸)構成断面図を示す。
第5図の磁気記録媒体は合金基板1上に非磁性基体層2
を被覆17、この非磁性基体層2の上にさらに非磁性金
属下地層3aを介l、てCo−Ni合金薄膜の磁性層4
aを被覆し7、磁性層・la上に保護層5aとその上に
潤滑層5bを形成したものである。
を被覆17、この非磁性基体層2の上にさらに非磁性金
属下地層3aを介l、てCo−Ni合金薄膜の磁性層4
aを被覆し7、磁性層・la上に保護層5aとその上に
潤滑層5bを形成したものである。
このように構成された磁気記録媒体の合金基板lKはア
ルミニウム合金が多用されているが、場合によってはプ
ラスチックを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度およ
び平面度に仕上げられる。
ルミニウム合金が多用されているが、場合によってはプ
ラスチックを用いてもよく、所定の面粗さ、平行度およ
び平面度に仕上げられる。
非磁性基体層2はニッケルーりん(Ni−P)合金を無
電解メッキしたもの、もしくは基板1目体をアルマイト
処理し7て得たものがよく、いずれも所定の硬さを必要
とし、表面は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。非
磁性金属下地層体i3aは通常主としてクロム(Cr
)などが用(狛りれ3000′A程度の膜厚にスパッタ
法などにより形成される。
電解メッキしたもの、もしくは基板1目体をアルマイト
処理し7て得たものがよく、いずれも所定の硬さを必要
とし、表面は機械的研磨により鏡面仕上げを行なう。非
磁性金属下地層体i3aは通常主としてクロム(Cr
)などが用(狛りれ3000′A程度の膜厚にスパッタ
法などにより形成される。
磁性N4aとし7ては、Co −20・−30at%N
i合金薄膜を、スパッタ法により形成した磁気記録媒体
が良好な磁気特性を示すという点で有効であるが、この
Co−Ni合金薄膜について、その後の研究が進むにつ
れて、初期の磁気特性はすぐれていても、薄膜磁性層自
体の耐食性が十分でないために、磁気記録媒体の使用さ
れる環境によっては遂には磁気特性の劣化を起こすこと
が判明l7、そのため本発明者らは鋭意研究の結果、従
来相反関係にあるとみなされていた磁気特性と耐食性の
問題を克服し7て、ネオジウム(Nd)を含むC020
〜30at%Ni合金が磁性層4aとt2て磁気特性と
耐食性の双方を兼備するものであることを見出し、この
磁気記録媒体を同一出願人により提案している。
i合金薄膜を、スパッタ法により形成した磁気記録媒体
が良好な磁気特性を示すという点で有効であるが、この
Co−Ni合金薄膜について、その後の研究が進むにつ
れて、初期の磁気特性はすぐれていても、薄膜磁性層自
体の耐食性が十分でないために、磁気記録媒体の使用さ
れる環境によっては遂には磁気特性の劣化を起こすこと
が判明l7、そのため本発明者らは鋭意研究の結果、従
来相反関係にあるとみなされていた磁気特性と耐食性の
問題を克服し7て、ネオジウム(Nd)を含むC020
〜30at%Ni合金が磁性層4aとt2て磁気特性と
耐食性の双方を兼備するものであることを見出し、この
磁気記録媒体を同一出願人により提案している。
磁性層4aの上にはC【もし7くはCr酸化物(Cr2
03)などの保護層5aと、さらにカーボンもしくは二
酸化珪素(5iOz )などの潤滑層5bがいずれも連
続してスパッタにより設けられる。媒体によっては保@
j@ 5 aと潤滑層5bとの二ノーにすることな(
、カーボンもしくは5i02の薄膜を保膿潤滑層として
一層のみ形成するものもあるが、CrやCr酸化物層を
設けるのは磁性層4の耐食性を配慮しているからである
。
03)などの保護層5aと、さらにカーボンもしくは二
酸化珪素(5iOz )などの潤滑層5bがいずれも連
続してスパッタにより設けられる。媒体によっては保@
j@ 5 aと潤滑層5bとの二ノーにすることな(
、カーボンもしくは5i02の薄膜を保膿潤滑層として
一層のみ形成するものもあるが、CrやCr酸化物層を
設けるのは磁性層4の耐食性を配慮しているからである
。
ここで再び非磁性金属下地層3aについて述べる。
非磁性金属下地層3aはCo−Ni合金薄膜磁性層4a
の保磁力(Hc)を高める作用をもつものであり、下地
層3aの厚さによっても磁性層4aの保磁力が変化する
。下地層3aは膜厚の増加とともに磁性層4aの保磁力
を飽和させる領内にあり、その保磁力を飽和させる下地
層3aの膜厚は材料によって大きく異なる。また第5図
のように下地層3a上に磁性層4aとし7て前述したN
dを含むCo−Ni合金薄膜をスパッタにより形成した
後、引続きCriたはCr2O3などの保護層5aとさ
らにカーボンまたは8102などの潤滑Wi5bを連続
スパッタ被覆して構成しまた磁気記録媒体は、磁性7m
4aが良好な磁気特性と耐食性とをもっている上に、保
護層5aを設けであるから、−)91耐食性が強化され
たすぐれたものとなる。
の保磁力(Hc)を高める作用をもつものであり、下地
層3aの厚さによっても磁性層4aの保磁力が変化する
。下地層3aは膜厚の増加とともに磁性層4aの保磁力
を飽和させる領内にあり、その保磁力を飽和させる下地
層3aの膜厚は材料によって大きく異なる。また第5図
のように下地層3a上に磁性層4aとし7て前述したN
dを含むCo−Ni合金薄膜をスパッタにより形成した
後、引続きCriたはCr2O3などの保護層5aとさ
らにカーボンまたは8102などの潤滑Wi5bを連続
スパッタ被覆して構成しまた磁気記録媒体は、磁性7m
4aが良好な磁気特性と耐食性とをもっている上に、保
護層5aを設けであるから、−)91耐食性が強化され
たすぐれたものとなる。
以上のことから、この磁気記録媒体は、保峡層5aの効
果を期待して、磁気特性を安定に保持l、たまま下地1
曽3aを用油な限り薄くし、スパッタ時間を短軸するこ
とができろという可能性をもっている。したかって従来
3000人程度の膜厚の下地層3aを形成していたCr
などに代り、さらに薄い膜厚の下地層とするための材料
を辿択すること、およびこの下地層と組み合わせて最適
な磁気特性を示す磁性層Co−Ni合金に対して添加す
るNdの含有量の範囲を決定することにより、製造効率
が高く、良好な磁気特性と耐食性を有する磁気記録媒体
を得ることができる。
果を期待して、磁気特性を安定に保持l、たまま下地1
曽3aを用油な限り薄くし、スパッタ時間を短軸するこ
とができろという可能性をもっている。したかって従来
3000人程度の膜厚の下地層3aを形成していたCr
などに代り、さらに薄い膜厚の下地層とするための材料
を辿択すること、およびこの下地層と組み合わせて最適
な磁気特性を示す磁性層Co−Ni合金に対して添加す
るNdの含有量の範囲を決定することにより、製造効率
が高く、良好な磁気特性と耐食性を有する磁気記録媒体
を得ることができる。
〔発明の目的〕
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、その目
的は基板上を被覆した非磁性基体上に非磁性金属下地層
、Ndを含むCo−Ni合金薄膜磁性層。
的は基板上を被覆した非磁性基体上に非磁性金属下地層
、Ndを含むCo−Ni合金薄膜磁性層。
保護層および潤滑層なこの順にスパッタして積層成形t
7てなり、符に薄い非磁性金属下1t!!増と適量のN
dを含有したCo−Ni合金薄膜磁性層との組み合わせ
による良好な磁気特性と耐食性を具備した磁気記録媒体
を提供することにある。
7てなり、符に薄い非磁性金属下1t!!増と適量のN
dを含有したCo−Ni合金薄膜磁性層との組み合わせ
による良好な磁気特性と耐食性を具備した磁気記録媒体
を提供することにある。
本発明は不活性ガス雰囲気中でアルミニウム基板上のN
1−P層の上に連続的にスバンタして形成した下地層、
磁性層、保循鳩および潤滑層からなる積層薄膜の下地層
を膜厚はぼ500 ’hのW膜、磁性層をNd O,5
〜5at%含むCo−Ni合金族とすることにより達せ
られろ。
1−P層の上に連続的にスバンタして形成した下地層、
磁性層、保循鳩および潤滑層からなる積層薄膜の下地層
を膜厚はぼ500 ’hのW膜、磁性層をNd O,5
〜5at%含むCo−Ni合金族とすることにより達せ
られろ。
以下本発明を実施例に基つき説明する。
第1図に本発明により得られた磁気記録媒体の要部構成
断面を示し、第5図と共通部分を同一符号で表わしであ
る。第1図は第5図と基本的な構成は同じであるが、第
1図が第5図と異なる所は、非磁性金属下地層3にW膜
を用い磁性層4はW下地層に対[、て良好な磁気特性が
得られるNd含有量をもったCo−Ni合金とした点に
ある。
断面を示し、第5図と共通部分を同一符号で表わしであ
る。第1図は第5図と基本的な構成は同じであるが、第
1図が第5図と異なる所は、非磁性金属下地層3にW膜
を用い磁性層4はW下地層に対[、て良好な磁気特性が
得られるNd含有量をもったCo−Ni合金とした点に
ある。
まず非磁性合金基板1として旋盤加工および加圧焼純に
より、十分に小さなうねりすなわち円周・半径方向とも
20ρ以下の面に仕上げたディスク状アルミニウム板を
用い、この上にNi −P合金の無′酩解メンキを約3
0μmの厚さに被膜し1、メッキ被膜を平均表面粗さ0
.02μm、厚ヒ15μmまで鏡面仕上げを行なうこと
により非磁性基体2を形成する。次いで非磁性基体2の
上に非磁性金属下地層3と[7て本発明ではWをスパッ
タ17て形成[、だが、下地層3の厚さは前述のように
磁性層4の磁気特性に影響を与えるので、どの程度まで
薄(できるかを調べるために005μmから01μm間
隔で0.3μmまで変化させた。W下地層3を形成t、
た後、直ちに引続き同じスパッタ槽内でW下地層3の上
に磁性層4をほぼ500 kの厚さにスパッタにより設
けた。W膜の厚さを決定するための磁性層4としてはN
dを2.8 at%含むCo−30at%Ni合金を用
いた。
より、十分に小さなうねりすなわち円周・半径方向とも
20ρ以下の面に仕上げたディスク状アルミニウム板を
用い、この上にNi −P合金の無′酩解メンキを約3
0μmの厚さに被膜し1、メッキ被膜を平均表面粗さ0
.02μm、厚ヒ15μmまで鏡面仕上げを行なうこと
により非磁性基体2を形成する。次いで非磁性基体2の
上に非磁性金属下地層3と[7て本発明ではWをスパッ
タ17て形成[、だが、下地層3の厚さは前述のように
磁性層4の磁気特性に影響を与えるので、どの程度まで
薄(できるかを調べるために005μmから01μm間
隔で0.3μmまで変化させた。W下地層3を形成t、
た後、直ちに引続き同じスパッタ槽内でW下地層3の上
に磁性層4をほぼ500 kの厚さにスパッタにより設
けた。W膜の厚さを決定するための磁性層4としてはN
dを2.8 at%含むCo−30at%Ni合金を用
いた。
第2図は下地層3として設けたW膜の厚さに対する磁性
層4のHcの変化を示した線図である。第2図では横軸
を0.05μm間隔に目盛ったW膜の厚さ、縦軸は磁性
層4のHcとして示しているが、第2図にはほかに二つ
の比較例を併記し、本発明と従来例とを対比させ本発明
の有効性を明らかにt7ている。比較例1の磁気記録媒
体の製造方法は本実施例の場合と同様であるが磁性層が
Co単独の薄膜である点のみが異なり、比較例2では同
様に磁性層をCo −30at%Niの薄膜とL Nd
を添加してないものである。
層4のHcの変化を示した線図である。第2図では横軸
を0.05μm間隔に目盛ったW膜の厚さ、縦軸は磁性
層4のHcとして示しているが、第2図にはほかに二つ
の比較例を併記し、本発明と従来例とを対比させ本発明
の有効性を明らかにt7ている。比較例1の磁気記録媒
体の製造方法は本実施例の場合と同様であるが磁性層が
Co単独の薄膜である点のみが異なり、比較例2では同
様に磁性層をCo −30at%Niの薄膜とL Nd
を添加してないものである。
第2図から本発明の下地Ffi 3としてWを用いたと
きは、磁性層4のCo−Ni合金にNdを含むことが、
磁性層4のHeを高める効果が顕著であり、しかもW膜
厚がほぼ0.05μm以上となればHcが大きな値で飽
和に達することがわかる。このことはCo−30at%
Ni−2,8at%Nd合金磁性膜を磁性層4としてW
下地層3と組み合わせ用いるときはW膜の厚さをほぼ0
.05μmまで薄くするのが可能なことを意味している
。これに対して比較例1および比較例2はW膜厚を増[
7ても磁性層のHcはあまり太き(ならず、W下地層3
とNdを含むCo−Ni合金磁性)fi 4との組み合
わせ効果が第2図から明らかである。
きは、磁性層4のCo−Ni合金にNdを含むことが、
磁性層4のHeを高める効果が顕著であり、しかもW膜
厚がほぼ0.05μm以上となればHcが大きな値で飽
和に達することがわかる。このことはCo−30at%
Ni−2,8at%Nd合金磁性膜を磁性層4としてW
下地層3と組み合わせ用いるときはW膜の厚さをほぼ0
.05μmまで薄くするのが可能なことを意味している
。これに対して比較例1および比較例2はW膜厚を増[
7ても磁性層のHcはあまり太き(ならず、W下地層3
とNdを含むCo−Ni合金磁性)fi 4との組み合
わせ効果が第2図から明らかである。
なお下地層3に続いて磁性層・4をスパッタするまでに
、あまり長い時間スパッタ槽内に放置したり、大気に曝
17たすすると、下地層3の効果を発揮することができ
ず、磁性44の必要とする大きな保磁力が得られなくな
る。例えば下地層3を形成した後、大気に曝し2て磁性
層4をその上に形成した場合、磁性層4の保磁力は菫か
2000e t、か得られない。このことはスパッタ槽
内に長時間放置し7たときも同様の結果となるから、下
地層3の形成後は直ちに磁性層4のスパッ、りを実施し
なければならない。
、あまり長い時間スパッタ槽内に放置したり、大気に曝
17たすすると、下地層3の効果を発揮することができ
ず、磁性44の必要とする大きな保磁力が得られなくな
る。例えば下地層3を形成した後、大気に曝し2て磁性
層4をその上に形成した場合、磁性層4の保磁力は菫か
2000e t、か得られない。このことはスパッタ槽
内に長時間放置し7たときも同様の結果となるから、下
地層3の形成後は直ちに磁性層4のスパッ、りを実施し
なければならない。
次にW下地層3の膜厚を500 ’A一定としたとき、
その上に設けるCo−Ni合金磁性層に対して添加する
NdO量を決定するため、磁性層4のCo−30at%
N 1−Nd合金のNd含有量をO〜15at%の範囲
で変え、磁気特性について調べた。その結果を第3図(
a)〜(d) K示す。第3図はいずれも横軸をNd含
有量とし1、縦軸を磁気特性として3点の平均値をプロ
ットした線図である。すなわち第3図(a)は保磁力、
第3図(b)は保磁力角形比(S”)、第3図(c)は
残留磁束密きその他の条件は全て同じに設定し7てあり
、いずれもRFスパッタ装置を用いて出力soo w
、全ガス圧4.OX 1O−2Torr 、基板温度は
室温とし、下地層3のWの膜厚は前述のようにすべて5
0Åとし7た。
その上に設けるCo−Ni合金磁性層に対して添加する
NdO量を決定するため、磁性層4のCo−30at%
N 1−Nd合金のNd含有量をO〜15at%の範囲
で変え、磁気特性について調べた。その結果を第3図(
a)〜(d) K示す。第3図はいずれも横軸をNd含
有量とし1、縦軸を磁気特性として3点の平均値をプロ
ットした線図である。すなわち第3図(a)は保磁力、
第3図(b)は保磁力角形比(S”)、第3図(c)は
残留磁束密きその他の条件は全て同じに設定し7てあり
、いずれもRFスパッタ装置を用いて出力soo w
、全ガス圧4.OX 1O−2Torr 、基板温度は
室温とし、下地層3のWの膜厚は前述のようにすべて5
0Åとし7た。
第3図(a)〜(d)かられかるように、磁性層4のN
d含有量に対して最も大きく変る磁気特性は(a)図の
Hcであって磁気記録媒体として有効な9000e以上
の得られるNd含有量の範囲は0.5〜5 at%であ
り、10000eを超える最も好まし7い範囲は1.5
〜4.5 a t%である。この範囲のNd含有量に、
ついてみると、(b1図のS”、(c)図のBr−aw
(d)図のBs−δはいずれもNd含有量の増加ととも
に低下する傾向にある。し7かしこの程度の低下は磁気
特性の上で特に問題となることはない。
d含有量に対して最も大きく変る磁気特性は(a)図の
Hcであって磁気記録媒体として有効な9000e以上
の得られるNd含有量の範囲は0.5〜5 at%であ
り、10000eを超える最も好まし7い範囲は1.5
〜4.5 a t%である。この範囲のNd含有量に、
ついてみると、(b1図のS”、(c)図のBr−aw
(d)図のBs−δはいずれもNd含有量の増加ととも
に低下する傾向にある。し7かしこの程度の低下は磁気
特性の上で特に問題となることはない。
かくして本発明の磁気記録勿体は下地層3にW膜を用い
て500 hまで膜厚を湖(シても、この上に設ける磁
性層4にはCo−30at%Ni−0,5〜5 at%
Nd合金薄膜とすることにより良好な磁気特性を保持す
ることかできるが、さらに最後にCrまたはCr2O3
の保MJm5gとカーボンまたは5i02などの潤滑/
m5bをヌパソタして膜厚500 Aに形成し2てすぐ
れた耐食性をもたせている。
て500 hまで膜厚を湖(シても、この上に設ける磁
性層4にはCo−30at%Ni−0,5〜5 at%
Nd合金薄膜とすることにより良好な磁気特性を保持す
ることかできるが、さらに最後にCrまたはCr2O3
の保MJm5gとカーボンまたは5i02などの潤滑/
m5bをヌパソタして膜厚500 Aに形成し2てすぐ
れた耐食性をもたせている。
第4図は温度40℃、相対湿度80%の雰囲気中に曝1
7た本発明の磁気記録媒体、すなわち下地層3をW膜と
し磁性層4をCo−30at%Ni−2,8at%Nd
とする第1図の構成をもつものを記録装置に用いたとき
の放置期間に対するエラー個数の変化を示した線図であ
る。第4図の場合も第2図のとぎと同じ比較例1と比較
例2を併記した。第4図にみられるようにエラー個数は
本発明の磁気記録媒体は12週間放置してはじめて僅か
にエラーがカウントされるのに対し7て、比較例1.比
較例2のものは短い日数のうちにエラー個数が急激に増
加し使用に耐えな(なる。このことは磁性層全体の磁気
特性としては環境条件によって比較的長時間にわたり大
きな変化を生することがないとしても、湿気などに曝さ
れたとき、従来の磁性)fMは表面の微小な局部から順
次腐食されて変質が進行するのに対し、Ndを適量含有
l、た磁性層を有する本発明の磁気記録媒体は84図か
ら耐食性もすぐれたものであることがわかる。なお第4
図には図示してないが0.5〜5at%の範囲でNdを
含んだCo−Ni合金磁性層についていずれも同様の結
果を得ることができる。
7た本発明の磁気記録媒体、すなわち下地層3をW膜と
し磁性層4をCo−30at%Ni−2,8at%Nd
とする第1図の構成をもつものを記録装置に用いたとき
の放置期間に対するエラー個数の変化を示した線図であ
る。第4図の場合も第2図のとぎと同じ比較例1と比較
例2を併記した。第4図にみられるようにエラー個数は
本発明の磁気記録媒体は12週間放置してはじめて僅か
にエラーがカウントされるのに対し7て、比較例1.比
較例2のものは短い日数のうちにエラー個数が急激に増
加し使用に耐えな(なる。このことは磁性層全体の磁気
特性としては環境条件によって比較的長時間にわたり大
きな変化を生することがないとしても、湿気などに曝さ
れたとき、従来の磁性)fMは表面の微小な局部から順
次腐食されて変質が進行するのに対し、Ndを適量含有
l、た磁性層を有する本発明の磁気記録媒体は84図か
ら耐食性もすぐれたものであることがわかる。なお第4
図には図示してないが0.5〜5at%の範囲でNdを
含んだCo−Ni合金磁性層についていずれも同様の結
果を得ることができる。
また本発明の磁気記録媒体を磁気記録媒体に組み込んで
C8S試験を行なった結果、2万回のコンタクト・スタ
ート・ストップに対(、ても記録媒体表面になんら傷を
発生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分
な耐久性をもっていることが実証された。
C8S試験を行なった結果、2万回のコンタクト・スタ
ート・ストップに対(、ても記録媒体表面になんら傷を
発生せず、再生出力もほとんど低下することなく、十分
な耐久性をもっていることが実証された。
以上説明してきたようK、本発明の磁気記録画体は非磁
性金属下地層に薄いW膜を用いてスバ、ツク時間を短縮
するとともに、W膜に対応し7て良効な磁気特性を示す
組成の磁性層を有[7、耐食性にもすぐれたものである
ということができる。
性金属下地層に薄いW膜を用いてスバ、ツク時間を短縮
するとともに、W膜に対応し7て良効な磁気特性を示す
組成の磁性層を有[7、耐食性にもすぐれたものである
ということができる。
磁気ティスフなどの磁気記録媒体は記録密度にあげるた
めに、磁性層の膜厚を薄くして磁気特伯の向上を図り、
スパッタによるCo−Ni合金薄膜力用いられるように
なったが、一方でCo−Ni合金蘇性層は使用環境にお
′ける耐食性が例えば鉄酸化噌膜なとより劣るという欠
点があり、そのため本多明者らは磁気特性を保持し7た
まま耐食性を付与プせるCo−Ni合金への第三元素と
その添加量範囲σ決定、さらに磁性層の上に設けるCr
保護層の動因と相俟って下地層をより薄くすることが可
能なネ料について研究を重ねた結果、本発明では実施9
で説明したように、 Ndを0.5〜5 at%含むC
o−Ni’。
めに、磁性層の膜厚を薄くして磁気特伯の向上を図り、
スパッタによるCo−Ni合金薄膜力用いられるように
なったが、一方でCo−Ni合金蘇性層は使用環境にお
′ける耐食性が例えば鉄酸化噌膜なとより劣るという欠
点があり、そのため本多明者らは磁気特性を保持し7た
まま耐食性を付与プせるCo−Ni合金への第三元素と
その添加量範囲σ決定、さらに磁性層の上に設けるCr
保護層の動因と相俟って下地層をより薄くすることが可
能なネ料について研究を重ねた結果、本発明では実施9
で説明したように、 Ndを0.5〜5 at%含むC
o−Ni’。
金薄膜を磁性層とし、下地層には膜厚をほぼ500Xま
で薄くI−たW膜を用いることにより、W下地2 層
が磁性層のHcを高めるのに効果的に作用すると同時に
、磁性層自体の耐食性も向上し、Co −Ni −0,
5〜Sat%Ndの組成をもつ磁性層とW下地層との組
み合わせは、磁気特性と耐食性という従来相反関係にあ
った問題を一挙に解決し、この二つの特性を一つの記録
媒体に兼備させることができたものであり、しかも下地
層と(7て膜厚をほぼ500 Aまで減少可能なW膜を
用いたので、スパヅタ時間・ の短縮による製造効率
を筒めている。(7たがってE 本発明の磁気記録媒
体は記録装置に用いて十分なン 出−力を与えるとと
もに安定し7て長寿命を保持することができるなど多く
の利点を有するものである。
で薄くI−たW膜を用いることにより、W下地2 層
が磁性層のHcを高めるのに効果的に作用すると同時に
、磁性層自体の耐食性も向上し、Co −Ni −0,
5〜Sat%Ndの組成をもつ磁性層とW下地層との組
み合わせは、磁気特性と耐食性という従来相反関係にあ
った問題を一挙に解決し、この二つの特性を一つの記録
媒体に兼備させることができたものであり、しかも下地
層と(7て膜厚をほぼ500 Aまで減少可能なW膜を
用いたので、スパヅタ時間・ の短縮による製造効率
を筒めている。(7たがってE 本発明の磁気記録媒
体は記録装置に用いて十分なン 出−力を与えるとと
もに安定し7て長寿命を保持することができるなど多く
の利点を有するものである。
) 第1図は本発明の磁気記録媒体の置部構成断面
5 図、第2図は下地層の厚さに対する磁性層のHc
Q)r 変化を示す線図、第3図は磁性層のNd含有
量と磁す 気持性との関係を示す線図、第4図は温度
40℃。 r 相対湿度80%の雰囲気中に曝1.た磁気記録媒
体の放置期間とエラー個数の関係を示す線図、第5図は
従来の磁気記録媒体の要部構成断面図である。 l・・・合金基板、2・・・非磁性基体層、3,3a・
・・非磁性金属下地層、4,4a・・・磁性層、5a・
・・保護層、5b・・・潤滑層。 7・′。 、−9−八、ニーシロ 芽1 第1図 W IL’4 (/−1m) 第2図 (α)(b) (c) (d)第3図 第4図 h 第5図
5 図、第2図は下地層の厚さに対する磁性層のHc
Q)r 変化を示す線図、第3図は磁性層のNd含有
量と磁す 気持性との関係を示す線図、第4図は温度
40℃。 r 相対湿度80%の雰囲気中に曝1.た磁気記録媒
体の放置期間とエラー個数の関係を示す線図、第5図は
従来の磁気記録媒体の要部構成断面図である。 l・・・合金基板、2・・・非磁性基体層、3,3a・
・・非磁性金属下地層、4,4a・・・磁性層、5a・
・・保護層、5b・・・潤滑層。 7・′。 、−9−八、ニーシロ 芽1 第1図 W IL’4 (/−1m) 第2図 (α)(b) (c) (d)第3図 第4図 h 第5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上の主表面を被覆した非磁性基体上に、非磁性
金属下地層、磁性層、保護層および潤滑層をこの順に連
続スパッタして積層成形した磁気記録媒体において、前
記磁性層がNdを0.5〜5at%を含むCo−Ni合
金からなり、前記非磁性金属下地層がWからなることを
特徴とする磁気記録媒体。 2)特許請求の範囲第1項記載の媒体において磁性層の
Ndの含有量が1.5〜4.5at%であることを特徴
とする磁気記録媒体。 3)特許請求の範囲第1項または第2項記載の媒体にお
いて、Wの膜厚がほぼ500Åであることを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29546585A JPS62150524A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29546585A JPS62150524A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62150524A true JPS62150524A (ja) | 1987-07-04 |
Family
ID=17820941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29546585A Pending JPS62150524A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62150524A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005308719A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ガスセンサの制御装置 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP29546585A patent/JPS62150524A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005308719A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-11-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ガスセンサの制御装置 |
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