JPS62138487A - 2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法 - Google Patents
2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法Info
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- JPS62138487A JPS62138487A JP27919385A JP27919385A JPS62138487A JP S62138487 A JPS62138487 A JP S62138487A JP 27919385 A JP27919385 A JP 27919385A JP 27919385 A JP27919385 A JP 27919385A JP S62138487 A JPS62138487 A JP S62138487A
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- Japan
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- ketones
- dihydroxybenzenes
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法に
関する。
関する。
さらに詳しくは1本発明は1.3−ジヒドロキシベンゼ
ン類とα炭素原子の一方若しくは双方に1個の水素原子
を有するケトン類とを酸性触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とする6位にヒドロキシル基を有し、2位に2
個,3位に1個の置換基を有する2,3−ジヒドロキシ
ベンゾフラン類の製造方法に関する0 本発明で得られる化合物は医薬、農薬、香料の製造中間
体として広範囲に利用できる。
ン類とα炭素原子の一方若しくは双方に1個の水素原子
を有するケトン類とを酸性触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とする6位にヒドロキシル基を有し、2位に2
個,3位に1個の置換基を有する2,3−ジヒドロキシ
ベンゾフラン類の製造方法に関する0 本発明で得られる化合物は医薬、農薬、香料の製造中間
体として広範囲に利用できる。
本発明は一般式
で表わされる如き2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製
造方法に関するものである。従来、一般式%式% 合物、すなわち2,3−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2
,2,5−)リメチルベンゾ7ランについてはインディ
アン ジャーナルオブケミストリー(工ndian J
ournal of’ Chemistry ) 1
4B巻。
造方法に関するものである。従来、一般式%式% 合物、すなわち2,3−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2
,2,5−)リメチルベンゾ7ランについてはインディ
アン ジャーナルオブケミストリー(工ndian J
ournal of’ Chemistry ) 1
4B巻。
168頁(1976)に製n方法が記載されているが。
この方法においては反応段階が多く、目的物の収率も低
い。また取り扱いが危険でかつ高価な試薬を使用するた
めに、この方法では経済的に本発明の目的物とする2,
3−ジヒドロベンゾフラン角を製造することは不可能で
ある。
い。また取り扱いが危険でかつ高価な試薬を使用するた
めに、この方法では経済的に本発明の目的物とする2,
3−ジヒドロベンゾフラン角を製造することは不可能で
ある。
本発明者は経済的に有利な所定の2,3−ジヒト。
ロベンゾ7ラン頒の製造方法の開発を目的として種々検
討を重ねた結果1本発明の方法に到達したものである。
討を重ねた結果1本発明の方法に到達したものである。
すなわち0本発明では1,3−ジヒドロキシベンゼン類
と所定のケトン類とを単に酸の存在下に反応させること
によって好収率で6位にヒドロキシル基を有し、2位に
2個,3位に1個の置換基を有する2,3−ジヒドロベ
ンゼン類を一工程の反応で製造することができる。
と所定のケトン類とを単に酸の存在下に反応させること
によって好収率で6位にヒドロキシル基を有し、2位に
2個,3位に1個の置換基を有する2,3−ジヒドロベ
ンゼン類を一工程の反応で製造することができる。
本発明は1,3−ジヒドロキシベンゼン類ト少すくとも
一方のα炭素原子に1個の水素原子を有するケトン類と
を酸性触媒の存在下に反応させることを特徴とする6位
にヒドロキシル基を有、し、2位に2個、3位に1個の
置換基を有する2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造
方法をその要旨とする。
一方のα炭素原子に1個の水素原子を有するケトン類と
を酸性触媒の存在下に反応させることを特徴とする6位
にヒドロキシル基を有、し、2位に2個、3位に1個の
置換基を有する2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造
方法をその要旨とする。
本発明の製造方法を反応式で例示すれば下式の通りであ
る。
る。
(式中の記号の説明は後記する)
すなわち、本発明の方法によれば、一工程でかつ好収率
で所定の2,3−ジヒドロベンゾフラン類を得ることが
でき、経済的にきわめて有利な方法であるといえる。
で所定の2,3−ジヒドロベンゾフラン類を得ることが
でき、経済的にきわめて有利な方法であるといえる。
以下に本発明による2,3−ジヒドロベンゾフラン類の
製造方法を前記反応式に基づき詳細に説明する。
製造方法を前記反応式に基づき詳細に説明する。
本発明で原料として用いる1,3−ジヒドロキシベンゼ
ン類(1)の置換基Rは例えば水素原子、低級アルキル
基、ハロゲン原子などであり、好ましくは水素又は低級
アルキル基である。ここで低級アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などが挙げら
れ、とくに好ましくはメチル基である。ハロゲン原子と
しては7ツソ原子、塩素原子などが挙げられる。
ン類(1)の置換基Rは例えば水素原子、低級アルキル
基、ハロゲン原子などであり、好ましくは水素又は低級
アルキル基である。ここで低級アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などが挙げら
れ、とくに好ましくはメチル基である。ハロゲン原子と
しては7ツソ原子、塩素原子などが挙げられる。
またケトン類(llDのR2,R3,R4は同一または
相異なる低級アルキル基、アリール基などを示し、また
R2とR3とはそれらが結合している炭素原子とともに
員数5ないし8の環を形成していてもよく。
相異なる低級アルキル基、アリール基などを示し、また
R2とR3とはそれらが結合している炭素原子とともに
員数5ないし8の環を形成していてもよく。
さらにまたR3とR4とはそれらが結合している炭素原
子とともに員数4ないし8の環を形成していてもよい。
子とともに員数4ないし8の環を形成していてもよい。
いずれの場合においても少なくとも一方のα炭素原子は
1個の水素原子を有するものである。ここでR2,R’
−R’として例示できる低級アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、11−ブチル基。
1個の水素原子を有するものである。ここでR2,R’
−R’として例示できる低級アルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、11−ブチル基。
イソブチル基などが挙げられ、とくに好ましくはメチル
基、エチル基である。アリール基としては。
基、エチル基である。アリール基としては。
フェニル基のほか、2−クロルフェニル基,3−クロル
フェニル基、4−クロルフェニル縫すどのハロゲンfi
HIJLフェニル基、2−メチルフェニル基,3−メチ
ルフェニル基、4−メチルフェニル基ナトのアk キk
基置換フェニル基、2−メトキシフェニル基。
フェニル基、4−クロルフェニル縫すどのハロゲンfi
HIJLフェニル基、2−メチルフェニル基,3−メチ
ルフェニル基、4−メチルフェニル基ナトのアk キk
基置換フェニル基、2−メトキシフェニル基。
5−メトキシフェニル基、4−メトキシフェニル基など
のアルコキシル基置換フェニル基、さらにはピリジル基
などを挙げることができる。これらの基を有するケトン
類としては例えば、メチルイソプロピルケトン、エチル
イソプロピルケトン。
のアルコキシル基置換フェニル基、さらにはピリジル基
などを挙げることができる。これらの基を有するケトン
類としては例えば、メチルイソプロピルケトン、エチル
イソプロピルケトン。
ジイソプロピルケトン、イソプロピルn−プロピルケト
ン、メチル5ee−ブチルケトンなどの脂肪族ケトン類
。
ン、メチル5ee−ブチルケトンなどの脂肪族ケトン類
。
イソプロピルフェニルケトン−2−クロルフェニルイソ
プロピルケトン、イソプロピル2−メチルフェニルケト
ン、イソプロピル4−メトキシ7エ二ルケトンなどの芳
香族ケトンを挙げることができる。またR2とR3とが
それらが結合している炭素原子とともに員@5ないし8
の環を形成しているケトン類としては1例えば2−メチ
ルシクロペンタノン、2,3−ジメチルシクロペンタノ
ン、 2.4=ジメチルシクロペンタノン、2,3−
ジメ千ルシクロペンタノン、2−メチルシクロヘキサノ
ン、2,3−ジメチルシクロヘキサノン、2,3−ジメ
チルシクロヘキサノン、2.4−ジメチルシクロヘキサ
ノン、2,3−ジメチルシクロヘキサノン、2.6−ジ
メチルシクロヘキサノン、2−メチルシクロヘプタノン
、2−メチルシクロオクタノンなどを挙げることができ
−R3とR4とがそれらが結合している炭素原子ととも
に員数4ないし8の環を形成しているケトン類としては
例えばシクロブチルメチルケトン、シクロペンチルメチ
ルケトン、2−メチルシクロペンチルケトン,3−メチ
ルシクロペンチルメチルケトン、4−メチルシクロペン
チルメチルケトン、シクロヘキシルメチルケトン、2−
メチルシクロヘキシルメチルケトン,3−メチルシクロ
へキシルメチルケトン、4−メチルシクロペンチルメチ
ルケトン、シクロへブチルメチルケトン、シクロオクチ
ルメチルケトンなどを挙げることができる。これらの環
構造を有するケトン類を使用する場合は、2位又は5位
の置換基が環を形成する2,3−ジヒドロベンゾフラン
類が得られるが、これらも本発明による生成物に含まれ
る1本発明において用いられる酸触媒としては例えハ塩
酸、硫酸、フルオロスルホン酸、リン酸などの鉱酸、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸、
シリカ、シリカ・アルミナ、シリカ・マグネシア、シリ
カ・チタニア、陽イオン交換樹脂などの固体酸などを挙
げることができ。
プロピルケトン、イソプロピル2−メチルフェニルケト
ン、イソプロピル4−メトキシ7エ二ルケトンなどの芳
香族ケトンを挙げることができる。またR2とR3とが
それらが結合している炭素原子とともに員@5ないし8
の環を形成しているケトン類としては1例えば2−メチ
ルシクロペンタノン、2,3−ジメチルシクロペンタノ
ン、 2.4=ジメチルシクロペンタノン、2,3−
ジメ千ルシクロペンタノン、2−メチルシクロヘキサノ
ン、2,3−ジメチルシクロヘキサノン、2,3−ジメ
チルシクロヘキサノン、2.4−ジメチルシクロヘキサ
ノン、2,3−ジメチルシクロヘキサノン、2.6−ジ
メチルシクロヘキサノン、2−メチルシクロヘプタノン
、2−メチルシクロオクタノンなどを挙げることができ
−R3とR4とがそれらが結合している炭素原子ととも
に員数4ないし8の環を形成しているケトン類としては
例えばシクロブチルメチルケトン、シクロペンチルメチ
ルケトン、2−メチルシクロペンチルケトン,3−メチ
ルシクロペンチルメチルケトン、4−メチルシクロペン
チルメチルケトン、シクロヘキシルメチルケトン、2−
メチルシクロヘキシルメチルケトン,3−メチルシクロ
へキシルメチルケトン、4−メチルシクロペンチルメチ
ルケトン、シクロへブチルメチルケトン、シクロオクチ
ルメチルケトンなどを挙げることができる。これらの環
構造を有するケトン類を使用する場合は、2位又は5位
の置換基が環を形成する2,3−ジヒドロベンゾフラン
類が得られるが、これらも本発明による生成物に含まれ
る1本発明において用いられる酸触媒としては例えハ塩
酸、硫酸、フルオロスルホン酸、リン酸などの鉱酸、ベ
ンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸、
シリカ、シリカ・アルミナ、シリカ・マグネシア、シリ
カ・チタニア、陽イオン交換樹脂などの固体酸などを挙
げることができ。
これらの酸触媒のうち、塩酸、硫酸あるいは陽イオン交
換樹脂を使用することが好ましい。
換樹脂を使用することが好ましい。
本発明の製造の際のケトン類の使用割合は1,3−ジヒ
ドロキシベンゼン類、例えばレゾルシン1モルに対して
通常0,3ないし10モル、好ましくは0,3すいし5
モルの範囲である。またこの反応は溶媒の不存在下に行
うことができるが1反応に不活性な溶媒の存在下に行う
ことができる。この際ノ溶媒トしテハ、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族系炭化水素、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、リダロイン、灯油などの脂肪
族系炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲ
ン化炭化水素などを例示することができる。
ドロキシベンゼン類、例えばレゾルシン1モルに対して
通常0,3ないし10モル、好ましくは0,3すいし5
モルの範囲である。またこの反応は溶媒の不存在下に行
うことができるが1反応に不活性な溶媒の存在下に行う
ことができる。この際ノ溶媒トしテハ、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族系炭化水素、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、リダロイン、灯油などの脂肪
族系炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲ
ン化炭化水素などを例示することができる。
これらの溶媒を使用する場合の使用割合はレゾルシンに
対して通常1ないし20重量倍、好ましくは2ないし1
0重量倍の範囲である。
対して通常1ないし20重量倍、好ましくは2ないし1
0重量倍の範囲である。
反応温度は通常0ないし150℃、好ましくは15ない
し120℃の範囲である。反応に要する時間は反応温度
およびその他の売件にJ:つでも異なるが、通常0,3
ないし50時間、好ましくは2ないし50時間の範囲で
ある。反応終了後は、抽出。
し120℃の範囲である。反応に要する時間は反応温度
およびその他の売件にJ:つでも異なるが、通常0,3
ないし50時間、好ましくは2ないし50時間の範囲で
ある。反応終了後は、抽出。
蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの常法に従って処
理することによって、目的とする2,3−ジヒドロベン
ゾフラン類を得ることができるっ〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば−1゜5−ジヒドロキシベ
ンゼン類とα炭素原子の少なくとも一方に1個の水素原
子を有するケトン類との反応において、目的とする6位
にヒドロキシル基を有し、2位に2個,3位に1個の置
換基を有する2,3−ジヒドロベンゾフラン類を一工程
で容易にしかも好収率で得ることができ、したがって本
発明は産業上きわめて有効である。
理することによって、目的とする2,3−ジヒドロベン
ゾフラン類を得ることができるっ〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば−1゜5−ジヒドロキシベ
ンゼン類とα炭素原子の少なくとも一方に1個の水素原
子を有するケトン類との反応において、目的とする6位
にヒドロキシル基を有し、2位に2個,3位に1個の置
換基を有する2,3−ジヒドロベンゾフラン類を一工程
で容易にしかも好収率で得ることができ、したがって本
発明は産業上きわめて有効である。
以下、本発明の方法を実施例によって具体的に説明する
。
。
冷MJ器、温度計を備えた100m1三ロフラスコにレ
ゾルシン11g(0,1モル)、イソプロピルメチルケ
トン8.6 g (0−1モル)、陽イオン交換樹脂(
アンバーリスト15 ) 1,3g (レゾルシンに対
して12重ffi<)を入れ、窒素雰囲気下100℃に
て10時間攪拌した。放冷後−陽イオン交換樹脂を口取
し、シルカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキ
サン;酢酸エチル=471 )にて?1′L離・精製す
ると無色針状晶の目的物11.8ttが得られた(収率
66%)。
ゾルシン11g(0,1モル)、イソプロピルメチルケ
トン8.6 g (0−1モル)、陽イオン交換樹脂(
アンバーリスト15 ) 1,3g (レゾルシンに対
して12重ffi<)を入れ、窒素雰囲気下100℃に
て10時間攪拌した。放冷後−陽イオン交換樹脂を口取
し、シルカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒;ヘキ
サン;酢酸エチル=471 )にて?1′L離・精製す
ると無色針状晶の目的物11.8ttが得られた(収率
66%)。
融 点:67,3℃
質舟スペクトル;m/2 178(分子イオンビーク)
工Rスペクトル(ヌジョールHcyn)5258.16
06,1155.960’ H−N M Rスペクトル
(CDC7?3溶液; pnm )(CI (a)i、1a(3H,d、J=7.2Hz )(b)
1.26(5H,s ) (e) 1.45 (5H,s ) (d) 5−07 (I H,q、、T=7.2Hz
)(e)a、89(1H,5) (r) 6.24 (I H,d、J=2.7Hz )
(g) 6.28 (I H,da 、J=2.7an
d 7.2 Hz )(h) 6.’39 (I H,
d 、J=7.2 Hz )実施例2〜15 実施例1においてイソプロピルメチルケトンの代わりに
表1のケトン類を用いた以外は実施例1とほぼ同様に反
応を行った。実施例1と同様に処理したところ−2,5
−ジヒドロベンゾフラン類が表1の収率で得られた。
工Rスペクトル(ヌジョールHcyn)5258.16
06,1155.960’ H−N M Rスペクトル
(CDC7?3溶液; pnm )(CI (a)i、1a(3H,d、J=7.2Hz )(b)
1.26(5H,s ) (e) 1.45 (5H,s ) (d) 5−07 (I H,q、、T=7.2Hz
)(e)a、89(1H,5) (r) 6.24 (I H,d、J=2.7Hz )
(g) 6.28 (I H,da 、J=2.7an
d 7.2 Hz )(h) 6.’39 (I H,
d 、J=7.2 Hz )実施例2〜15 実施例1においてイソプロピルメチルケトンの代わりに
表1のケトン類を用いた以外は実施例1とほぼ同様に反
応を行った。実施例1と同様に処理したところ−2,5
−ジヒドロベンゾフラン類が表1の収率で得られた。
実施例14〜15
実施例1において、レゾルシンに代えてオルシノールを
用い、イソプロピルメチルケトンの代わりに表2のケト
ン類を用いた以外は実施例1とほぼ同様に反応を行った
。実施例1と同様に処理したところ、2.3−ジヒドロ
dンゾフランがカ表2の収率で得られた。
用い、イソプロピルメチルケトンの代わりに表2のケト
ン類を用いた以外は実施例1とほぼ同様に反応を行った
。実施例1と同様に処理したところ、2.3−ジヒドロ
dンゾフランがカ表2の収率で得られた。
Claims (1)
- (1)1,3−ジヒドロキシベンゼン類と、α炭素原子
の一方若しくは双方に1個の水素原子を有するケトン類
とを酸性触媒の存在下に反応させることを特徴とする6
位のヒドロキシル基を有し、2位に2個、3位に1個の
置換基を有する2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27919385A JPS62138487A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27919385A JPS62138487A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62138487A true JPS62138487A (ja) | 1987-06-22 |
JPH0446273B2 JPH0446273B2 (ja) | 1992-07-29 |
Family
ID=17607728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27919385A Granted JPS62138487A (ja) | 1985-12-13 | 1985-12-13 | 2,3−ジヒドロベンゾフラン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62138487A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001007031A1 (fr) * | 1999-07-26 | 2001-02-01 | Shionogi & Co., Ltd. | Derives de benzene, compositions immunostimulantes ou agents de retablissement de la pharmacosensibilite les contenant |
TWI418548B (zh) * | 2006-04-25 | 2013-12-11 | Merck Patent Gmbh | 六氫二苯并呋喃衍生物 |
-
1985
- 1985-12-13 JP JP27919385A patent/JPS62138487A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001007031A1 (fr) * | 1999-07-26 | 2001-02-01 | Shionogi & Co., Ltd. | Derives de benzene, compositions immunostimulantes ou agents de retablissement de la pharmacosensibilite les contenant |
TWI418548B (zh) * | 2006-04-25 | 2013-12-11 | Merck Patent Gmbh | 六氫二苯并呋喃衍生物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0446273B2 (ja) | 1992-07-29 |
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