JPS62130534A - Wafer conveyor for vertical wafer processor - Google Patents

Wafer conveyor for vertical wafer processor

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JPS62130534A
JPS62130534A JP26951885A JP26951885A JPS62130534A JP S62130534 A JPS62130534 A JP S62130534A JP 26951885 A JP26951885 A JP 26951885A JP 26951885 A JP26951885 A JP 26951885A JP S62130534 A JPS62130534 A JP S62130534A
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wafer
boat
cassette
vertical
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Takatoshi Ono
小野　喬利
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DEISUKO SAIYAA JAPAN KK
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Abstract

PURPOSE:To convey a wafer by selectively supporting a wafer boat in a first state that its longitudinal axis is vertical or in a second state that its axis is oblique, and readily and effectively charging/removing the wafer in the second state. CONSTITUTION:A supporting base 62 of boat supporting means 36 is elevationally movable, and the means 36 is normally and reversely rotatable around a shaft 92. A boat 96 is opened at its front face, having longitudinally wafer W containing grooves at a predetermined interval. The grooves are inclined at 0<=alpha<=45 deg. from a horizontal upwardly toward the opening in a first state that the axis of the boat is vertical, and the grooves are inclined at 0<=theta<=45 deg. from a horizontal in a second state that the axis is turned, and the grooves are substantially perpendicular to the horizontal. When a wafer W is transferred to between a cassette 44 on cassette supporting means 32 and the boat 96 in the meantime, the wafer can be readily and effectively charged/ removed. Then, the boat 96 is erected together with a supporting frame 80 to be raised to a first position 80B, the boat is disposed in a first state 96B, the upper end of the boat is suspended to communicate with a conveyor. The wafer is processed in a vertical furnace.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

く技術分野〉 本発明は、縦型処理装置のためのウェーハ搬送装置、更
に詳しくは、縦型処理装置に対する半導体ウェーハの搬
入及び／又は搬出を遂行するウェーハ搬送装置に関する
。 〈従来技術〉 半導体ウェーハの熱処理、化学反応処理等の処理に使用
される処理装置、例えば拡散炉又はＣＶＤ（化学的若気
相成長）装置として、近時においては、所謂横型装置（
装置における収納空洞の中心軸線が実質上水平に延びる
形態の装置）に代えて種々の利点を有する所謂縦型装置
く装置における収納空洞の中心軸線が実質上鉛直に延び
る形態の装置）が提案され実用に供され始めている。か
かる縦型装置においてウェーハに所要処理、例えば熱処
理又はＣＶＤ処理、を施す時には、複数枚のウェーハを
石英ガラス又はシリコンの如き材料から形成されたウェ
ーハボートに装填し、かかるウェーハボートを縦型装置
の収納空洞に収納することが必要である。上記ウェーハ
ボートは、その正常状態においてその長手方向軸線が実
質上鉛直に延び、その前面にウェーハ出入開口を有する
と共に、鉛直方向に間隔を霞いて形成された担数個のウ
ェーハ収容溝を有する。そして、上記ウエーハ収容溝に
ウェーハが装填される。一般に、上記ウェーハ収容溝は
上記ウェーハ出入開口に向かって上方に水平に対して０
度乃至４５度、通常は約５度、の角度をなして延びる。 従って上方ウェーハ収容溝に装填された複数枚のウェー
ハは、相互に鉛直方向に間隔を１いて且つ各々が上記ウ
ェーハ出入開口に向かって上方に水平に対して０度乃至
４５度、通常は約５度、の角度をなす状態で支持される
。 〈解決課題〉 而して、上記縦型装置の実用に際しては、上記ボートに
対するウェーハの装填及び／又は離脱と共に、縦型装置
外の所定佐賀と縦型装置との間にて上記ウェーハボート
を移送し、かくして縦型装置に対するウェーハの搬入及
び／又は搬出を遂行するウェーハ搬送装置を装備するこ
とが必要である。しかしながら、かようなウェーハ搬送
装置は未だ開発されておらず、これが縦型装置の実用化
における障害となっている。 従来から実用に供されている横型装置に関しては、勿論
、ウェーハ搬送装置が開発され実用に供されている。し
かしながら、横型装置に使用されるウェーハボートと縦
型装置に使用されるウェーハボートとは顕著に相違し、
それ故に横型装置のためのウェーハ搬送装置を縦型装置
に適用することはできない。横型装置に使用されるウェ
ーハボートは、その正常状態においてその長手方向軸線
が実質上水平に延び、その上面にウェーハ出入開口を存
すると共に、水平方向に間隔を置いて形成された複数個
のウェーハ収容溝を有する。従って、上記ウェーハ収容
溝に装填された複数枚のウェーハは、相互に水平方向に
間隔を置いて且つ各々が略鉛直に起立した状態で支持さ
れる。 〈発明の目的〉 本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、縦型処
理装置に対するウェーハの搬入及び／又は搬出を遂行す
るための新規且つ優れたウェーハ搬送装置を提供するこ
とである。 〈発明の要約〉 上記ウェーハ搬送装置の実現化に際しては、特に上記ボ
ートに対するウェーハの装填及び／又は離脱を如何にし
て遂行するかが問題であるが、本発明者は、鋭意研究の
結果、ウェーハボートをその長手方向軸線が略鉛直に延
びる第１の状態とかかる第１の状態から傾動せしめた第
２の状態とに選択的に支持することができるようにせし
め、ボートに対するウェーハの装填及び／又は離脱を遂
行する際にはボートを上記第２の状態にせしめれば、充
分容易且つ確実にボートに対するウェーハの装填及び／
又は離脱を遂行することができることを見出した。 即ち、本発明によれば、複数枚のウェーハを間隔を置い
て且つ相互に略平行に収容したウェーハボートが、その
長手方向軸線を略鉛直にせしめた状態で収納される収納
空洞を有する縦型処理装置のための、ウェーハ搬送装置
にして、 該ボートの長手方向軸線が略鉛直に延びる第１の状態と
該第１の状態から傾動せしめた第２の状態とに、該ボー
トを選択的に支持することができるボート支持手段を具
備する、ことを特徴とするウェーハ搬送装置が提供され
る。 本発明の好適具体例においては、該第２の状態において
該ボートの長手方向軸線は、水平に対して角度θ、ここ
で０度≦θ≦４５度である、をなして延び、該ボートは
その前面にウェーハ出入開口を有すると共に、その長手
方向に間隔を置いて形成された複数個のウェーハ収容溝
を有し、該ボートの長手方向軸線が略垂直にせしめられ
た状態で咳ウェーハ収容溝の各々は酸ウェーハ出入開口
に向かって上方に水平に対して角度α、ここでＯ度≦α
≦４５度おなしで延び、該第２の状態において該ボート
は該ウェーハ出大開口を上方に向け、該角度θは該角度
αと実質上同一であり、かくして該第２の状態において
該ボートの該ウェーハ収容溝は実質上鉛直に延びる。 〈発明の好適具体例〉 以下、添付図面を参照して、本発明に従って構成された
ウェーハ搬送装置の一具体例について詳細に説明する。 第１図は、本発明に従って構成されたウェーハ）歴送装
置の一具体例が装備された拡散炉システムの一例を図示
している。図示のシステムは、４台の縦型拡散炉２と共
通の１台のウェーハ搬送装置４とを含んでいる。 蚕ｌｌ灯す図１翌 それ自体は公知の適宜の形態でよい縦型拡散炉２の各々
は、本体部６とボート懸架機構８と具備している。本体
部６はハウジング１０を有し、このハウジング１０には
上方に開口した収納空洞１２が形成されている。かかる
収納空洞１２の中心軸線は実質上鉛直に運びでいる。ボ
ート懸架機構８は、ハウジング１６と、このハウジング
１６から実質上鉛直に上方へ突出した支持軸１８と、こ
の支持軸１日の上端から実質上水平に突出するアーム２
０とを含んでいる。支持軸１８は昇降自在に且つ回転自
在に装着されている。そして、ハウジング１６内には、
支持軸１８を昇降動せしめるための昇降動手段（図示し
ていない）及び支持軸１８を回転せしめるための回転手
段（図示していない）が配設されている。一端が支持軸
１８に固定されたアーム２０の自由端は、スリーブ２１
が固定され、このスリーブ２Ｉの下端に蓋体２２が固定
されている。更に、上記アーム２０の自由端には、スリ
ーブ２１及び蓋体２２を貫通して下方へ延びる軸２４が
回転自在に装着されている。軸２４の下端にはボート懸
架具２６　（このボート懸架具２６については後に更に
言及する）が形成されている。軸２４は、上記アーム２
０及び上記支持軸１８内に配設された駆動連結手段（図
示していない）を介して、ハウジング１６内に配設され
た回転駆動源（図示していない）に駆動連結されている
。 上記の通りの縦型拡散炉２においては、ボート懸架機構
８のアーム２０がボート受渡位置２０Ａにある時に、後
述する如くして、複数枚の半導体ウェーハを支持したウ
ェーハボートがウェーハ搬送装置４によって供給され、
かかるボートの上端部が上記ポートＱ架具２６に係合せ
しめられる。 かくしてアーム２０の自由端にボートが懸架された後に
、支持軸１８が回転せしめられ、アーム２０は２点鎖線
で示す位置２０Ｂ（即ち、アーム２０の自由端に装着さ
れている軸２４が収納空洞１２に整合する位置）に回転
せしめられ、次いで、支持軸１８が下降せしめられ、ア
ーム２０は上記蓋体２２が収納空洞１２の上端開口を閉
じる位置２０Ｃまで下降される。かくして、複数枚のウ
ェーハを支持したボートが収納空洞１２内に収納される
。 拡散処理が遂行される時には、上記軸２４が比較的低速
で回転され、従って軸２４に懸架されたボートが比較的
低速で回転される。拡散処理が終了すると、アーム２０
が２点鎖線で示す位置２０Ｂまで上昇され、次いで実線
で示すボート受渡位置２ＯＡに回転せしめられる。そし
て、拡散処理されたウェーハを支持しているボートが、
後述する如くしてウェーハ搬送装置４によって搬出され
る。 縦型拡散炉２自体は公知の形態でよい故に、縦型拡散炉
２自体の詳細な説明は、本明細書においては省略する。 文土二ｆｆｉ部躬TECHNICAL FIELD The present invention relates to a wafer transport device for a vertical processing device, and more particularly to a wafer transport device for loading and/or unloading a semiconductor wafer into a vertical processing device. <Prior Art> In recent years, so-called horizontal equipment (
Instead of a device in which the center axis of the storage cavity in the device extends substantially horizontally, a so-called vertical device has been proposed, which has various advantages. It is beginning to be put into practical use. When wafers are subjected to the required processing, such as heat treatment or CVD processing, in such vertical equipment, a plurality of wafers are loaded into a wafer boat made of a material such as quartz glass or silicon, and the wafer boat is placed in the vertical equipment. It is necessary to store it in a storage cavity. In its normal state, the wafer boat has its longitudinal axis extending substantially vertically, has a wafer inlet/outlet opening on its front surface, and has a number of wafer receiving grooves formed at narrow intervals in the vertical direction. Then, a wafer is loaded into the wafer storage groove. Generally, the wafer receiving groove is arranged upwardly toward the wafer entrance/exit opening with respect to the horizontal direction.
They extend at an angle of between 45 degrees and typically about 5 degrees. Therefore, the plurality of wafers loaded in the upper wafer storage groove are spaced apart from each other in the vertical direction, and each is directed upward toward the wafer entrance/exit opening at an angle of 0 to 45 degrees to the horizontal, usually about 5 degrees. It is supported at an angle of . <Problem to be solved> When putting the above-mentioned vertical apparatus into practice, it is necessary to load and/or unload wafers from the boat and to transfer the wafer boat between a predetermined saga outside the vertical apparatus and the vertical apparatus. It is thus necessary to equip a wafer transport device to carry out the loading and/or unloading of wafers to and from the vertical apparatus. However, such a wafer transfer device has not yet been developed, and this is an obstacle to the practical application of vertical devices. As for horizontal devices that have been put into practical use, of course, wafer transfer devices have been developed and put into practical use. However, there are significant differences between wafer boats used in horizontal equipment and wafer boats used in vertical equipment.
Therefore, a wafer transport device for a horizontal type device cannot be applied to a vertical type device. In its normal state, a wafer boat used in a horizontal device has a longitudinal axis extending substantially horizontally, has a wafer inlet/outlet opening on its upper surface, and has a plurality of wafer storage spaces spaced apart in the horizontal direction. Has grooves. Therefore, the plurality of wafers loaded in the wafer storage groove are supported in a state in which they are spaced apart from each other in the horizontal direction and each stands up substantially vertically. <Object of the Invention> The present invention has been made in view of the above facts, and an object thereof is to provide a new and excellent wafer transfer device for carrying in and/or carrying out wafers into and/or out of a vertical processing apparatus. <Summary of the Invention> When realizing the above-mentioned wafer transfer device, there is a particular problem in how to load and/or unload wafers into the above-mentioned boat. The boat can be selectively supported in a first state in which its longitudinal axis extends substantially vertically and in a second state in which it is tilted from the first state, and the boat is capable of loading wafers onto the boat and/or Alternatively, if the boat is placed in the second state when the detachment is performed, loading and/or loading of wafers onto the boat can be easily and reliably carried out.
or found that it is possible to carry out withdrawal. That is, according to the present invention, there is provided a vertical type wafer boat having a storage cavity in which a plurality of wafers are stored at intervals and substantially parallel to each other, with their longitudinal axes being substantially vertical. A wafer transport device for a processing device, the boat being selectively put into a first state in which the longitudinal axis of the boat extends substantially vertically and a second state in which it is tilted from the first state. A wafer transport device is provided, characterized in that it comprises boat support means capable of supporting the wafer. In a preferred embodiment of the invention, the longitudinal axis of the boat in the second state extends at an angle θ with respect to the horizontal, where 0°≦θ≦45°, and the boat is It has a wafer inlet/outlet opening on the front surface thereof, and a plurality of wafer accommodating grooves formed at intervals in the longitudinal direction of the boat, and the wafer accommodating groove has a wafer accommodating groove in a state where the longitudinal axis of the boat is substantially perpendicular. each at an angle α with respect to the horizontal upward toward the acid wafer access opening, where O degrees ≤ α
≦45 degrees, the boat in the second state has the wafer exit large opening facing upward, the angle θ is substantially the same as the angle α, and thus the boat in the second state The wafer receiving groove extends substantially vertically. <Preferred Specific Example of the Invention> Hereinafter, a specific example of a wafer transfer apparatus constructed according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 illustrates an example of a diffusion furnace system equipped with an embodiment of a wafer feeder constructed in accordance with the present invention. The illustrated system includes four vertical diffusion furnaces 2 and a common wafer transfer device 4. Each of the vertical diffusion furnaces 2, which may be of any suitable form known per se, comprises a main body 6 and a boat suspension mechanism 8. The main body 6 has a housing 10 in which a storage cavity 12 is formed which is open upward. The central axis of such storage cavity 12 runs substantially vertically. The boat suspension mechanism 8 includes a housing 16, a support shaft 18 that projects substantially vertically upward from the housing 16, and an arm 2 that projects substantially horizontally from the upper end of the support shaft.
Contains 0. The support shaft 18 is mounted so as to be movable up and down and rotatable. And inside the housing 16,
Elevating means (not shown) for moving the support shaft 18 up and down and rotation means (not shown) for rotating the support shaft 18 are provided. The free end of the arm 20, one end of which is fixed to the support shaft 18, is connected to a sleeve 21.
is fixed, and a lid body 22 is fixed to the lower end of this sleeve 2I. Furthermore, a shaft 24 that extends downward through the sleeve 21 and the lid 22 is rotatably attached to the free end of the arm 20. A boat suspension 26 (more on this later) is formed at the lower end of the shaft 24. The shaft 24 is connected to the arm 2
0 and the support shaft 18 through drive coupling means (not shown) disposed within the housing 16 to a rotary drive source (not shown) disposed within the housing 16. In the vertical diffusion furnace 2 as described above, when the arm 20 of the boat suspension mechanism 8 is at the boat delivery position 20A, the wafer boat supporting a plurality of semiconductor wafers is moved by the wafer transfer device 4 as described later. supplied,
The upper end of the boat is engaged with the port Q frame 26. After the boat is thus suspended on the free end of the arm 20, the support shaft 18 is rotated, and the arm 20 is moved to the position 20B indicated by the two-dot chain line (i.e., the shaft 24 attached to the free end of the arm 20 is moved to the storage cavity). 12), then the support shaft 18 is lowered, and the arm 20 is lowered to a position 20C where the lid 22 closes the upper end opening of the storage cavity 12. In this way, a boat supporting a plurality of wafers is stored in the storage cavity 12. When the diffusion process is performed, the shaft 24 is rotated at a relatively low speed, and thus the boat suspended on the shaft 24 is rotated at a relatively low speed. When the diffusion process is completed, the arm 20
is raised to a position 20B indicated by a two-dot chain line, and then rotated to a boat delivery position 2OA indicated by a solid line. Then, the boat supporting the diffusion-processed wafers
The wafer is carried out by the wafer transfer device 4 as described later. Since the vertical diffusion furnace 2 itself may be of a known form, a detailed description of the vertical diffusion furnace 2 itself will be omitted in this specification. Bundo 2ffi club

【Δ琳底Ｍ要 図示のシステムにおけるウェーハ搬送装置４は、４台の
縦型拡散炉２の夫々に拡散処理すべき複数枚のウェーハ
を支持したボートを供給即ち搬入すると共に、４台の縦
型拡散炉２の夫々から拡散処理された複数枚のウェーハ
を支持したボートを搬出する。所望ならば、搬入専用の
ウェーハ搬送装置と搬出専用のウェーハ搬送装置とを別
個にシステムに装備することもできる。 第１図を参照して説明を続けると、図示のウェーハ搬送
装置４は、縦型拡散炉２に並置されたハウジング２８と
、縦型拡散炉２の後方に配設されたハウジング３０とを
具備している。そして、ハウジング２８には、カセット
支持手段３２、ウェーハ移送手段３４及びボート支持手
段３６が設けられており、ハウジング３０には、ボート
移送手段３日が設けられている。 血之ノド　寺子　　びカセット 第１図と共に第２図を参照して説明すると、上記ハウジ
ング２日は比較的低い実質上水平な上面４０を有し、か
かる上面４０の前部にカセット支持手段３２が形成され
ている。図示の具体例においては、上面４０の前部に相
互に隣接せしめて６個の矩形の凹部４２が形成されてお
り、かかる凹部４２の各々にウェーハカセット４４が載
置される。上記凹部４２の底面には、全ての凹部４２に
渡って連続して延びる細長い開口４６が形成されている
（かかる開口４６については後に更に言及する）。 ウェーハカセット４４自体は、広く一般に使用されてい
る周知の形態のものでよい。第３図を参照してカセット
４４の一例について説明すると、図示のカセット４４は
、上面が開口した箱形状である。かかるカセット４４の
底部は上部に比べて幾分幅狭にせしめられており、かか
る底部の幅及び長さは、上記凹部４２の幅及び長さに対
応している。カセット４４の両側壁４８の内面には、長
手方向に所定間隔を置いて実質上鉛直に延びる複数個の
ウェーハ収容溝５０が形成されている。両側壁４８間の
間隔は半導体ウェーハＷの直径に略対応している。溝５
０の幅はウェーハＷの厚さに略対応している。カセット
４４の底壁５２には、ウェーハＷの直径よりも小さい幅
で長手方向に延びる幅狭開口５４が形成されている。か
ようなカセット４４においては、その上面に存在するウ
ェーハ出入開口５６を通して、上記１５０の各々にウェ
ーハＷが挿入される。かくして、カセット４４には、そ
の長手方向に間隔を置いて実質上鉛直に支持された複数
枚のウェーハＷが収容される。 第２図に図示する如く、拡散処理すべき複数枚のウェー
ハＷを収容したカセット４４は、例えば手動で上記カセ
ット支持手段３２上にＲ置される。 この際には、カセット４４の底部が上記凹部４２内に位
置せしめられ、かくして、カセット４４は所定値１に充
分正確に実質上水平に載置され、従って上記４５０及び
かかる溝５０に挿入されたウェーハＷは実質上鉛直に位
置する。所望ならば、上記カセット支持手段３２上にカ
セット４４を搬入し、そしてまた上記カセット支持手段
３２上からカセット４４を搬出するための適宜カセット
搬送装置（図示していない）を、システムに装備するこ
ともできる。 ボート　　　Ｙ　びボート 第２図を参照して説明すると、上記ハウジング２８は実
質上鉛直に延在する鉛直面５８を有し、この鉛直面５８
には相互に平行に且つ実質上鉛直に延びる一対の案内レ
ール６０が固定されている。 第２図と共に第４図を参照して説明すると、上記一対の
案内レール６０には支持基台６２が昇降自在に装着され
、そして支持基台６２を昇降動せしめるための昇降動手
段６４が設けられている。昇降動手段６４は、鉛直方向
に間隔を置いて上記ハウジング２８内に回転自在に装着
されたスプロケットホイール６６及び６８、並びにかか
るスプロケットホイール６６及び６８に巻掛けられた無
端チェーン７０を含んでいる。チェーン７０の前側走行
部は上記鉛直面５８に形成されている細長い開ロア２を
通して露呈せしめられており、かかる前側走行部には連
結部材７４によっ′て上記支持基台６２が連結されてい
る。スプロケットホイール６６は適宜の減速機構７５を
介して電動モーフ７６に駆動連結されている。かくして
、電動モータ７６を正転及び逆転せしめることによって
、支持基台６２は第４図に実線で示す下降位置と第４図
に２点鎖線で示す上昇位置との間を昇降動せしめられる
。 上記支持基台６２には矩形間ロア８が形成されており、
かかる開ロア８内にボート支持枠８０の一端が旋回自在
に装着されている。第５図を参照して説明すると、ボー
ト支持枠８０は、所定間隔を置いて相互に平行に配設さ
れた底板８２及び上板８４、並びに上記底板８２と上板
８４間に固定された４本のロッド８６ａ乃至８６ｄを有
する。 上板８４には矩形の切欠き８８が形成されている（この
切欠き８８については後に更に言及する）。 第４図に図示する如く、底板８２の外面には略三角形状
の一対の連結片９０が形成されている。そして、かかる
一対の連結片９０が、上記支持基台６２に回転自在に装
着され上記開ロア８を実質上水平に延びる軸９２に固定
されている。かくして、ボート支持枠８０は軸９２を中
心として旋回自在に支持基台６２に装着されている。上
記支持基台６２には、電動モータでよい旋回動手段９′
２が装着されており、かかる旋回動手段９４の出力端は
、減速機構９５を介して上記軸９２に駆動連結されてい
る。従って、旋回動手段９４の正転及び逆転に応じて、
ボート支持枠８０は、第４図に実線で示す起立位置と第
４図に２点鎖線８０Ａで示す横臥位置との間を旋回動せ
しめられる。 上記ボート支持枠８０には、ウェーハポート９６が支持
される。第５図を参照して説明すると、図示のボート９
６は、所定の間隔をおいて相互に平行に配置された底板
９８及び上板１００、並びに上記底板９８と上板１００
との間に固定された６木のロッド１０２ａ乃至１０２ｆ
を有する。最前方に位置するロッド１０２ａとロッド１
０２ｆとの間隔は、支持すべきウェーハＷの直径に略対
応、更にくわしくはそれより若干短く設定されており、
上記１０２ａ及び１０２ｆ間にウェーハ出入開口１０４
が規定されている。上記ロッド１０２　ａ　乃至１０２
ｆのうちの４本の口・ノド１０２ａ、１０２ｃ、１０２
−ｄ及び１０２ｆの各々には、長手方向に所定間隔を置
いて複数個のウェーハ収容／？４１０６が形成されてい
る。ウェーハ収容／＃　１０６の長手方向間隔は、上述
したカセット４４のウェーハ収容ａＩ１５０（第３図）
の長手方向間隔と実質上同一でよい。第６図に図示する
如く、ロッド１０２ａ。 １０２ｃ、１０２ｄ及び１０２ｆの各々に形成されてい
るウェーハ収容溝１０６の長手方向位置は相互に対応せ
しめられており、ロッド１０２ａ。 １０２ｃ、１０２ｄ及び１０２ｆにおける夫々１個の組
を成す４個のウェーハ収容溝１０６に１枚のウェーハＷ
が挿入される。図示の具体例においては、ロッド１０２
ａ、１０２ｃ、１０２ｄ及び１０２ｆの各々に形成され
ているウェーハ収容溝１０６の数は、上記カセット４４
の各々の両側壁４８に形成されているウェーハ収容溝５
０の数の６倍であり、従ってボート９６には６個のカセ
ット４４に収容される数のウェーハＷが収容され得る。 第５図及び第６図に図示する如く、ボート９６が実質上
鉛直に延在する正常状態において、上記ウェーハ収容溝
１０６は、第６図に図示する如く、上記ウェーハ出入間
口１０４に向かって上方に水平に対して０度乃至４５度
、通常は約５度、の角度αをなして延びる。従って、ウ
ェーハ出入開口１０４を通してウェーハ収容／＃１０６
に挿入されて支持されるウェーハＷも、ウェーハ出入開
口１０４に向かって上方に上記角度αをなす。第７図を
参照して説明すると、ボート９６の上記上板１００の上
面には、被係合部１０８が形成されている。この被係合
部１０８は、前方に向かって開口したチャンネル状玉部
１１０ををする。そして、かかるチャンネル状主部１１
０の外面における長手方向中間部には、中間フランジ１
１２が形成されている。チャンネル状主部１１０の上端
には、天板１１４が形成されており、かかる天板１１４
はチャンネル状主部１１０の外面を越えて外方へ張出し
ていて、上端フランジ１１６を規定している。天板１１
４には前方に開口された切欠き１１７が形成されている
。更に、上記天板１１４の前端縁には、所定間隔を置い
て２個の垂下片１１８が形成されている。後の説明から
明らかになる如く、上記被係合部１０８における上記中
間フランジ１１２は、ボート支持枠８０に対する被懸架
手段を構成し、上記上端フランジ１１６はボート移送手
段３４　（第１図）に対する被懸架手段を構成し、上記
天板１１４及び上記垂下片１１８は縦型拡散炉２（第１
図）に対する被懸架手段を構成する。 上記ボート９６は上記ボート支持枠８０に装填されてこ
れに支持される。この際には、第５図に２点鎖線で示す
如しボート９６の被係合部１０８における中間フランジ
１１２をボート支持枠８０における上板８４に上方に位
置せしめて、ボート９６の被係合部１０８のチャンネル
状主部１１０をボート支持枠８０における上板８４の切
欠き８８に挿入する（チャンネル状主部１１０の幅と切
欠き８８の幅とは実質上同一に設定されている）。 かくして、長手方向においてはボート９６の中間フラン
ジ１１２がボート支持枠８０の上板８４に懸架されるこ
とによって、横方向においてはボート９６の底板９８及
び上板１００の後端縁がボート支持枠８０のロッド８６
ａ乃至８６ｄに当接することによって、ボート支持枠８
０に対してボート９６が所定通りに位置付けられて支持
される。 第４図を参照して説明すると、ボート支持枠８０が２点
鎖線８０Ａで示す横臥位置即ち第２の位置にせしめられ
ると、これに支持されたボート９６は、そのウェーハ出
入開口１０４を上方に向けた状態で且つその長手方向軸
線が水平に対して０度乃至４５度である角度θをなす第
２の状ｇ９６Ａに位置付けられる。この角度θはボート
９６における上記ウェーハ収容溝１０６に関する上記角
度αと実質上同一に設定され、従って上記第２の状ｇ９
６Ａにおいては、ボート９６におけるウェーハ収容溝１
０６は実質上鉛直に延びるのが好ましい。ボート支持枠
８０に支持されたボート９６の長手方向軸線が存在する
実質上鉛直な平面は、上記カセット支持手段３２上に載
置されたカセット４４の長手方向軸線が存在する実質上
鉛直な平面に対して実質上平行である。後の説明から明
らかになる如く、ボート９６が上記第２の状［９６Ａに
位置せしめられている間に、上記カセット支持手段３２
上に載置されているカセット４４　（第２図）とボート
９６との間にてウェーハＷが移送される。ボート支持枠
８０が第４図に実線で示す起立位置にせしめられると、
これに支持されたボート９６もその長手方向軸線が略鉛
直に延びる状態に起立せしめられる。次いで、支持基台
６２が上昇せしめられてボート支持枠８０が２点り￥線
８０Ｂで示す位置即ち第１の位置まで上昇せしめられる
と、これに付随してボート９６も上昇せしめられて２点
鎖線９６Ｂで示す第１の状態に位置付けられる。後の説
明から明らかになる如く、ボート支持枠８０が２点鎖線
８０Ｂで示す第１の位置（従ってボート９６が２点鎖線
９６Ｂで示す第１の状態）に位置せしめられている時に
、ボート支持枠８０と縦型拡散炉２（第２図）との間に
てボード９６が移送される。 り」＝二α移主トＬ役 次に、第２図と共に第８図及び第９図を参照して、ウェ
ーハ移送手段３４について詳細に説明する。上記ハウジ
ング２日内の前端部には、直立静止基台１２０が配設さ
れている。この静止基台１２０は、上記カセット支持手
段３２上に載置されたカセット４４の長手方向軸線に実
質上平行（従って、上記上面４０に形成されている細長
い開口４６に実質上平行）に延在する。静止基台１２０
の後面には、鉛直方向に間隔を置いて実質上水平に延び
る２木の案内レール１２２が固定されている。かかる案
内レール１２２には、可動基台１２４が滑動自在に装着
されている。そして、案内レール１２２に沿って可動基
台１２４を移動せしめるための移動手段１２６が配設さ
れている。 この移動手段１２６は、上記静止基台１２０の後面上に
回転自在に装着され実質上水平に延びている雄ねじロッ
ド１２８と、静止基台１２０の後面上に装着され且つそ
の出力軸が適宜の減速機構１２９を介して上記雄ねじロ
ッド１２８に駆動連結されている電動モータ１３０とを
含んでいる。 上記可動基台１２４には、水平方向に貫通する雌ねじ穴
が形成されており、上記雄ねじロッド１２８はかかる雌
ねじ穴に螺合されている。従って、上記電動モータ１３
０の正転及び逆転によって、可動基台１２４が第９図に
おいて左右方向（第８図において紙面に垂直な方向）に
上記案内レール１２２に沿って滑動せしめられる。 上記可動基台１２４の片面上には、３対の案内レール１
３２．１３４及び１３６が固定されている。案内レール
対１３２，１３４及び１３６の各々のレールは、実質上
水平方向に間隔を置いて実質上鉛直に延びている。案内
レール対１３２゜１３４及び１３６には、夫々、支持ブ
ロック１３８゜１４０及び１４２が滑動自在に装着され
ている。 そして、かかる支持ブロック１３８，１４０及び１４２
の夫々に関して、昇降手段１４４．１４６及び１４８が
設けられれている。昇降手段１４４゜１４６及び１４８
の各々は、可動基台１２４の片面上に回転自在に装着さ
れ実質上鉛直に延びる雄ねじロッド１５０，１５２及び
１５４、可動基台１２４の片面上に装着され且つその出
力軸が適宜の減速機構１５６．１５８及び１６０を介し
て上記雄ねじロッド１５０．１５２及び１５４に駆動連
結されている電動モータ１６２，１６４及び１６６とを
含んでいる。一方、上記ブロック１３８゜１４０及び１
４２の各々には、鉛直方向に貫通する雌ねじ穴が形成さ
れている雌ねじブロック１６８゜１７０及び１７２が固
定されており、上記雄ねじロッド１５０．１５２及び１
５４の各々が雄ねじブロック１６８，１７０及び１７２
の各々の雌ねじ穴に螺合されている。かような次第であ
るので、上記電動モータ１６２，１６４及び１６６の夫
々の正転及び逆転によって、支持ブロック１３８゜１４
０及び１４２の夫々が上記案内レール対１３２゜１３４
及び１３６に沿って昇降動せしめられる。 上記支持ブロック１３８には、実質上鉛直に上方へ延び
る支柱１７４が植設されており、この支柱１７４の上端
には実質上水平に延在する細長い部材から成るカセット
側ウェーハ昇降部材１７６が固定されている。かかるカ
セット側ウェーハ昇降部材１７６は、上述した昇降手段
１４４による支持ブロック１３８の昇降に応じて、実線
で示す下降位置くかかる下降位置においては、カセット
側ウェーハ昇降部材１７６はハウジング２８の上面４０
よりも幾分下方に位置する）と、ハウジング２８に形成
されている上記細長い開口４６　（第２図も参照された
い）を通って上方へ突出するところの２点鎖線で示す上
昇位置との間を昇降動せしめられる。カセット側ウェー
ハ昇降部材１７６の幅及び長さは、上述したカセット４
４に形成されている幅狭開口５４（第３図）の幅及び長
さに対応、更に詳しくは幅狭開口５４の幅及び長さより
も若干だけ小さい。 同様に、上記支持ブロック１４２には、実質上鉛直に上
方へ延びる支柱１７８が植設されており、この支柱１７
８の上端には上記カセット側昇降部材１７６と実質上同
一でよいボート側ウェーハ昇降部材１８０が固定されて
いる。一方、ハウジング２８の上記上面４０には、ボー
ト側ウェーハ昇降部材１８０に関連せしめて、上記細長
い開口４６と実質上平行に延びる細長い開口１８２が形
成されている（第２図も参照されたい）。上記ボート側
ウェーハ昇降部材１８０も、上述した界線手段１４８に
よる支持ブロック１４２の昇降に応じて、実線で示す下
降位置（かかる下降位置においては、ボート側ウェーハ
昇降部材１８０はハウジング２８の上面４０よりも幾分
下方に位置する）と、上記細長い開口１８２を通って上
方へ突出するところの２点鎖線で示す上昇位置との間を
昇降動せしめられる。 一方、上記支持ブロック１３８と上記支持ブロンク１４
２との間に位置する上記支持ブロック１４０には、実質
上鉛直に上方へ延びる支持軸１８４が回転自在に装着さ
れている。第２図に明確に図示する如く、ハウジング２
８の上面４０には、上記細長い開口４６及び１８２間に
おいてこれらに実質上平行に延びる細長い開口１８６も
形成されており、上記支持軸１８４はこの細長い開口１
８６を通って上方へ突出している。支持軸１８４の上端
には実質上水平に延びるアーム１８８が固定されており
、このアーム１８８の自由端いはウェーハ移送具１９０
が固定されている。上記支持ブロック１４０には、電動
モータでよいウェーハ移送具移動手段１９２も固定され
ており、かかる移動手段１９２の出力軸は適宜の減速機
構（図示していない）を介して上記支持軸１８４に駆動
連結されている。移送手段１９２の正転及び逆転によっ
て支持軸１８４が回転され、これによって、ウェーハ移
送具１９０は、第８図及び第１０図に実線で示すカセッ
ト対向位置と、このカセット対向位置から１８０度回転
せしめられたところの第１０図に２点鎖線で示すボート
対向位置との間を旋回動せしめられる。後に更に言及す
る如く、カセット対向位置に位置せしめられたウェーハ
移送具１９０は、カセット支持手段３２に載置された複
数個のカセット４４のいずれか１個の上方に位置する。 また、ボート対向位置に位置せしめられたウェーハ移送
具１９０は、第４図に２点鎖線で示す第２の状態９６Ａ
に位置しているボート９６の特定部分の上方に位置する
。 第８図及び第９図と共に第１０図を参照して説明すると
、ウェーハ移送具１９０は、下面が開口したチャンネル
状部材から形成された本体１９４を含んでいる。この本
体１９４の上壁１９６の中心部が上記アーム１８８の自
由端に固定されている。本体１９４の両側壁１９８は、
ウェーハＷの直径に対応、更に詳しくはそれより若干小
さい間隔を置いて位置する。かかる両側壁１９８の各々
の内面には、長手方向（第１０図において紙面に垂直な
方向）に所定間隔を置いて実質上鉛直に延びる複数個の
ウェーハ収容溝２００が形成されている。かかるウェー
ハ収容溝２００の間隔は、上述したカセット４４に形成
されているウェーハ収容溝５０間隔と実質」二同−でよ
い。図示の具体例においては、ウェーハ移送具１９０の
長手方向寸法は１個のカセット４４の長手方向寸法に対
応しており、ウェーハ移送具１９０の両側壁１９８に形
成されているウェーハ収容溝２００の数は、１個のカセ
ット４４の両側壁４８に形成されているウェーハ収容溝
５０の数と同一である。上記両側壁１９８の各々の外面
には、取付ブラケット２０２が固定されている。かかる
取付ブラケット２０２の各々は両側壁１９８の下端を越
えて下方に突出しており、かかる突出下端部には、位置
付は手段２０４が装着されている。図示の位置付は手段
２０４は、空気圧シリンダ機構から構成されており、そ
のシリンダ２０６が上記取付ブラケット２０２の突出下
端部に固定されている。シリンダ機構のピストン２０８
の先端には、ウェーハ落下防止部材２１０が固定されて
いる。かかるウェーハ落下防止部材２１０の内面には、
上記本体１９４の両側壁１９８の内面に形成されている
複数個のウェーハ収容溝２００に対応せしめてかかるウ
ェーハ収容溝２００と同−深さのウェーハ通過溝２１１
（第２図も参照されたい）が形成されている。 シリンダ機構のピストン２０８が収縮せしめられている
時には、ウェーハ落下防止部材２１０は実線で示す非作
用位置に位置付けられている。かかる非作用位置におい
ては、ウェーハ落下防止部材２１０の内面は本体１９４
の両側壁１９８の内面と同一平面上に位置し、従って本
体１９４の下面に存在するウェーハ出入開口２１２を通
しての上記ウェーハ収容溝２００へのウェーハＷの出入
に対して、ウェーハ落下防止部材２１０は干渉しない。 シリンダ機構のピストン２０８が伸長せしめられると、
ウェーハ落下防止部材２１０は２点鎖線で示す作用位置
に位置付けられる。かくすると、ウェーハ落下防止部材
２１０の各々は、本体１９４の両側壁１９８の内面を越
えて内側に突出し、ウェーハ出入開口２１２の開口幅を
ウェーハＷの直径よりも相当小さい値に低減せしめ、か
くして上記ウェーハ収容ａ２００に収容されたウェーハ
Ｗが下方へ落下するのを確実に防止する。 次に、第８図乃至第１０図、特に第１０図を参照して、
上述した通りのウェーハ移送手段３４の作用を説明する
。既に言及した如く、ウェーハ移送手段３４のよってカ
セット４４とボート９６との間にてウェーハＷを移送す
る時には、ボート支持手段３２のボート支持枠８０は第
４図に２点鎖ｖＡ８０　Ａで示す横臥位置即ち第２の位
置に位置付けられ、ボート支持枠８０に支持されたボー
ト９６は第４図に２点鎖線で示す第２の状ａ９６Ａに位
置付けられている。カセット支持手段３２上に載置され
ているカセット４４内に収容されている拡散処理すべき
ウェーハＷをボート９６に移送する際には、最初に、上
記可動基台１２４が特定のカセット４４に対応する位置
に位置付けられ、ウェーハ移送具１９０が第１０図に実
線で示すカセット対向位置に位置付けられる。次いで、
カセット側ウェーハ昇降部材１７６が第１０図に実線で
示す下降位置から２点鎖線で示す上昇位置まで上昇せし
められる。かくすると、カセット側ウェーハ昇降部材１
７６は、カセット４４の底壁５２に形成されている幅狭
開口５４を通ってカセット４４内に進入し、カセット４
４に収容されている全てのウェーハＷの下端に当ヰし、
ウエーノ＼Ｗをウェーハ収容溝５０に沿って鉛直方向上
方に上昇せしめる。かくして、第１０図に２点鎖線で示
す如（ウェーハＷは、カセット４４のウェーハ収容溝５
０から漸次排出されて、ウェーハ移送具１９０における
ウェーハ収容溝２００に漸次挿入される。次いで、ウェ
ーハ移送具１９０におけるウェーハ落下防止部材２１０
が第１０図に２点鎖線で示す作用泣面に移動せしめられ
、かくしてウェーハ移送具１９０におけるウェーハ収容
溝２００に挿入されたウェーハＷが下方へ落下すること
が防止される。しかる後に、カセット側ウェーハ昇降部
材１７６が第１０図に実線で示す下降位置に下降せしめ
られる。次いで、ウェーハＷを収容したウェーハ移送具
１９０が幾分上昇せしめられると共に第１０図に２点鎖
線で示すボート対向位置まで１８０度旋回動せしめられ
る。また、この間には、ボート側ウェーハ昇降部材１８
０が第１０図に実線で示す下降位置から第１０図に２点
鎖線示です上昇位置へ上昇せしめられる。この際には、
ボート側ウェーハ昇降部材１８０は、ボート支持枠８０
におけるロッド８６ｂ及び８６Ｃ間に存在する開口２１
４（第５図も参照されたい）及びボート９６におけるロ
ッド１０２Ｃ及び１０２ｄ間に谷在する幅狭開口２１６
　（第５図も参照されたい）を通って上昇する。かくし
て、上昇位置にせしめられたボート側ウェーハ昇降部材
１８０の上面は、ボート対向位置にせしめられたウェー
ハ移送具１９０に収容されているウェーハＷの下端に接
触乃至近接せしめられる。ついで、ウェーハ移送具１９
０におけるウェーハ落下防止部材２１０がウェーハＷの
下方への移動を許容する非作用位置にせしめられる。こ
れと同時に或いはこれに引き続いて、ボート側ウェーハ
昇降部材１８０が第１０図に２点鎖線で示す上昇位置か
ら第１０図に実線で示す下降位置へ下降せしめられる。 かくすると、ボート側ウェーハ昇降部材１８０の下降に
応じてウェーハＷが下降され、これによってウェーハＷ
ウェーハ移送具１９０におけるウェーハ収容溝２００か
ら漸次排出されて、ボート９６における特定部分のウェ
ーハ収容溝１０６に漸次挿入される。前述した如く、ボ
ート９６が第４図に２点鎖線で示す第２の状Ｂ９６Ａに
位置付けられている時には、ボート９６のウェーハ収容
ａ１０６は実質上鉛直に延びている故に、ウェーハＷの
下方への移動によってウェーハＷは充分容易且つ確実に
ボート９６のウェーハ収容溝１０６に挿入される。ウェ
ーハＷがウェーハ収容１１０６に完全に挿入されると、
ウェーハＷは更に下降せず、従ってボート側ウェーハ昇
降部材１８０はウェーハＷの下端から離れて第１０図に
実線で示す下降位置間で下降する。 上記の通りにして１個のカセット４４に収容されていた
ウェーハＷをボート９６の特定部分に移送し終わると、
ウェーハ移送具１９０は１８０度旋可動しめられると共
に幾分下降せしめられ、第１Ｏ図に実線で示すカセット
対向位置にせしめられる。これと同時にあるいはこれに
引続いて、可動基台１２４（第８図及び第９図）が水平
方向に所定距離移動せしめられ、次の隣接するカセノト
４４に対応する位置に位置付けられる。そして、上述し
た手順と同様にして、次の隣接するカセ。 ト４４に収容されているウェーハＷがポート９６の上記
特定部分に隣接した部分に移送される。かようにして、
カセット支持手段３２上に載置された６個のカセット４
４に収容されているウエーノ＼Ｗが順次に共通の１個の
ボート９６に移送される。 共通の１個のポート９６に収容されている拡散処理済の
ウェーハＷを、カセット支持手段３２上にｉ！置されて
いる空のカセット４４に移送する際の、ウェーハ移送手
段３４の作用も、上述した場合と実質上同一である。こ
の場合には、ボート側ウェーハ昇降部材１８０が第１０
図に実線で示す下降位１から２点鎖線で示す上昇位置に
上昇せしめられることによって、ボート９６からウェー
ハＷが上昇せしめられてウェーハ移送具１９０に収容さ
れ、また、カセット側ウェーハ昇降部材１７６が第１Ｏ
図に２点鎖線で示す上昇位置から実線で示す下降位置に
下降せしめられることによって、ウェーハ移送具１９０
からウェーハＷが下降されてカセット４４に収容される
。 ヱニ上換込土ユ 次に、第１図と共に第１１図を参照して、ボート移送手
段３８について詳細に説明する。 縦型拡散炉２の後方且つ上方に延在するハウジング３０
内には、所定間隔を置いて相互に平行に且つ実質上水平
に延びる一対の支持レール２１８及び２２０が固定され
ている。そして、かかる一対の支持レール２１８及び２
２０上には、下面が開放された箱状の水平移動枠２２２
が装着されている。水平移動枠２２２の下端４角部の各
々には、車輪２２４が回転自在に装着されており、かか
る車輪２２４が上記一対の支持レール２ｒａＡび２２０
上に乗載されており、かくして、水平移動枠２２２は一
対の支持レール２１８及び２２０上を実質上水平に移動
自在である。水平移動枠２２２の後壁は、後側レール２
２０を越えて下方へ延在せしめられており、延在部の両
側部の各々には、車輪２２５が回転自在に装着されてい
る。かかる車輪２２５は、後側レール２２０の下面に当
接せしめられ、水平移動枠２２２が上方へ変位するのを
防止する。また、水平移動枠２２２の下端後方両側部の
各々には、支持部材２２６が固定されており、かかる支
持部材２２６に一対の案内ローラ２２７が回転自在に装
着されている。かかる案内ローラ２２７は、後側レール
２２０の前面及び後面に当接せしめられており、水平移
動枠２２２が一対の支持レール２１８及び２２０上を移
動する際の水平移動枠２２２の横揺を防止する。水平移
動枠２２２を一対の支持レール２１８及び２２０に沿っ
て所要通りに移動せしめるための水平動手段２２８も設
けられている。この水平移動手段２２８は、静止チェー
ン２３０及びチェーン２３０に係合せしめられている可
動スプロケット２３２を含んでいる。チェーン２３０は
、上記ハウジング３０内に張設されていて、上記一対の
支持レール２１８及び２２０の間をこれらに実質上平行
に且つ実質上水平に延びている。一方、スプロケット２
３２は、水平移動枠２２２に回転自在に装着された軸２
３４に固定されている。水平移動枠２２２には電動モー
タ２３６も装着されており、かかる電動モータ２３６の
出力軸が適宜の減速機構２３８を介して上記軸２３４に
駆動連結されている。電動モータ２３６が正転されてス
プロケット２３２が矢印２４０で示す方向に回転せしめ
られると、静止チェーン２３０に係合せしめられている
スプロケット２３２はチェーン２３０に沿って矢印２４
２で示す方向に転動し、かくして水平移動枠２２２が矢
印２４２で示す方向に移動せしめられる。一方、電動モ
ータ２３６が逆転されてスプロケノｈ　２３２が矢印２
４４で示す方向に回転せしめられると、チェーン２３０
に係合せしめられているスプロケット２３２はチェーン
２３０に沿って矢印２４６で示す方向に転動し、かくし
て水平移動枠２２２が矢印２４６で示す方向に移動せし
められる。 上記水平移動枠２２２内には、さらに、実質上鉛直に延
在する鉛直基板２４８が固定されている。 この鉛直基板２４８の片面には、所定間隔を置いて相互
に平行に且つ実質上鉛直に延びる２本の案内レール２５
０が形成されている。かかる案内レール２５０に鉛直移
動ブロック２５２が滑動自在に装着されている。そして
、鉛直移動ブロック２５２を案内レール２５０に沿って
移動せしめる鉛直移動手段２５４が設けられている。こ
の鉛直移動手段２５４は、上記垂直基板２４８の片面に
回動自在に装着され実質上鉛直に延びる雄ねじロッド２
５６を含んでいる。上記鉛直移動ブロック２５２には鉛
直方向に貫通する雌ねし穴が形成されておりかかる雌ね
じ穴に上記雄ねじロッド２５６が螺合されている。上記
鉛直基板２４８の片面には電動モータ２６０も装着され
ており、かかる電動モータ２６０の出力軸が適宜の減速
機構２６２をかいして上記雄ねじロッド２５６に駆動連
結されている。かくして、電動モータ２６０の正転及び
逆転によって、鉛直移動ブロック２５２が案内レール２
５０に沿って実質上鉛直に昇降動せしめられる。 上記鉛直移動ブロック２５２には、懸架部材２６４が固
定されている。この懸架部材２６４は、前方に突出する
突出部２６５、この突出部〉６５の先端から下方に垂下
する垂下部２６６、及び垂下部２６６の下端に形成され
た懸架具２６８を存する。懸架具２６８は矩形切欠き２
７０が形成された平板から構成されている。切欠き２７
０の幅は、第７図に図示するボート９６の被係合部１０
８におけるチャンネル状主部１１０の幅に対応している
。第１図に図示する如く、ハウジング３０の前壁には開
口２７２が形成されており、上記懸架部材２６４の突出
部２６５はこの間口２７２を通ってハウジング３０の前
方に突出しており、従って、上記懸架部材２６４の垂下
部２６６及びその下端に形成された懸架具２６８はハウ
ジング３０の前方に位置する。ハウジング３０の前壁に
形成されている開口２７２は、実質上水平に延在する水
平主部２７４と、上述したボート支持手段３８並びに４
個の縦型拡散炉２の各々のボート懸架機構８に夫々対応
した位置にて実質上鉛直に延びる鉛直部２７６ａ乃至２
７６ｅとを有する。鉛直部２７６ａ乃至２７６ｅは上記
懸架部材２６４の突出部２６５の幅よりも充分に大きい
幅を有し、以下の説明から明らかになる如＜、懸架部材
２６４は開口２７２の鉛直部２７６ａ乃至２７６ｅを通
って前方に突出する状態においても水平方向に所要範囲
に渡って移動することができる。 次に、主として第１図及び第２図を参照して、上述した
通りのボート移送手段３８の作用を説明する。既に言及
した如く、ボート移送手段３８によってボート支持枠８
０と縦型拡散炉２との間にてボート９６を移送する時に
は、ボート支持枠８０は２点鎖線８０Ｂで示す第１の位
置にせしめられる。かかる第１の位置にせしめられてい
るボート支持枠８０に支持され、従って２点鎖線９６Ｂ
で示す第１の状態にあり、且つ拡散処理すべき複数枚の
ウェーハＷを収容しているボート９６を、縦型拡散炉２
に搬入する場合について説明すると、次の通りである。 最初に、懸架部材２６４が、ハウジング３０の前壁に形
成されている開口２７２における鉛直部２７６ａに沿っ
て所定位置間で下降され、かくして、懸架部材２６４の
下端に形成された懸架具２６８が、ボート９６の後方で
且つボート９６の被係合部１０における上端フランジ１
１６の直ぐ下方（中間フランジ１１２よりも上方）に位
置付けられる。ついで、懸架部材２６４が実質上水平に
矢印２４２で示す方向に移動せしめられる。かくすると
、懸架具２６８がボート９６の非係合部１０８に係合す
る。第５図及び第７図をも参照してさらに詳しく説明す
ると、ボート９６の非係合部１０８におけるチャンネル
状主部１１０の上端フランジ１１６の直ぐ下方の部位が
、懸架具２６８の切欠き２７０に受入られる。懸架部材
２６４が更に矢印２６２で示す方向に移動を続けると、
非係合部１０８の上端フランジ１１６が懸架具２６８に
懸架されて、ボート９６も矢印２６２で示す方向に壓多
動され、かくして、ボート９６は、ボート支持枠８０か
ら離脱され、セ、架部材２６４に懸架される。しかる後
に、懸架部材２６４が、その突出部２６５が開口２７２
の水平主部２７４に位置するまで、上昇せしめられる。 次いで、ボート９６を懸架した懸架部材２６４が開口２
７２の鉛直部２７６ｂ乃至２７６ｅのいずれかに整合す
る位置、例えば第１図において最も左方に位置する縦型
拡散炉２にボート９６を搬入する場合には、鉛直部２７
６ｅに整合する位置まで、実質上水平に矢印２６２で示
す方向に移動せしめられる。 そして更に、懸架部材２６４が、鉛直部２７６ｅに沿っ
て所定位置まで下降せしめられ、かくして、ボート９６
の被係合部１９８が、縦型拡散炉２のボート懸架機構８
における、ボート受渡４ｎ　Ｍ　２ＯＡに位置せしめら
れているアーム２０のボート懸架具２６に対向せしめら
れる。次いで、懸架部材２６４が所定距離だけ矢印２４
２で示す方向に実質上水平に移動せしめられる。がくす
ると、ボート懸架具２６は、ボート９６の被係合１０８
におけるチャンネル状主部１１０内にその開口した前面
から受入れられる。しがる後に、懸架部材２６４が若干
下降せしめられ、がくしで、ボート懸架具２６の上面が
被係合部１０８の天板１１４の下面に当接せしめられ、
ボート９６はボート懸架具２６に懸架せしめられる。つ
いで、懸架部材２６４は逆方向、即ち矢印２４６で示す
方向に所定距離だけ水平に移動され、がくして懸架部材
２６４の懸架具２６８がボート９６の被係合部１０８か
ら離脱せしめられる。かくして、ボート支持枠８０から
縦型拡散炉２にボート９６が移送される。 第１２図に図示する如く、ボート懸架機構８のボートＱ
架具２６は、所定位置に２個の切欠き２７８が形成され
ている円板状部材から形成されている。上述した如く懸
架部材２６４が下降されてボート懸架具２６の上面が天
板１１４の下面に当接せしめられ、ボート９６がボート
懸架具２６に懸架されると、上記２個の切欠き２７８の
各々が被係合部１０８の２個の垂下片１１８に係合せし
められる。従って、既に言及した通りにして、ボート懸
架具２６に）懸架されたボート９６が縦型拡散炉２の収
容空洞１２内に収納され、ボート懸架具２６が回転せし
められると、これに付随してボート９６も回転せしめら
れる。 ボート受渡位置２０Ａに位置せしめられているボート懸
架具２６に懸架され、且つ既に拡散処理された複数枚の
ウェーハＷを収容しているボート９６を、縦型拡散炉２
からボート支持枠８０に回出する場合には、懸架部材２
６４が上述した場合の移動様式の逆に移動され、かくし
て、ボート懸架具２６から懸架部材２６４にボート９６
が移さ牲、次いで懸架部材２６４からボート支持枠８０
にボート９６が移される。 ウェーハ隨表凌匡叫１里翌對 ウェーハ搬送装置４の全体の作用については、上述した
説明から既に容易に理解され得るとも思われるが、要約
して説明すると次の通りである。 第１図、第２図及び第４図を参照して説明すると、複数
個の縦型拡散炉２のいずれかに拡散処理すべき複数枚の
ウェーハＷを搬入する際には、カセット支持手段３２上
に手動で（或いは適宜のカセット搬送装置によって）、
ウェーハＷ収容した６個のカセット４４を載置する。そ
して、空のボート９６を支持したボート支持枠８０を第
４図に２点鎖線８０Ａで示す第２の位置に位置付け、ボ
ート９６を第２の状態にせしめる。しかる後に、上述し
た如く、ウェーハ移送手段３４によって、カセット４４
に収容されているウェーハＷをボート９６に移送する。 全てのカセット４４に収容されているウェーハＷをボー
ト９６に移送し終わると、ボート支持枠８０を第４図に
実線で示す位置に旋回せしめ、次いでボート支持枠８０
を上昇せしめて第４図に２点鎖線８０Ｂで示す第１の位
置にせしめ、かくしてボート９６を第４図に２点鎖線で
示す第１の状態にせしめる。しかる後に、上述した如く
ボート移送手段３８によって、ボート９６をボート支持
枠８０から所定の縦型拡散炉２に搬入する。 複数個の縦型拡散炉２のいずれかから既に拡散処理した
ウェーハＷを搬出する際には、ボート９６を支持してい
ない空のボート支持枠８０を第４図に２点鎖＆’ｆｆ　
８０　Ｂで示す第１の位置に（η直付ける。次いで、既
に、拡散処理した複数枚のウェーハＷを収容しているボ
ート９６を、上述した如く、ボート移送手段３８によっ
て、所定の縦型拡散炉２からボート支持枠８０に搬出す
る。しかる後に、ボート支持枠８０を第４図に実線で示
す位置まで下降せしめ、次いでボート支持枠８０を旋回
せしめて第４図に２点鎖線８０Ａで示す第２の位置にせ
しめ、かくしてボート９６を第４図に２点鎖線で示す第
２の状態にせしめる。叱る後に、上述した如く、ウェー
ハ移送手段３４によって、ボート９６に収容されている
ウェーハＷをカセット支持手段３２上に載置されている
６個の空のカセット４４に移送する。既に拡散処理され
たウェーハＷが移送されたカセット４４は、手動で（或
いは適宜のカセット搬送装置によって）、次の処理域又
は保管域に搬出することができる。 ウェーハ（送　・の変？１１ 第１３図及び第１４図は、ウェーハ移送手段３４の変形
例を図示している。既に第２図、第８図及び第９図を参
照して説明した如く、上記ハウジング２８内には直立静
止基台１２０が配設され、この静止基台１２０には可動
基台１２４が水平方向に滑動自在に装着されている。而
して、変形例においては、上記可動基台１２４の片面の
、カセット支持手段３２　（第２図）の下方に位置する
部分には、単一の支持ブロック１３８　（第８図及び第
９図）に代えて、２個の支持ブロック１３８ａ及び１３
８ｂが別個独立に実質上鉛直に昇降自在に装着され、そ
してかかる支持ブロック１３８ａ及び１３８ｂの各々に
関して夫々昇降手段１４４ａ及び１４４ｂが設けられて
いる。可動基台１２４に対する支持ブロック１３８ａ及
び１３８ｂの各々の装着様式は、可動基台１２４に対す
る支持ブロック１３８の装着様式と実質上同一でよく、
そしてまた昇降手段１４４ａ及び１４４ｂの各々の構成
は、昇降手段１４４の構成と実質同一でよいに（従って
、これについての説明は省略する）。 上記支持ブロック１３８ａ及び１３８ｂの各々には、実
質鉛直に上方へ延びる支柱１７４ａ及び】７４ｂが植設
されている。そして、支柱１７４ａ及び１７４ｂの各々
の上端に、カセット側ウェーハ昇降部材１７６ａ及び１
７６ｂが固定されている。一方のカセット側ウェーハ昇
降部材１７６ａは、実質上水平に延在する水平板１７７
ａと、かかる水平板１７７ａに所定間隔を置いて固定さ
れた複数枚の鉛直板１７９ａとから構成されている。か
かる鉛直板１７９ａの枚数は、１個のカセノｈ４４　　
（第２図及び第３図）に収容されるウェーハＷの枚数の
半分であり、鉛直板１７９ａの間隔は、カセット４４に
収容されるウェーハＷの１枚置きの間隔に対応している
。他方のカセット側ウェーハ昇降部材１７６ｂも、実質
上水平に延在する水平１７７ｂと、かかる水平板１７７
ｂに所定間隔を置いて固定された複数枚の鉛直板１７９
ｂとから構成されている。鉛直＋Ｈｉ　７９　ｂの各々
の主部は、上記一方のカセット側ウェーハ昇降部材１７
６ａにおける鉛直板１７９ａの各々の主部の間に位置せ
しめられている。鉛直板１７９ｂの枚数も、１個のカセ
ット４４　（第２図及び第３図）に収容されるウェーハ
Ｗの枚数の半分であり、鉛直板１７９ｂの間隔も、カセ
ノ１−４４に収容されるウェーハＷの１枚置きの間隔に
対応している。 従って、鉛直板１７９ａの枚数と鉛直板１７９ｂの枚数
との合計が、１個のカセット４４に収容うされるウェー
ハＷの枚数と同一であり、隣接する鉛直板１７９ａと鉛
直板１７９ｂとの間隔が、カセット４４に収容されるウ
ェーハＷの隣接間隔と同一である。鉛直板１７９ａ及び
１７９ｂの各々の厚さは、ウェーハＷの厚さと実質上回
−又はそれより若干大きくてよい。上記の通りのカセッ
ー側ウェーハ昇降部材１７６ａ及び１７６ｂの各々は、
上述した具体例におけるカセット側ウェーハ昇降部材１
７６　（第８図及び第９図）と同様に、その上端がハウ
ジング２８の上面４０よりも幾分下方に位置する下降位
置と、ハウジング２８に形成されている細長い開口４６
を通って所定量上方へ突出する上昇位置との間を昇降動
せしめるられる。 第１４図を参照して説明すると、ウェーハ移送手段３４
の変形例においては、ウェーハ移送具１９０は、アーム
１８８に回転自在に装着されている。更に詳述すると、
アーム１８８には実質上鉛直に延びる軸１８９が回転自
在に装着されており、この軸１８９の下端にウェーハ移
送具１９０が固定されている。アーム１８８の上面には
、電動モータ１９１が装着されており、かかる電動モー
タ１９１の出力軸が適宜の減速機構１９３を介して上記
軸１８９に駆動連結されている。従って、電動モータ１
９１の回転によって軸１８９及びこれに固定されたウェ
ーハ移送具１９０が回転せしめられる。ウェーハ移送手
段３４の変形例における上述した構成以外は、先に説明
した具体例と実質上同一である。 第１３図及び第１４図に図示する変形例においは、１個
のカセット４４　（第２図及び第３図）に収容されてい
るウェーハＷをボート９６　（第２図。 第３図及び第５図）に移送する際に、先ず最初に、一方
のカセット側ウェーハ昇降部材１７６ａを下降位置から
上昇位置に上昇せしめる。かくすると、一方のカセット
側ウェーハ昇降部材１７６ａが、カセット４４内に収容
されている複数枚のウェーハＷのうちの１枚置きのウェ
ーハＷに作用してこれらを上昇せしめ、カセット対向位
置に位置せしめられているウェーハ移送具１９０に挿入
する。 しかる後に、上記一方のカセット側ウェーハ昇降部材１
７６ａを下降位置に下降せしめる。次いで、アーム１８
８を１８０度旋回動せしめてつ゛エーハ移送具１９０を
ボート対向位置にせしめる。そして、先の具体例の場合
と同様にして、ウェーハ移送具１９０からウェーハＷを
排出してボート９６に挿入する。しかる後に、アーム１
８８を１８０度旋回動せしめてウェーハ移送具１９０を
カセット対向位置に戻す。次いで、他方のカセット側ウ
ェーハ昇降部材１７６ｂを下降位置から上昇位置に上昇
せしめる。かくすると、他方のカセット側ウェーハ昇降
部材１７６ｂが、カセット４４内に残留している１枚置
きのウェーハＷに作用してこれらを上昇せしめ、ウェー
ハ移送具１９０に挿入する。しかる後に、上記他方のカ
セット側ウェーハ昇降部材１７６ｂを下降位置に下降せ
しめる。 次いで、アーム１８８を１８０度旋回動せしめてウェー
ハ移送具１９０をポート対向位置にせしめる。これと同
時に又は引き続いて、ウェーハ移送具１９０自体を軸１
８９と共に１８０度回転せしめる（かくすると、ウェー
ハＷの表裏が反転される）。しかる後に、さきの具体例
の場合と同様にして、ウェーハ移送具１９０からウェー
ハＷを排出してボート９６に挿入する。 一般に、カセット４４内においては全てのウェーハＷが
拡散処理すべき表面を同一の方向に向けて収容されてい
るが、上述した変形例によれば、ボート９６に移送され
たウェーハＷは一枚毎に表裏が逆にせしめられる。拡散
処理の後に。一枚毎に表裏を逆にしてボート９６に収容
されているウェーハＷを、全てのウェーハＷの拡散処理
された表面を同一の方向向けてカセット４４に移送する
ことが望まれる場合には、ボート側ウェーハ昇降部材も
、カセット側ウェーハ昇降部材と同様な構成にすればよ
い。 以上、添付図面を参照して本発明に従って構成されたウ
ェーハ搬送装置の一具体例及びその一部の変形例につい
て詳細に説明したが、本発明はかかる具体例及び変形例
に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱するこ
となく種々の変形乃至修正が可能であることは勿論であ
る。[ΔRinso M Required] The wafer transfer device 4 in the system shown in the figure supplies, or carries in, a boat supporting a plurality of wafers to be diffused to each of the four vertical diffusion furnaces 2, and A boat supporting a plurality of diffusion-treated wafers is carried out from each of the mold diffusion furnaces 2. If desired, the system can be equipped with separate wafer transport devices for loading and unloading. Continuing the explanation with reference to FIG. 1, the illustrated wafer transfer device 4 includes a housing 28 juxtaposed to the vertical diffusion furnace 2 and a housing 30 disposed behind the vertical diffusion furnace 2. are doing. The housing 28 is provided with a cassette support means 32, a wafer transfer means 34, and a boat support means 36, and the housing 30 is provided with a boat transfer means. Referring to FIG. 2 in conjunction with FIG. 1, the housing 2 has a relatively low, substantially horizontal top surface 40 with cassette support means 32 located in front of the top surface 40. It is formed. In the illustrated example, six rectangular recesses 42 are formed adjacent to each other in the front portion of the top surface 40, and a wafer cassette 44 is placed in each of the recesses 42. The bottom surface of the recess 42 is formed with an elongated opening 46 that extends continuously across all the recesses 42 (the opening 46 will be further referred to later). The wafer cassette 44 itself may be of any widely used and well-known form. An example of the cassette 44 will be described with reference to FIG. 3. The illustrated cassette 44 has a box shape with an open top. The bottom of the cassette 44 is made somewhat narrower than the top, and the width and length of the bottom correspond to the width and length of the recess 42. A plurality of wafer storage grooves 50 are formed on the inner surfaces of both side walls 48 of the cassette 44 at predetermined intervals in the longitudinal direction and extend substantially vertically. The distance between the side walls 48 approximately corresponds to the diameter of the semiconductor wafer W. Groove 5
The width of 0 approximately corresponds to the thickness of the wafer W. A narrow opening 54 having a width smaller than the diameter of the wafer W and extending in the longitudinal direction is formed in the bottom wall 52 of the cassette 44 . In such a cassette 44, a wafer W is inserted into each of the cassettes 150 through the wafer entrance/exit opening 56 present on the upper surface thereof. Thus, the cassette 44 accommodates a plurality of wafers W supported substantially vertically at intervals in the longitudinal direction. As shown in FIG. 2, a cassette 44 containing a plurality of wafers W to be subjected to diffusion treatment is manually placed on the cassette support means 32, for example. In this case, the bottom of the cassette 44 is positioned in the recess 42, so that the cassette 44 is placed substantially horizontally with sufficient accuracy to the predetermined value 1 and is therefore inserted into the 450 and the groove 50. The wafer W is positioned substantially vertically. If desired, the system may be equipped with a suitable cassette transport device (not shown) for loading and unloading cassettes 44 onto and from said cassette support means 32. You can also do it. Referring to the boat Y and FIG. 2, the housing 28 has a vertical surface 58 that extends substantially vertically.
A pair of guide rails 60 are fixed to the guide rails 60, which extend parallel to each other and substantially vertically. Referring to FIG. 4 together with FIG. 2, a support base 62 is attached to the pair of guide rails 60 so as to be able to move up and down, and an elevating means 64 is provided for moving the support base 62 up and down. It is being The elevating and lowering means 64 includes sprocket wheels 66 and 68 rotatably mounted in the housing 28 at intervals in the vertical direction, and an endless chain 70 wound around the sprocket wheels 66 and 68. The front running part of the chain 70 is exposed through the elongated open lower part 2 formed in the vertical plane 58, and the support base 62 is connected to the front running part by a connecting member 74. . Sprocket wheel 66 is drivingly connected to electric morph 76 via a suitable speed reduction mechanism 75. Thus, by rotating the electric motor 76 in the forward and reverse directions, the support base 62 can be moved up and down between the lowered position shown by the solid line in FIG. 4 and the raised position shown by the two-dot chain line in FIG. A rectangular inter-rectangular lower 8 is formed on the support base 62,
One end of a boat support frame 80 is rotatably mounted in the open lower lower 8. Referring to FIG. 5, the boat support frame 80 includes a bottom plate 82 and a top plate 84 that are arranged parallel to each other at a predetermined interval, and a four-piece frame fixed between the bottom plate 82 and the top plate 84. It has real rods 86a to 86d. A rectangular notch 88 is formed in the upper plate 84 (this notch 88 will be further referred to later). As shown in FIG. 4, a pair of substantially triangular connecting pieces 90 are formed on the outer surface of the bottom plate 82. As shown in FIG. The pair of connecting pieces 90 are rotatably attached to the support base 62 and are fixed to a shaft 92 extending substantially horizontally across the lower opening 8. Thus, the boat support frame 80 is attached to the support base 62 so as to be pivotable about the shaft 92. The support base 62 is provided with a pivoting means 9', which may be an electric motor.
2 is attached, and the output end of the pivoting means 94 is drivingly connected to the shaft 92 via a speed reduction mechanism 95. Therefore, in accordance with the normal rotation and reverse rotation of the rotation movement means 94,
The boat support frame 80 is pivoted between an upright position shown by a solid line in FIG. 4 and a lying position shown by a two-dot chain line 80A in FIG. A wafer port 96 is supported by the boat support frame 80 . Referring to FIG. 5, the illustrated boat 9
6 includes a bottom plate 98 and a top plate 100 arranged parallel to each other at a predetermined interval, and the bottom plate 98 and top plate 100.
Six wooden rods 102a to 102f fixed between
has. Rod 102a and rod 1 located at the frontmost position
The distance from 02f is set to approximately correspond to the diameter of the wafer W to be supported, and more specifically, to be slightly shorter than that,
Wafer entrance/exit opening 104 between the above 102a and 102f
is stipulated. The above rods 102a to 102
Four mouths/throats 102a, 102c, 102 of f
-d and 102f each accommodate a plurality of wafers at predetermined intervals in the longitudinal direction. 4106 is formed. The longitudinal interval of wafer storage/#106 is the same as the wafer storage aI150 of the cassette 44 described above (FIG. 3).
may be substantially the same as the longitudinal spacing. As shown in FIG. 6, a rod 102a. The longitudinal positions of the wafer accommodating grooves 106 formed in each of the rods 102c, 102d, and 102f correspond to each other. One wafer W is placed in each of the four wafer storage grooves 106 forming one set in 102c, 102d, and 102f.
is inserted. In the illustrated embodiment, rod 102
The number of wafer accommodation grooves 106 formed in each of cassettes 44a, 102c, 102d and 102f is
The wafer accommodation groove 5 formed in each side wall 48 of
Therefore, the number of wafers W that can be accommodated in the six cassettes 44 can be accommodated in the boat 96. As shown in FIGS. 5 and 6, in a normal state in which the boat 96 extends substantially vertically, the wafer storage groove 106 is opened upward toward the wafer entrance/exit opening 104, as shown in FIG. and extends at an angle α of 0 to 45 degrees, typically about 5 degrees, with respect to the horizontal. Therefore, the wafer is accommodated through the wafer entrance/exit opening 104/#106.
The wafer W inserted and supported also forms the above-mentioned angle α upward toward the wafer entrance/exit opening 104 . Referring to FIG. 7, an engaged portion 108 is formed on the upper surface of the upper plate 100 of the boat 96. As shown in FIG. This engaged portion 108 has a channel-shaped ball portion 110 that opens toward the front. Then, the channel-shaped main portion 11
An intermediate flange 1 is provided at the longitudinally intermediate portion of the outer surface of 0.
12 are formed. A top plate 114 is formed at the upper end of the channel-shaped main portion 110.
extends outwardly beyond the outer surface of the channel-like main portion 110 and defines an upper end flange 116. Top plate 11
4 is formed with a notch 117 that is open to the front. Furthermore, two hanging pieces 118 are formed on the front edge of the top plate 114 at a predetermined interval. As will become clear from the following description, the intermediate flange 112 of the engaged portion 108 constitutes a suspended means for the boat support frame 80, and the upper end flange 116 constitutes a suspended means for the boat transfer means 34 (FIG. 1). The top plate 114 and the hanging piece 118 constitute a suspension means, and the vertical diffusion furnace 2 (first
(Figure) constitutes a suspended means. The boat 96 is loaded onto and supported by the boat support frame 80. At this time, as shown by the two-dot chain line in FIG. The channel-shaped main part 110 of the section 108 is inserted into the notch 88 of the upper plate 84 of the boat support frame 80 (the width of the channel-shaped main part 110 and the width of the notch 88 are set to be substantially the same). Thus, in the longitudinal direction, the intermediate flange 112 of the boat 96 is suspended on the top plate 84 of the boat support frame 80, and in the lateral direction, the rear end edges of the bottom plate 98 and the top plate 100 of the boat 96 are suspended on the boat support frame 80. rod 86
The boat support frame 8
0, the boat 96 is positioned and supported in a predetermined manner. Referring to FIG. 4, when the boat support frame 80 is placed in the lying position shown by the two-dot chain line 80A, that is, the second position, the boat 96 supported by the boat support frame 80 is moved upward with its wafer access opening 104. A second shape g96A is positioned in the oriented state and with its longitudinal axis at an angle θ between 0 degrees and 45 degrees with the horizontal. This angle θ is set to be substantially the same as the angle α regarding the wafer accommodation groove 106 in the boat 96, and therefore the second shape g9
6A, the wafer storage groove 1 in the boat 96
06 preferably extends substantially vertically. A substantially vertical plane in which the longitudinal axis of the boat 96 supported on the boat support frame 80 lies is a substantially vertical plane in which the longitudinal axis of the cassette 44 mounted on the cassette support means 32 lies. It is substantially parallel to the As will become clear from the following description, while the boat 96 is positioned in the second position [96A], the cassette support means 32
The wafer W is transferred between the cassette 44 (FIG. 2) placed thereon and the boat 96. When the boat support frame 80 is brought to the upright position shown by the solid line in FIG.
The boat 96 supported by this is also erected with its longitudinal axis extending substantially vertically. Next, when the support base 62 is raised and the boat support frame 80 is raised to the position indicated by the 2-point line 80B, that is, the first position, the boat 96 is also raised accordingly and the boat 96 is raised to the 2-point position. It is positioned in the first state indicated by a dashed line 96B. As will become clear from the following description, when the boat support frame 80 is located at the first position indicated by the two-dot chain line 80B (therefore, the boat 96 is in the first state indicated by the two-dot chain line 96B), the boat support A board 96 is transferred between the frame 80 and the vertical diffusion furnace 2 (FIG. 2). Next, the wafer transfer means 34 will be explained in detail with reference to FIGS. 8 and 9 as well as FIG. 2. An upright stationary base 120 is disposed at the front end of the housing. The stationary base 120 extends substantially parallel to the longitudinal axis of the cassette 44 mounted on the cassette support means 32 (and thus substantially parallel to the elongated opening 46 formed in the top surface 40). do. Stationary base 120
Two guide rails 122 that extend substantially horizontally and are spaced apart from each other in the vertical direction are fixed to the rear surface of the vehicle. A movable base 124 is slidably mounted on the guide rail 122. A moving means 126 for moving the movable base 124 along the guide rail 122 is provided. This moving means 126 includes a male threaded rod 128 which is rotatably mounted on the rear surface of the stationary base 120 and extends substantially horizontally, and an output shaft of which is mounted on the rear surface of the stationary base 120 and has an output shaft that is rotatably mounted on the rear surface of the stationary base 120 and extends substantially horizontally. and an electric motor 130 drivingly connected to the male threaded rod 128 via a mechanism 129. The movable base 124 has a horizontally penetrating female threaded hole, and the male threaded rod 128 is screwed into the female threaded hole. Therefore, the electric motor 13
0, the movable base 124 is slid along the guide rail 122 in the left-right direction in FIG. 9 (in the direction perpendicular to the plane of the paper in FIG. 8). On one side of the movable base 124, there are three pairs of guide rails 1.
32, 134 and 136 are fixed. The rails of each guide rail pair 132, 134, and 136 are substantially horizontally spaced apart and extend substantially vertically. Support blocks 138, 140 and 142 are slidably mounted on guide rail pairs 132, 134 and 136, respectively. And such support blocks 138, 140 and 142
Lifting means 144, 146 and 148 are provided for each one. Lifting means 144° 146 and 148
Each of the male threaded rods 150, 152, and 154 is rotatably mounted on one side of the movable base 124 and extends substantially vertically, and each is mounted on one side of the movable base 124 and has an output shaft connected to an appropriate speed reduction mechanism 156. and electric motors 162, 164 and 166 drivingly connected to the male threaded rods 150, 152 and 154 via threads 158 and 160. On the other hand, the blocks 138, 140 and 1
Female threaded blocks 168, 170 and 172 are fixed to each of the male threaded rods 150, 152 and 172, each having a vertically penetrating female threaded hole formed therein.
54 each have an externally threaded block 168, 170 and 172.
are screwed into each female threaded hole. Because of this, the support block 138° 14 is rotated by normal and reverse rotation of the electric motors 162, 164 and 166, respectively.
0 and 142 are the guide rail pairs 132° and 134, respectively.
and 136. A column 174 extending substantially vertically upward is installed in the support block 138, and a cassette-side wafer lifting member 176, which is a long and thin member extending substantially horizontally, is fixed to the upper end of this column 174. ing. The cassette-side wafer elevating member 176 moves to the lowered position shown by the solid line in response to the lifting and lowering of the support block 138 by the elevating means 144 described above.
2) and a raised position, indicated by dash-dotted lines, in which it projects upwardly through said elongated opening 46 formed in housing 28 (see also FIG. 2). can be moved up and down. The width and length of the cassette side wafer lifting member 176 are the same as those of the cassette 4 described above.
4, and more specifically slightly smaller than the width and length of the narrow opening 54 (FIG. 3). Similarly, a support block 142 is provided with a support post 178 that extends substantially vertically upward.
A boat-side wafer elevating member 180, which may be substantially the same as the cassette-side elevating member 176, is fixed to the upper end of the boat-side wafer elevating member 180. On the other hand, the upper surface 40 of the housing 28 is formed with an elongated opening 182 that extends substantially parallel to the elongated opening 46 in association with the boat-side wafer lifting member 180 (see also FIG. 2). The boat-side wafer elevating member 180 is also moved to the lowered position shown by the solid line in response to the elevation of the support block 142 by the boundary line means 148 (in such a lowered position, the boat-side wafer elevating member 180 is lower than the upper surface 40 of the housing 28). It can be raised and lowered between a raised position (located somewhat downwardly) and a raised position, indicated by a chain double-dashed line, in which it projects upwardly through the elongated opening 182. On the other hand, the support block 138 and the support bronck 14
A support shaft 184 extending substantially vertically upward is rotatably attached to the support block 140 located between the support block 140 and the support block 140 . As clearly shown in FIG.
8 is also formed with an elongate aperture 186 extending between and substantially parallel to the elongate apertures 46 and 182, and the support shaft 184 extends along the elongate aperture 182.
86 and protrudes upward. An arm 188 extending substantially horizontally is fixed to the upper end of the support shaft 184, and the free end of this arm 188 or the wafer transfer tool 190 is fixed to the upper end of the support shaft 184.
is fixed. A wafer transfer tool moving means 192, which may be an electric motor, is also fixed to the support block 140, and the output shaft of the moving means 192 is driven by the support shaft 184 through an appropriate speed reduction mechanism (not shown). connected. The support shaft 184 is rotated by normal and reverse rotation of the transfer means 192, and thereby the wafer transfer tool 190 is rotated 180 degrees from the cassette-facing position shown in solid lines in FIGS. 8 and 10 to the cassette-facing position. The boat can be rotated between the position shown by the two-dot chain line in FIG. 10 and the position facing the boat. As will be further described later, the wafer transfer tool 190, which is positioned opposite to the cassettes, is positioned above any one of the plurality of cassettes 44 placed on the cassette support means 32. Further, the wafer transfer tool 190 located at a position facing the boat is in a second state 96A shown by a two-dot chain line in FIG.
is located above a particular portion of the boat 96 located at. Referring to FIG. 10 in conjunction with FIGS. 8 and 9, the wafer transfer tool 190 includes a main body 194 formed from a channel-like member with an open bottom. A central portion of the upper wall 196 of this main body 194 is fixed to the free end of the arm 188. Both side walls 198 of the main body 194 are
They are located at intervals corresponding to the diameter of the wafer W, more specifically, at intervals slightly smaller than it. A plurality of wafer accommodating grooves 200 are formed on the inner surface of each of the side walls 198 at predetermined intervals in the longitudinal direction (direction perpendicular to the plane of paper in FIG. 10) and extend substantially vertically. The interval between the wafer accommodating grooves 200 may be substantially the same as the interval between the wafer accommodating grooves 50 formed in the cassette 44 described above. In the illustrated example, the longitudinal dimension of the wafer transfer tool 190 corresponds to the longitudinal dimension of one cassette 44, and the number of wafer accommodation grooves 200 formed in both side walls 198 of the wafer transfer tool 190. is the same as the number of wafer accommodating grooves 50 formed in both side walls 48 of one cassette 44. A mounting bracket 202 is fixed to the outer surface of each of the side walls 198. Each of the mounting brackets 202 projects downwardly beyond the lower ends of the side walls 198, and a positioning means 204 is attached to the lower projecting ends. The illustrated positioning means 204 comprises a pneumatic cylinder mechanism, the cylinder 206 of which is fixed to the protruding lower end of the mounting bracket 202. Piston 208 of cylinder mechanism
A wafer fall prevention member 210 is fixed to the tip of the wafer. On the inner surface of the wafer fall prevention member 210,
A wafer passing groove 211 corresponding to a plurality of wafer accommodating grooves 200 formed on the inner surface of both side walls 198 of the main body 194 and having the same depth as the wafer accommodating grooves 200.
(see also FIG. 2) is formed. When the piston 208 of the cylinder mechanism is retracted, the wafer fall prevention member 210 is positioned at the non-operating position shown by the solid line. In such a non-operating position, the inner surface of the wafer fall prevention member 210 is connected to the main body 194.
The wafer fall prevention member 210 interferes with the entry and exit of the wafer W into and out of the wafer storage groove 200 through the wafer entry/exit opening 212 located on the lower surface of the main body 194. do not. When the piston 208 of the cylinder mechanism is extended,
The wafer fall prevention member 210 is positioned at the operating position indicated by the two-dot chain line. In this way, each of the wafer drop prevention members 210 protrudes inwardly beyond the inner surfaces of both side walls 198 of the main body 194, reducing the opening width of the wafer entrance/exit opening 212 to a value considerably smaller than the diameter of the wafer W, thus achieving the above-mentioned effect. To reliably prevent wafers W accommodated in a wafer accommodation a200 from falling downward. Next, with reference to FIGS. 8 to 10, especially FIG. 10,
The operation of the wafer transfer means 34 as described above will be explained. As already mentioned, when the wafer transfer means 34 transfers the wafers W between the cassette 44 and the boat 96, the boat support frame 80 of the boat support means 32 is in the recumbent position shown by the two-point chain vA80A in FIG. The boat 96, which is positioned at the second position and supported by the boat support frame 80, is positioned at a second position a96A shown by a two-dot chain line in FIG. When transferring the wafers W to be subjected to diffusion treatment housed in the cassette 44 placed on the cassette support means 32 to the boat 96, first, the movable base 124 corresponds to a specific cassette 44. The wafer transfer tool 190 is positioned at a position facing the cassette shown by the solid line in FIG. Then,
The cassette-side wafer lifting member 176 is raised from the lowered position shown by the solid line in FIG. 10 to the raised position shown by the two-dot chain line. In this way, the cassette side wafer lifting member 1
76 enters the cassette 44 through the narrow opening 54 formed in the bottom wall 52 of the cassette 44 and closes the cassette 4.
It hits the lower ends of all the wafers W housed in 4,
The wafer \W is raised vertically upward along the wafer storage groove 50. Thus, as shown by the two-dot chain line in FIG.
The wafers are gradually ejected from 0 and gradually inserted into the wafer accommodating grooves 200 of the wafer transfer tool 190 . Next, the wafer fall prevention member 210 in the wafer transfer tool 190
is moved to the operational plane shown by the two-dot chain line in FIG. 10, thereby preventing the wafer W inserted into the wafer accommodation groove 200 of the wafer transfer tool 190 from falling downward. Thereafter, the cassette-side wafer lifting member 176 is lowered to the lowered position shown by the solid line in FIG. Next, the wafer transfer tool 190 containing the wafer W is raised somewhat and rotated 180 degrees to a position facing the boat shown by the two-dot chain line in FIG. Also, during this time, the boat side wafer lifting member 18
0 is raised from the lowered position shown by the solid line in FIG. 10 to the raised position shown by the two-dot chain line in FIG. In this case,
The boat-side wafer elevating member 180 is connected to the boat support frame 80
The opening 21 existing between the rods 86b and 86C in
4 (see also FIG. 5) and the narrow opening 216 between the rods 102C and 102d in the boat 96.
(see also Figure 5). Thus, the upper surface of the boat-side wafer elevating member 180, which is placed in the raised position, comes into contact with or comes close to the lower end of the wafer W accommodated in the wafer transfer tool 190, which is placed in the position facing the boat. Next, the wafer transfer tool 19
The wafer fall prevention member 210 at 0 is brought to a non-operating position allowing the wafer W to move downward. At the same time or following this, the boat-side wafer lifting member 180 is lowered from the raised position shown by the two-dot chain line in FIG. 10 to the lowered position shown by the solid line in FIG. In this way, the wafer W is lowered in accordance with the lowering of the boat-side wafer elevating member 180, and the wafer W is thereby lowered.
The wafers are gradually discharged from the wafer storage groove 200 of the wafer transfer tool 190 and gradually inserted into the wafer storage groove 106 of a specific portion of the boat 96 . As mentioned above, when the boat 96 is positioned in the second position B96A shown by the two-dot chain line in FIG. The movement allows the wafer W to be inserted into the wafer receiving groove 106 of the boat 96 easily and reliably. When the wafer W is completely inserted into the wafer housing 1106,
The wafer W is not further lowered, and therefore the boat-side wafer lifting member 180 is moved away from the lower end of the wafer W and lowered between the lowered positions shown by the solid line in FIG. When the wafers W stored in one cassette 44 are transferred to a specific part of the boat 96 as described above,
The wafer transfer tool 190 is rotated 180 degrees and lowered somewhat to a position facing the cassette shown by the solid line in FIG. 1O. At the same time or subsequently, the movable base 124 (FIGS. 8 and 9) is moved a predetermined distance in the horizontal direction and positioned at a position corresponding to the next adjacent case note 44. Then, proceed to the next adjacent skein using the same procedure as described above. The wafer W housed in the port 44 is transferred to a portion of the port 96 adjacent to the specific portion. In this way,
Six cassettes 4 placed on cassette support means 32
4 are sequentially transferred to one common boat 96. The diffusion-treated wafer W accommodated in one common port 96 is placed on the cassette support means 32 by i! The operation of the wafer transfer means 34 during transfer to the empty cassette 44 placed therein is also substantially the same as described above. In this case, the boat side wafer lifting member 180 is
By being raised from the lowered position 1 shown by the solid line to the raised position shown by the two-dot chain line in the figure, the wafer W is raised from the boat 96 and accommodated in the wafer transfer tool 190, and the cassette-side wafer lifting member 176 is 1st O
The wafer transfer tool 190 is lowered from the raised position shown by the two-dot chain line to the lowered position shown by the solid line in the figure.
The wafer W is lowered from there and stored in the cassette 44. Next, referring to FIG. 11 as well as FIG. 1, the boat transfer means 38 will be explained in detail. A housing 30 extending behind and above the vertical diffusion furnace 2
A pair of support rails 218 and 220 are fixed therein and extend parallel to each other and substantially horizontally at a predetermined distance. The pair of support rails 218 and 2
20, there is a box-shaped horizontal movement frame 222 with an open bottom surface.
is installed. Wheels 224 are rotatably mounted on each of the lower end four corners of the horizontal movement frame 222, and these wheels 224 support the pair of support rails 2raA and 220.
The horizontally moving frame 222 is thus substantially horizontally movable on the pair of support rails 218 and 220. The rear wall of the horizontal movement frame 222 is connected to the rear rail 2
20, and a wheel 225 is rotatably mounted on each side of the extending portion. The wheels 225 are brought into contact with the lower surface of the rear rail 220 and prevent the horizontal movement frame 222 from moving upward. Further, a support member 226 is fixed to each of the lower rear side portions of the horizontal movement frame 222, and a pair of guide rollers 227 are rotatably mounted on the support member 226. The guide rollers 227 are brought into contact with the front and rear surfaces of the rear rail 220, and prevent horizontal movement of the horizontal movement frame 222 when the horizontal movement frame 222 moves on the pair of support rails 218 and 220. . Horizontal movement means 228 are also provided for moving the horizontal movement frame 222 as desired along the pair of support rails 218 and 220. The horizontal movement means 228 includes a stationary chain 230 and a movable sprocket 232 engaged with the chain 230. A chain 230 is stretched within the housing 30 and extends substantially parallel to and substantially horizontally between the pair of support rails 218 and 220. On the other hand, sprocket 2
32 is a shaft 2 rotatably mounted on the horizontal movement frame 222.
It is fixed at 34. An electric motor 236 is also mounted on the horizontal movement frame 222, and the output shaft of the electric motor 236 is drivingly coupled to the shaft 234 via a suitable speed reduction mechanism 238. When the electric motor 236 is rotated in the normal direction and the sprocket 232 is rotated in the direction indicated by the arrow 240, the sprocket 232 engaged with the stationary chain 230 moves along the chain 230 in the direction indicated by the arrow 240.
The horizontal movement frame 222 is thus moved in the direction shown by an arrow 242. On the other hand, the electric motor 236 is reversed and the sprocket head 232 is rotated by the arrow 2.
When rotated in the direction indicated by 44, the chain 230
The sprocket 232 engaged with the chain 230 rolls along the chain 230 in the direction shown by the arrow 246, thus causing the horizontal movement frame 222 to move in the direction shown by the arrow 246. A vertical substrate 248 that extends substantially vertically is further fixed within the horizontal movement frame 222. On one side of this vertical board 248, there are two guide rails 25 that extend substantially vertically and parallel to each other at a predetermined distance.
0 is formed. A vertical movement block 252 is slidably mounted on the guide rail 250. A vertical moving means 254 is provided for moving the vertical moving block 252 along the guide rail 250. This vertical movement means 254 includes a male threaded rod 2 rotatably mounted on one side of the vertical substrate 248 and extending substantially vertically.
Contains 56. The vertical movement block 252 has a female threaded hole penetrating in the vertical direction, and the male threaded rod 256 is screwed into the female threaded hole. An electric motor 260 is also mounted on one side of the vertical substrate 248, and the output shaft of the electric motor 260 is drivingly connected to the male threaded rod 256 through a suitable speed reduction mechanism 262. Thus, by the forward and reverse rotation of the electric motor 260, the vertical movement block 252 moves toward the guide rail 2.
50 and is raised and lowered substantially vertically. A suspension member 264 is fixed to the vertically moving block 252. This suspension member 264 includes a protrusion 265 that protrudes forward, a hanging part 266 that hangs down from the tip of the protrusion 65, and a suspension tool 268 formed at the lower end of the hanging part 266. The suspension device 268 has a rectangular notch 2
70 is formed from a flat plate. Notch 27
The width of 0 corresponds to the engaged portion 10 of the boat 96 shown in FIG.
This corresponds to the width of the channel-shaped main portion 110 at 8. As shown in FIG. 1, an opening 272 is formed in the front wall of the housing 30, and the protrusion 265 of the suspension member 264 protrudes forward of the housing 30 through this opening 272. A hanging portion 266 of the suspension member 264 and a suspension device 268 formed at the lower end thereof are located at the front of the housing 30. An opening 272 formed in the front wall of the housing 30 includes a horizontal main portion 274 extending substantially horizontally and the boat support means 38 and 4 described above.
Vertical portions 276a to 276a extending substantially vertically at positions corresponding to the boat suspension mechanisms 8 of the vertical diffusion furnaces 2, respectively.
76e. The vertical portions 276a to 276e have a width sufficiently larger than the width of the protruding portion 265 of the suspension member 264, and as will be clear from the following description, the suspension member 264 passes through the vertical portions 276a to 276e of the opening 272. Even when it is in a state where it protrudes forward, it can move horizontally over the required range. Next, the operation of the boat transfer means 38 as described above will be explained with reference mainly to FIGS. 1 and 2. As already mentioned, the boat support frame 8 is moved by the boat transport means 38.
When transferring the boat 96 between the boat 96 and the vertical diffusion furnace 2, the boat support frame 80 is placed in the first position shown by the two-dot chain line 80B. It is supported by the boat support frame 80 which is in the first position, and therefore the line 96B is
The boat 96, which is in the first state shown in FIG.
The following is an explanation of the case in which the equipment is transported to First, the suspension member 264 is lowered between predetermined positions along the vertical portion 276a of the opening 272 formed in the front wall of the housing 30, so that the suspension tool 268 formed at the lower end of the suspension member 264 Upper end flange 1 at the rear of the boat 96 and at the engaged portion 10 of the boat 96
16 (above the intermediate flange 112). Suspension member 264 is then moved substantially horizontally in the direction indicated by arrow 242. The suspension device 268 then engages the non-engaging portion 108 of the boat 96. To explain in more detail with reference to FIGS. 5 and 7, a portion of the non-engaging portion 108 of the boat 96 immediately below the upper end flange 116 of the channel-shaped main portion 110 fits into the notch 270 of the suspension device 268. Accepted. When the suspension member 264 continues to move in the direction indicated by the arrow 262,
The upper end flange 116 of the non-engaging portion 108 is suspended by the suspension device 268, and the boat 96 is also moved in the direction shown by the arrow 262, and the boat 96 is thus separated from the boat support frame 80 and the suspension member 268 is suspended. 264. After that, the suspension member 264 has its protrusion 265 inserted into the opening 272.
It is raised until it is located at the horizontal main portion 274 of . Next, the suspension member 264 suspending the boat 96 opens into the opening 2.
When carrying the boat 96 into the vertical diffusion furnace 2 at a position that aligns with any of the vertical parts 276b to 276e of the vertical parts 72, for example, the leftmost position in FIG.
6e, substantially horizontally in the direction shown by arrow 262. Further, the suspension member 264 is lowered to a predetermined position along the vertical portion 276e, and thus the boat 96
The engaged portion 198 of the boat suspension mechanism 8 of the vertical diffusion furnace 2
The boat suspension device 26 of the arm 20 is located at the boat delivery point 4n M 2OA in the boat delivery section 4n M 2OA. Next, the suspension member 264 moves a predetermined distance toward the arrow 24.
It is caused to move substantially horizontally in the direction indicated by 2. When the boat suspension 26 is released, the boat 96 is engaged 108 .
is received into the channel-shaped main portion 110 from its open front surface. After the suspension member 264 is lowered slightly, the upper surface of the boat suspension device 26 is brought into contact with the lower surface of the top plate 114 of the engaged portion 108,
The boat 96 is suspended from the boat suspension 26. Next, the suspension member 264 is horizontally moved a predetermined distance in the opposite direction, that is, the direction indicated by the arrow 246, and the suspension member 268 of the suspension member 264 is then disengaged from the engaged portion 108 of the boat 96. In this way, the boat 96 is transferred from the boat support frame 80 to the vertical diffusion furnace 2. As shown in FIG. 12, the boat Q of the boat suspension mechanism 8
The frame 26 is formed from a disc-shaped member in which two notches 278 are formed at predetermined positions. As described above, when the suspension member 264 is lowered and the upper surface of the boat suspension device 26 comes into contact with the lower surface of the top plate 114, and the boat 96 is suspended on the boat suspension device 26, each of the two notches 278 are engaged with the two hanging pieces 118 of the engaged portion 108. Therefore, as already mentioned, when the boat 96 suspended (on the boat suspension 26) is accommodated in the receiving cavity 12 of the vertical diffusion furnace 2 and the boat suspension 26 is rotated, The boat 96 is also rotated. A boat 96 suspended from a boat suspension fixture 26 located at the boat delivery position 20A and containing a plurality of already diffused wafers W is moved to the vertical diffusion furnace 2.
When the suspension member 2 is rotated to the boat support frame 80 from the
64 is moved in the reverse manner of movement as described above, thus moving boat 96 from boat suspension 26 to suspension member 264.
is then moved from the suspension member 264 to the boat support frame 80.
Boat 96 is moved to The overall operation of the wafer transfer device 4 may be easily understood from the above explanation, but it will be summarized as follows. To explain with reference to FIGS. 1, 2, and 4, when carrying a plurality of wafers W to be diffused into one of the plurality of vertical diffusion furnaces 2, the cassette support means 32 manually (or by a suitable cassette transport device),
Six cassettes 44 containing wafers W are placed thereon. Then, the boat support frame 80 supporting the empty boat 96 is positioned at the second position shown by the two-dot chain line 80A in FIG. 4, and the boat 96 is brought into the second state. Thereafter, the cassette 44 is transferred by the wafer transfer means 34 as described above.
The wafers W housed in are transferred to the boat 96. When the wafers W stored in all the cassettes 44 have been transferred to the boat 96, the boat support frame 80 is rotated to the position shown by the solid line in FIG.
is raised to the first position shown by the two-dot chain line 80B in FIG. 4, thereby placing the boat 96 in the first position shown by the two-dot chain line in FIG. Thereafter, the boat 96 is transported from the boat support frame 80 to a predetermined vertical diffusion furnace 2 by the boat transfer means 38 as described above. When carrying out a wafer W that has already been diffused from one of the plurality of vertical diffusion furnaces 2, an empty boat support frame 80 that does not support a boat 96 is connected to a double chain &'ff as shown in FIG.
Directly attach the boat 96 to the first position indicated by 80 B (η). Then, as described above, the boat 96 containing the plurality of wafers W that has been subjected to the diffusion process is moved to a predetermined vertical diffusion position by the boat transfer means 38, as described above. It is carried out from the furnace 2 to the boat support frame 80. Thereafter, the boat support frame 80 is lowered to the position shown by the solid line in FIG. The boat 96 is placed in the second position, and thus the boat 96 is placed in the second state shown by the two-dot chain line in FIG. The cassettes 44 are transferred to six empty cassettes 44 placed on the cassette support means 32.The cassettes 44 to which the wafers W which have already been subjected to the diffusion treatment have been transferred are manually (or by an appropriate cassette transfer device) transferred to the next cassette. Wafer transfer means 34 can be carried out to a processing area or a storage area. 11 FIGS. 13 and 14 show a modification of the wafer transfer means 34. As explained with reference to FIG. 9 and FIG. 9, an upright stationary base 120 is disposed within the housing 28, and a movable base 124 is mounted on the stationary base 120 so as to be slidable in the horizontal direction. In the modified example, a single support block 138 (see FIGS. 8 and 8) is provided on one side of the movable base 124 at a portion located below the cassette support means 32 (see FIG. 2). 9), two support blocks 138a and 13
8b are separately and independently mounted to be able to move up and down substantially vertically, and lifting means 144a and 144b are provided for each of the support blocks 138a and 138b, respectively. The manner in which each of support blocks 138a and 138b is attached to movable base 124 may be substantially the same as the manner in which support block 138 is attached to movable base 124;
Furthermore, the configuration of each of the lifting/lowering means 144a and 144b may be substantially the same as the configuration of the lifting/lowering means 144 (therefore, a description thereof will be omitted). Each of the support blocks 138a and 138b has struts 174a and 74b extending substantially vertically upward. Then, cassette side wafer lifting members 176a and 1
76b is fixed. One cassette side wafer lifting member 176a includes a horizontal plate 177 that extends substantially horizontally.
a, and a plurality of vertical plates 179a fixed to the horizontal plate 177a at predetermined intervals. The number of such vertical plates 179a is one case no h44.
(FIGS. 2 and 3), and the interval between the vertical plates 179a corresponds to the interval between every other wafer W housed in the cassette 44. The other cassette side wafer lifting member 176b also includes a horizontal plate 177b extending substantially horizontally and a horizontal plate 177.
A plurality of vertical plates 179 fixed at predetermined intervals to b
It is composed of b. The main part of each of the vertical + Hi 79 b is connected to one of the cassette side wafer lifting members 17.
6a between the main parts of each of the vertical plates 179a. The number of vertical plates 179b is also half the number of wafers W accommodated in one cassette 44 (FIGS. 2 and 3), and the interval between vertical plates 179b is also equal to the number of wafers W accommodated in cassette 1-44. It corresponds to the interval of every other sheet of W. Therefore, the total number of vertical plates 179a and 179b is the same as the number of wafers W accommodated in one cassette 44, and the interval between adjacent vertical plates 179a and 179b is as follows: This is the same as the interval between adjacent wafers W accommodated in the cassette 44. The thickness of each of the vertical plates 179a and 179b may be substantially greater than or slightly greater than the thickness of the wafer W. Each of the cassette-side wafer lifting members 176a and 176b as described above,
Cassette-side wafer lifting member 1 in the above-described specific example
76 (FIGS. 8 and 9), a lowered position in which the upper end thereof is located somewhat below the upper surface 40 of the housing 28, and an elongated opening 46 formed in the housing 28.
It is raised and lowered between a raised position and a raised position that protrudes upward by a predetermined amount through the shaft. To explain with reference to FIG. 14, the wafer transfer means 34
In this modification, the wafer transfer tool 190 is rotatably mounted on the arm 188. To elaborate further,
A shaft 189 extending substantially vertically is rotatably mounted on the arm 188, and a wafer transfer tool 190 is fixed to the lower end of the shaft 189. An electric motor 191 is mounted on the upper surface of the arm 188, and the output shaft of the electric motor 191 is drivingly connected to the shaft 189 via a suitable speed reduction mechanism 193. Therefore, electric motor 1
The rotation of 91 causes the shaft 189 and the wafer transfer tool 190 fixed thereto to rotate. Except for the configuration described above, the modified example of the wafer transfer means 34 is substantially the same as the specific example described above. In the modification shown in FIGS. 13 and 14, the wafers W housed in one cassette 44 (FIGS. 2 and 3) are transferred to a boat 96 (FIG. 2; FIGS. 3 and 5). When transferring the wafer to the cassette (FIG.), first, one cassette side wafer lifting member 176a is raised from the lowered position to the raised position. In this way, one of the cassette-side wafer lifting members 176a acts on every other wafer W among the plurality of wafers W housed in the cassette 44 to raise them and position them at a position facing the cassette. Insert the wafer into the wafer transfer tool 190. After that, the one cassette side wafer lifting member 1
76a is lowered to the lowered position. Next, arm 18
8 by 180 degrees to bring the wafer transfer device 190 to a position facing the boat. Then, in the same manner as in the previous example, the wafer W is discharged from the wafer transfer tool 190 and inserted into the boat 96. After that, arm 1
88 is rotated 180 degrees to return the wafer transfer tool 190 to the position facing the cassette. Next, the other cassette-side wafer lifting member 176b is raised from the lowered position to the raised position. Then, the other cassette-side wafer elevating member 176b acts on every other wafer W remaining in the cassette 44 to raise them and insert them into the wafer transfer tool 190. Thereafter, the other cassette-side wafer lifting member 176b is lowered to the lowered position. Next, the arm 188 is rotated 180 degrees to bring the wafer transfer tool 190 to a position facing the port. At the same time or subsequently, the wafer transfer tool 190 itself is moved to the axis 1.
The wafer W is rotated 180 degrees with the wafer 89 (this turns the wafer W upside down). Thereafter, the wafer W is discharged from the wafer transfer tool 190 and inserted into the boat 96 in the same manner as in the previous example. Generally, all the wafers W are housed in the cassette 44 with the surfaces to be subjected to diffusion treatment facing the same direction, but according to the above-mentioned modification, the wafers W transferred to the boat 96 are placed one by one. The front and back sides are turned upside down. after the diffusion process. If it is desired to transfer the wafers W stored in the boat 96 with the front and back sides of each wafer reversed, to the cassette 44 with the diffusion-treated surfaces of all wafers W facing in the same direction, The side wafer elevating member may also have the same configuration as the cassette side wafer elevating member. Although one specific example of a wafer transfer device configured according to the present invention and some modified examples thereof have been described above in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to such specific examples and modified examples. Of course, various modifications and variations can be made without departing from the scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は、本発明に従って構成されたウェーハ搬送装置
の一興体例が装備された拡散炉システムの一例を示す斜
視図。 第２図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置の一部を
示す斜視図。 第３図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置において
使用されるウェーハカセットを、一部を切欠いて示す斜
視図。 第４図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置における
ボート支持手段を示す断面図。 第５図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置における
ボート支持手段の一部とボート支持手段に支持されるウ
ェーハボートとを示す斜視図。 第６図は、第５図に図示するボートの一部を示す側面図
。 第７図は、第５図に図示するボートの一部を示す斜視図
。 第８図及び第９図は、第１図に図示するウェーハ搬送装
置におけるウェーハ移送手段を示す断面図。 第１０図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置におけ
るウェーハ移送手段の一部を示す断面図。 第１１図は、第１図に図示するウェーハ搬送装置におけ
るボート移送手段を示す斜視図。 第１２図は、第１図に図示する拡散炉システムにおける
拡散炉のボート懸架具とこれに懸架されるボートの一部
を示す平面図。 第１３図は、ウェーハ移送手段の変形例の一部を示す斜
視図。 第１４図は、ウェーハ移送手段の変形例の一部を示す側
面図。 ２・・・縦型拡散炉Ｉｆ型処理装置） ４・・・ウェーハ搬送装置 ３２・・・カセット支持手段 ３４・・・ウェーハ移送手段 ３６・・・ボート支持手段 ３８・・・ボート移送手段 ４４・・・ウェーバカセント ５０・・・カセットにおけるウェーハ収容溝６２・・・
ボート支持手段の支持基台 ８０・・・ボート支持枠 ９６・・・ウェーハボート １０６・・・ボートにおけるウェーハ収容溝１０８・・
・ボートの被係合部 １７６並びに１７６ａ及び１７６ｂ・・・カセット側ウ
ェーハ昇降部材 １８０・・・ボート側ウェーハ昇降部材１９０・・・ウ
ェーハ移送具FIG. 1 is a perspective view showing an example of a diffusion furnace system equipped with an integrated example of a wafer transfer apparatus constructed according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing a part of the wafer transfer device shown in FIG. 1. FIG. 3 is a partially cutaway perspective view of the wafer cassette used in the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1. FIG. 4 is a cross-sectional view showing boat support means in the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1. FIG. 5 is a perspective view showing a part of the boat support means and a wafer boat supported by the boat support means in the wafer transfer apparatus shown in FIG. FIG. 6 is a side view of a portion of the boat shown in FIG. 5; FIG. 7 is a perspective view of a portion of the boat shown in FIG. 5; 8 and 9 are cross-sectional views showing wafer transfer means in the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1. FIG. 10 is a sectional view showing a part of the wafer transfer means in the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1. FIG. 11 is a perspective view showing a boat transfer means in the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1. FIG. 12 is a plan view showing a diffusion furnace boat suspension in the diffusion furnace system shown in FIG. 1 and a part of the boat suspended thereon. FIG. 13 is a perspective view showing a part of a modification of the wafer transfer means. FIG. 14 is a side view showing a part of a modification of the wafer transfer means. 2... Vertical diffusion furnace If type processing device) 4... Wafer transfer device 32... Cassette support means 34... Wafer transfer means 36... Boat support means 38... Boat transfer means 44. ... Wafer centrifuge 50 ... Wafer accommodation groove 62 in the cassette...
Support base 80 of boat support means...Boat support frame 96...Wafer boat 106...Wafer storage groove 108 in the boat...
- Engaged parts 176 and 176a and 176b of the boat...Cassette side wafer lifting member 180...Boat side wafer lifting member 190...Wafer transfer tool

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、複数枚のウェーハを間隔を置いて且つ相互に略平行
に収容したウェーハボートが、その長手方向軸線を略鉛
直にせしめた状態で収納される収納空洞を有する縦型処
理装置のための、ウェーハ搬送装置にして、 該ボートの長手方向軸線が略鉛直に延びる第１状態と該
第１の状態から傾動せしめた第２の状態とに、該ボート
を選択的に支持することができるボート支持手段を具備
する、ことを特徴とするウェーハ搬送装置。 ２、該第２の状態において該ボートの長手方向軸線は、
水平に対して角度θ、ここで０度≦θ≦４５度である、
をなして延びる、特許請求の範囲第１項記載のウェーハ
搬送装置。３、該ボートは、その前面にウェーハ出入開
口を有すると共に、その長手方向に間隔を置いて形成さ
れた複数個のウェーハ収容溝を有し、該ボートの長手方
向軸線が略鉛直にせしめられた状態で該ウェーハ収容溝
の各々は該ウェーハ出入開口に向かって上方に水平に対
して角度α、ここで０度≦α≦４５度をなして延び、 該第２の状態において該ボートは該ウェーハ出入開口を
上方に向け、該角度θは該角度αと実質上同一であり、
かくして該第２の状態において該ボートの該ウェーハ収
容溝は実質上鉛直に延びる、特許請求の範囲第２項記載
のウェーハ搬送装置。 ４、該ボート支持手段は、該ボートを該第１の状態に支
持する第１の位置と該ボートを該第２の状態に支持する
第２の位置との間を移動自在に装着されたボート支持枠
、及び該ボート支持枠を該第１の位置と該第２の位置と
の間にて移動せしめるためのボート支持枠移送手段を含
む、特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載
のウェーハ搬送装置。５、更に、複数枚のウェーハを収
容するためのウェーハカセットが載置されるカセット支
持手段と、該カセット支持手段上に載置された該カセッ
トと該第２の位置に位置付けられている該ボート支持枠
上に支持されている該ボートとの間にて複数枚のウェー
ハを移送するためのウェーハ移送手段と、該第１の位置
に位置付けられている該ボート支持枠と該縦型処理装置
との間にて該ボートを移送するためのボート移送手段と
、を具備する特許請求の範囲第４項記載のウェーハ搬送
装置。 ６、該ボート支持手段は支持基台を含み、該ボート支持
枠は略鉛直に延在する起立位置と水平に対して該角度θ
をなす横臥位置との間を旋回自在に該支持基台に装着さ
れており、該ボート支持枠移動手段は該支持基台に対し
て該ボート支持枠を旋回動せしめるための旋回動手段を
有する、特許請求の範囲第４項又は第５項記載のウェー
ハ搬送装置。 ７、該ボート支持手段の該支持基台は実質上鉛直に昇降
自在に装着されており、該ボート支持枠移動手段は該支
持基台を昇降動せしめるための昇降動手段を有する、特
許請求の範囲第６項記載のウェーハ搬送装置。 ８、該支持基台が所定下降位置に位置つけられ且つ該ボ
ート支持枠が該横臥位置に位置付けられると、該ボート
支持枠が該第２の位置に位置し、該ボート支持枠が該起
立位置に位置付けられ且つ該支持基台が所定上昇位置に
位置つけられると、該ボート支持枠が該第１の位置に位
置する、特許請求の範囲第７項記載のウェーハ搬送装置
。 ９、該ボートの上端には被係合部が形成されており、該
ボート移送手段は該被係合部に係合して該ボートを懸架
することができる可動懸架部材を含む、特許請求の範囲
第５項記載のウェーハ搬送装置。 １０、該ボート移送手段は実質上水平方向に移動自在に
装着された水平移動枠を含み、該懸架部材は実質上鉛直
方向に昇降自在に該水平移動枠に装着されており、該ボ
ート移送手段は、更に、該水平移動枠を移動さしめるた
めの水平移動手段、及び該水平移動枠に対して該懸架部
材を昇降動せしめるための鉛直移動手段を含む、特許請
求の範囲第９項記載のウェーハ搬送装置。 １１、該ボートの該ウェーハ出入開口に対向する後面に
は、ウェーハの径より小さい幅で長手方向に延びる幅狭
開口が形成されており、該カセットはその上面にウェー
ハ出入開口を有すると共に、その長手方向に間隔を置い
て該ウェーハ出入開口に対して実質上垂直に延びる複数
個のウェーハ収容溝、及び該ウェーハ出入開口に対向す
る下面に形成され且つウェーハの径より小さい幅で長手
方向に延びる幅狭開口を有し、該カセットはそのウェー
ハ出入開口を上方に向けて且つ該ウェーハ収容溝が実質
上鉛直に延びる状態で該カセット支持手段上に載置され
、該ウェーハ移送手段は、該カセット支持手段上に載置
された該カセットの上方に位置するカセット対向位置と
該第２の状態にある該ボートに対向するボート対向位置
との間を移動自在に装着されたウェーハ移送具と、該ウ
ェーハ移送具を該カセット対向位置と該ボート対向位置
との間にて移動せしめるためのウェーハ移送具移動手段
と、該カセット支持手段上に載置された該カセットの該
幅狭開口を通って実質上鉛直方向に昇降自在に装着され
たカセット側ウェーハ昇降部材と、該カセット側ウェー
ハ昇降部材を昇降動せしめるためのカセット側昇降手段
と、該第２の状態にある該ボートの該幅狭開口を通って
実質上鉛直方向に昇降自在に装着されたボート側ウェー
ハ昇降部材と、該ボート側ウェーハ昇降部材を昇降動せ
しめるためのボート側昇降手段とを含み、 該ウェーハ移送具は、その下面にウェーハ出入開口を有
すると共に、その長手方向に間隔を置いて且つ実質上鉛
直に延びる複数個のウェーハ収容溝を有し、そして更に
、ウェーハ出入開口を通してのウェーハの出入に干渉し
ない非作用位置と該ウェーハ出入開口の幅を減少せしめ
て該ウェーハ出入開口を通ってウェーハが下方に落下す
るのを防止する作用位置との間を移動自在に装着された
ウェーハ落下防止部材と、該ウェーハ落下防止部材を該
非作用位置と該作用位置とに選択的に位置付けるウェー
ハ落下防止部材位置付け手段とを含む、特許請求の範囲
第５項記載のウェーハ搬送装置。 １２、該ウェーハ落下防止部材は該ウェーハ移送具の該
ウェーハ出入開口の両側に夫々設けられている、特許請
求の範囲第１１項記載のウェーハ搬送装置。 １３、該カセット支持手段上に載置された該カセットの
長手方向軸線と該第２の状態にある該ボートの長手方向
軸線とは相互に実質上平行な鉛直平面内に夫々位置し、
該ウェーハ移送具、該カセット側ウェーハ昇降部材及び
該ボート側ウェーハ昇降部材は、該鉛直平面に対して実
質上平行に且つ実質上水平に移動自在に装着されており
、そして、該ウェーハ移送具、該カセット側ウェーハ昇
降部材及び該ボート側ウェーハ昇降部材を該垂直平面に
対して実質上平行に且つ実質上水平に移動せしめるため
の移動手段が配設されている、特許請求の範囲第１１項
又は第１２項記載のウェーハ搬送装置。[Claims] 1. A vertical type having a storage cavity in which a wafer boat containing a plurality of wafers at intervals and substantially parallel to each other is accommodated with its longitudinal axis being substantially vertical. A wafer transport device for a processing device, the boat being selectively supported in a first state in which the longitudinal axis of the boat extends substantially vertically and in a second state in which it is tilted from the first state. 1. A wafer transfer device comprising a boat support means capable of supporting a boat. 2. In the second state, the longitudinal axis of the boat is
Angle θ with respect to the horizontal, where 0 degrees ≦ θ ≦ 45 degrees,
A wafer transport device according to claim 1, which extends to form a wafer transport device. 3. The boat has a wafer entry/exit opening on the front surface thereof, and a plurality of wafer storage grooves formed at intervals in the longitudinal direction, and the longitudinal axis of the boat is made substantially vertical. in the second state, each of the wafer receiving grooves extends upwardly toward the wafer access opening at an angle α with respect to the horizontal, where 0°≦α≦45°, and in the second state, the boat the access opening is directed upward, and the angle θ is substantially the same as the angle α;
The wafer transport apparatus according to claim 2, wherein the wafer receiving groove of the boat extends substantially vertically in the second state. 4. The boat support means is attached to the boat so as to be movable between a first position where the boat is supported in the first state and a second position where the boat is supported in the second state. Any of claims 1 to 3, comprising a support frame and boat support frame transfer means for moving the boat support frame between the first position and the second position. The wafer transfer device described in the above. 5. Furthermore, a cassette support means on which a wafer cassette for accommodating a plurality of wafers is placed, the cassette placed on the cassette support means, and the boat positioned at the second position. wafer transfer means for transferring a plurality of wafers between the boat supported on the support frame; the boat support frame positioned at the first position and the vertical processing device; 5. The wafer transfer apparatus according to claim 4, further comprising boat transfer means for transferring the boat between the wafers. 6. The boat support means includes a support base, and the boat support frame has an upright position extending substantially vertically and an angle θ with respect to the horizontal.
The boat support frame is mounted on the support base so as to be pivotable between a lying position and a lying position, and the boat support frame moving means has a pivot movement means for pivoting the boat support frame with respect to the support base. , a wafer transfer device according to claim 4 or 5. 7. The support base of the boat support means is mounted so as to be able to rise and fall substantially vertically, and the boat support frame moving means has an elevating means for moving the support base up and down. The wafer transfer device according to scope 6. 8. When the support base is positioned at the predetermined lowered position and the boat support frame is positioned at the lying position, the boat support frame is positioned at the second position, and the boat support frame is positioned at the upright position. 8. The wafer transfer apparatus according to claim 7, wherein when the support base is positioned at a predetermined raised position, the boat support frame is positioned at the first position. 9. An engaged part is formed at the upper end of the boat, and the boat transfer means includes a movable suspension member that can suspend the boat by engaging with the engaged part. The wafer transfer device according to scope 5. 10. The boat transfer means includes a horizontal movement frame mounted so as to be movable substantially in the horizontal direction, the suspension member is attached to the horizontal movement frame so as to be movable substantially in the vertical direction, and the boat transfer means Claim 9 further includes a horizontal movement means for moving the horizontal movement frame, and a vertical movement means for moving the suspension member up and down with respect to the horizontal movement frame. Wafer transport equipment. 11. A narrow opening having a width smaller than the diameter of the wafer and extending in the longitudinal direction is formed on the rear surface of the boat opposite to the wafer entrance/exit opening, and the cassette has the wafer entrance/exit opening on the upper surface thereof. a plurality of wafer accommodating grooves extending substantially perpendicularly to the wafer access opening at intervals in the longitudinal direction, and formed on a lower surface facing the wafer access opening and extending in the longitudinal direction with a width smaller than the diameter of the wafer; The cassette has a narrow opening, and the cassette is placed on the cassette support means with the wafer inlet/output opening facing upward and the wafer receiving groove extending substantially vertically, and the wafer transfer means has a narrow opening. a wafer transfer device mounted so as to be movable between a cassette facing position located above the cassette placed on the support means and a boat facing position facing the boat in the second state; wafer transfer device moving means for moving the wafer transfer device between the cassette-facing position and the boat-facing position; a cassette-side wafer elevating member mounted so as to be vertically upwardly movable; a cassette-side elevating means for elevating and lowering the cassette-side wafer elevating member; and a narrow opening of the boat in the second state. The wafer transfer device includes a boat-side wafer elevating member mounted to be able to move up and down substantially vertically through the boat-side elevating member, and a boat-side elevating means for elevating and lowering the boat-side wafer elevating member. a non-working position that does not interfere with the movement of wafers into and out of the wafer through the wafer access opening; a wafer drop prevention member mounted so as to be movable between an operating position that reduces the width of the wafer entrance/exit opening and prevents the wafer from falling downward through the wafer entrance/exit opening; The wafer transport device according to claim 5, comprising an operating position and a wafer fall prevention member positioning means for selectively positioning the wafer fall prevention member at the operating position. 12. The wafer transfer device according to claim 11, wherein the wafer fall prevention members are provided on both sides of the wafer entrance/exit opening of the wafer transfer tool. 13. The longitudinal axis of the cassette mounted on the cassette support means and the longitudinal axis of the boat in the second state are respectively located in vertical planes that are substantially parallel to each other;
The wafer transfer tool, the cassette side wafer lifting member, and the boat side wafer lifting member are mounted so as to be movable substantially parallel to and substantially horizontally with respect to the vertical plane, and the wafer transfer tool, Claim 11, wherein a moving means is provided for moving the cassette-side wafer lifting member and the boat-side wafer lifting member substantially parallel to and substantially horizontally with respect to the vertical plane. The wafer transfer device according to item 12.
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