JPS62129732A - Sharing interferometer - Google Patents
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- JPS62129732A JPS62129732A JP60269319A JP26931985A JPS62129732A JP S62129732 A JPS62129732 A JP S62129732A JP 60269319 A JP60269319 A JP 60269319A JP 26931985 A JP26931985 A JP 26931985A JP S62129732 A JPS62129732 A JP S62129732A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0215—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods by shearing interferometric methods
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、被検面によって反射した光束を２つに分ける
ことにより測定波面を２分割し、これらの測定波面を互
いに横にずらして干渉させるシェアリング干渉計に関し
７％に互いにずらされた２つの測定波面のす力量、すな
わちシェア量を高精度に測定し得るようにしたものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention divides the light beam reflected by the surface to be measured into two, thereby dividing the measurement wavefront into two, and then shifting these measurement wavefronts laterally with respect to each other to generate interference. This is a shearing interferometer that can measure with high accuracy the force of two measurement wavefronts shifted by 7%, that is, the shear amount.
シェアリング干渉計は、基準参照面を用いず、被測定波
面を２つに分け、横ずらしを与えて自分自身で干渉を起
こさせる干渉計で、参照用原器を必要としないため、干
渉計のコストを低減できる。A shearing interferometer is an interferometer that does not use a standard reference surface, divides the wavefront to be measured into two, and causes interference by itself by applying a lateral shift, and does not require a reference standard. can reduce costs.
シェア量を変化させることによって得られる干渉縞の本
数を調整でき、シェア量を小さくとれば干渉縞の間隔が
混み合って測定が不可能になるようなことがない、全反
射鏡を前後に数分の一波長刻みで動かして縞走査すると
、参照光と被検光の位相が全反射鏡の移動量に応じて変
化するため、百分の一波長程度の読取り精度が得られる
などの優れた特徴を有し、特にレンズ、鏡等の比較的収
差の大きい光学部品の面形状１例えば球面、非球面の測
定に有利とされる。The number of interference fringes obtained can be adjusted by changing the amount of shear, and if the amount of shear is kept small, the spacing of interference fringes will not be crowded and measurement will not be possible. When scanning the fringe by moving it in steps of one-hundredth of a wavelength, the phase of the reference light and the test light changes according to the amount of movement of the total reflection mirror, so it is possible to obtain reading accuracy on the order of one-hundredth of a wavelength. It is particularly advantageous for measuring surface shapes 1, such as spherical and aspherical surfaces, of optical components such as lenses and mirrors that have relatively large aberrations.
シェアリング干渉計によって各種被測定物を測 。Measure various objects using a shearing interferometer.
定する場合、シェア量を測定する必要があり、この測定
精度が干渉計自身の精度を決定する。春に球面からのず
れが大きい非球面を測定する場合。When determining the amount of shear, it is necessary to measure the amount of shear, and the accuracy of this measurement determines the accuracy of the interferometer itself. When measuring an aspheric surface with a large deviation from a spherical surface in spring.
シェア量は／Ｊ％さくなくてはならず、シェア量測定の
絶対精度を必要とする。しかし、シェア量は直接測定で
きず、通常ミラーの傾き状態から算出しているが、干渉
計の周囲温度の変化や、各光学素子の取付は誤差等によ
り、ミラーの傾き状態に対してシェア量が必ずしも対応
づけられるとは限らず、このためシェア量の測定が不正
確になり、分割された両測定波面の実際のシェア量を知
ることが難しく、測定誤差が大きくなる虞れがあった。The share amount must be reduced by /J%, which requires absolute accuracy in measuring the share amount. However, the amount of shear cannot be directly measured and is usually calculated from the tilted state of the mirror, but due to changes in the ambient temperature of the interferometer and errors in the installation of each optical element, the amount of shear is calculated based on the tilted state of the mirror. are not necessarily correlated, which makes the measurement of the shear amount inaccurate, making it difficult to know the actual shear amount of both divided measurement wavefronts, and potentially increasing measurement errors.
そこで、シェア量を直接測定する方法として、２分され
た後、互いに重ね合わされた２つの光束の位置を測定し
、２分割された両測定波面のずれ量を測定するための位
置センサを設けてなるシェアリング干渉計（特開昭６０
−１０７５０７号公報）が提案されている。Therefore, as a method to directly measure the amount of shear, a position sensor is provided to measure the position of the two light beams that are superimposed on each other after being divided into two, and to measure the amount of deviation between the two divided measurement wavefronts. Sharing interferometer
-107507) has been proposed.
しかしながら、位置センサによるシェア量の直接測定は
、エツジがない場合の測定が困難である。However, it is difficult to directly measure the amount of shear using a position sensor when there are no edges.
すなわち、一般にシェアリング干渉計による形状測定は
、鏡面に限られてお沙、その反射面に、一般の像のよう
な明るさの明暗が少ない。このため、第６図＜−＞に示
したように被測定物が測定範囲内にある場合、被測定物
の外形により像にエツジができ、ンヤツターで光束の片
側ずつを隠すことにより、そのエツジのずれ量を測定し
、ずれ量がわかる。しかし、もし同図（ｂ）に示すよう
に被測定物の中心部のみを拡大して測定したい場合、測
定範囲内にズレを表わす標的がなく、測定を困難にする
。That is, shape measurement using a shearing interferometer is generally limited to mirror surfaces, and the reflective surface has less brightness and darkness than a general image. For this reason, when the object to be measured is within the measurement range as shown in Fig. 6<->, an edge is formed in the image due to the outer shape of the object, and by hiding one side of the light beam with the printer, the edge can be removed. Measure the amount of deviation and find out the amount of deviation. However, if it is desired to magnify and measure only the center of the object as shown in FIG. 6(b), there is no target that indicates a shift within the measurement range, making measurement difficult.
なお、第６図において四角で囲った部分は測定範囲を示
す。In addition, the area surrounded by a square in FIG. 6 indicates the measurement range.
まだ、シェア量の直接測定は、測定精度がセンサのピッ
チに依存するため、余り高い精度が期待できない、従来
方法は特別々位置センサを用意する必要があり、光路中
にシャッターを組み込む必要があり装置が複雑化するな
どの不都合もあった。However, direct measurement of the amount of share cannot be expected to be very accurate because the measurement accuracy depends on the pitch of the sensor. Conventional methods require the preparation of a special position sensor and the need to incorporate a shutter into the optical path. There were also disadvantages such as the complexity of the device.
本発明に係るシェアリング干渉計は上述したような問題
を解決すべくなされだもので、被検面によって反射した
光束を２つに分けることにより測定波面を２分割し、こ
れらの測定波面を互いに横ずらしして干渉させるシェア
リング干渉計において、入射光路中に２両測定波面のず
れ量を測定するためのパターンを配置し、前記被検面上
にできた前記パターンの斜影を撮像素子上に結像させる
ようにしたものである。The shearing interferometer according to the present invention was developed to solve the above-mentioned problems, and the measurement wavefront is divided into two by dividing the light beam reflected by the test surface into two, and these measurement wavefronts are mutually separated. In a shearing interferometer that causes interference by laterally shifting, a pattern for measuring the amount of deviation between two measurement wavefronts is placed in the incident optical path, and the oblique shadow of the pattern formed on the surface to be measured is projected onto the image sensor. It is designed to form an image.
本発明においてはパターンの斜影を撮像素子上に結像さ
せるようにしたので、このパターンを横ずらしによる方
法、自己相関関数による方法、モアレ縞解析による方法
等により解析することによって両測定波面の実際のずれ
量を実質的に測定することができる。In the present invention, since the oblique shadow of the pattern is imaged on the image sensor, this pattern is analyzed by a method using lateral shift, a method using an autocorrelation function, a method using Moiré fringe analysis, etc. The amount of deviation can be substantially measured.
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.
第１図は本発明に係るシェアリング干渉計の一実施例を
示す光学系の図である。本実施例は光源１から被検面Ｓ
までの光路中、すなわち入射光路中の適宜位置２例えば
コリメータレンズ４と集光レンズ５の間に後述するパタ
ーン１４を配置シタ点に特徴を有し７ている。２け発散
レンズ、３はビームスプリッタ、６は被測定物、７はビ
ームスプリッタ３からの光束を２つの光束に分割するビ
ームスプリッタ、８は全反射鏡、９は全反射鏡８を光軸
方向（矢印方向） Ｉｃ移動させるピエゾ素子等の駆動
装置、１０は全反射鏡、１１および１２は結像レンズ、
１３はＣＣＤ等の撮像素子である。FIG. 1 is a diagram of an optical system showing an embodiment of a shearing interferometer according to the present invention. In this embodiment, from the light source 1 to the surface to be inspected S.
A pattern 14, which will be described later, is arranged at an appropriate position 2, for example, between the collimator lens 4 and the condensing lens 5, in the optical path up to, that is, in the incident optical path. 2 divergent lenses, 3 is a beam splitter, 6 is the object to be measured, 7 is a beam splitter that splits the beam from beam splitter 3 into two beams, 8 is a total reflection mirror, 9 is a total reflection mirror 8 in the optical axis direction (in the direction of the arrow) A drive device such as a piezo element to move Ic, 10 is a total reflection mirror, 11 and 12 are imaging lenses,
13 is an image sensor such as a CCD.
光源１としては可視、赤外または紫外の可干渉性の良い
光束を発するものとして例えばＨｅ −Ｎｃレーザーが
使用される。全反射鏡１０はビームスプリッタ７によっ
て分割された２つの光束のうち該スプリッタ７により反
射した反射光に横ずらしを与えるもので、これに入射す
る反射光の中心を通る光線に対して直交しておらず、こ
の直交する方向から微小角度θだけ傾いており、また適
宜な傾斜機構（図示せず）ＶＣよって保持されることに
より直交する２方向に傾斜されるように構成されている
ものとする。As the light source 1, a He-Nc laser, for example, is used as one that emits visible, infrared, or ultraviolet light beams with good coherence. The total reflection mirror 10 gives a horizontal shift to the reflected light reflected by the splitter 7 out of the two luminous fluxes split by the beam splitter 7, and the total reflection mirror 10 gives a horizontal shift to the reflected light reflected by the beam splitter 7, and the total reflection mirror 10 gives a horizontal shift to the reflected light reflected by the beam splitter 7. The device is tilted by a small angle θ from the orthogonal direction, and is configured to be tilted in two orthogonal directions by being held by an appropriate tilting mechanism (not shown) VC. .
このような構成からなるシェアリング干渉計において、
光源１かも出た光は発散レンズ２およびビームスプリッ
タ３を経てコリメータレンズ４を透過し、光軸りと平行
な平行光線とされた後、集光レンズ５によって焦点Ｐに
焦光され、被検面Ｓを照射する。ここで反射した光束の
波面は被検面Ｓの形態に応じた形状となっている。そし
て、この光束は再び集光レンズ５．コリメータレンズ４
およびビームスプリッタ３を透過し、第２のビームスプ
リッタ７によって２分され、一部透過し、一部反射する
。そのうち透過光は全反射鏡８によって反射され、再び
ビームスプリッタ７に戻る。In a shearing interferometer with such a configuration,
The light emitted from the light source 1 passes through the collimator lens 4 via the diverging lens 2 and the beam splitter 3, and is converted into parallel light rays parallel to the optical axis.Then, the light is focused by the condensing lens 5 to the focal point P, and Irradiate the surface S. The wavefront of the light beam reflected here has a shape according to the form of the surface S to be inspected. Then, this light flux is returned to the condensing lens 5. Collimator lens 4
The beam then passes through the beam splitter 3, is split into two by the second beam splitter 7, and is partially transmitted and partially reflected. The transmitted light is reflected by the total reflection mirror 8 and returns to the beam splitter 7 again.
また、ビームスプリッタ７によって反射した反射光は全
反射鏡１０によって反射し、該スプリッタ７に戻る。こ
の時、全反射鏡１０は前述した通り微小角度θ傾いてい
るため、全反射鏡１０に実線で示す如く入射した光束は
、該反射鏡１０にて反射すると、この反射光束は破線で
示す如く進み。Further, the reflected light reflected by the beam splitter 7 is reflected by the total reflection mirror 10 and returns to the splitter 7. At this time, since the total reflection mirror 10 is tilted by a small angle θ as described above, when the light beam incident on the total reflection mirror 10 as shown by the solid line is reflected by the reflection mirror 10, this reflected light beam is as shown by the broken line. Go ahead.
入射時の光束と微小量ずれることになる。したがって、
各全反射鏡８，１０にて反射し、ビームスプリッタ７に
戻シ、再び重ね合わされた両光束は横方向に微小量Δｄ
だけずれ、干渉を起こす。There will be a slight deviation from the light flux at the time of incidence. therefore,
The two beams are reflected by each total reflection mirror 8, 10, returned to the beam splitter 7, and superimposed again.
This will cause interference.
すなわち、被検面Ｓからの光束がビームスプリッタ７に
より２分されることにより、この光束の測定波面が２分
割され、全反射鏡８．１０にてそれぞれ反射し再びビー
ムスプリッタＴにより重ね合わされた両測定波面は」ｄ
だけ横方向にシェアされるもので、とのΔｄがシェア量
である。そして、重ね合わされた光束は結像レンズ１１
．１２によって撮像素子１３上に結像され干渉縞を形成
する。干渉縞は撮像素子１３によって画像情報として電
気信号に変換された後、コンピュータ等で縞解析を行う
ことで、被検面Ｓの面形状が測定される。In other words, the beam splitter 7 splits the light beam from the test surface S into two, and the measurement wavefront of this light beam is divided into two, reflected by the total reflection mirror 8.10, and then superimposed again by the beam splitter T. Both measured wavefronts are 'd
is shared in the horizontal direction, and Δd between and is the amount of shearing. Then, the superimposed light beams are transferred to the imaging lens 11
．． 12 forms an image on the image sensor 13 to form interference fringes. After the interference fringes are converted into electrical signals as image information by the image sensor 13, the surface shape of the surface S to be inspected is measured by performing fringe analysis using a computer or the like.
ここで１球面、非球面等の面形状を測定するためには、
互いにシェアされた両測定波面の直交する２方向のシェ
ア量を測定することが不可欠となる。In order to measure surface shapes such as 1-spherical and aspherical surfaces,
It is essential to measure the amount of shear in two orthogonal directions of both measurement wavefronts that are shared with each other.
すなわち、第２図に示すようにある波面Ｗ（、ア）をＸ
方向にΔｄだけ横ずらしした波面をＷ（、ｒ＋Δｄ）と
する。この２つの波面Ｗ（ｒ） 、 Ｗ （ｒ＋Δｄ）
を重ね合せると１位相差Δ吟）
ΔＷＣｘ） ＝１） −Ｗ （ｊＣ＋Δｄ） −＝−
・−曲（１）に対応した干渉縞が発生し、この干渉縞を
撮像素子１３で観測し、解析することでΔＷ←）を得る
。In other words, as shown in Fig. 2, a certain wavefront W(,a) is
Let W(,r+Δd) be the wavefront that is laterally shifted by Δd in the direction. These two wavefronts W(r), W(r+Δd)
When superimposed, there is one phase difference Δgin) ΔWCx) = 1) -W (jC+Δd) -=-
- Interference fringes corresponding to song (1) are generated, and ΔW←) is obtained by observing and analyzing these interference fringes with the image sensor 13.
ΔＷ←）はＷ←）の微分情報であり、これを積分するこ
とで元の波面Ｗ←）を求める。ΔW←) is differential information of W←), and by integrating this, the original wavefront W←) is obtained.
なお、第２図において。In addition, in FIG.
でちる。Dechiru.
上記（１）式から明らかなように、シェア量ΔｄはΔＷ
（、ｒ）に影響を与える数値である。したがって、Δ
Ｗ（ｒ）を求めるにはΔｄをより正確に測定する必要が
ある。しかしながら、従来は前述した理由でこの値を直
接求めることができず、その測定が不正確になるもので
ある。As is clear from the above equation (1), the share amount Δd is ΔW
(, r). Therefore, Δ
In order to obtain W(r), it is necessary to measure Δd more accurately. However, conventionally, this value cannot be directly determined for the reasons mentioned above, resulting in inaccurate measurements.
そこで、本発明は前述した通りコリメータレンズ４と集
光レンズ５の間にパターン１４を配置し、被検面Ｓ上に
できた該パターン１４の斜影を撮像素子１３上に結像さ
せ、このパターンを後述する方法によって解析すること
により、両測定波面の実際のずれ量（Δｄ）を測定する
ようにしたものである。Therefore, as described above, the present invention arranges the pattern 14 between the collimator lens 4 and the condensing lens 5, and images the oblique shadow of the pattern 14 formed on the surface S to be inspected on the imaging element 13. The actual deviation amount (Δd) between the two measured wavefronts is measured by analyzing this using a method described later.
パターン１４としては、第３図に示すようにエツジパタ
ーン（ａ図）、ランダムパターン（ｂ図）、。As shown in FIG. 3, the patterns 14 include an edge pattern (figure a) and a random pattern (figure b).
同心円状の規則パターン（０図）等が用いられる。A concentric regular pattern (Fig. 0) is used.
パ、＃−，７１４の解析によるシェア量Δｄの検出方法
としては、（１）パターンの横ずらしによる方法。Methods for detecting the share amount Δd by analyzing P, #-, 714 include (1) a method by horizontally shifting the pattern;
（２）自己相関関数による方法、（３）モアレ縞解析に
よる方法等が挙げられ、以下その方法、効果等を述べる
。Examples include (2) a method using an autocorrelation function, and (3) a method using moiré fringe analysis, and the methods, effects, etc. will be described below.
（１）ハターン横ずらしによる方法
第１図の入射光路中に挿入配置した第３図（ａ）に示す
エツジパターン１４を、ピエゾ素子等の駆動装置によっ
て駆動されるＸ−Ｙステージ（図示せず）に取付け、一
方向にリニアに移動させると。(1) Method using horizontal shift of the pattern The edge pattern 14 shown in FIG. ) and move it linearly in one direction.
パターン１４のエツジ部にあたる撮像素子１３の出力は
、第４図に示すＬうに変動する。その変動直線のａ位置
が撮像素子１３にエツジがかかった位置で、６が撮像素
子１３上からエツジがなくなつた位置である。そこで、
とのａおよび１点を２つのずれたパターンの各々に対し
て精度良く検出すれば、その位置のずれ量から両測定波
面の実際のシェア量を算出することができる。The output of the image sensor 13 corresponding to the edge portion of the pattern 14 fluctuates as shown in FIG. Position a of the variation straight line is the position where the edge is on the image sensor 13, and 6 is the position where the edge disappears from the image sensor 13. Therefore,
If a and one point with respect to each of the two shifted patterns are detected with high accuracy, the actual amount of share of both measurement wavefronts can be calculated from the amount of shift of the position.
（２） 自己相関関数による方法
入射光路中に挿入されたパターン１４は、全反射鏡１０
によυ被検面によって反射した光束と同様にΔｄだけ横
にずらされ、ビームスプリッタ７により再び重ね合わさ
れた後、撮像素子１３上に結像されるものである。この
ため、パターン１４として第３図（ｂ）に示すランダム
パターンを使用すると、このランダムパターンが一様に
Δｄだけ横ずれし、重なり合ったパターンが撮像素子１
３上に形成される。そこで、そのパターンの自己相関関
数を計算すると、ピッチの２０分の一程度の精度のシェ
ア号Δｄを算出することができる。(2) Method using autocorrelation function The pattern 14 inserted into the incident optical path is the total reflection mirror 10
Similarly to the light flux reflected by the surface to be inspected, the light beams are shifted laterally by Δd, and after being superimposed again by the beam splitter 7, an image is formed on the image sensor 13. Therefore, when the random pattern shown in FIG. 3(b) is used as the pattern 14, this random pattern is uniformly shifted laterally by Δd, and the overlapping patterns are displayed on the image sensor 1.
Formed on 3. Therefore, by calculating the autocorrelation function of that pattern, it is possible to calculate the share number Δd with an accuracy of about 1/20 of the pitch.
（３）モアレ縞解析ｔてよる方法
規則正しいパターンを入射光路中に挿入配置すると、そ
のパターンによっては撮像素子１３上に横ずれ量に応じ
たモアレ縞ができる。そのモアレ縞はパターンの細さに
より粗さが変化し、微小なシェア量に対して粗い縞が生
じる。そこで、第３図（ｃ）に示した同心円状のパター
ン１４を使用すると、第５図（ａ） 、 （ｂ） 、
（ｃ）に示すモアレ縞が得られる。(3) Moire fringe analysis method When a regular pattern is inserted into the incident optical path, moire fringes are formed on the image sensor 13 depending on the pattern depending on the amount of lateral shift. The roughness of the moire fringes changes depending on the fineness of the pattern, and coarse fringes occur with a small amount of shear. Therefore, if the concentric pattern 14 shown in Fig. 3(c) is used, Fig. 5(a), (b),
Moire fringes shown in (c) are obtained.
この時、放射状に作られる縞はずれ金に比例して増加す
るため、これをカウントすること（ｌこより微小なずれ
量を測定することができる。なお、規則正しいパターン
としては同心円状のものに限らず、放射状などのパター
ンも考えられる。At this time, since the stripes created radially increase in proportion to the amount of misalignment, it is possible to measure minute shifts by counting them. Note that regular patterns are not limited to concentric circles. , radial and other patterns are also possible.
かくして、パターン１４を用いて上記３つの方法のうち
いずれか一つの方法を実施すれは、シェア量Δｄを従来
技術以上の精度で測定することが可能となる。また、単
にパターン１４を入射光路中に配置するだけでよいので
、構造もいたって簡単である。In this way, by implementing any one of the three methods described above using the pattern 14, it becomes possible to measure the share amount Δd with greater accuracy than the conventional technique. Further, since it is sufficient to simply arrange the pattern 14 in the incident optical path, the structure is also quite simple.
以上説明したように本発明に係るシェアリング干渉計は
、入射光路中にパターンを配置し、そのパターンを２分
して横ずらし、互いに重なり合った像を撮像素子上に結
像させ、この重なり合った像から実際のシェア量を算出
もしくは測定するようにしているので、構造簡易にして
シェア量を高精度に測定でき、したがって干渉計の測定
精度を向上させることができる。As explained above, the shearing interferometer according to the present invention arranges a pattern in the incident optical path, divides the pattern into two, shifts the pattern laterally, forms mutually overlapping images on the image sensor, Since the actual shear amount is calculated or measured from the image, the shear amount can be measured with high precision with a simple structure, and therefore the measurement accuracy of the interferometer can be improved.
第１図は本発明に係るシェアリング干渉計の一実施例を
示す光学系の図、第２図はシェアリング干渉法を説明す
るための図、第３図（−） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は
パターンの実施例図、第４図はパターン移ｉ１Ｊ’ｆＡ
と撮像素子の光量との関係を示す図、第５図（ａ） 、
（ｂ） 。
（Ｃ）はモアレ縞を示す図、第６図（ａ） 、 （ｂ）
は鏡面測定における不都合を説明するため干渉縞像を示
す図である。
１６１＠＠光源 ３ ｍ ａ ＊ ｅビームスプリッタ
。
４−・拳書コリメータレンズ、５・・・・集光レンズ、
６・・・・被測定物 ７ ｍ ＠ｍ ｓビームスプリッ
タ、８．１０・・・・全反射鏡、１３・・・・撮像素子
、Ｓ・・・・被検面、Δｄ・・・・シェア量。
第３図
（Ｇ）’ （ｂ） （Ｃ）第４図
ツマターン移動量Fig. 1 is a diagram of an optical system showing an embodiment of a shearing interferometer according to the present invention, Fig. 2 is a diagram for explaining the shearing interferometry, and Fig. 3 (-), (b), ( c) is an example diagram of the pattern, and Figure 4 is the pattern transfer i1J'fA.
A diagram showing the relationship between and the light amount of the image sensor, FIG. 5(a),
(b). (C) is a diagram showing moire fringes, Figures 6 (a) and (b)
FIG. 2 is a diagram showing an interference fringe image for explaining inconveniences in specular surface measurement. 161@@Light source 3 m a * e beam splitter. 4-・Kenshi collimator lens, 5... Condensing lens,
6...Object to be measured 7 m@m s beam splitter, 8.10...Total reflection mirror, 13...Image sensor, S...Test surface, Δd...Share amount. Figure 3 (G)' (b) (C) Figure 4 Tsuma turn movement amount
Claims (1)
測定波面を２分割し、これらの測定波面を互いに横ずら
しして干渉させるシェアリング干渉計において、入射光
路中に、両測定波面のずれ量を測定するためのパターン
を配置し、前記被検面上にできた前記パターンの斜影を
撮像素子上に結像させるようにしたことを特徴とするシ
ェアリング干渉計。In a shearing interferometer, the measurement wavefront is divided into two by dividing the light beam reflected by the test surface into two, and these measurement wavefronts are laterally shifted and interfere with each other. 1. A shearing interferometer characterized in that a pattern for measuring is arranged, and an oblique shadow of the pattern formed on the test surface is imaged on an image sensor.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60269319A JPH0789043B2 (en) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | Shear ring interferometer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60269319A JPH0789043B2 (en) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | Shear ring interferometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62129732A true JPS62129732A (en) | 1987-06-12 |
| JPH0789043B2 JPH0789043B2 (en) | 1995-09-27 |
Family
ID=17470692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60269319A Expired - Lifetime JPH0789043B2 (en) | 1985-12-02 | 1985-12-02 | Shear ring interferometer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0789043B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004005846A1 (en) * | 2002-07-08 | 2004-01-15 | Nikon Corporation | Shearing interferometer calibrating method, production method for projection optical system, projection opticalsystem, and projection exposure system |
-
1985
- 1985-12-02 JP JP60269319A patent/JPH0789043B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004005846A1 (en) * | 2002-07-08 | 2004-01-15 | Nikon Corporation | Shearing interferometer calibrating method, production method for projection optical system, projection opticalsystem, and projection exposure system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0789043B2 (en) | 1995-09-27 |
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