JPS62122578A - 高周波加熱滅菌装置 - Google Patents
高周波加熱滅菌装置Info
- Publication number
- JPS62122578A JPS62122578A JP25988485A JP25988485A JPS62122578A JP S62122578 A JPS62122578 A JP S62122578A JP 25988485 A JP25988485 A JP 25988485A JP 25988485 A JP25988485 A JP 25988485A JP S62122578 A JPS62122578 A JP S62122578A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- equipment
- frequency heating
- sterilization
- frequency
- contaminated
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- Granted
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- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、例えばウィルスおよび細菌等を取り扱う実験
室、研究所および病院等の施設において、汚染された実
験機材等の汚染物を滅菌する装置に関するものである。
室、研究所および病院等の施設において、汚染された実
験機材等の汚染物を滅菌する装置に関するものである。
(従来の技術)
バイオテクノロジー産業における実験室に対する実験機
材等の搬入は、殺菌灯付のバスボックスを通じて行われ
ており、また使用済の実験機材等の汚染物を搬出する場
合は、すべてオートクレーブで高圧蒸気滅菌処理を施し
た後室外へ搬出している。そしてその実験機材を再利用
するには、殺菌洗浄後乾燥したものをバスボックスを介
してクリーンルーム内に持ち込んでいる。
材等の搬入は、殺菌灯付のバスボックスを通じて行われ
ており、また使用済の実験機材等の汚染物を搬出する場
合は、すべてオートクレーブで高圧蒸気滅菌処理を施し
た後室外へ搬出している。そしてその実験機材を再利用
するには、殺菌洗浄後乾燥したものをバスボックスを介
してクリーンルーム内に持ち込んでいる。
(発明が解決しようとする問題点)
上述したオートクレーブ等の従来の滅菌設備は、高圧蒸
気を使用するものであるため設備が大がかりなものとな
る上に、滅菌時間および滅菌後の冷却時間も長くかかる
から、ランニングコストが高くなるという問題点がある
。
気を使用するものであるため設備が大がかりなものとな
る上に、滅菌時間および滅菌後の冷却時間も長くかかる
から、ランニングコストが高くなるという問題点がある
。
また再利用する実験機材については、洗浄、乾燥といっ
た多くの作業を必要とするため、実験者自から洗浄滅菌
を行うことが不可能であるので、実験機材を密封容器に
入れバスボックスを通して実験室外に出し、実験室外で
洗浄滅菌を行ってから再びバスボックスを通して実験室
内で利用している。このため、実験機材の再利用に多く
の人手と時間をついやす上に、また必然的に機材の数も
増えるという問題点があった。
た多くの作業を必要とするため、実験者自から洗浄滅菌
を行うことが不可能であるので、実験機材を密封容器に
入れバスボックスを通して実験室外に出し、実験室外で
洗浄滅菌を行ってから再びバスボックスを通して実験室
内で利用している。このため、実験機材の再利用に多く
の人手と時間をついやす上に、また必然的に機材の数も
増えるという問題点があった。
(問題点を解決するための手段)
上述の問題点を解決するため本発明においては、開閉扉
を有する密閉容器に、高周波照射設備と、水噴射設備と
、排水設備を設け、この容器内で高周波加熱滅菌、洗浄
および乾燥をするようにした高周波加熱滅菌装置を構成
する。
を有する密閉容器に、高周波照射設備と、水噴射設備と
、排水設備を設け、この容器内で高周波加熱滅菌、洗浄
および乾燥をするようにした高周波加熱滅菌装置を構成
する。
(作 用)
上述のように構成した本発明の高周波加熱滅菌装置によ
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができる。この場合汚染物が乾燥状態にある場合
は水噴射によって汚染物に水分を与え、それに高周波を
照射することによって有効に加熱することができる。
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができる。この場合汚染物が乾燥状態にある場合
は水噴射によって汚染物に水分を与え、それに高周波を
照射することによって有効に加熱することができる。
また水噴射設備によって装置内で洗浄することもできる
し、また、洗浄したものを高周波加熱によって乾燥させ
ることもできる。
し、また、洗浄したものを高周波加熱によって乾燥させ
ることもできる。
(実施例)
以下、図面について本発明装置の一実施例を説明する。
図中1は開閉扉2 (第2図参照)を有する密閉容器で
、3は開閉扉2の開閉ハンドルである。
、3は開閉扉2の開閉ハンドルである。
本実施例においては、第1図に示すように、密閉容器1
の内面に反射板4を設け、その天板部に複数個(本実施
例では3個)の高周波照射設備の高周波照射ユニット5
を設け、両側壁部にそれぞれ水噴射設備の水噴射ノズル
6を設け、密閉容器1内の底部に排水設備の排水槽7を
設けると共に、その上面に水抜き孔(図示せず)を有す
る汚染物載置板8を設ける。
の内面に反射板4を設け、その天板部に複数個(本実施
例では3個)の高周波照射設備の高周波照射ユニット5
を設け、両側壁部にそれぞれ水噴射設備の水噴射ノズル
6を設け、密閉容器1内の底部に排水設備の排水槽7を
設けると共に、その上面に水抜き孔(図示せず)を有す
る汚染物載置板8を設ける。
なお、図中9は排水槽7に接続した排水管、lOは載置
板8上に載置した汚染物、11は密閉容器1の天板部に
設けた圧力センサー、12は温度センサー、13は高周
波照射ユニット5、水噴射ノズル6、圧力センサー11
、温度センサー12にそれぞれ電気的に接続したA/D
変換器、14はこのA/D変換器13と接続したコンピ
ュータ、15はこのコンピュータ14と接続した操作盤
である。
板8上に載置した汚染物、11は密閉容器1の天板部に
設けた圧力センサー、12は温度センサー、13は高周
波照射ユニット5、水噴射ノズル6、圧力センサー11
、温度センサー12にそれぞれ電気的に接続したA/D
変換器、14はこのA/D変換器13と接続したコンピ
ュータ、15はこのコンピュータ14と接続した操作盤
である。
すなわちこの操作盤15を操作することによって、前記
各設備を電子制御できるようになっている。
各設備を電子制御できるようになっている。
また第3図は、第1図に示した装置の排水管9による排
水の滅菌処理装置の一例を示すもので、16は排水管9
に接続した貯水タンク、17は送水ポンプ、18は排水
管、19は高周波照射滅菌装置、20は温度圧力センサ
ー、21は水冷却装置である。
水の滅菌処理装置の一例を示すもので、16は排水管9
に接続した貯水タンク、17は送水ポンプ、18は排水
管、19は高周波照射滅菌装置、20は温度圧力センサ
ー、21は水冷却装置である。
次に上述のように構成した本発明装置の作用を説明する
。
。
汚染物10を滅菌処理するには、密閉容器1の開閉蓋2
を開けて汚染物10を載置板8上に載せ、開閉扉2を閉
じてから、操作盤15を操作して高周波照射設備を作動
させ、高周波照射ユニット5より高周波を照射する。こ
の照射された高周波は、第1図の点線で示すように直接
または反射板4により反射されて間接的に汚染物lOに
あたるから、汚染物10は短時間で高温に加熱されて滅
菌される。
を開けて汚染物10を載置板8上に載せ、開閉扉2を閉
じてから、操作盤15を操作して高周波照射設備を作動
させ、高周波照射ユニット5より高周波を照射する。こ
の照射された高周波は、第1図の点線で示すように直接
または反射板4により反射されて間接的に汚染物lOに
あたるから、汚染物10は短時間で高温に加熱されて滅
菌される。
なおこの場合汚染物10が乾燥状態で加熱しにくい場合
は、あらかじめ水噴射ノズル6より水を噴射して汚染物
10に水分を付与しておけばよい。
は、あらかじめ水噴射ノズル6より水を噴射して汚染物
10に水分を付与しておけばよい。
つぎに汚染物10の洗浄を行うには、操作盤15を操作
して、水噴射設備を作動させ、水噴射ノズル6から第1
図の実線で示すように水を噴射して汚染物10にあてれ
ばよい。この場合排水は汚染物載置板8の水抜き孔より
下方の排水槽7に溜り、排水管9を介して外部へ排出さ
れる。
して、水噴射設備を作動させ、水噴射ノズル6から第1
図の実線で示すように水を噴射して汚染物10にあてれ
ばよい。この場合排水は汚染物載置板8の水抜き孔より
下方の排水槽7に溜り、排水管9を介して外部へ排出さ
れる。
洗浄が終った汚染物10を乾燥するには、再び高周波照
射設備を作動させて加熱乾燥させればよい。
射設備を作動させて加熱乾燥させればよい。
また排水管9より外部に排出された排水は、例えば第3
図に示す装置によれば、高周波照射による加熱滅菌によ
り容易に滅菌して一般排水として処理することができる
。
図に示す装置によれば、高周波照射による加熱滅菌によ
り容易に滅菌して一般排水として処理することができる
。
(発明の効果)
上述のように構成した本発明の高周波加熱滅菌装置は、
従来の装置と比較してコンパクトである上に、これによ
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができるから、ランニングコストが低下すると共
に、非常に効率がよくなる。この場合汚染物が乾燥状態
にある場合は水噴射によって汚染物に水分を与え、それ
に高周波を照射することによって有効に加熱することが
できる。
従来の装置と比較してコンパクトである上に、これによ
れば、汚染物に高周波を照射することにより短時間に高
温滅菌ができるから、ランニングコストが低下すると共
に、非常に効率がよくなる。この場合汚染物が乾燥状態
にある場合は水噴射によって汚染物に水分を与え、それ
に高周波を照射することによって有効に加熱することが
できる。
また水噴射設備によって装置内で洗浄することもできる
し、また洗浄したものを高周波加熱によって乾燥させる
こともできるから、本発明装置を例えば実験室内に設置
すれば、実験室内で汚染物の滅菌、洗浄、および乾燥を
容易に行うことができるため、従来のように繁雑な手数
を要せず、しかも短時間で実験機材の再利用ができるよ
うになるから、本発明によれば、省力化を促進すると共
に、作業能率を向上できるというすぐれた効果が得られ
る。
し、また洗浄したものを高周波加熱によって乾燥させる
こともできるから、本発明装置を例えば実験室内に設置
すれば、実験室内で汚染物の滅菌、洗浄、および乾燥を
容易に行うことができるため、従来のように繁雑な手数
を要せず、しかも短時間で実験機材の再利用ができるよ
うになるから、本発明によれば、省力化を促進すると共
に、作業能率を向上できるというすぐれた効果が得られ
る。
第1図は本発明装置の縦断正面図、
第2図は本発明装置の外観を示す斜視図、第3図は排水
の滅菌装置の一例を示す説明図である。 1・・・密閉容器 2・・・開閉扉4・・パ反
射板 5・・・高周波照射設備の高周波照射ユニット6・・・
水噴射設備の水噴射ノズル 7・・・排水設備の排水槽 8・・・汚染物載置板9・
・・排水管 10・・・汚染物第2図 第3図
の滅菌装置の一例を示す説明図である。 1・・・密閉容器 2・・・開閉扉4・・パ反
射板 5・・・高周波照射設備の高周波照射ユニット6・・・
水噴射設備の水噴射ノズル 7・・・排水設備の排水槽 8・・・汚染物載置板9・
・・排水管 10・・・汚染物第2図 第3図
Claims (1)
- 1、開閉扉を有する密閉容器に、高周波照射設備と、水
噴射設備と、排水設備を設け、この容器内で高周波加熱
滅菌、洗浄および乾燥をするようにしたことを特徴とす
る高周波加熱滅菌装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60259884A JPH06102015B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 高周波加熱滅菌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60259884A JPH06102015B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 高周波加熱滅菌装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62122578A true JPS62122578A (ja) | 1987-06-03 |
JPH06102015B2 JPH06102015B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=17340275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60259884A Expired - Lifetime JPH06102015B2 (ja) | 1985-11-21 | 1985-11-21 | 高周波加熱滅菌装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06102015B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59222286A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-13 | 株式会社テシカ | 容器洗浄装置 |
JPS6096879A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-30 | 松下電工株式会社 | 高周波乾燥法 |
JPS60120970A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-06-28 | Sozaburo Uemura | 高周波加圧加熱による食品の連続加工方法及び装置 |
-
1985
- 1985-11-21 JP JP60259884A patent/JPH06102015B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59222286A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-13 | 株式会社テシカ | 容器洗浄装置 |
JPS6096879A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-30 | 松下電工株式会社 | 高周波乾燥法 |
JPS60120970A (ja) * | 1983-12-05 | 1985-06-28 | Sozaburo Uemura | 高周波加圧加熱による食品の連続加工方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06102015B2 (ja) | 1994-12-14 |
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