JPS62117667A - 流体物塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、例えばウェハー等の被塗布基板の表面に、レ
ノスト等の流体物を平滑に塗布することができる流体物
塗布方法に関するものである。

〔発明の背景〕

第６図は、従来のレノスト塗布手段を示すもので、１は
し・シストを塗布すべきウェハー２を水平状態でチャッ
キングするだめのチャックであって、このチャック１上
に上記ウェハー２の被塗布面が水平となるように例えば
真空吸着手段等によりチャッキングさせ、次いでノズル
３より所定のレノストをウェハー２の塗布面上に滴下し
た後、このウェハー２を、チャック１にチャッキングさ
せたままで、チャックと共に高速度で回転させ、その遠
心力でウェハー２の上面全体に、レジストを塗布するも
のである。

ところが、かかる従来のレノスト塗布手段では、ウェハ
ー２のレジスト塗布面は上方を向いているためにレジス
トをノズル３から滴下させるには都合がよいが、ウェハ
ー２上に滴下されたレノストには、その重力Ｗが下方へ
作用するために、第７図に示すように、ウェハー２の塗
布面に、凸条のパターン２′が形成されている場合には
、この凸条ノ臂ターン２′の影響を受けて、ウェハー２
上に塗布されたレジスト４の断面は第７図に示すように
なって、そのレジスト４の塗布表面は凸凹となる。

このように、ウェハー２の表面に塗布されたレジスト４
の表面に凸凹が存在すると、この凸凹によって光の散乱
、回折などが生じ、その結果、例えば多層レノスト工程
への応用が困難となる等の問題点があった。

〔発明の目的〕

本発明はかかる従来の問題点に着目してなさハたもので
、塗布されたし・シスト等の流体物の表面が、その流体
物を塗布した被塗布物表面の凹凸形状に影響されること
なく平坦な表面とすることができる流体物塗布方法を提
供することを目的とするものである。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は被塗布基板の被塗
布面に流体物？塗布する流体物塗布方法において、前記
被塗布基板を回転させると共に、前記被塗布面から該被
塗布面上の流体物の方向へ該流体物が前記被塗布面から
離反する作用力が働く様にして前記流体物を塗布するこ
とを特徴とする流体物塗布方法を提供することにある。

〔発明の実施例〕

以下に本発明を第１図乃至第５図に示す実施例に基いて
詳細に説明する。

第１図及び第２図において、１０は図示しないモータに
より回転される駆動軸であって、この駆動軸１０は垂直
に位置されている。１１は回転盤であって、この回転盤
の中心に、−上記駆動軸１０の上端が固定されている。

１２は上記回転盤Ｉ７）周縁部に、この回転盤の回転方
向と直交方向に設けられている。支軸１３により回転自
在に支持されている支持杆であって、この支持杆１２の
先端部には、ウェハーチャック駆動モータ１４が取付け
られており、さらにこの駆動モータ１４の駆動軸には、
ウェハーチャック１５が取付けられている。

また前記支持杆１２の支軸１３側端部においては、第４
図に示すように、その支軸１３と偏心位置に、連結杆１
Ｇの一端が連結されでおり、その連結杆１６の他端は、
円板１７の偏心位置に連結されているものである。この
円板１７は、回転盤１１に支持されている不図示のモー
タにより、例えば９（）度又は１８０度の回動が選択的
になされ、これによりウェハーチャック１５の支持面が
水平位置力・ら例えば９０度又は１８０度に傾けられる
ように設けられている。

以上が本実施例の構造であるが、次にその作用について
述べると、先ずウェハー２をチャック１５により真空吸
着させた後、そのウェハー２上に、適量のレノストをノ
ズル３より滴下させ、次いでそのチャ、り１５をモータ
１４の駆動により回転させ、ウェハー２はそのレゾスト
塗布面を上にして回転をさせる。次にそのウェハー２の
平面的回転を維持しながら、駆動軸１０を駆動して、回
転盤１１を回転させる。従ってチャック１５は自転しな
がら、駆動軸１０を軸として公転する。次にこれらの回
転を維持しながら、円板１７を９０度回転させることに
より、チャック１５を支持している支持杆１２を９０度
傾ける（第２図参照）。

その後チャック１５を、前述の９０度傾斜以前の回転速
度よりも速い速度で回転を続けることにより、そのチャ
ック１５にチャッキングされているウェハー２上のレノ
スト４は、ウェハー２の表面（塗布面）より離れる方向
の重カフ、即ち第６図の従来例で示したζｐ布レノスト
の重力Ｗ方向とは逆方向に作用されるために、第５図に
示すようにそのし・シスト４の塗布表面４′がウェハー
の表面形状に影響されず平坦面となる。かくしてレジス
ト４の塗布表面４′が平坦面となったころを見計らって
、チャック１５を元の位置に戻しかつ該チャ。

り１５の回転及び回転盤１１の回転を停止してウェハー
２をチャック１５より取外し、次のウェハー２をセット
して同様のレノスト塗布を繰返し行なうものである。

このように、本実施例においては、レノストを滴下させ
たウェハー２の該し・シスト塗布面が垂直方向又は直下
を向くようにしてそのレゾストに、ウェハー２の塗布面
から離れる方向の重力を作用させながら、レジストを塗
布硬化させることにより、そのウェハー２に塗布される
レノスト塗布表面は、ウェハー表面の凹凸に左右される
ことなく平坦な塗布面とすることができるものである。

。 なお上記実施例では、チャック１５を、元の位置（第１
図に示す状態）から９０度傾けて回転を続けたが、例え
ば第３図に示す如く、チャック１５を、元の位置から１
８０度半転させて回転しても、レノスト４の塗布表面４
′を平坦面とすることができる。

また上記実施例では、レノストを滴下したウェハー２に
、回転盤１１０回転力と、チャック１５の回転力の双方
を作用させているが、これら回転力はそのチャックのみ
の回転力として回転盤１１の回転を停止させるようにし
ても、本発明の目的は達成できる。

また上記実施例において、回転盤１１に支持されるチャ
、り１５は１個を示しているがこのチャックはその複数
個を回転盤１１の周方向等間隔に配置してもよく、また
チャックが１個の場合は、回転盤１１におけるチャック
の対称位置にバランサー等を取付けて、回転盤１１の回
転の円滑性を計ってもよい。

−′″　　　　−１−゛ 〔発明の効果〕 このように本発明よりなる流体物塗布方法によれば、被
塗布基板の傾きと回転力との相乗作用によシ被塗布面上
の流体物が、被塗布面に対してその塗布面方向へ作用さ
れ難くなり、その結果、流体物が被塗布面と逆方向に作
用されやすくなるために、塗布された流体物の表面は、
被塗布面の凹凸に左右されることなく平坦に形成される
効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するに適用できる装置の１例を示
した側面説明図、第２図及び第３図はその動作説明図、
第４図は支持杆の動作機ゼｘを示した説明図、第５図は
本発明により塗布されたレノストの塗布態様を示した説
明図、第６図は従来例の説明図、第７図は従来のレノス
ト塗布態様を示した説明図である。 １０・・・駆動軸　　　　　１１・・・回転盤１２・・
・支持杆　　　　　１３・・・支軸１４・・・駆動モー
タ １５・・・ウエノ・−チャック

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被塗布基板の被塗布面に流体物を塗布する流体物塗布方
   法において、前記被塗布基板を回転させると共に、前記
   被塗布面から該被塗布面上の流体物の方向へ該流体物が
   前記被塗布面から離反する作用力が働く様にして前記流
   体物を塗布することを特徴とする流体物塗布方法。