JPS62115822A - Flow controller - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To vary the flowing velocity or component of gas stream by connecting either one or both of ionizing means and an accelerating electrode with a variable power source. CONSTITUTION:Either one or both of ionizing means 5 and an accelerating electrode 6 in a flow controller for flow passing through an electric field of the electrode is connected with a variable power source 8. A beam injected by a converging and diverging nozzle 1 is ionized by a filament 5, and routed through an electric field of the electrode 6. When the switch 2 of the electrode 8 is switched to either of two DC power sources at this time, the beam is accelerated in response to ion characteristic, decelerated or shut out. When the fine particles have a plurality of types of different ion characteristic, the particles are sorted by switching the switch, and collected to a substrate 7. This operation can be also achieved by providing a grid 13 on the front face of the filament 5 and regulating a voltage applied to the grid 13.

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は、Ｗ＆粒子の移送手段や吹き付は手段等として
利用される微粒子流の流、れ制御装置に関するもので、
例えば、微粒子による、成膜加工、複合素材の形成、ド
ープ加重、または微粒子の新たな形成場等への応用が期
待されるものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field 1] The present invention relates to a flow control device for a particulate flow, which is used as a means for transporting W&particles, a means for spraying, etc.
For example, the present invention is expected to be applied to film formation processing, composite material formation, dope loading, or new formation sites for fine particles using fine particles.

木すｊ細古において、微粒子とは、原子、分子１、ｌｆ
ｌ微粒子及び一般微粒子をいう。ここで超微粒ｔとは、
例えば、気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ
蒸発法、気相化学反応法、更には液相反応を利用した、
コロイド学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得
られる、超微細な（一般には０．５　ｇｒｓ以ド）粒子
をいう。一般微粒子とは、機械的粉砕や析出沈殿処理等
の一般的手法によって得られる微細粒子をいう、また、
ビームとは、流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のこと
をいい、その断面形状は問わないものである。In Kisujhoko, fine particles are atoms, molecules 1, lf
l Refers to fine particles and general fine particles. Here, what is ultrafine t?
For example, in-gas evaporation method, plasma evaporation method, gas phase chemical reaction method, which utilizes gas phase reaction, and even liquid phase reaction,
Refers to ultrafine particles (generally 0.5 grs or less) obtained by colloidal precipitation methods, solution spray pyrolysis methods, etc. General fine particles refer to fine particles obtained by general methods such as mechanical crushing and precipitation treatment, and
A beam is a jet whose cross-sectional area is approximately constant in the flow direction, and its cross-sectional shape is not limited.

［従来の技術］ 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。そして、移
送された微粒子は５受体で受けられて、例えば成膜状態
で受体上に捕集される。[Prior Art] Generally, fine particles are dispersed and suspended in a carrier gas and transported by the flow of the carrier gas. Then, the transferred fine particles are received by the five receptors and collected on the receptors, for example, in a film-formed state.

従来より、この微粒子流をフィラメント等によりイオン
化させたのち、加速電極の電界領域内を通過させ、高速
で受体へ衝突させて、微粒子を捕集させる流れ制御装置
が工夫されている。例えば第５図に示されるようなりラ
スタ・イオン・ビーム蒸着装置においても、るつぼのノ
ズル１から噴出される高温クラスタ・ビーム２がＬ流室
３から下流室４へ移行する途中で、フィラメント５によ
ってイオン化を促進したのち加速電極６の電界領域内を
通過させることにより高速に付勢し、これをサブストラ
クト用の基板７に衝突させて蒸着する一Ｌ夫がなされて
いる。Conventionally, a flow control device has been devised in which the particle flow is ionized by a filament or the like, then passed through an electric field region of an accelerating electrode, and collided with a receiver at high speed to collect the particles. For example, in a raster ion beam evaporation apparatus as shown in FIG. After promoting ionization, the ionized material is passed through the electric field region of the accelerating electrode 6 to be energized at high speed, and then the ionized material collides with the substrate 7 for deposition to deposit the material.

［発明が解決しようとする問題点］ しかし、従来における上記の如き流れ制御装置では、加
速電極６により形成される電界が常に同一なため、基板
７に形成される例えば成膜も常に同様なものとなり、意
図的に不均質なｒ＆膜を形成したり、例えば所望のイオ
ン分子のみを捕集したりすることは不可能であった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional flow control device as described above, since the electric field formed by the accelerating electrode 6 is always the same, the film formed on the substrate 7, for example, is always the same. Therefore, it has been impossible to intentionally form a non-uniform r& film or, for example, to collect only desired ion molecules.

本発明は、上記に鑑みて、ガス流の流速やその成分を変
動させることのできる流れ制御装置を提供することを目
的とする。In view of the above, an object of the present invention is to provide a flow control device that can vary the flow rate and components of a gas flow.

［問題点を解決するための手段］ 本発明において、上記の問題点を解決するために講じら
れた手段は、微粒子流をイオン化させたのち、加速電極
の電界領域内を通過させる流れ制御装置であって、イオ
ン化手段又は加速電極のいずれか・方もしくは双方の変
動電源に接続されることを特徴とする流れ制御装置とす
るものである。[Means for Solving the Problems] In the present invention, the means taken to solve the above problems is to use a flow control device that ionizes the particle flow and then passes it through the electric field region of the accelerating electrode. The flow control device is characterized in that it is connected to a variable power supply of either or both of the ionization means and the acceleration electrode.

上記の変動電源としては、スイッチにより電源を断続さ
せるものでもよく、直流電源のプラス側とマイナス側を
スイッチにより切替えるものでもよく、交流電源そのも
のでもよく、また、上記の各手段を重設し、スイッチで
切替えるものでもよい。The above-mentioned variable power supply may be one that cuts the power supply on and off using a switch, one that switches between the positive and negative sides of a DC power supply, or an AC power supply itself. It may be changed by a switch.

［作　用］ 本発明の変動電源により、イオン化手段と加速電極は次
のように作用する。[Function] The ionization means and accelerating electrode function as follows using the variable power source of the present invention.

イオン化手段の電源が断続されると、ビームはイオン化
されたり、されなかったりする、一方、加速電極がオン
−オフされると、イオン化されたビームはプラス又はマ
イナスである状態に対応して加速されたり、遮断された
りする。イオン化されていないビームは影響を受けない
、加速電極の位相が反転すると、イオン化されたビーム
はプラスとマイナスの影響が逆になる。また、その影響
は、パルス電圧の場合はデジタルで、一般交流の場合は
アナログである。装置全体としては、これらを総合した
選択機能を備えることになる。When the ionization means is powered on and off, the beam is ionized or not, while when the accelerating electrode is switched on and off, the ionized beam is accelerated correspondingly to the positive or negative state. or be blocked. The non-ionized beam is unaffected; when the phase of the accelerating electrodes is reversed, the ionized beam has opposite positive and negative influences. Moreover, the effect is digital in the case of pulsed voltage, and analog in the case of general alternating current. The device as a whole has a selection function that integrates these functions.

［実施例］ 以丁１本発明を、実施例とその図面に基づいて詳細に説
明する。[Examples] The present invention will be described in detail based on examples and drawings thereof.

第１図は、本発明を実施した流れ制御装置の一例を示す
構成図である。第１図において、流れ制御装置は、上流
室３と下流室４との間に縮小拡大ノズルｌを備え、縮小
ズルｌの下流側にフィラメント又は電子銃等のイオン化
手段５と、筒状の加速電極６と、微粒子を付着させる基
体７とで概略構成され、加速電極６は変動電源８に接続
されている。変動電源８は、プラス／マイナス端子を逆
向きに配置された２つの直流電源と、１つの交流電源を
三方スイッチで切替えられるように構成されている。FIG. 1 is a block diagram showing an example of a flow control device embodying the present invention. In FIG. 1, the flow control device includes a contraction/expansion nozzle l between an upstream chamber 3 and a downstream chamber 4, and downstream of the contraction nozzle l, an ionization means 5 such as a filament or an electron gun, and a cylindrical acceleration It is roughly composed of an electrode 6 and a base 7 to which fine particles are attached, and the accelerating electrode 6 is connected to a variable power source 8. The variable power supply 8 is configured to be able to switch between two DC power supplies with positive/negative terminals arranged in opposite directions and one AC power supply using a three-way switch.

上流室３内には、気相励起装置９が配設されていて、原
料ガスｌＯをプラズマにより活性化すると共に、例えば
水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガス１１
とこの超微粒子を縮小拡大ノズル１へ送出する。尚、キ
ャリアガス１１は、その自身では成膜能を生じないガス
のことをいう。また、この気相励起装置９は、本発明に
おいて、必ずしも配設されなくてもよく、他の装置（図
示せず）で既に生成された微粒子を原料ガスｌＯとして
ｈＦｉｌ、室３へ送り込んでもよく、また流れ制御装置
自体はガス流のみに対しても適用できるものであるが、
−・応その一例を次に説明する。A gas phase excitation device 9 is disposed in the upstream chamber 3, which activates the raw material gas lO with plasma and also activates a carrier gas 11 such as hydrogen, helium, argon, nitrogen, etc.
The ultrafine particles are sent to the contraction/expansion nozzle 1. Note that the carrier gas 11 refers to a gas that does not produce a film forming ability by itself. Further, in the present invention, this gas phase excitation device 9 does not necessarily have to be provided, and fine particles already generated by another device (not shown) may be sent to the hFil chamber 3 as the raw material gas IO. , and the flow control device itself can be applied only to gas flow.
- An example of this will be explained next.

第３図（ａ）〜（Ｃ）は、気相励起装置の一例を示す斜
視図である。FIGS. 3(a) to 3(C) are perspective views showing an example of a gas phase excitation device.

気相励起装置９は、第３図（ａ）に示されるように、棒
状の第一電極９ａを管状の第二電極９ｂ内に設け、第二
電極９ａ内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極９ａ、　９ｂ間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置９は、第３図（ｂ）に示されるように、
第二電極９ｂ内に設けられている第一電極９ａを多孔管
として、第一電極Ｓａ内を介して両電極９ａ、　９ｂ間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
（Ｃ）に示されるように。As shown in FIG. 3(a), the gas phase excitation device 9 includes a rod-shaped first electrode 9a disposed within a tubular second electrode 9b, and a carrier gas and a raw material gas supplied into the second electrode 9a. Thus, a discharge is caused between both electrodes 9a and 9b. Further, the gas phase excitation device 9, as shown in FIG. 3(b),
The first electrode 9a provided in the second electrode 9b is made into a porous tube, and the carrier gas and source gas are supplied between the two electrodes 9a and 9b through the inside of the first electrode Sa. As shown in.

半割管状の両電極９ａ、　９ｂを絶縁材９Ｃを介して管
状に接合し、両電極９ａ、　９ｂで形成された管内にキ
ャリアガスと原料ガスを供給するものとすることもでき
る。It is also possible to connect the half-tubular electrodes 9a and 9b into a tube via an insulating material 9C, and supply the carrier gas and source gas into the tube formed by the electrodes 9a and 9b.

いずれにせよ、励起された超微粒子流は、縮小拡大ノズ
ルｌへ送り込まれることになる。In any case, the excited ultrafine particle flow will be sent to the contraction/expansion nozzle l.

第４図（ａ）〜（Ｃ）は、縮小拡大ノズルの一例を説明
するための断面図及び斜視図である。FIGS. 4(a) to 4(C) are a cross-sectional view and a perspective view for explaining an example of a contraction/expansion nozzle.

縮小拡大ノズルｌとしては、前述のように、流入口１ａ
から徐々に開口面積が絞られてのど部１ｃとなり、再び
徐々に開口面積が拡大して流出口１ｂとなっているもの
であればよいが、第４図（ａ）に拡大して示しであるよ
うに、流出口１ｂ位置で内周面が中心軸に対してほぼ上
行になっていることが好ましい。これは、噴出されるキ
ャリアガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口
１ｂ内周面の方向によって影響を受けるので、できるだ
け平行流にさせやすくするためである。しかし、第４図
（ｂ）に示されるように、のど部ＩＣから流出口１ｂへ
至る内周面の中心軸に対する角度αを、７°以下好まし
くは５°以下とすれば、剥離現象を生じにくく、噴出す
る午ヤリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一に維持さ
れるので、この場合はことさら上記のように乎行にしな
くともよい、上行部の形成を省略することにより、縮小
拡大ノズル１の作製が容易となる。また、縮小拡大ノズ
ル１を第４図（Ｃ）に示されるような矩形のものとすれ
ば、スリット状にキャリアガス及び超微粒子を噴出させ
ることができる。As mentioned above, the contraction/expansion nozzle l is the inlet 1a.
It is sufficient if the opening area is gradually narrowed down to form the throat portion 1c, and then the opening area is gradually expanded again to form the outlet 1b, which is shown enlarged in FIG. As such, it is preferable that the inner circumferential surface at the position of the outlet 1b is substantially upward with respect to the central axis. This is because the flow direction of the jetted carrier gas and ultrafine particles is influenced to some extent by the direction of the inner circumferential surface of the outlet 1b, so that it is possible to make the flow parallel to each other as easily as possible. However, as shown in FIG. 4(b), if the angle α of the inner peripheral surface from the throat IC to the outlet 1b with respect to the central axis is set to 7° or less, preferably 5° or less, a peeling phenomenon occurs. Since the flow of the ejected air gas and ultrafine particles is maintained almost uniformly, in this case there is no need to do this as described above. By omitting the formation of the ascending part, Fabrication becomes easy. Further, if the contraction/expansion nozzle 1 is made rectangular as shown in FIG. 4(C), the carrier gas and ultrafine particles can be ejected in a slit shape.

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズルｌの内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズル１の内面と流過
流体間の境界層が大きくなって、流れが不均一・になる
現象をいい、噴出流が高速になるほど生じやすい、前述
の角度αは、この剥離現象防止のために、縮小拡大ノズ
ルｌの内面仕上げ精度が劣るものほど小さくすることが
好ましい、縮小拡大ノズルｌの内面は、　ＪＩＳ　８０
８０１に定められる、表面仕上げ精度を表わす逆三角形
マークで三つ以上、最適には四つ以上が好ましい。特に
、縮小拡大ノズルｌの拡大部における剥離現象が、その
後のキャリアガス及び超微粒子の流れに大きく影器する
ので、−上記仕上げ精度を、この拡大部を重点にして定
めることによって、縮小拡大ノズルｌの作製を容易にで
きる。また、やはり剥離現象の発生防止のため、のど部
ＩＣは滑らかな湾曲面とし、断面積変化率における微係
数が（１）とならないようにする必要がある。Here, the above-mentioned separation phenomenon is when there is a protrusion etc. on the inner surface of the reduction/expansion nozzle 1, the boundary layer between the inner surface of the reduction/expansion nozzle 1 and the flowing fluid becomes large, and the flow becomes non-uniform. The above-mentioned angle α, which is more likely to occur as the jet flow becomes faster, is preferably made smaller as the inner surface finishing accuracy of the contraction-expansion nozzle l becomes lower, in order to prevent this peeling phenomenon. The inside is JIS 80
801, three or more inverted triangular marks representing surface finish accuracy are preferred, and optimally four or more. In particular, since the peeling phenomenon at the enlarged part of the contraction/expansion nozzle l greatly affects the subsequent flow of carrier gas and ultrafine particles, - by determining the above-mentioned finishing accuracy with emphasis on this enlarged part, it is possible to 1 can be easily produced. Furthermore, in order to prevent the occurrence of a peeling phenomenon, it is necessary that the throat IC has a smooth curved surface so that the differential coefficient in the rate of change in cross-sectional area does not become (1).

縮小拡大ノズル１の材質としては、例えば鉄、ステンレ
ススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス等、広く
用いることができる。この材質の選択は、生成される超
微粒子との非反応性、加重性、真空系内におけるガス放
出性等を考慮して行えばよい。また、縮小拡大ノズル１
の内面に、ａ微粒子の付着・反応を生じにくい材料をメ
ッキ又はコートすることもできる。具体例としては、ポ
リフッ化エチレンのコート等を挙げることができる。As the material for the contraction/expansion nozzle 1, a wide range of materials can be used, such as iron, stainless steel, and other metals, as well as synthetic resins such as acrylic resin, polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, and polypropylene, ceramic materials, quartz, and glass. . This material may be selected in consideration of non-reactivity with the generated ultrafine particles, loadability, gas release property in a vacuum system, etc. Also, the reduction/expansion nozzle 1
The inner surface of the substrate may be plated or coated with a material that is less likely to cause adhesion and reaction of a fine particles. Specific examples include polyfluoroethylene coating.

縮小拡大ノズル１の長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズルｌ
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態に
よって積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微粒
子を形成させることも可能である。これによる超微粒子
の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が得
やすい。また、この場合、十分な凝縮を行うために、縮
小拡大ノズル１は長い方が好ましい、一方、上記のよう
な凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加し
て速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維持
を図るＬでは、縮小拡大ノズル１は短い方が好ましい。The length of the contraction/expansion nozzle 1 can be arbitrarily determined depending on the size of the device and the like. By the way, the contraction/expansion nozzle l
When flowing through the carrier gas and ultrafine particles, the thermal energy they possess is converted into kinetic energy. Particularly when ejected at supersonic speed, the thermal energy becomes significantly small, resulting in a supercooled state. Therefore, if the carrier gas contains condensed components, it is also possible to actively condense them by the supercooled state, thereby forming ultrafine particles. Since the formation of ultrafine particles by this is homogeneous nucleation, it is easy to obtain homogeneous ultrafine particles. Further, in this case, in order to perform sufficient condensation, it is preferable that the contraction/expansion nozzle 1 is long. On the other hand, when the above-mentioned condensation occurs, thermal energy increases and velocity energy decreases. Therefore, it is preferable that the contraction/expansion nozzle 1 is short for L, which aims to maintain high-speed jetting.

また、縮小拡大ノズル１紮複数個直列位置に配し、各々
上流側とＴ流側の圧力比を調整して、ビーム速度の維持
を図ったり、各室を球形化して、デッドスペースの発生
を極力防止することもできる。縮小拡大ノズル１は、上
下左右への傾動や−・定間隔でのスキャン可能とするこ
ともでき、広い範囲に亘って成膜を行えるようにするこ
ともできる。特にこの傾動やカギャンは、第４図（Ｃ）
の矩形ノズルと組合わせると有利である。In addition, multiple condensing/expanding nozzles are arranged in series to adjust the pressure ratio between the upstream side and the T flow side to maintain the beam speed, and each chamber is made spherical to prevent the generation of dead space. It can also be prevented as much as possible. The contraction/expansion nozzle 1 can be tilted vertically and horizontally, and can be scanned at regular intervals, so that film formation can be performed over a wide range. In particular, this tilting and kagyan are as shown in Figure 4 (C).
It is advantageous to combine it with a rectangular nozzle.

さて、このような縮小拡大ノズルｌにより適正膨張流と
して噴出されたビームをフィラメント５でイオン化し、
加速電極６の電界領域内を通過させるが、このとき、変
動電源８のスイッチを２つの直流ｆｆｉ源のいずれかに
切替えると、ビームはイオン特性に対応して加速される
か、減速もしくはシャットアウトされる。また、微粒子
が異なるイオン特性を有する複数種類のものであれば、
スイッチを切替えることにより選別されて基体７に捕集
されることになる。このような動作は、フィラメント５
の前面にグリッド１３を設け、グリッド１３に印加する
電圧を調整することによっても行える。更に、該スイッ
チを交流電源に切替えると。Now, the beam ejected as a proper expansion flow by such a contraction/expansion nozzle l is ionized by the filament 5,
The beam is passed through the electric field region of the accelerating electrode 6. At this time, when the variable power supply 8 is switched to one of the two DC ffi sources, the beam is accelerated, decelerated, or shut out depending on the ion characteristics. be done. In addition, if the fine particles are of multiple types with different ionic properties,
By switching the switch, the particles are sorted and collected on the substrate 7. This kind of operation is caused by filament 5
This can also be done by providing a grid 13 in front of the grid and adjusting the voltage applied to the grid 13. Furthermore, when the switch is switched to AC power.

と記の各動作が周期的かつ連続的に変動するようになる
。尚、微粒子を基体７で捕集された後のキャリアガスは
排気口１２から排出される。Each of the operations described below begins to fluctuate periodically and continuously. Note that the carrier gas after the fine particles have been collected by the base body 7 is discharged from the exhaust port 12.

第２図は、本発明を実施した流れ制御装置の別な一例を
示す構成図で、第１図の装置と異なるのは、加速電極６
が基体７の背面に配設されていることである。加速電極
６の電界領域は基体７のに流側まで包含しているので、
フィラメント６でイオン化されたビームはその領域内へ
突入し、影響を受けることになる。電界による加速効果
の効率は若Ｆ低下するが、加速電極６の存在がビームに
１１える撹乱効果はなくなる。変動電源８による選択機
能は、第１図の装置と同じである。FIG. 2 is a block diagram showing another example of a flow control device embodying the present invention. What differs from the device in FIG.
is arranged on the back surface of the base body 7. Since the electric field area of the accelerating electrode 6 includes the flow side of the base 7,
The beam ionized by the filament 6 will penetrate into that region and be affected. Although the efficiency of the accelerating effect due to the electric field decreases by F, the disturbing effect that the presence of the accelerating electrode 6 has on the beam disappears. The selection function by the variable power supply 8 is the same as in the device of FIG.

［発明の効果］ 以り、説明したとおり、本発明によれば、イオンビーム
の運動エネルギーを変動電源によって制御し、選択的に
微粒子を成膜基板等へ流通させる流れ制御装置を提供す
ることができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a flow control device that controls the kinetic energy of an ion beam using a variable power source and selectively distributes fine particles to a film-forming substrate or the like. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明の一実施例の構成図、第２図は本発明の
別な実施例の構成図、第３図（ａ）〜（ｃ）は気相励起
装置の斜視図、第４図（ａ）〜（Ｃ）は縮小拡大ノズル
の説明図、第５図は従来例の構成図である。 １：縮小拡大ノズル５１ｄ：流入口、 １ｂ二流出口、１ｃ：のど部、２：微粒子流、３：」二
流室、４ニド流室、５：イオン化手段、６：加速電極、
７：基板、８：変動電源、９：気相励起装置。FIG. 1 is a block diagram of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of another embodiment of the present invention, FIGS. 3(a) to (c) are perspective views of a gas phase excitation device, and FIG. Figures (a) to (C) are explanatory diagrams of a reduction/enlargement nozzle, and Fig. 5 is a configuration diagram of a conventional example. 1: Reduction/expansion nozzle 51d: Inlet, 1b 2nd outlet, 1c: Throat, 2: Particulate flow, 3: 2nd flow chamber, 4nid flow chamber, 5: Ionization means, 6: Accelerating electrode,
7: Substrate, 8: Variable power supply, 9: Gas phase excitation device.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] １）微粒子流をイオン化させたのち、加速電極の電界領
域内を通過させる流れ制御装置であって、イオン化手段
又は加速電極のいずれか一方もしくは双方が変動電源に
接続されることを特徴とする流れ制御装置。1) A flow control device that ionizes a particle flow and then passes it through an electric field region of an accelerating electrode, characterized in that either the ionization means or the accelerating electrode, or both, are connected to a variable power source. Control device.