JPS62104586A - 酵素反応方法 - Google Patents

酵素反応方法

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JPS62104586A
JPS62104586A JP24497085A JP24497085A JPS62104586A JP S62104586 A JPS62104586 A JP S62104586A JP 24497085 A JP24497085 A JP 24497085A JP 24497085 A JP24497085 A JP 24497085A JP S62104586 A JPS62104586 A JP S62104586A
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史郎 永井
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尚道 西尾
Mitsunori Hayashi
光則 林
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キツトプリチヤワニツ ビチエン
Kenichi Ikeda
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は補酵素と酸化還元酵素とを含む酵素反応方法に
関し、詳しくは、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在
下に、補酵素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させ
て行なわせ、生成した反応混合物における反応生成物と
補酵素とを分離する酵素反応方法に関する。
(従来の技術) 例えば、グルコースイソメラーゼを用いる異性化糖の製
造のように、補酵素を用いない酵素反応は、既に幾つか
が実用化されているが、補酵素を必要とする酵素反応は
、補酵素が反応目的物に比較して著しく高価であるうえ
に、反応系からのその実用的な分離方法が確立されてい
ないこともあって、未だ実用化されていない。
従来、補酵素を用いる酵素反応系からの補酵素の分離に
ついては、例えば、福井三部編著「生体触媒としての微
生物」第157〜161頁(昭和54年共立出版−発行
)に記載されているように、幾つかの方法が提案されて
いる。例えば、NADPの分離に関しては、低分子量化
合物を除去し得る分離膜を使用することも可能である。
しかし、この方法によれば、補酵素のみならず、基質や
反応生成物も同時に除去される。水不溶性の担体に補酵
素を固定化してなる固定化補酵素を用いれば、この固定
化補酵素を水溶性の反応生成物から分離することは容易
であるが、固定化補酵素の製造が必ずしも容易でないう
えに、一般に、固定化補酵素は遊離の補酵素に比べて反
応活性が低い。また、低濃度の補酵素を反応系に供給し
つつ、補酵素を酵素と結合させ、高分子量体として、こ
れを限外濾過膜にて分離する方法も知られているが、こ
の方法によるときは、反応系に高濃度の酵素を供給する
ことを必要とし、工業的な酵素反応方法としては不適当
である。
更に、補酵素が一般に負電荷を有する低分子量有機化合
物であることを利用して、負荷電を有する分離膜内に補
酵素を保持しつつ、所要の酵素反応を行なうことも提案
されている。しかし、従来、この方法においては、反応
媒体である緩衝液として、トリス塩酸緩衝液やリン酸カ
ルシウム緩衝液が用いられており、その理由は必ずしも
明らかではないが、反応媒体として純水を用いる場合に
比較して、分離膜による補酵素の保持率が著しく低い。
尚、以下、本明細書においては、分離膜内に補酵素を保
持するとは、補酵素を含む反応混合物を分離膜にて処理
したとき、補酵素を透過させないことをいい、補酵素の
保持率とは、膜技術の分野においてよく知られているよ
うに、補酵素を含む反応混合物を膜処理したときの補酵
素の除去率をいうものとする。その他の溶質についても
同じである。
(発明の目的) 本発明者らは、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在下
に、補酵素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させて
行なわせ、生成した反応混合物における反応生成物と補
酵素とを分離する酵素反応方法における上記した問題を
解決するために鋭意研究した結果、予期しないことに、
上記反応混合物に両性イオン緩衝液を存在させ、これを
負荷電を有する逆浸透膜又は超濾過膜にて処理すること
によって、補酵素の保持率を著しく高め得る。ことを見
い出し、更に、負荷電を有する上記膜が所定の塩除去率
を有するとき、特に、補酵素の保持率が高まることを見
い出して、本発明に至ったものである。
従って、本発明は、酸化還元酵素と補酵素とこれらによ
る反応生成物をを含む酵素反応の反応生成物から補酵素
と反応生成物とを高い分離率にて分離して、酵素反応を
行なう方法を提供することを目的とする。
(発明の構成) 本発明は、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在下に、
補酵素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させて行な
わせ、生成した反応混合物における補酵素と反応生成物
とを分離する酵素反応方法であって、上記反応混合物を
両性イオン緩衝液の存在下に負荷電を有する逆浸透膜又
は超濾過膜にて処理して、上記酵素及び補酵素を膜内に
保持し、酵素反応生成物を膜透過させることを特徴とす
る。
本発明において、補酵素の再生系は特に制限されず、単
一の酵素反応のみを利用してもよいが、2種類以上の酵
素反応を利用してもよい。通常は、反応系の複雑化を避
けるために、3種類以下の酵素反応を利用するのが実用
的である。また、本発明において用いる酵素は、酸化還
元酵素であれば特に限定されず、目的とする反応に応じ
て適宜に選択される。この酵素は、′tI離の状態にて
用いてもよく、また、固定化酵素として用いてもよい。
更に、補酵素及び酵素は、必ずしも精製されている必要
はなく、細菌や酵母無細胞抽出液でもよい。
本発明において用いる負電荷を有する分離膜は逆浸透膜
又は超濾過膜であって、酵素反応による反応生成物を透
過する分画性を有すればよいが、特に、温度25℃、圧
力10kg/c+Jにて濃度0.5%の塩化ナトリウム
水溶液を処理したとき、塩化ナトリウム除去率が少なく
とも3%であり、更に、温度25°C1圧力5klr/
cflIにて処理したとき、グルコースの除去率が30
%以下、NADPの除去率が50%以上である分画性を
有することが好ましい。特に、グルコースの除去率が1
0%以下、NADPの除去率が80%以上である分画性
を有することが好ましい。限外濾過膜は孔径が大きいた
めに、分離性能が悪い。
非荷電膜を用いるときは、一般に、補酵素が低分子量体
であるために、基質及び反応生成物が同じく低分子量体
である場合は、基質及び反応生成物、特に反応生成物を
選択的に透過させ、一方、補酵素を分離膜内に保持する
ことは困難であるが、本発明によれば、分離膜として、
前記した特性を有すると共に、負荷電を有する膜を用い
るとき、所謂分離膜の有する篩効果のみならず、分離膜
の有する負電荷と補酵素の負電荷との静電気な反発効果
によっても、補酵素の選択保持性が発揮され、その結果
、本発明によれば、補酵素を高い除去率にて膜内に保持
することができるのである。尚、酵素は、一般に、高分
子■体であるために、実質的に膜を透過し得す、膜内に
保持される。
本発明の方法によれば、例えば、基質、酸化還元酵素及
び補酵素を予め反応容器内に導き、ここで反応媒体とし
ての両性イオン緩衝液の存在下に補酵素の再生反応と共
役する所定の酵素反応を行なわせた後、生成した反応混
合物を前述した負荷電を存する逆浸透膜又は超濾過膜で
処理して、酵素反応生成物を選択的に透過させ、一方、
上記酵素及び補酵素を膜内に保持し、このようにして、
補酵素と反応生成物とを分離することができる。
また、別の方法として、負荷電を有する上記分離膜にて
構成する空間を反応系とし、ここに基質、酸化還元酵素
及び補酵素を導き、反応媒体としての両性イオン緩衝液
の存在下に補酵素の再生反応と所定の酵素反応を共役し
て行なわせつつ、又は行なわせた後、上記酵素及び補酵
素を膜内に保持させ、酵素反応生成物を膜透過させて、
これを分離してもよい。反応後に、反応混合物を膜処理
する段階でこれに両性イオン緩衝液を加えてもよい。
本発明において、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在
下に、補酵素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させ
て行なわせる方法は、通常の酵素反応の条件に従えばよ
い。従って、反応系における基質の濃度は、基質の溶解
性によっても異なるが、通常、10M以下が適当である
が、特に、1〜5Mの範囲が好ましい。また、酵素及び
補酵素の濃度は、通常、0.01mM〜IMの範囲であ
り、特に好ましくはO91〜0.5Mの範囲である。し
かし、これらに限定されるものではない。
本発明の方法において、分離膜の形態は何ら限定されず
、例えば、平膜、チューブラ−膜、キャピラリー膜、中
空糸状膜等として用いられる。また、これら分離膜を備
えた膜モジュールの形態も、反応に応じて適宜に選択さ
れるものであって、何ら限定されない。
本発明の方法において用いる分離膜は、酸性基としてス
ルホン酸基を有する分離膜が好適である。
かかる分離膜として、例えば、スルホン化ポリスルホン
、スルホン化ポリエーテルケトン、スルホン化ポリスチ
レン、スルホン化ポリキナゾロン、スルホン化ポリアミ
ド、スルホン化ポリイミド、スルホン化ポリアミドイミ
ド、スルホン酸基をグラフト化したポリオレフィン、ス
ルホン酸基を有するフッ素系樹脂等からなる超濾過膜 (hyperfiltration membrane
)や逆浸透膜を挙げることができる。尚、超濾過膜とは
所謂ルーズな逆浸透膜を意味する。
特に、本発明においては、スルホン酸基が全酸性基の大
部分、好ましくは70%以上、特に好ましくは90%以
上である重合体からなる分離膜が好ましい。しかし、ス
ルホン酸基が全酸性基のうち上記範囲にある限りは、残
余の酸性基はスルホン酸基以外の酸性基、例えば、カル
ボン酸基であってもよい。
本発明において、特に好適に用いることができるスルホ
ン酸基を有する分離膜として、繰返し単よりなるポリア
リールエーテルをスルホン化してなるスルホン化ポリア
リールエーテル、又は上記繰返し単位Aと繰返し単位B (但し、Rは−C〇−又は−3OZ−を示し、R”は炭
素−炭素結合、又は−CO−若しくは−SO□−を含む
2価基を示す。) よりなる線状ボリアリールエーテル共重合体をスルホン
化してなるスルホン化ポリアリールエーテルからなるス
キン層が支持膜としての限外濾過膜上に一体に積層され
てなる複合分離膜を挙げることができる。
このような複合分離膜は、好ましくは、上記繰返し単位
Aよりなるボリアリールエーテル、又は上記繰返し単位
A及び繰返し単位Bよりなる線状ボリアリールエーテル
共重合体をそれぞれスルホン化して、スルホン化ボリア
リールエーテルを調製し、これを少量の非プロトン性極
性有機溶剤、例えば、ジメチルスルホキシド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルホルムアミド、
N、 N−ジメチルアセトアミド等を含んでいてもよい
エチレングリコールモノメチルエーテルのようなアルキ
レングリコールアルキルエーテルと、必要に応じて、添
加剤としての水溶性で且つ低揮発性の有機化合物又は無
機塩とを添加剤として含有する製膜溶液を乾燥した支持
膜上に塗布し、次いで、この製膜溶液から有機溶剤を蒸
発させることによって得ることができる。
製膜溶液における前記スルホン化ボリアリールエーテル
の濃度は、得られる複合分離膜におけるこれら重合体に
よる分離膜の膜厚にも関係するが、通常、0.05〜1
0g量%の範囲が好ましく、特に、0.1〜5重景%の
範囲が好ましい。
(発明の効果) 本発明によれば、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在
下に、補酵素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させ
て行なわせ、生成した反応混合物における反応生成物と
補酵素とを分離する酵素反応方法において、生成した反
応混合物を両性イオン緩衝液の存在下に負荷電を有する
膜にて処理することによって、補酵素と反応生成物とを
高い分離率にて分離することができる。特に、所定の塩
除去率を有する負荷電を有する膜を用いるとき、補酵素
の分離率を更に高めることができる。
(実施例) 以下に実施例及び参考例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。尚、実施例において、溶質除去率は次式により求め
た。
参考例1 (1)  ポリスルホン共重合体の製造特公昭46−2
1458号に記載されている方法に従って、式Δ1 の繰返し単位57モル%と、弐B。
の繰返し単位43モル%とからなる線状ポリスルホン共
重合体を製造した。
このようにして得られたポリスルホン共重合体(収率1
00%)は、淡黄色粒状物であって、この共重合体の対
数粘度は0.84clIl/gであった。
(2)  スルホン化ポリスルホン共重合体の製造上記
のようにして得たポリスルホン共重合体10gを97%
濃硫酸80m1に加えて溶解させ、常温にて4時間攪拌
反応させて、黒褐色の粘稠な反応液を得た。これを水浴
中に投入して、スルホン化ポリスルホン共重合体を凝固
させた。水にて洗浄後、0.5N水酸化ナトリウム水溶
液800m1中に一晩放置した。次いで、洗浄液が中性
になるまでこの重合体を洗浄した後、60℃で5時間真
空乾燥した。
このようにして得られたスルホン化ポリスルホン共重合
体は、対数粘度が0.84、スルホン酸基量は1.2ミ
リ当N/gであった。
(3)複合半透膜の製造 濃度0.5%のポリエチレングリコール(平均分子量2
0000 )水溶液を温度25℃、圧力3.5kg/c
nlにて処理したときの除去率が10%である次式〇の
繰返し単位 を有するポリスルホン限外濾過膜(分画分子量1000
00)を80℃の温度の熱水中に1時間浸漬して熱処理
した後、25℃の温度で10%1.4−ブタンジオール
水溶液に1時間浸漬し、次いで、約60℃の乾燥器中に
5分間放置して、乾燥半透膜を得た。
前記スルホン化ポリスルホン共重合体をエチレングリコ
ールモノメチルエーテルに溶解して、1゜0重量%の重
合体溶液を調製し、これを上記乾燥限外濾過膜上に塗布
し、室温にて放置して、殆どすべての溶剤を蒸発させて
除去した後、60℃の温度で5分間加熱して、複合分離
膜を得た。
この複合分離膜の性能は、0.5%塩化ナトリウム水溶
液を25℃、10kg/C!llの条件にて処理したと
き、除去率15%であった。
参考例2 前記の式Cの繰返し単位を有するポリスルホン(UCC
社製P−1700)をNo5hayらの方法(J、 A
pplied Polymer Sci、、 20.1
887 (1976))に従ってスルホン化して、スル
ホン酸基量0.8ミリ当量/gの、スルホン化ポリスル
ホンを得た。
このスルホン化ポリスルホン15gをN−メチルピロリ
ドン82gに溶解し、更に、これに硝酸リチウム3gを
加え、均一な溶液とした後、10μmの濾紙にて濾過し
て、製膜溶液とした。
この製膜溶液をガラス板上に厚み285μmに塗布し、
130℃で1分間乾燥し、溶剤を蒸発させた後、5°C
の水中に浸漬して、負負荷電を有する分離膜を得た。
この分離膜の性能は、0.5%塩化ナトリウム水溶液を
25℃、10kg/cJの条件にて処理したとき、除去
率3%であった。
実施例1 攪拌器及び温度調整器を備えたバッチ式膜透過試験機に
上記参考例1又は2で得た分離膜を取付け、純水又はグ
リシルグリシン緩衝液(100mM、pt17.5)に
溶解させた補酵素の水溶液を温度25℃、圧力5 kg
/ c++Iの条件下に膜処理した。補酵素の保持率を
第1表に示す。実施例は参考例1の膜を、また、比較例
は参考例2の膜を用いた結果であり、本発明に従って、
所定の塩保持率を有する分離膜を用いるとき、補酵素の
保持率が高いことが理解される。
第  1  表 実施例2 攪拌器及び温度調整器を備えたバッチ式膜透過試験機に
上記参考例1で得た分離膜を取付け、種々の緩衝液の存
在下に補酵素の保持率を温度25°C1圧力5 kg 
/ cotの条件下に測定した。結果を第2表に示すよ
うに緩衝液が両性イオン緩衝液であるとき、補酵素の保
持率が高いことが理解される。
実施例3 参考例1において得られた分離膜を攪拌器及び温度調整
器を備えたバッチ式膜透過試験機に取付け、下に示す組
成の酵素反応液(全ftt8ml)ヒドロゲナーゼ  
        1.4単位(Pseudomonas
 ruhlandii由来)乳酸脱水素酵素     
    90.0単位(牛心臓由来) ピルビン酸            30.0mMNA
D”″              3. Om Mグ
リシルグリシン(pH7,5)    100.0mM
を入れ、圧力2 kg / ctのガス状水素を還元剤
として、35℃で12時間反応させて、ピルビン酸から
乳酸を生産した。この後、反応液に圧力3kg/−の窒
素ガスによる加圧下にに反応液を透過させ、乳酸を分取
した。
ピルビン酸の転化率は100%、NAD”の保持率は9
6%であった。
実施例4 実施例3において、乳酸脱水素酵素の代わりにアルコー
ル脱水素酵素(パン酵母由来)を用い、基質としてアセ
トアルデヒドを用いた以外は、実施例2と同様にして、
エタノールを生産した。
アセトアルデヒドのエタノールへの転化率は100%、
NAD’の保持率は95%であった。
比較例1 実施例3において、分離膜として参考例工の膜に代えて
参考例2で得た膜を用いた以外は、同様にして乳酸を生
産した。
ピルビン酸の転化率は100%であったが、NAD”の
保持率は76%であった。
実施例5 実施例1において得られた分離膜を攪拌器及び温度調整
器を備えたバッキ弐膜透過試験機に取付け、下に示す組
成の酵素反応液(全量8m1)ヒドロゲナーゼ    
      1.4単位(Me tbanobac t
er ium由来)F420−NADP”オキシドレダ
クターゼ  2.9単位(Methanobacter
ium由来)キシロースレダクターゼ     90 
単位(Candida pelliculosa由来)
キシロース           30.0mMNAD
P’              3.0mMF420
                     0.3m
Mグリシルグリシン       100.0mMを入
れ、圧力2 kg / ctAのガス状水素を還元剤と
して、35℃で12時間反応させて、キシロースからキ
シリトールを生産した。この後、反応液に圧力3kg/
−の窒素ガスによる加圧下にに反応液を透過させ、キシ
リトールを分取した。
キシリトールの転化率は100%であった。また、NA
DP” 、F420及びキシリトールの保持率はそれぞ
れ95.5%、100%及び0%であった。
比較例3 緩衝液として1/15Mのトリス塩酸塩緩衝液を用いた
以外は、実施例5と同様にして、キシロースからキシリ
トールを生産した。キシロースの転化率は100%であ
ったが、NADI)”、F420及びキシリトールの保
持率はそれぞれ50%、92%及び0%であった。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在下に、補酵
    素の再生反応と所定の酵素反応とを共役させて行なわせ
    、生成した反応混合物における補酵素と反応生成物とを
    分離する酵素反応方法であつて、上記反応混合物を両性
    イオン緩衝液の存在下に負荷電を有する逆浸透膜又は超
    濾過膜にて処理して、上記酵素及び補酵素を膜内に保持
    し、酵素反応生成物を膜透過させることを特徴とする酵
    素反応方法。
  2. (2)両性イオン緩衝液がグリシルグリシン緩衝液であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酵素反
    応方法。
  3. (3)両性イオン緩衝液がバルビタール緩衝液であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酵素反応方
    法。
  4. (4)負荷電を有する逆浸透膜又は超濾過膜がスルホン
    酸基を有する分離膜であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の酵素反応方法。
  5. (5)負荷電を有する逆浸透膜又は超濾過膜内において
    、酸化還元酵素、補酵素及び基質の存在下に、補酵素の
    再生反応と所定の酵素反応とを共役させて行なうことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酵素反応方法。
  6. (6)負荷電を有する逆浸透膜又は超濾過膜が温度25
    ℃、圧力10kg/cm^2の条件下に濃度0.5%の
    塩化ナトリウム水溶液を処理したとき、少なくとも3%
    の塩除去率を有することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の酵素反応方法。
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