JPS62102103A - 微細磁化パタ−ン計測装置 - Google Patents
微細磁化パタ−ン計測装置Info
- Publication number
- JPS62102103A JPS62102103A JP24144485A JP24144485A JPS62102103A JP S62102103 A JPS62102103 A JP S62102103A JP 24144485 A JP24144485 A JP 24144485A JP 24144485 A JP24144485 A JP 24144485A JP S62102103 A JPS62102103 A JP S62102103A
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- Japan
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- pattern
- magnetic field
- magnetic
- measured
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、微細磁化パターン計測装置に係り。
特に磁気記録媒体等の磁性体の磁化パターンの位置、形
状を計測するに好適な微細磁化パターン計測装置に関す
る。
状を計測するに好適な微細磁化パターン計測装置に関す
る。
磁気記録媒体等の磁性体の磁化パターンの位置、形状の
計測に関して、従来は、磁性微粉末コロイド液を用いて
磁化パターンを顕在化させ。
計測に関して、従来は、磁性微粉末コロイド液を用いて
磁化パターンを顕在化させ。
工場顕微鏡等の光学装置により位置、形状を計測する方
法で行われている。この磁性微粉末を用いる方法には、
磁性微粉末コロイド液を直接磁性体表面に塗布する方法
と非磁性膜を介してｏ、６．Ｐ２１４５：電気マグネテ
ィックス研究会資料Ｖｏ１．ＭＡＧ−８４Ｎｏ、８−２
０参照〕前者は良好な条件下では数μｍ程度の分解能で
磁性体の磁化パターンを顕在化させることが可能である
が、磁性体表面が磁性微粉末で汚染されてしまうという
欠点を有している。後者は、磁性体表面が汚染されるこ
とはないが、非磁性膜を介するため、分解能が数十μｍ
程度が限界であるため、高精度の磁化パターンの位置、
形状の計測には適していない。
法で行われている。この磁性微粉末を用いる方法には、
磁性微粉末コロイド液を直接磁性体表面に塗布する方法
と非磁性膜を介してｏ、６．Ｐ２１４５：電気マグネテ
ィックス研究会資料Ｖｏ１．ＭＡＧ−８４Ｎｏ、８−２
０参照〕前者は良好な条件下では数μｍ程度の分解能で
磁性体の磁化パターンを顕在化させることが可能である
が、磁性体表面が磁性微粉末で汚染されてしまうという
欠点を有している。後者は、磁性体表面が汚染されるこ
とはないが、非磁性膜を介するため、分解能が数十μｍ
程度が限界であるため、高精度の磁化パターンの位置、
形状の計測には適していない。
また、信号の記録された磁気記録媒体の磁化パターンを
軟磁性膜からなるヘッドにより磁気光学効果を利用して
検出する方式が知られている（例えば特開昭５４−５９
９１５号）。この方式は、磁気記録媒体の記録信号を再
生する上では好適な方式であるが、軟磁性膜からなるヘ
ットと磁気記録媒体との密着を常に一定とすることが困
難であり、また、軟磁性膜からなるヘッドに集光された
微小なスポットからの出力光をディジタル化して信号を
読み取る方式であるため、磁化パターンのエツジの位置
を正確に検出することが困難であり、磁化パターンの位
置。
軟磁性膜からなるヘッドにより磁気光学効果を利用して
検出する方式が知られている（例えば特開昭５４−５９
９１５号）。この方式は、磁気記録媒体の記録信号を再
生する上では好適な方式であるが、軟磁性膜からなるヘ
ットと磁気記録媒体との密着を常に一定とすることが困
難であり、また、軟磁性膜からなるヘッドに集光された
微小なスポットからの出力光をディジタル化して信号を
読み取る方式であるため、磁化パターンのエツジの位置
を正確に検出することが困難であり、磁化パターンの位
置。
形状の計測には適さないという欠点を有し、さらに、こ
の様に単に近接させて転写を行う場合、漏洩する垂直磁
界の小さい部分（記録トラック間の間隔、記録ピット間
の間隔など）では垂直磁化膜の迷路状磁区（ｍａｚｅ
ｄｏｍａｉｎ）が観察されるため、垂直磁化膜上に転
写された記録信号のトラックおよびビットのエツジ部分
が不明確になるという欠点を有している。
の様に単に近接させて転写を行う場合、漏洩する垂直磁
界の小さい部分（記録トラック間の間隔、記録ピット間
の間隔など）では垂直磁化膜の迷路状磁区（ｍａｚｅ
ｄｏｍａｉｎ）が観察されるため、垂直磁化膜上に転
写された記録信号のトラックおよびビットのエツジ部分
が不明確になるという欠点を有している。
また、迷路磁区の発生を抑止するために、保磁力の大き
な垂直磁化膜を使用する場合は、転写の感度、精度が低
下し、磁気記録媒体の様な微細かつ微弱な信号について
は、検出、 ｉｆｌ’ｌ定が国運であった。
な垂直磁化膜を使用する場合は、転写の感度、精度が低
下し、磁気記録媒体の様な微細かつ微弱な信号について
は、検出、 ｉｆｌ’ｌ定が国運であった。
本発明の目的は、上記した欠点を除去し、磁気記録媒体
等の磁性体の微細な磁化パターンの位置及び形状を非破
壊かつ高精度に計測可能な微細磁化パターン計測装置を
提供することにある。
等の磁性体の微細な磁化パターンの位置及び形状を非破
壊かつ高精度に計測可能な微細磁化パターン計測装置を
提供することにある。
本発明は上記目的を達成すべく、垂直磁界を印加するた
めの励磁コイルを設けると共に、該励磁コイルから発生
する外部垂直磁界に同期させて取り込んだ複数の画像デ
ータを演算処理する画像処理部を設けるようにしたもの
である。
めの励磁コイルを設けると共に、該励磁コイルから発生
する外部垂直磁界に同期させて取り込んだ複数の画像デ
ータを演算処理する画像処理部を設けるようにしたもの
である。
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第１図は本発明に係る微細磁化パターン計測装置の一実
施例を示す図である。１は例えば磁気記録媒体などの被
測定体であり、２は磁気光学効果を有する磁気転写板で
ある。磁気転写板２は、被計測体１の表面に密着もしく
は既知の間隙を介して設置され、磁気転写板２の被計測
体１に対向する面には垂直磁化容易軸を有しかつ保持力
の微小な磁性膜が被着されている。該磁性膜としては、
（Ｙ ｓ ｍ）、ｖ（Ｆ ｅ ａ ａ ）ＳＯ１２等
の磁性ガーネットや、ＦｄＦｅ、ＧｄＣｏ等の希土類−
遷移金属合金が適している。第２図は磁性ガーネット膜
を被着した磁気転写板２の構造例を示したものであり、
０．２〜０．５ｎｎ厚のＧ ｄ Ｇ ａガーネット基板
２ａ上に垂直磁化膜２ｂとして１例えば、約５μｍ厚（
ＹＳｍ）−（Ｆ ｅ Ｇ ａ ）ｓｏｓｚを被着し、さ
らに反射膜２ｄおよび保護膜２ｃを被膜させた構造とな
っている。前記磁気転写板２を被計測体１に密着もしく
は近接させると、被計測体１から発生する漏洩磁界の垂
直成分によって、垂直磁化膜２ｂの迷路状磁区（ｍａｚ
ｅ ｄｏｍａｉｎ）の磁壁が移動し、被計測体１の磁
化パターンを転写することになる。
施例を示す図である。１は例えば磁気記録媒体などの被
測定体であり、２は磁気光学効果を有する磁気転写板で
ある。磁気転写板２は、被計測体１の表面に密着もしく
は既知の間隙を介して設置され、磁気転写板２の被計測
体１に対向する面には垂直磁化容易軸を有しかつ保持力
の微小な磁性膜が被着されている。該磁性膜としては、
（Ｙ ｓ ｍ）、ｖ（Ｆ ｅ ａ ａ ）ＳＯ１２等
の磁性ガーネットや、ＦｄＦｅ、ＧｄＣｏ等の希土類−
遷移金属合金が適している。第２図は磁性ガーネット膜
を被着した磁気転写板２の構造例を示したものであり、
０．２〜０．５ｎｎ厚のＧ ｄ Ｇ ａガーネット基板
２ａ上に垂直磁化膜２ｂとして１例えば、約５μｍ厚（
ＹＳｍ）−（Ｆ ｅ Ｇ ａ ）ｓｏｓｚを被着し、さ
らに反射膜２ｄおよび保護膜２ｃを被膜させた構造とな
っている。前記磁気転写板２を被計測体１に密着もしく
は近接させると、被計測体１から発生する漏洩磁界の垂
直成分によって、垂直磁化膜２ｂの迷路状磁区（ｍａｚ
ｅ ｄｏｍａｉｎ）の磁壁が移動し、被計測体１の磁
化パターンを転写することになる。
３は被計測体１の磁化パターンを転写した垂直磁化膜２
ｂの磁化状態を磁気光学効果によって検出するための光
学系であり、光源３ａから発生した光を偏光子３ｂによ
り垂直偏光にし、ビームスプリッタ３ｃ、対物レンズ３
ｄを介して磁気転写板２に集光され、磁気転写板２に被
着せしめた垂直磁化膜２ｂの磁化方向によって入射光の
偏光面が右又は左に回転し、検光子３ｅを介することに
より、垂直磁化膜２ｂの磁化状態がＴＶカメラ４に結像
する。
ｂの磁化状態を磁気光学効果によって検出するための光
学系であり、光源３ａから発生した光を偏光子３ｂによ
り垂直偏光にし、ビームスプリッタ３ｃ、対物レンズ３
ｄを介して磁気転写板２に集光され、磁気転写板２に被
着せしめた垂直磁化膜２ｂの磁化方向によって入射光の
偏光面が右又は左に回転し、検光子３ｅを介することに
より、垂直磁化膜２ｂの磁化状態がＴＶカメラ４に結像
する。
５は画像処理装置であり、ＴＶカメラ４の画像信号を取
り込み演算処理するためのものであり、６は励磁コイル
であり、磁気転写膜２に外部磁界を印加するためのもの
である。
り込み演算処理するためのものであり、６は励磁コイル
であり、磁気転写膜２に外部磁界を印加するためのもの
である。
第３図は、被計測体１としてフロッピーディスク、磁気
転写板２として、０．４圃厚のＧｄＧａガーネット基板
上に、４．６μｍ厚の（ｙｓｍ）３（Ｆｅ ａ ａ ）
ｓ○１．の磁性ガーネット（保磁カニ〇、３０ｅ、ａ区
幅： ４．８ μｍ）及び３μｍ厚のＡｌ１漠、３μｍ
厚のＳｉＣ２膜を被着せしめたものを用い、被計測媒体
１と磁気転写板２を密着させた時に磁気転写板２に転写
される磁化パターンの顕微鏡写真に基づく画像である。
転写板２として、０．４圃厚のＧｄＧａガーネット基板
上に、４．６μｍ厚の（ｙｓｍ）３（Ｆｅ ａ ａ ）
ｓ○１．の磁性ガーネット（保磁カニ〇、３０ｅ、ａ区
幅： ４．８ μｍ）及び３μｍ厚のＡｌ１漠、３μｍ
厚のＳｉＣ２膜を被着せしめたものを用い、被計測媒体
１と磁気転写板２を密着させた時に磁気転写板２に転写
される磁化パターンの顕微鏡写真に基づく画像である。
図中の１の領域は被計測体１の信号の書き込まれた部分
（トラック部分）に対応し、Ｈの領域は被計測媒体１の
信号の書込まれていない部分（トラックギャップ部分）
に対応している。第３図から分かる様に、領域ｆｆ（＋
−ラックギャップ部分）に迷路状磁区が存在するため、
領域Ｉ（トラック部分）との境界が明確ではない。
（トラック部分）に対応し、Ｈの領域は被計測媒体１の
信号の書込まれていない部分（トラックギャップ部分）
に対応している。第３図から分かる様に、領域ｆｆ（＋
−ラックギャップ部分）に迷路状磁区が存在するため、
領域Ｉ（トラック部分）との境界が明確ではない。
第４図は、境界を明らかにし、被計測体１の磁化パター
ンを抽出するための画像演算処理の例を示している。第
４図（ａ）は、領域Ｉと領域■の境界部分を拡大した図
である。第４図（ｂ）は励磁コイル６により、磁気転写
板２に被計測体１の保磁力より充分小さく、垂直磁化膜
２ｂの保磁力より充分大きな交流磁界を印加し、停止し
た後の同一場所の図である。領域■の磁区は、被計測体
１の漏洩磁界によって拘束されているため、第４１１（
ａ ）と同じパターンを示す。
ンを抽出するための画像演算処理の例を示している。第
４図（ａ）は、領域Ｉと領域■の境界部分を拡大した図
である。第４図（ｂ）は励磁コイル６により、磁気転写
板２に被計測体１の保磁力より充分小さく、垂直磁化膜
２ｂの保磁力より充分大きな交流磁界を印加し、停止し
た後の同一場所の図である。領域■の磁区は、被計測体
１の漏洩磁界によって拘束されているため、第４１１（
ａ ）と同じパターンを示す。
一方領域■の迷路状磁区は、被計測体１の漏洩磁界によ
る拘束を受けていないため、上記交流磁界の印加により
揺動され、任意の形状に変化する。第４図（ｃ）は、第
４図（ａ）、（ｂ）及び同様にして得られた他の像の画
像演算処理の結果を示す図である。この処理は２値化さ
れた画像の論理和を行ない、一度でも明部とされた部分
は、明部として表示しているため、第４図（ｃ）におい
て領域Ｉのうち暗部が抽出されている。
る拘束を受けていないため、上記交流磁界の印加により
揺動され、任意の形状に変化する。第４図（ｃ）は、第
４図（ａ）、（ｂ）及び同様にして得られた他の像の画
像演算処理の結果を示す図である。この処理は２値化さ
れた画像の論理和を行ない、一度でも明部とされた部分
は、明部として表示しているため、第４図（ｃ）におい
て領域Ｉのうち暗部が抽出されている。
第４図（ｄ）は、第４図（ｃ）の領域Ｈに存在する暗部
の残滓と領域Ｉの暗部の形状が大きく異なる事に注目し
て、領域骨は処理を行なった結果を示す図である。第４
図（ｄ）から分かる様に領域■に存在した迷路状磁区は
完全消失しており、被計測体１の磁化パターンの内、第
３図及び第４図で暗部で表示されたパターンが明確化さ
れた。
の残滓と領域Ｉの暗部の形状が大きく異なる事に注目し
て、領域骨は処理を行なった結果を示す図である。第４
図（ｄ）から分かる様に領域■に存在した迷路状磁区は
完全消失しており、被計測体１の磁化パターンの内、第
３図及び第４図で暗部で表示されたパターンが明確化さ
れた。
第４図の処理例では、暗部として表示されたパターンを
明確化したが、同様にして明部を明確化出来る事は当然
である。さらに、多値処理を行なえば、明部・暗部双方
を同時に明確化できる事は言うまでもない。
明確化したが、同様にして明部を明確化出来る事は当然
である。さらに、多値処理を行なえば、明部・暗部双方
を同時に明確化できる事は言うまでもない。
さらに第４図の画像取込みは、外部磁界の印加停止後に
行なったが、処理を早める場合は、交流又はパルス状の
外部磁界が０となる瞬間に同期して画像の取込みを行な
っても同様の結果が得られることは当然である。
行なったが、処理を早める場合は、交流又はパルス状の
外部磁界が０となる瞬間に同期して画像の取込みを行な
っても同様の結果が得られることは当然である。
本発明によれば、外部磁界に同期して取り込んだ複数の
画像を処理することにより、被計測体の磁化パターンに
一致した画像を検出することができるので、被計測体の
磁化パターンを高精度に計測できる効果がある。
画像を処理することにより、被計測体の磁化パターンに
一致した画像を検出することができるので、被計測体の
磁化パターンを高精度に計測できる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
本発明に係る磁気転写板の構成図、第３図は本発明の実
施例により得られた被計測体の画像パターン図、第４Ｖ
！Ｊ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）。 （ｄ）は本発明における被計測体の画像処理の説明図で
ある。 Ｉ・・・被計測体、２・・・磁気転写板、２ａ・・・基
板。 ２ｂ・・・垂直磁化膜、２ｃ・・保護膜、２ｄ・・・反
射暎、３・・・光学系、３ａ・・・光源、３ｂ・・・−
偏光子。 ３ｃ・・・ビー云スプリッタ、３ｄ・・・対物レンズ。 ３ｅ・・・検光子、４・・・ＴＶカメラ、５・・・画像
処理装置、６・・・励磁コイル、７・・・試料台。 と丁 代理人弁理士 小 川 勝 男゛− 第 １ 図 第２図 第３図 １００μｍ ＩＩツノ≠謔＾−一一一一一一
本発明に係る磁気転写板の構成図、第３図は本発明の実
施例により得られた被計測体の画像パターン図、第４Ｖ
！Ｊ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）。 （ｄ）は本発明における被計測体の画像処理の説明図で
ある。 Ｉ・・・被計測体、２・・・磁気転写板、２ａ・・・基
板。 ２ｂ・・・垂直磁化膜、２ｃ・・保護膜、２ｄ・・・反
射暎、３・・・光学系、３ａ・・・光源、３ｂ・・・−
偏光子。 ３ｃ・・・ビー云スプリッタ、３ｄ・・・対物レンズ。 ３ｅ・・・検光子、４・・・ＴＶカメラ、５・・・画像
処理装置、６・・・励磁コイル、７・・・試料台。 と丁 代理人弁理士 小 川 勝 男゛− 第 １ 図 第２図 第３図 １００μｍ ＩＩツノ≠謔＾−一一一一一一
Claims (1)
- 被計測体である磁性体に保磁力の微小な磁性膜を接触さ
せ、該磁性膜に前記被計測体の磁化状態を転写し、該被
計測体の磁化状態を磁気光学効果を利用して検出するも
のにおいて、前記磁性膜に外部磁界を付与する励磁コイ
ルと、該励磁コイルの検出信号に同期させて撮像カメラ
により撮像し画像データ中の変動部分を除去する画像処
理部を設けたことを特徴とする微細磁化パターン計測装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24144485A JPS62102103A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 微細磁化パタ−ン計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24144485A JPS62102103A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 微細磁化パタ−ン計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62102103A true JPS62102103A (ja) | 1987-05-12 |
Family
ID=17074396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24144485A Pending JPS62102103A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 微細磁化パタ−ン計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62102103A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6491076A (en) * | 1987-10-02 | 1989-04-10 | Hitachi Ltd | Measuring apparatus for magnetic recording medium |
| JPH03267782A (ja) * | 1990-03-17 | 1991-11-28 | Kokusai Chodendo Sangyo Gijutsu Kenkyu Center | 超電導体の磁気的内部性状検出方法および検出装置 |
| EP0724162A3 (en) * | 1994-11-30 | 1998-01-28 | Eastman Kodak Company | High sensitivity magnetic viewer |
| EP1760479A3 (en) * | 2005-09-06 | 2011-08-10 | International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation | Continuous observation apparatus and method of magnetic flux distribution |
| WO2014050907A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 鋼板検査装置、鋼板検査方法、および鋼板製造方法 |
| WO2014050906A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電子銃異常検出装置および電子銃異常検出方法 |
| JP2014070973A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Jfe Steel Corp | 鋼板検査装置および鋼板検査方法 |
| JP2014070975A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Jfe Steel Corp | 磁区不連続部検出装置および磁区不連続部検出方法 |
| CN111405157A (zh) * | 2020-03-24 | 2020-07-10 | Oppo广东移动通信有限公司 | 一种摄像模组及电子设备 |
-
1985
- 1985-10-30 JP JP24144485A patent/JPS62102103A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN104603610A (zh) * | 2012-09-28 | 2015-05-06 | 杰富意钢铁株式会社 | 电子枪异常检测装置以及电子枪异常检测方法 |
| US9304078B2 (en) | 2012-09-28 | 2016-04-05 | Jfe Steel Corporation | Electron gun abnormality detecting device and electron gun abnormality detecting method |
| US10031068B2 (en) | 2012-09-28 | 2018-07-24 | Jfe Steel Corporation | Steel sheet inspection device, steel sheet inspection method, and steel sheet manufacturing method |
| CN111405157A (zh) * | 2020-03-24 | 2020-07-10 | Oppo广东移动通信有限公司 | 一种摄像模组及电子设备 |
| CN111405157B (zh) * | 2020-03-24 | 2022-03-29 | Oppo广东移动通信有限公司 | 一种摄像模组及电子设备 |
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