JPS6196344A - クリ−ンル−ム - Google Patents
クリ−ンル−ムInfo
- Publication number
- JPS6196344A JPS6196344A JP59219206A JP21920684A JPS6196344A JP S6196344 A JPS6196344 A JP S6196344A JP 59219206 A JP59219206 A JP 59219206A JP 21920684 A JP21920684 A JP 21920684A JP S6196344 A JPS6196344 A JP S6196344A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- clean
- filter
- floor
- rooms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F7/00—Ventilation
- F24F7/04—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation
- F24F7/06—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit
- F24F7/10—Ventilation with ducting systems, e.g. by double walls; with natural circulation with forced air circulation, e.g. by fan positioning of a ventilator in or against a conduit with air supply, or exhaust, through perforated wall, floor or ceiling
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、クリーンルームに関する。
現在、半導体装置の製造の際に空気中の塵埃やバクテリ
ア等の付着をきらう製造工程は、クリーンルームで行わ
れている。クリーンルームには、第３図に示すコンベン
ジ冒ナル型のもの１０、第４図に示すクロス７０−型の
もの２０゜第５図に示すダウンフロー型のもの３０があ
る。
ア等の付着をきらう製造工程は、クリーンルームで行わ
れている。クリーンルームには、第３図に示すコンベン
ジ冒ナル型のもの１０、第４図に示すクロス７０−型の
もの２０゜第５図に示すダウンフロー型のもの３０があ
る。
夫々のクリーンルーム１０，２０．：ｉｎは、クリーン
室１１．２１．３１内の清浄度が異なる。
室１１．２１．３１内の清浄度が異なる。
クリーンルーム１０，２０．３０内の清浄度は、１立方
フイート当シに存在する０、５μｍ以上の粒径の数で表
わされてクラスとして表示される。
フイート当シに存在する０、５μｍ以上の粒径の数で表
わされてクラスとして表示される。
因ミニ、コンベンジ１ナル製の／ リ−７Ａ／ −Ａ１
０では、清浄民はクラス１０００以上であり、クロス７
０−聾のクリーンルーム２０の１浄度は、クラス１００
〜１０００Ｇの範囲にある。
０では、清浄民はクラス１０００以上であり、クロス７
０−聾のクリーンルーム２０の１浄度は、クラス１００
〜１０００Ｇの範囲にある。
また、ダウン７０−型のクリーンルーム３０の清浄度紘
クラス１００以下に保たれるよう罠なっている。このよ
うにクリーン室１１，２１゜３１の清浄度が異なる夫々
のクリーンルーム１０．２０．３０では、給気、排気の
システムも当然具なり、夫々別個に建てる必要があり、
製造工程の内容に応じて所定のクリーンルーム１０．２
０．３０が使用されている。近年では、半導体装置の微
細化に伴って高い清浄度が要求され、ダウンフロー型の
クリーンルーム３０が多く使用されている。しかし、こ
のクリーンルーム３０は、前二者のものに比べて連投費
及び運転費が高く、管理も面倒である欠点がある。
クラス１００以下に保たれるよう罠なっている。このよ
うにクリーン室１１，２１゜３１の清浄度が異なる夫々
のクリーンルーム１０．２０．３０では、給気、排気の
システムも当然具なり、夫々別個に建てる必要があり、
製造工程の内容に応じて所定のクリーンルーム１０．２
０．３０が使用されている。近年では、半導体装置の微
細化に伴って高い清浄度が要求され、ダウンフロー型の
クリーンルーム３０が多く使用されている。しかし、こ
のクリーンルーム３０は、前二者のものに比べて連投費
及び運転費が高く、管理も面倒である欠点がある。
また、半導体装置の製造工程の中には、それほど高い清
浄度を必要としないものもあるので、全ての工程に対し
てダウンフロー畿のクリーンルーム３０を設けることは
、経済的な無駄を多くすることになる。このため、製造
工程の内容に応じて清浄度の異なるクリーンルーム１０
゜２０．３０の種類を併用することが行われている。し
かし、このような手段では、広い設置面積を必要とし、
また、内容の異なる空気調節機構を同時に運転して管理
しなければならない面倒がある。更に、クリーンルーム
１０ ＃ ２０ ｒ３０間での製品の受は渡しが面倒で
ある。
浄度を必要としないものもあるので、全ての工程に対し
てダウンフロー畿のクリーンルーム３０を設けることは
、経済的な無駄を多くすることになる。このため、製造
工程の内容に応じて清浄度の異なるクリーンルーム１０
゜２０．３０の種類を併用することが行われている。し
かし、このような手段では、広い設置面積を必要とし、
また、内容の異なる空気調節機構を同時に運転して管理
しなければならない面倒がある。更に、クリーンルーム
１０ ＃ ２０ ｒ３０間での製品の受は渡しが面倒で
ある。
なお、第３図中１２は、クリーン室１１の上部に取付け
られた高性能フィルター、１３は、高性能フィルター１
２と接続した空気調節機である。
られた高性能フィルター、１３は、高性能フィルター１
２と接続した空気調節機である。
また、第４図中２２は、クリーン室２１の一端部に設け
られた排気室であシ、空気−縮機２３に通じている。空
気ｆ４節機２３は、給気室２イを介してクリーン室２１
内の高性能フィルター２５に接続している。
られた排気室であシ、空気−縮機２３に通じている。空
気ｆ４節機２３は、給気室２イを介してクリーン室２１
内の高性能フィルター２５に接続している。
また、第５図中３２は、クリーン室３１の上部に設けら
れた高性能フィルターであシ、３３は、クリーン室３ノ
の床３４の下に設けられたフィルターである。高性能フ
ィルター３２は、 ゛ 給気室３５を介して空気調節機
３６に接続し、フィルター３３は、排気室３７を介して
空気調節機３６に接続している。
れた高性能フィルターであシ、３３は、クリーン室３ノ
の床３４の下に設けられたフィルターである。高性能フ
ィルター３２は、 ゛ 給気室３５を介して空気調節機
３６に接続し、フィルター３３は、排気室３７を介して
空気調節機３６に接続している。
本発明は、異なる清浄度のクリーン室を複数個有すると
共に、設置に必要な面積が小さく、しかも経済的に優れ
、更に、管理及び運転が容易であるクリーンルームを提
供することをその目的とするものである。
共に、設置に必要な面積が小さく、しかも経済的に優れ
、更に、管理及び運転が容易であるクリーンルームを提
供することをその目的とするものである。
本発明は、複数個のクリーン室を多段に積層すると共に
、クリーン室間及びクリーン室の天井と床の部分にフィ
ルターを設け、これらのフィルターを１系統の空気調節
機構で動作させるよう圧したことにより、異なる清浄度
のクリーン室を複数個有すると共に、設置に必要な面積
を小さくシ、シかも経済性に優れて管理及び運転が容易
であるクリーンルームである。
、クリーン室間及びクリーン室の天井と床の部分にフィ
ルターを設け、これらのフィルターを１系統の空気調節
機構で動作させるよう圧したことにより、異なる清浄度
のクリーン室を複数個有すると共に、設置に必要な面積
を小さくシ、シかも経済性に優れて管理及び運転が容易
であるクリーンルームである。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第１図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説明図
である。図中４１は、ダウンフロー型の上段クリーン室
である。上段クリーン室４１の天井部には、高性能フィ
ルター４が取付けられている。高性能フィルター４２は
、給気室４３を介して空気調節機４４に接続している。
。第１図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説明図
である。図中４１は、ダウンフロー型の上段クリーン室
である。上段クリーン室４１の天井部には、高性能フィ
ルター４が取付けられている。高性能フィルター４２は
、給気室４３を介して空気調節機４４に接続している。
上段クリーン室４１０床４５の下には、フィルター４６
が設けられている。フィ□ルター４６の直下には、下段
クリーン室４７が設けられている。フィルター４６と下
段クリーン室４２の天井部との間には、高性能フィルタ
ー４８が設けられている。下段クリーン室４７０床４９
の下には、フィルター５０が設けられている。フィルタ
ー５０は、排気室５ノを介して空気調節機４４に接続し
ている。
が設けられている。フィ□ルター４６の直下には、下段
クリーン室４７が設けられている。フィルター４６と下
段クリーン室４２の天井部との間には、高性能フィルタ
ー４８が設けられている。下段クリーン室４７０床４９
の下には、フィルター５０が設けられている。フィルタ
ー５０は、排気室５ノを介して空気調節機４４に接続し
ている。
このように構成されたクリーンルーム６０によれば、空
気調節機４４から給気室４３を通って供給された空気は
、高性能フィルター４２で十分に清浄化されてから上段
クリーン室４１内に入る。更に、上段クリーン室４１内
の空気は、床４５の下のフィルター４６とその直下に設
けられた高性能フィルター４８を経て十分に清浄化され
てから下段クリーン室４２内に供給される。下段クリー
ン室４７内の空気は、床５０の下のフィルター５０で清
浄化されてから排気室５１を舒て空気調節機４４に導か
れる。
気調節機４４から給気室４３を通って供給された空気は
、高性能フィルター４２で十分に清浄化されてから上段
クリーン室４１内に入る。更に、上段クリーン室４１内
の空気は、床４５の下のフィルター４６とその直下に設
けられた高性能フィルター４８を経て十分に清浄化され
てから下段クリーン室４２内に供給される。下段クリー
ン室４７内の空気は、床５０の下のフィルター５０で清
浄化されてから排気室５１を舒て空気調節機４４に導か
れる。
而して、上段クリーン室４１と下段クリーン室４１の清
浄度を夫々の室内のａ箇所で調べたところ、第２図に示
す如く、上段クリーン室４Ｊはクラス１００以下の清浄
度にあフ、下段クリーン室４２は、クラス１００〜１０
０００の清浄度に保たれていることが実験的に確認され
た。また、空気調節機４４によって上段クリーン室４１
を気温が２２±０．５℃、湿度が４０±５％に保持した
ところ、下段クリーン室４７は、気温が２５±２℃、湿
度が５０±１０％に保持されることが判った。このこと
から上段クリーン室４ノ及び下段クリーン室４７は共に
半導体装置が製造工程に適した環境を設定できることが
判る。このため、高い清浄度が要求される工程は上段ク
リーン室４１で行ない、それほど高い清浄度を必要とし
ない工程を下段クリーン室４７で行なうことによル、１
つの連室からなるクリーンルーム仁で半導体装置の製造
を行うことができる。その結果、クリーンルーム６０の
設置面積を小さくして経済性を良くすることができる。
浄度を夫々の室内のａ箇所で調べたところ、第２図に示
す如く、上段クリーン室４Ｊはクラス１００以下の清浄
度にあフ、下段クリーン室４２は、クラス１００〜１０
０００の清浄度に保たれていることが実験的に確認され
た。また、空気調節機４４によって上段クリーン室４１
を気温が２２±０．５℃、湿度が４０±５％に保持した
ところ、下段クリーン室４７は、気温が２５±２℃、湿
度が５０±１０％に保持されることが判った。このこと
から上段クリーン室４ノ及び下段クリーン室４７は共に
半導体装置が製造工程に適した環境を設定できることが
判る。このため、高い清浄度が要求される工程は上段ク
リーン室４１で行ない、それほど高い清浄度を必要とし
ない工程を下段クリーン室４７で行なうことによル、１
つの連室からなるクリーンルーム仁で半導体装置の製造
を行うことができる。その結果、クリーンルーム６０の
設置面積を小さくして経済性を良くすることができる。
しかも、空気調節機構を１系統にできるので、その運転
及び管理を容易にできると共に、運転コストを大幅に減
らすことができる。
及び管理を容易にできると共に、運転コストを大幅に減
らすことができる。
なお、実施例では、上段クリーン室４ノと下段クリーン
室４７の２層構造のものについて説明したが、必要に応
じて更に複数層のクリーン室を積層しても良い。同様に
上段クリーン室４１と下段クリーン室４２間のフィルタ
ー４６及び高性能フィルター４７も複数個積層したもの
としても良い。
室４７の２層構造のものについて説明したが、必要に応
じて更に複数層のクリーン室を積層しても良い。同様に
上段クリーン室４１と下段クリーン室４２間のフィルタ
ー４６及び高性能フィルター４７も複数個積層したもの
としても良い。
また、上段クリーン室４１と下段クリーン室４７間に／
ダスビックヌを介在して各クリーン室間で物品の移送が
容易になるようにしても良い。
ダスビックヌを介在して各クリーン室間で物品の移送が
容易になるようにしても良い。
或は、パスがックスの代わシに搬送路を夫々のクリーン
室間に設けても良い。
室間に設けても良い。
以上説明した如く、本発明に係るクリーンルームによれ
ば、異なる清浄度のクリーン室を複数個有すると共に、
設置に必要な面積が小さく、しかも、経済的に優れ、更
に管理及び運転が容易である等顕著な効果を有するもの
である。
ば、異なる清浄度のクリーン室を複数個有すると共に、
設置に必要な面積が小さく、しかも、経済的に優れ、更
に管理及び運転が容易である等顕著な効果を有するもの
である。
第１図は、本発明の一実施例の概略構成を示す説明図、
第２図は、各クリーン室の清浄度を示す特性図、＠３図
乃至第５図は、従来のクリーンルームの概略構成を示す
説明図である。 ４１・・・上段クリーン室、４２・・・高性能フィルタ
ー、４３・・・給気室、４４・・・空気調節機、４５・
・・床、４６・・・フィルター、４７・・・下段クリー
ン室、４８・・・高性能フィルター、４９・・・床、５
０・・・フィルター、５１・・・排気蓋％６０・・・ク
リーンルーム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 印
第２図は、各クリーン室の清浄度を示す特性図、＠３図
乃至第５図は、従来のクリーンルームの概略構成を示す
説明図である。 ４１・・・上段クリーン室、４２・・・高性能フィルタ
ー、４３・・・給気室、４４・・・空気調節機、４５・
・・床、４６・・・フィルター、４７・・・下段クリー
ン室、４８・・・高性能フィルター、４９・・・床、５
０・・・フィルター、５１・・・排気蓋％６０・・・ク
リーンルーム。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 印
Claims (1)
- 複数個のクリーン室をフィルターを介して夫夫の該ク
リーン室内が連通するように多段に積層し、かつ、最上
段の該クリーン室の天井部と最下段の該クリーン室の床
部にフィルターを設けると共に、最上段及び最下段の前
記クリーン室に設けられた該フィルターを１系統の空気
調節機構に接続してなることを特徴とするクリーンルー
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219206A JPS6196344A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | クリ−ンル−ム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219206A JPS6196344A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | クリ−ンル−ム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6196344A true JPS6196344A (ja) | 1986-05-15 |
Family
ID=16731866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219206A Pending JPS6196344A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | クリ−ンル−ム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6196344A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62268941A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-21 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
| EP0676672A2 (en) * | 1994-04-08 | 1995-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system |
| EP1331454A1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-07-30 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd | Pulling room |
| KR100475120B1 (ko) * | 2002-11-27 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 복층의 청정실을 갖는 반도체 장치의 제조시스템 |
| JP2006156489A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Sharp Corp | 物品の製造工場 |
| JP2007115389A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| WO2013127979A1 (de) * | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Abn N.V. | Anlage zur belüftung von reinräumen |
-
1984
- 1984-10-18 JP JP59219206A patent/JPS6196344A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62268941A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-21 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
| EP0676672A2 (en) * | 1994-04-08 | 1995-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system |
| EP0676672A3 (en) * | 1994-04-08 | 1996-07-10 | Canon Kk | Processing system. |
| US5871587A (en) * | 1994-04-08 | 1999-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system for semiconductor device manufacture of otherwise |
| EP1026549A2 (en) * | 1994-04-08 | 2000-08-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system |
| EP1026549A3 (en) * | 1994-04-08 | 2000-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system |
| EP1331454A1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-07-30 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd | Pulling room |
| EP1331454A4 (en) * | 2000-10-31 | 2006-05-17 | Shinetsu Handotai Kk | LUFTZUGRAUM |
| KR100475120B1 (ko) * | 2002-11-27 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 복층의 청정실을 갖는 반도체 장치의 제조시스템 |
| JP2006156489A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Sharp Corp | 物品の製造工場 |
| JP2007115389A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| WO2013127979A1 (de) * | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Abn N.V. | Anlage zur belüftung von reinräumen |
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