JPS6175325A - Display cell - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain superior response speed in an electrochromic (EC) element formed by laminating the first electrode, the first EC layer, and insulating layer, the second EC layer composed of three layers and giving water absorbing tendency to the two outside layers of them. CONSTITUTION:The EC element is composed of a base 1, the first electrode 2 made of a conductive film, the first EC layer 3, the insulating layer 4, the second EC layer 5, and the second electrode 6 made of the conductive film. The insulating layer 4 has the tree layer structure of 4a, 4b, and 4c, and they are prepared by the vapor deposition of La2O3, Ta2O5, ZrO2, etc., and the two outside layers 4a, 4c are obtained by the vapor deposition process introducing H2O and have water absorption tendency, thus permitting superior response speed to be attained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は電気化学的発消色現象すなわちエレクトロクロ
ミック現象を利用したエレクトロクロミック素子の表示
セルに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a display cell of an electrochromic device that utilizes an electrochemical coloring/decoloring phenomenon, that is, an electrochromic phenomenon.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

このようなエレクトロクロミック現象を利用する電気化
学的発消色素子すなわちエレクトロクロミック素子は、
例えば、数字表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ
、光学シャッタ、絞シ機構等に応用できるもので、その
材料で分類すると液体型と固体型に分けられるが、本発
明は特に全固体屋のエレクトロクロミック素子に関する
ものである０ エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の２つの構造例を第２図および第３図
に示す。これらの図は全固体型エレクトロクロミック素
子の一般的な構造を示すものである。Electrochemically quenched dye elements, or electrochromic devices, utilize such electrochromic phenomena.
For example, it can be applied to numeric display elements, X-Y matrix displays, optical shutters, aperture mechanisms, etc. Classified by material, it can be divided into liquid type and solid type, but the present invention is particularly applicable to all-solid electrochromic devices. Two structural examples of an all-solid-state electrochromic device utilizing the electrochromic phenomenon are shown in FIGS. 2 and 3. These figures show the general structure of an all-solid-state electrochromic device.

第２図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
１の上に、透明導電体膜よりなる第１重（（２、陽極側
発色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜から
なる絶縁層４、導電体膜より成る第２電極６を順次積層
してなるものである。The electrochromic element shown in FIG. , a second electrode 6 made of a conductive film is sequentially laminated.

また、第３図に示すエレクトロクロミック素子は、第２
図に示す構造における絶縁層４と第２電極６との間に、
さらに、陰極側発色層でちる第２のエレクトロクロミッ
ク層５を積層したものである。Furthermore, the electrochromic element shown in FIG.
Between the insulating layer 4 and the second electrode 6 in the structure shown in the figure,
Further, a second electrochromic layer 5, which is a coloring layer on the cathode side, is laminated.

上記の構造において、基板１は一般的にガラス板によっ
て形成されるが、これはガラス板に限らず、グラスチッ
ク板またはアクリル板等の無色透明な板ならばよく、ま
た、その位置に関しても、第１！！２の下ではなく、第
２電極６の上にあってもよいし、目的に応じて（例えば
、保護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい
。ただし、これらの場合に応じて、ｇ２１Ｅ極６を透明
導電膜にしたシ、両側の電極とも透明導電膜にする必要
がある。両方の電極を透明電極とすれば、透明臭の素子
ができる。絶縁層４は誘電体のみではなく、固体電解質
等のようなものでもよい。In the above structure, the substrate 1 is generally formed of a glass plate, but it is not limited to a glass plate, and may be any colorless and transparent plate such as a glass plate or an acrylic plate. 1st! ! It may be provided not under the second electrode 2 but above the second electrode 6, or may be provided on both sides depending on the purpose (for example, for the purpose of serving as a protective cover). However, depending on these cases, it is necessary to use a transparent conductive film for the g21E electrode 6 or to use transparent conductive films for both electrodes. If both electrodes are transparent, a transparent odor element can be created. The insulating layer 4 may be made of not only a dielectric but also a solid electrolyte or the like.

透明尋１！膜としては、ＩＴＯ膜（酸化インジウムＩｎ
２Ｏ３中に酸化錫ＳｎＯ□をドーグしたもの）やネサ膜
等が用いられる。陽極側発色層であるエレクトロクロミ
ック層３は、従来、三酸化クロム（ＣｒｚＯｘ）、水酸
化イリジウム（ｘｒ（ｏＨ）２　）　、水酸化ニッケル
（Ｎ１（ＯＨ）２　）等によって形成されている。誘電
体からなる絶縁層４は、二酸化・ゾルコン（ＺｒＯ□）
、五酸化タンタル（ＴＩＬ２０５）、酸化ケイ素（ｓｔ
ｏ。Transparent Hiro 1! The film is an ITO film (indium oxide In
A film obtained by doping tin oxide (SnO□ in 2O3), a Nesa film, etc. are used. The electrochromic layer 3, which is the coloring layer on the anode side, has conventionally been formed of chromium trioxide (CrzOx), iridium hydroxide (xr(oH)2), nickel hydroxide (N1(OH)2), or the like. The insulating layer 4 made of dielectric material is made of Zorcon dioxide (ZrO□)
, tantalum pentoxide (TIL205), silicon oxide (st
o.

５ＩＯ２）等に代表される酸化物、あるいは７フ化リチ
ウム（ＬｉＦ　）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ’２）
等に代表されるフッ化物を用いて形成する。また、陰極
側発色層であるエレクトロクロミック層６は、酸化タン
グステン（ＷＯ２，ＷＯ，）　％酸化モリブデン（Ｍｏ
Ｏ２，Ｍｏ０３）、五酸化パナソウム（ｖ２０５）等を
用いて形成する。5IO2), lithium heptafluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF'2)
It is formed using a fluoride such as fluoride. The electrochromic layer 6, which is a coloring layer on the cathode side, is composed of tungsten oxide (WO2, WO,)% molybdenum oxide (Mo
02, Mo03), panasium pentoxide (v205), etc.

この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック素子
は、第１電極２と第２電極５０間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、着゛色、消色をする。こ
の着色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６への
カチオンと電子のダグルインノエクシテンによるブロン
ズ形成にあると一般的に言われている。例えば、エレク
トロクロミック物質として、ＷＯ３を用いる場合には、
次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き着色する
。In the all-solid-state electrochromic device having such a structure, a stain vapor chemical reaction occurs when a voltage is applied between the first electrode 2 and the second electrode 50, and the stain is colored or decolored. It is generally said that this coloring mechanism is due to the formation of bronze due to the interaction of cations and electrons to the electrochromic layer 6, for example. For example, when using WO3 as an electrochromic substance,
An oxidation-reduction reaction represented by the following formula (1) occurs, resulting in coloration.

ＷＯ５＋　ｘＨ＋＋　ｘｅ″″−ＨｘＷＯ３（１）（１
）式に従って、タングステンブロンズＨ：ｃＷＯｓが形
成され着色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状
態となる。（１）式のこの様な反応は、全固体型エレク
トロクロミック素子においては、素子内部の絶縁層によ
ってプ゛ロトン鹸が供給され着色する６ 上述のエレクトロクロミック素子においては、従来、陽
極側発色層であるエレクトロクロミック層３は、水酸化
イリジウム（ｔｒ（ｏｎ）２　）等の水酸化物を反応性
ス・々ツタ或いは陽極酸化膜法によって形成している。WO5+ xH++ xe″″−HxWO3(1)(1
), tungsten bronze H:cWOs is formed and colored, but if the applied voltage is reversed, it becomes a decolored state. In an all-solid-state electrochromic device, this type of reaction in equation (1) is caused by the proton soap being supplied by the insulating layer inside the device and coloring the device. The electrochromic layer 3 is formed of a hydroxide such as iridium hydroxide (tr(on)2) by reactive sputtering or an anodic oxidation film method.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上述の如きエレクトロクロミック素子
を用いた表示セルにおいて、従来のものに比べて優れた
応答速度を得ることができる表示セルを提供することに
ある。An object of the present invention is to provide a display cell using an electrochromic element as described above, which can obtain a response speed superior to that of conventional display cells.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明による表示セルは、導電体膜より成る第１電極と
、第１のエレクトロクロミック層と、絶縁層と、第２の
エレクトロクロミック層と、これらの膜の上に導電体膜
よりなる第２電極を順次積層してなるエレクトロクロミ
ック素子より成る表示セルにおいて、絶縁層を３層構成
とし、その外側の２層を水を含みやすい層としたことを
特徴とするものである。The display cell according to the present invention includes a first electrode made of a conductive film, a first electrochromic layer, an insulating layer, a second electrochromic layer, and a second electrode made of a conductive film on these films. A display cell made of an electrochromic element formed by sequentially laminating electrodes is characterized in that the insulating layer has a three-layer structure, and the outer two layers are layers that easily contain water.

すなわち、本発明においては、上記の如きエレクトロク
ロミック素子において、絶縁層が、従来のものと異な９
３３層構成なっておシ、その外側の２層が水を含みやす
い層となっている為に、グロトンを効率良くエレクトロ
クロミック層とやシとシでき、これによって従来のもの
に比べてｆ（れた応答速度を得ることができる。That is, in the present invention, in the electrochromic device as described above, the insulating layer has 9 layers different from conventional ones.
It has a 33-layer structure, and the outer two layers easily contain water, so Groton can be efficiently mixed with the electrochromic layer, which results in a higher f( It is possible to obtain a high response speed.

上記の絶縁層を構成する外側の２層と中間の１層は真空
蒸着方法によって形成でき、蒸発材は３層とも同じとす
ることも、外側の１層と中間の層とを同じとし他の外側
の１層を異なるものとすることも、外側の２層と中間の
１層とを異なるものとすることも、３層とも異なるもの
とすることもできる。また゛、中間の１層は電子ブロッ
ク性に優れたものとするのがよい。The two outer layers and one middle layer constituting the above insulating layer can be formed by a vacuum evaporation method, and the evaporation material can be the same for all three layers, or the outer one layer and the middle layer can be the same and other layers can be formed. The outer layer may be different, the outer two layers and the middle layer may be different, or all three layers may be different. Further, it is preferable that the middle layer has excellent electron blocking properties.

水を含みやすい、あるいは、水を含んでいる層を形成す
るには、蒸着の際に、Ｈ２０蒸気を導入したシ、蒸着速
度を旦くして、いわゆる、ぼそほそな、充填密度の低い
膜にすることによシ、達成できる。また、スピンコード
による塗布などでも実施できる。In order to form a layer that easily contains water or contains water, it is necessary to introduce H20 vapor during vapor deposition to slow down the vapor deposition rate and create a so-called flimsy film with low packing density. If you do it, you can achieve it. It can also be applied by applying with a spin cord.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第１図は本発明に係る表示セルを示すもので、図中１は
基板、２は導電体膜よ構成る第１電極、３は第１のエレ
クトロクロミック層、４は絶縁層、５は第２のエレクト
ロクロミック層、６は導電体膜よ構成る第２の１祿を示
す。絶縁者４は、４ａ。FIG. 1 shows a display cell according to the present invention, in which 1 is a substrate, 2 is a first electrode made of a conductive film, 3 is a first electrochromic layer, 4 is an insulating layer, and 5 is a first electrode. 2 is an electrochromic layer, and 6 is a second layer composed of a conductive film. The insulator 4 is 4a.

４ｂ＊４ｃの３層構成となっていて、外側の２１蛋４ａ
、４ｃが水を含み易い層で、中間の１層４ｂは外側の２
Ｍよシも電子ブロック性に優れたものとされる。It has a three-layer structure of 4b*4c, and the outer 21 layers are 4a.
, 4c is a layer that easily contains water, and the middle layer 4b is the outer layer 2.
M and shi are also said to have excellent electronic blocking properties.

以・下、実施例について説明する。Examples will be described below.

実施例１ 厚み１．１１１１１のガラス基板１上に適当な引き出し
電極部及びリード部を備えた透明電極２を形成し、その
上に反応性ス／々ツタ方法（０，４Ｔｏｒｒまで０２ガ
スを導入）で陽極側発色エレクトロクロミック層である
Ｉｒ（ＯＨ）２膜よ構成る第１のエレクトロクロミック
素子３を形成した。次にＥＢガンを用いた真空蒸着方法
で、蒸発材としてＬ＆２Ｃ，を用い、Ｈ２０蒸気を８．
ＯＸ　１０　　Ｔｏｒｒまで導入し第１絶縁層４ａとし
てＬａ２Ｏ３膜を１００ＯＸ形成し、次に真空度を１０
　台まで上げ、第２絶縁層４ｂとしてＬ’２０５膜を８
００１形成し、次に、最初と同じ条件で第３絶縁層４ｃ
としてＬａ２Ｏ３膜を１０００叉形成した。Example 1 A transparent electrode 2 having a suitable extraction electrode part and a lead part was formed on a glass substrate 1 having a thickness of 1.11111 mm, and a reactive sputtering method (02 gas was introduced up to 0.4 Torr) was formed on it. ) was used to form a first electrochromic element 3 consisting of an Ir(OH) 2 film as a coloring electrochromic layer on the anode side. Next, using a vacuum evaporation method using an EB gun, using L&2C as the evaporation material, H20 vapor was added at 8.5%.
OX to 10 Torr, a La2O3 film of 100 OX was formed as the first insulating layer 4a, and then the degree of vacuum was reduced to 10 Torr.
Raise it to the stand and deposit the L'205 film 8 times as the second insulating layer 4b.
001 is formed, and then a third insulating layer 4c is formed under the same conditions as the first.
As a result, 1000 layers of La2O3 film were formed.

これらの膜の上に、陰極側発色エレクトロクロミック層
であるＷＯ３膜よυ成る第２エレクトロクコミック層５
を４０００Ｘ形成しく真空度は２．　ＯＸ　１０　　Ｔ
ｏｒｒ　）、最後に半透明Ａｕ電極６を形成し、エレク
トロクロミック素子を用いた表示セルを完成させた。On top of these films, a second electrochromic layer 5 consisting of a WO3 film which is a coloring electrochromic layer on the cathode side is formed.
The degree of vacuum is 2. OX10T
orr), and finally a translucent Au electrode 6 was formed to complete a display cell using an electrochromic element.

この様にして、製作した表示セルは、゛従来のエレクト
ロクロミック素子を用いた表示セル（絶縁層にＴａ２０
５膜を３０００Ｘにして製作したセル）に比べて、応答
速度で２倍以上速い速度（従来８００　ｍ５ｅｃであっ
たのが３６０　ｍ５ｅｃ　）の表示セルが得られた。The display cell manufactured in this way is a display cell using a conventional electrochromic element (with Ta2000 in the insulating layer).
A display cell with a response speed more than twice as fast (360 m5ec as opposed to 800 m5ec conventionally) was obtained compared to a cell manufactured using 5 films at 3000X.

実施例２ 厚み１．１咽のガラス基板ｌ上に適当な引き出し電極部
及びリード部を備えた透明電極２を形成し、その上に反
応性スパッタ方法（０，４Ｔｏｒｒ　ｔで０２ガスを導
入）で陽極側発色エレクトロクロミック層であるＩｒ（
ＯＨ）２膜より成る第１エレクトロクロミ、り層３を形
成した。次にＥＢｆンを用いた真空蒸着方法で蒸発材に
Ｔａ、０５を用い、Ｈ２０蒸気を５、　ＯＸ　１０−４
Ｔｏｒｒまで導入し、第１絶縁層４＆としてＴａ　２０
　ｓ膜を２０００１形成し、次に真空度を１０−６台ま
で上げ、第２絶縁層４ｂとして’ｒａ２ｏ５膜を１００
ＯＸ形成し、次に、最初と同じ条件（Ｈ２０蒸気を５．
　ＯＸ　１０−’　Ｔｏｒｒまで導入）で第３絶５層４
ｃとしてＺ　ｒｏ　２膜を１０００Ｘ形成した。Example 2 A transparent electrode 2 equipped with an appropriate extraction electrode part and lead part was formed on a glass substrate l with a thickness of 1.1 mm, and a reactive sputtering method (02 gas was introduced at 0.4 Torr t) was applied thereon. Ir(
A first electrochromic layer 3 consisting of an OH)2 film was formed. Next, using a vacuum evaporation method using EBf, Ta, 05 was used as the evaporator, H20 vapor was
Ta 20 is introduced as the first insulating layer 4&
s film was formed at 20001, then the degree of vacuum was increased to 10-6 level, and a 'ra2o5 film was formed at 100% as the second insulating layer 4b.
OX formation, then under the same conditions as first (H20 vapor 5.
(Introduced up to OX 10-' Torr) to 3rd isolation 5th layer 4
A Z ro 2 film was formed at 1000× as c.

これらの膜の上に、陰極側発色エレクトロク・ロミック
層であるＷＯ３膜よ構成る第２エレクトロクロミック層
５を４０００１形成しく真空度は２．ＯＸ　１０　　Ｔ
ｏｒｒ　）、最後に半透明Ａｕ電極６を形成し、エレク
トロクロミック素子を用いた表示セルを完成させた。On top of these films, a second electrochromic layer 5 composed of a WO3 film, which is a color-forming electrochromic layer on the cathode side, is formed at a vacuum level of 2. OX10T
orr), and finally a translucent Au electrode 6 was formed to complete a display cell using an electrochromic element.

この様にして、製作した表示セルは、従来のエレクトロ
クロミック素子を用いた表示セル（絶縁１ヨにＴａ２０
５　）Ａを３０００１にして製作したセル）に比べて、
応答速度で２倍以上速い速度（従来８００　ｍ８＠ｅで
あったのが３００　ｍ５ｅｃ　）の表示セルが有られた
。The display cell manufactured in this way is a display cell using a conventional electrochromic element (Ta20
5) Compared to the cell made with A set to 30001),
There is now a display cell with a response speed that is more than twice as fast (300 m5ec compared to 800 m8@e in the past).

実施例３ 厚み１．１間のガラス基板１上に適当な引き出し電極部
及びリード部を備えた透明電極２を形成し、その上に反
応性ス／４′ツタ方法（０，４Ｔｏｒｒ　１で０２ガス
を導入）で陽極側発色エレクトロクロミック層であるＩ
　ｒ　（ＯＨ）２膜より成る第１エレクトロクロミック
層３を形成した。次にＥＢがンを用いた真空蒸着方法で
、蒸発材にＴａ２０５を用い、Ｈ２Ｃ蒸等を８．ＯＸ　
１０　　Ｔｏｒｒまで導入し第１絶縁層４ａとしてＴ１
１２０ｓ膜を２０００Ｘ形成し、次に真空度を１０　台
まで上げ、第２絶１ｆｆｒＪ４ｂとしテＬａ２Ｏ５膜を
５００Ｘ形成し、次に、最初と同じ条件で第３絶縁層４
ｃとしてＴａ２０５膜を２０００！形成した。Example 3 A transparent electrode 2 having a suitable extraction electrode part and a lead part was formed on a glass substrate 1 with a thickness of 1.1 mm, and a transparent electrode 2 with a suitable extraction electrode part and a lead part was formed thereon. I, which is the color-forming electrochromic layer on the anode side,
A first electrochromic layer 3 made of r(OH)2 film was formed. Next, using a vacuum evaporation method using EB gun, Ta205 is used as the evaporation material, H2C evaporation, etc. OX
10 Torr and T1 as the first insulating layer 4a.
120s film was formed at 2000X, then the degree of vacuum was increased to 10 units, the second insulation layer was set to 1ffrJ4b, and a TeLa2O5 film was formed at 500X, and then the third insulation layer 4 was formed under the same conditions as the first.
Ta205 film as c 2000! Formed.

これらの膜の上に、陰極側発色エレクトロクロミック層
であるＷＯ２膜より成る第２エレクトロクロミック層５
を４０００Ｘ形成しく真空度は２．０Ｘ　１０　　Ｔｏ
ｒｒ　）最後に半透明Ａｕ電極６を形成し、エレクトロ
クロミック素子を用いた表示セルを完成させた。On top of these films, a second electrochromic layer 5 made of a WO2 film, which is a coloring electrochromic layer on the cathode side.
To form 4000X, the degree of vacuum is 2.0X 10 To
rr) Finally, a translucent Au electrode 6 was formed to complete a display cell using an electrochromic element.

この様にして、製作した表示セルは、従来のエレクトロ
クロミック素子を用いた表示セル（絶縁層にＴａ２Ｏ，
膜を３０００Ｘにして製作したセル）に比べて応答速度
で３倍以上、速い速度（従来８００ｍ５ｅｃであったの
が２５０　ｍｍ＠ａ　）の表示セルが得られた。The display cell manufactured in this way is a display cell using a conventional electrochromic element (Ta2O in the insulating layer,
A display cell with a response speed more than three times faster (250 mm@a compared to 800 m5ec in the past) was obtained compared to a cell manufactured with a membrane of 3000X.

実施例４ 厚み１１謂のガラス基板１上に適当な引き出し電極部及
びリード部を備えた透明１葎２を形成し、その上に、反
応性スノ々ツタ方法（０，４Ｔｏｒｒまで０□がスを導
入）で陽極側発色エレクトロクロミック層であるＩｒ（
ＯＨ）２膜より成る第１エレクトロクロミック層３を形
成した。次にＥＢガンを用いた真空蒸着方法で、蒸発材
にＴａ２０５を用い、Ｈ２０蒸気を５．　ＯＸ　１０　
　Ｔｏｒｒ　ｔで導入し、第１絶縁層４ａとしてＴａ２
０５膜を２０００１形成し、次に、真空度を１００　　
台まで上げ、第２絶縁層４ｂとしてＬａ２Ｏ３膜を６０
０Ｘ形成、次に、最初と同じ条件（Ｈ２０Ｍ気を５．Ｏ
Ｘ　１０　　Ｔｏｒｒまで導入）で、第３杷縁ｑ　４　
ａとしてＺｒＯ□膜を１０００Ｘ形成した。Example 4 A transparent plate 2 provided with appropriate extraction electrode parts and lead parts was formed on a glass substrate 1 with a thickness of 11 cm, and a reactive snow ivy method (0□ was applied to 0.4 Torr) was applied. (introduced), and Ir(
A first electrochromic layer 3 consisting of an OH)2 film was formed. Next, using a vacuum evaporation method using an EB gun, Ta205 was used as the evaporation material, and H20 vapor was applied for 5.5 minutes. OX10
Torr t is introduced, and Ta2 is introduced as the first insulating layer 4a.
05 film was formed at 20001, then the degree of vacuum was set at 100.
Raise it to the stand and deposit a 60% La2O3 film as the second insulating layer 4b.
0X formation, then under the same conditions as the first (H20M gas to 5.0
(introduced up to X 10 Torr), the third loquat q 4
A ZrO□ film was formed at 1000× as a.

これらの肌の上に、陰極側発色エレクトロクロミック層
であるｗｃ１３膜より成る第２エレクトロクロミツク形
５を４０００Ｘ形成しく真空度は２．ＯＸ　１０−５Ｔ
ｏｒｒ　）　］を後Ｋ　半透明Ａｕ　［Ｗ　６　全形成
Ｌ、エレクトロクロミック素子を用いた表示セルを完成
させた。On top of these skins, a second electrochromic layer 5 made of WC13 film, which is a coloring electrochromic layer on the cathode side, is formed at 4000× and the degree of vacuum is 2. OX 10-5T
orr ) ], a display cell using an electrochromic element was completed after K translucent Au [W 6 full formation L.

この様にして、製作した表示セルは、従来のエレクトロ
クロミック素子を用いた表示セル（絶縁層にＴａ２０５
瞑を３０００１にして製作したセル）に比べて応答速度
で２倍以上速い速度（従来８００ｙｒａｅｃであったの
が３００　ｍ５ｅｃ　）の表示セルが得られた。The display cell manufactured in this way is a display cell using a conventional electrochromic element (Ta205 in the insulating layer).
A display cell with a response speed more than twice as fast (300 m5ec as opposed to 800 yraec in the past) was obtained compared to a cell manufactured with a mesh size of 30001.

実施例５ 厚み１．１市のガラス基板１上に適当な引き出し電極部
及びリード部を備えた透明Ｍ、極２を形成し、その上に
、反応性スパッタ方法（０，４Ｔｏｒｒまで０□ゴスを
導入）で陽極側発色エレクトロクロミック層であるＪ　
ｒ　（ＯＨ）２膜Ａｆｉ成る第１エレクトロクロミック
層３を形成した。次にＥＢガンを用いた真空蒸着方法で
、蒸発材にＴａ２０５を用い、Ｈ２０蒸気を５．０Ｘ１
０　　Ｔｏｒｒｉで導入し、第１絶縁層４ａとしてＴａ
２Ｏ，膜を１５００Ｘ形成し、次に、真空度を１０　台
まで上げ、第２絶縁層４ｂとしてＺｒＯ□膜を１０００
又形成し、次に、最初と同じ条件で、第３絶縁層４Ｃと
して’ｒａ２ｏ５膜を１０００１形成した。Example 5 A transparent M and electrode 2 with appropriate extraction electrode parts and lead parts were formed on a glass substrate 1 with a thickness of 1.1 cm, and a reactive sputtering method (0□ Goss up to 0.4 Torr) J), which is a color-forming electrochromic layer on the anode side
A first electrochromic layer 3 consisting of r(OH)2 film Afi was formed. Next, using a vacuum evaporation method using an EB gun, Ta205 was used as the evaporator, and H20 vapor was applied at 5.0X1.
0 Torri, and Ta was introduced as the first insulating layer 4a.
2O film was formed at 1500X, then the degree of vacuum was increased to 10 levels, and a ZrO film was formed at 1000X as the second insulating layer 4b.
Then, under the same conditions as the first, a 'ra2o5 film 10001 was formed as the third insulating layer 4C.

これらの膜の上に、陰極側発色エレクトロクロミック層
であるＷＯ３膜よｈ成る第２エレクトロクロミック層５
を４０００１形成しく真空度は２．ＯＸ　１０　　Ｔｏ
ｒｒ　）、最後に半透明Ａｕ電極６を形成し、エレクト
ロクロミック素子を用いた表示セルを完成させた。On top of these films, a second electrochromic layer 5 consisting of a WO3 film, which is a coloring electrochromic layer on the cathode side, is formed.
40001 and the degree of vacuum is 2. OX 10 To
Finally, a translucent Au electrode 6 was formed to complete a display cell using an electrochromic element.

この様にして、製作した表示セルは、従来のエレクトロ
クロミック素子を用いた表示セル（絶縁層にＴａ２０５
膜を３０００１にして製作したセル）に比べて、応答速
度で３倍以上速い速度（従来８００　ｇｔｓ＠ｃでｈり
たのが２５０　＠ｓｅａ　）の表示セルが得られた。The display cell manufactured in this way is a display cell using a conventional electrochromic element (Ta205 in the insulating layer).
A display cell with a response speed more than three times faster than the cell manufactured with a membrane of 30001 (conventionally 800 gts@c, but 250 gts@sea) was obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述のように、本発明によれば、エレクトロクロミック
素子の絶縁層を３　ｊｄ構成とし、その外側の２層を、
水を含みやすい層とすることによって、エレクトロクロ
ミック層とプロトンを効率よくやシとシすることができ
て従来のものに比して優れた応答速度を得ることができ
る。As described above, according to the present invention, the insulating layer of the electrochromic element has a 3jd structure, and the outer two layers are
By making the layer easy to absorb water, it is possible to efficiently eliminate protons from the electrochromic layer, and it is possible to obtain a response speed superior to that of conventional ones.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は本発明に係る表示素子の構成の一例を示す断面
図、第２図および第３図はエレクトロクロミック素子の
２つの例を示す断面図である。 １・・・基板、　　　　　２・・・第１電極、３・・・
エレクトロクロミック層、 ４・・・絶縁層、 ４ａ、４ｂ、４ｅ・・・絶縁層を構成する層５・・・エ
レクトロクロミック層、 ６・・・第２電極。 ど−１−一さFIG. 1 is a sectional view showing an example of the structure of a display element according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are sectional views showing two examples of an electrochromic element. 1... Substrate, 2... First electrode, 3...
Electrochromic layer, 4... Insulating layer, 4a, 4b, 4e... Layer forming the insulating layer 5... Electrochromic layer, 6... Second electrode. Do-1-ichisa

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １　導電体膜より成る第１電極と、第１のエレクトロク
ロミック層と、絶縁層と、第２のエレクトロクロミック
層と、これらの膜の上に導電体膜よりなる第２電極を順
次積層してなるエレクトロクロミック素子より成る表示
セルにおいて、絶縁層が３層構成となっており、外側の
２層が水を含みやすい層であることを特徴とした表示セ
ル。 ２　上記の絶縁層の外側の２層と中間の１層とを、同じ
蒸発材の真空蒸着によって形成した特許請求の範囲第１
項に記載の表示セル。 ３　上記の絶縁層の外側の１層と中間の１層とを同じ蒸
発材、外側の他の１層を異なる蒸発材の真空蒸着によっ
て形成した特許請求の範囲第１項に記載の表示セル。 ４　上記の絶縁層の外側の２層と中間の１層とを、異な
る蒸発材の真空蒸着によって形成した特許請求の範囲第
１項に記載の表示セル。 ５　上記の絶縁層の３層とも異なる蒸発材の真空蒸着に
より形成した特許請求の範囲第１項に記載の表示セル。 ６　上記の絶縁層の中、中間の一層は電子をブロックす
る層とした特許請求の範囲第１項に記載の表示セル。[Scope of Claims] 1. A first electrode made of a conductive film, a first electrochromic layer, an insulating layer, a second electrochromic layer, and a second electrode made of a conductive film on these films. A display cell comprising an electrochromic element formed by sequentially laminating electrodes, characterized in that the insulating layer has a three-layer structure, and the outer two layers are layers that easily contain water. 2. Claim 1, in which the two outer layers and the middle layer of the above insulating layer are formed by vacuum evaporation of the same evaporation material.
Display cell as described in section. 3. The display cell according to claim 1, wherein the outer layer and the middle layer of the insulating layer are formed using the same evaporation material, and the other outer layer is formed by vacuum evaporation using a different evaporation material. 4. The display cell according to claim 1, wherein the two outer layers and the middle layer of the above-mentioned insulating layer are formed by vacuum evaporation of different evaporation materials. 5. The display cell according to claim 1, which is formed by vacuum evaporation of different evaporation materials for all three of the above-mentioned insulating layers. 6. The display cell according to claim 1, wherein one of the insulating layers in the middle is a layer that blocks electrons.