JPS6165847A - ジメチルイソフタレート及びジメチルオルトフタレートとジメチルテレフタレートとの混合物からジメチルイソフタレート及びジメチルオルトフタレートを分離する方法 - Google Patents
ジメチルイソフタレート及びジメチルオルトフタレートとジメチルテレフタレートとの混合物からジメチルイソフタレート及びジメチルオルトフタレートを分離する方法Info
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- JPS6165847A JPS6165847A JP60180608A JP18060885A JPS6165847A JP S6165847 A JPS6165847 A JP S6165847A JP 60180608 A JP60180608 A JP 60180608A JP 18060885 A JP18060885 A JP 18060885A JP S6165847 A JPS6165847 A JP S6165847A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/48—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C67/52—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
-
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- C07C67/52—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C67/54—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノ
ールによるエステル化の除行られる、ジメチルイソフタ
レート(DMI)及びジメチルオルトフタレートCDM
O)及び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DM
T)との混合物からジメチルイソフタレート(DM工]
及びンメナルオルト7タレー) LDMO)を分離する
方法に関する。
ールによるエステル化の除行られる、ジメチルイソフタ
レート(DMI)及びジメチルオルトフタレートCDM
O)及び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DM
T)との混合物からジメチルイソフタレート(DM工]
及びンメナルオルト7タレー) LDMO)を分離する
方法に関する。
大工業的に最重要なこのDMT−法に於ては先づp−キ
シレンを酸素含有ガスによるコバルト塩接触液相酸化に
より実施する。この場合p −キシレンに99%以上の
N度で使用されるeP−中シレンの(1%より少ない)
不純物に就中変動量で異性体のm−キシレン及びO−キ
シレンからなる。それ故製造しなりMTに異性体のDM
I及びDMOの相応する量を含有する。
シレンを酸素含有ガスによるコバルト塩接触液相酸化に
より実施する。この場合p −キシレンに99%以上の
N度で使用されるeP−中シレンの(1%より少ない)
不純物に就中変動量で異性体のm−キシレン及びO−キ
シレンからなる。それ故製造しなりMTに異性体のDM
I及びDMOの相応する量を含有する。
p−中シレンの酸τ17、rcp−1’ルイル酸の段階
にあるま\である。そのカルボヤシルー5tip−ノー
ルでエステル1じし、その際p−)ルイル酸メチルエス
テル(pTK)が生ずる。次にこのメチル基をカルボキ
シル基に酸化し、引き続いてこれをエステル1じし、そ
の際次にDMTが生成する。
にあるま\である。そのカルボヤシルー5tip−ノー
ルでエステル1じし、その際p−)ルイル酸メチルエス
テル(pTK)が生ずる。次にこのメチル基をカルボキ
シル基に酸化し、引き続いてこれをエステル1じし、そ
の際次にDMTが生成する。
両酸化段階をまとめることかでさ、同様に両エステルに
段階をまとめることができる( W1ttθΩ。
段階をまとめることができる( W1ttθΩ。
Hercules 、 Ca1iffornia R
e5sarch ) 、 p−キシ1/ン及びp−トル
イル酸メナルエステル(PTK)からなる混合物を酸丁
こしそして生成せる、p −トルイル酸及びテレフタル
蝦モノメチルエステルからなる混合物を次にp−トルイ
ル酸メチルエステル(PTK) & Uジメチルテレフ
タレート(DMT)にエステルIFSする。再エステル
を蒸留により分離する。 PTEを酸化に戻し、−万D
MTを更に精製する。併し又両酸化及び両エステル比を
一段階でまとめることができる( BASF 、 D。
e5sarch ) 、 p−キシ1/ン及びp−トル
イル酸メナルエステル(PTK)からなる混合物を酸丁
こしそして生成せる、p −トルイル酸及びテレフタル
蝦モノメチルエステルからなる混合物を次にp−トルイ
ル酸メチルエステル(PTK) & Uジメチルテレフ
タレート(DMT)にエステルIFSする。再エステル
を蒸留により分離する。 PTEを酸化に戻し、−万D
MTを更に精製する。併し又両酸化及び両エステル比を
一段階でまとめることができる( BASF 、 D。
pOQt 及びMontscatini社)。酸化用
溶剤としテ使用されるメタノールに酸丁どメチル基を引
き続いて同−反応器中でエステル1ヒする。これは対流
原理により実施され、この場仕上部からp−キシレン及
び戻された部分酸化生成物がそして下部からメタノール
及び突気が供給される。
溶剤としテ使用されるメタノールに酸丁どメチル基を引
き続いて同−反応器中でエステル1ヒする。これは対流
原理により実施され、この場仕上部からp−キシレン及
び戻された部分酸化生成物がそして下部からメタノール
及び突気が供給される。
100−200G及び50−20°バールに於て滞留時
間22時間でmtじをコバルト塩により実施す机 両方法後[DMTが得られ、純DMTを得るためにこれ
を蒸留しそして再結晶せねばならぬ。
間22時間でmtじをコバルト塩により実施す机 両方法後[DMTが得られ、純DMTを得るためにこれ
を蒸留しそして再結晶せねばならぬ。
併し又両方法の場合DMT−異性体ジメナルインフタレ
ート(DMT)及びジメナルオルトブタン−ト(DMO
)が使用p−キシレン中でローキシレン及びm−中シレ
ンの記載含有率により生成する。
ート(DMT)及びジメナルオルトブタン−ト(DMO
)が使用p−キシレン中でローキシレン及びm−中シレ
ンの記載含有率により生成する。
それ故二回とも、上記のWittsc+−法の例で例示
して説明されるDMT及びDMOの移送の問題が生ずる
。
して説明されるDMT及びDMOの移送の問題が生ずる
。
p−中シレジ及びPTEからなる混合物を液相で加圧下
及び14o−17DCでコバルトを含有する触媒の存在
下酸化する。酸1こ生成物rxp−トルイル酸及びモノ
メチルテレフタレート及び多少のテレフタル酸からなる
。引き続いて酸化生成物をメタノールで例えば240C
及び30−40バールでエステル1じし、次にいわゆる
粗エステル蒸留でI’TICが豊かな留分、DMTが豊
かな留分及び方法の高沸点副生成物(例えはジフェニル
体ンを含有する蒸留残留物に分離する。PTKが豊かな
留分を酸化に戻す。DMTが豊か、な留分を次の精製−
これに通例精留及びメタノールからの2再結晶からなる
−に供給する。この留分中に含まれる14注体DM工及
びDMOはぼんの僅かだけその沸点でDMTとく異なっ
ているから、DMTの分離が先づメタノールからの再結
晶により可に目である。この場合DMT及びDMOi母
液に達し、その中でその上残余のDMT 1残余のPT
K (?:、れに徂エステル蒸留で不完全に分離された
]及び別の部分酸化生成物例えば4−カルボメトキシ′
ベンズアルデヒド及ヒソのジメナルアでタールが浴けて
いる。
及び14o−17DCでコバルトを含有する触媒の存在
下酸化する。酸1こ生成物rxp−トルイル酸及びモノ
メチルテレフタレート及び多少のテレフタル酸からなる
。引き続いて酸化生成物をメタノールで例えば240C
及び30−40バールでエステル1じし、次にいわゆる
粗エステル蒸留でI’TICが豊かな留分、DMTが豊
かな留分及び方法の高沸点副生成物(例えはジフェニル
体ンを含有する蒸留残留物に分離する。PTKが豊かな
留分を酸化に戻す。DMTが豊か、な留分を次の精製−
これに通例精留及びメタノールからの2再結晶からなる
−に供給する。この留分中に含まれる14注体DM工及
びDMOはぼんの僅かだけその沸点でDMTとく異なっ
ているから、DMTの分離が先づメタノールからの再結
晶により可に目である。この場合DMT及びDMOi母
液に達し、その中でその上残余のDMT 1残余のPT
K (?:、れに徂エステル蒸留で不完全に分離された
]及び別の部分酸化生成物例えば4−カルボメトキシ′
ベンズアルデヒド及ヒソのジメナルアでタールが浴けて
いる。
p−トルイルエステル(PTE)、4−カルボメトヤシ
ベンズアルデヒド及びそのジメナルアでメールi DM
T−前段階物である。それ故母液からのメタノールの蒸
発後残留する残留物(以下「母液の残留物J又は「蒸発
せる母液」と略称する]を酸化に戻す。併しこれと共に
やむを得ず同時に、DMT−前段階物でなくて既に2回
酸化及びエステル化されており即ちDMT自体及びその
両異性体である物質が戻される。それ故これら物質は工
程のバラストとして認められる。
ベンズアルデヒド及びそのジメナルアでメールi DM
T−前段階物である。それ故母液からのメタノールの蒸
発後残留する残留物(以下「母液の残留物J又は「蒸発
せる母液」と略称する]を酸化に戻す。併しこれと共に
やむを得ず同時に、DMT−前段階物でなくて既に2回
酸化及びエステル化されており即ちDMT自体及びその
両異性体である物質が戻される。それ故これら物質は工
程のバラストとして認められる。
DMTに両結晶の際絶えず所望の生成物として移される
から、その含有率に戻しにも拘らず一定のレベル以上に
は高まらない。これに対しDMT及びDMOt’!再結
晶の際不所望の物質として母液中に残存しそしてこれら
がなんらかの方法で移されないかぎり、ますます富τと
する。その場合これらに年のなりうちに生成物流中の絶
、tず増大する含有率を必−要とする。反応器及び横留
器の負担過賞がその結果だけでになく、まな再結晶の増
大ぜる非能率−これは再結晶DMT中に残留する不純物
の主之る含有率にDMT及びDMOからなることで明ら
かになる−がその結果である。その場合再結晶に供給さ
れた「租DMT JにDMI−含有率20重童%を有す
ることができ、その際母液中の対応する含有率は50重
量%までである。
から、その含有率に戻しにも拘らず一定のレベル以上に
は高まらない。これに対しDMT及びDMOt’!再結
晶の際不所望の物質として母液中に残存しそしてこれら
がなんらかの方法で移されないかぎり、ますます富τと
する。その場合これらに年のなりうちに生成物流中の絶
、tず増大する含有率を必−要とする。反応器及び横留
器の負担過賞がその結果だけでになく、まな再結晶の増
大ぜる非能率−これは再結晶DMT中に残留する不純物
の主之る含有率にDMT及びDMOからなることで明ら
かになる−がその結果である。その場合再結晶に供給さ
れた「租DMT JにDMI−含有率20重童%を有す
ることができ、その際母液中の対応する含有率は50重
量%までである。
装置中のDMニーDM○−レベルを極度に高くに増大さ
せないなめに、使用1)−=?シレンの異性体含有率次
オで装置中で絶えず新たに生成するDMT及びDMO、
の童を一定の点より以上に移さねばならぬ。実際上この
ことに例えば、蒸発せる母液の一部を再結晶に付するこ
とにより達成することができる。併しこの場合DMT−
損失一これは装置中でDMエニーMO−レベルを低く保
つだけ保つほどいっそう高い−が甘受されればならぬ、
母液中のDMエニー)MOI Kf当りDMT(及び前
段階的)1Kfも溌棄され、このことは正になお是認で
きると思われるかも知れない、装置中で一層低いDMエ
ニーMO−レベルが保たれるなら、母液中でのDMT及
びDMOの豊1じが当然再結晶に相応して一層低い。要
するに蒸発せる母液の撥棄によるDMT及びDMOの移
送はDMエニーMO−レベルが低下するにつれて常に一
層損失が多くそして結局負いきれない。上記の、再結晶
さるべきDMT中のDMエニーMO−tV率2o重量%
の拗合約0.t%の収率低下が生ずるのに、再結晶さる
べきDMT中の5重量%の一層低いDMエニーMO−含
有率に於て収率損失的0.7%が甘受されねばならぬ、
それによってDMエニーMO−移送は極度には損失が多
くなく、それ故高いDMエニーMO−レベルを保たねば
ならず、このことに併し循環中の高いバラスト含有率を
意味する。
せないなめに、使用1)−=?シレンの異性体含有率次
オで装置中で絶えず新たに生成するDMT及びDMO、
の童を一定の点より以上に移さねばならぬ。実際上この
ことに例えば、蒸発せる母液の一部を再結晶に付するこ
とにより達成することができる。併しこの場合DMT−
損失一これは装置中でDMエニーMO−レベルを低く保
つだけ保つほどいっそう高い−が甘受されればならぬ、
母液中のDMエニー)MOI Kf当りDMT(及び前
段階的)1Kfも溌棄され、このことは正になお是認で
きると思われるかも知れない、装置中で一層低いDMエ
ニーMO−レベルが保たれるなら、母液中でのDMT及
びDMOの豊1じが当然再結晶に相応して一層低い。要
するに蒸発せる母液の撥棄によるDMT及びDMOの移
送はDMエニーMO−レベルが低下するにつれて常に一
層損失が多くそして結局負いきれない。上記の、再結晶
さるべきDMT中のDMエニーMO−tV率2o重量%
の拗合約0.t%の収率低下が生ずるのに、再結晶さる
べきDMT中の5重量%の一層低いDMエニーMO−含
有率に於て収率損失的0.7%が甘受されねばならぬ、
それによってDMエニーMO−移送は極度には損失が多
くなく、それ故高いDMエニーMO−レベルを保たねば
ならず、このことに併し循環中の高いバラスト含有率を
意味する。
本発明に又低いDMエニーMO−レベルに於テDM工及
びDMOの損失の乏しい移送に関する。収率損失に使用
p−キシレンの異性体含有率次オで、実際上装置中のD
MエニーMO−L/ベベル関係すく、1105%のみで
ある。
びDMOの損失の乏しい移送に関する。収率損失に使用
p−キシレンの異性体含有率次オで、実際上装置中のD
MエニーMO−L/ベベル関係すく、1105%のみで
ある。
この様にして装置に於けるDMT及びDMOのバラスト
を著しく低下させることができるので、製造能力の十分
な利用が可能になる。
を著しく低下させることができるので、製造能力の十分
な利用が可能になる。
本発明による方法の場合、蒸発せる母液(メタノール−
再結晶のン又にその一部、又は上記粗エステル蒸留のD
MTが豊かな留分又にこの留分の一部を1回又は若干回
の融解結晶に付することによって、DMエニーMO−I
ll 4体が得られる。
再結晶のン又にその一部、又は上記粗エステル蒸留のD
MTが豊かな留分又にこの留分の一部を1回又は若干回
の融解結晶に付することによって、DMエニーMO−I
ll 4体が得られる。
DMエニーMO−814体に、好ましくに殆んど共融的
な組成を有し、それ故低いDMT −を有率を有し、そ
れ故著しいI)MT−損失が生ずることなしに移すこと
ができる。
な組成を有し、それ故低いDMT −を有率を有し、そ
れ故著しいI)MT−損失が生ずることなしに移すこと
ができる。
本発明の対象は、p−中シレンの酸化及び引き続いての
メタノールによるエステル化の除行られる、ジメチルイ
ソフタレート(DMT)及びジメチルオルトフタレート
(DMO)及び他の副生成物トジメナルテレ7タレート
(DMT)との混合物からジメナルイン7タレート(D
M工]及びジメチルオルトフタレート(DMOJを分離
し、その場合 a)エステル化生成物を1又a数回蒸留し、b) 1
!!、階a)で得られるDMTが豊かな留分をメタノー
ルから再結晶し、 C)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、υ 段階
b)の母液からメタノールを蒸発すせる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT1DM工及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出させ一副生成物中のDMT −含有率により共融組
成に達することなしに−f) 段階e)で得られるDM
Tを導出し、g)段階8)で得られるDMエニーMO−
留分を少くとも部分的に移すことを特徴とする上記方法
である。
メタノールによるエステル化の除行られる、ジメチルイ
ソフタレート(DMT)及びジメチルオルトフタレート
(DMO)及び他の副生成物トジメナルテレ7タレート
(DMT)との混合物からジメナルイン7タレート(D
M工]及びジメチルオルトフタレート(DMOJを分離
し、その場合 a)エステル化生成物を1又a数回蒸留し、b) 1
!!、階a)で得られるDMTが豊かな留分をメタノー
ルから再結晶し、 C)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、υ 段階
b)の母液からメタノールを蒸発すせる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT1DM工及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出させ一副生成物中のDMT −含有率により共融組
成に達することなしに−f) 段階e)で得られるDM
Tを導出し、g)段階8)で得られるDMエニーMO−
留分を少くとも部分的に移すことを特徴とする上記方法
である。
要するにこの方法により母液の全残留物に1又は数回の
融解結晶に付される。
融解結晶に付される。
段階a)に於て好ましくは2回蒸留される。
オー蒸留(粗エステル蒸留)の場合p−t−ルイル酸メ
チルエステル(PTK)及び高沸点物をDMTから分離
し、PTEを酸丁し段階に戻す、オニ蒸留に於て、この
様に得られるDMTが豊かな留分を精留する。
チルエステル(PTK)及び高沸点物をDMTから分離
し、PTEを酸丁し段階に戻す、オニ蒸留に於て、この
様に得られるDMTが豊かな留分を精留する。
段階b) に於て一般に2回メタノールから再結晶させ
る。
る。
段階e)に於て好ましくはできるだけ共融点の近くに近
づけ(もち論これに達することなしに2、これにより副
生成物特にDMT及びDMOをできるだけ高く豊化させ
る、その場合副生成物に殆んど共融的なm成を有するか
ら、これに非常に僅かのみDMTを含有する。
づけ(もち論これに達することなしに2、これにより副
生成物特にDMT及びDMOをできるだけ高く豊化させ
る、その場合副生成物に殆んど共融的なm成を有するか
ら、これに非常に僅かのみDMTを含有する。
詳しくは次の如く行われる:母液の残留物を融解し、次
に好ましくは0.5万全2時間以内に先づ出発混合物の
凝固点より0.5乃至15℃低い温度に冷却する。
に好ましくは0.5万全2時間以内に先づ出発混合物の
凝固点より0.5乃至15℃低い温度に冷却する。
この場合冷却せる最適な温度に櫨々な不純物の種類及び
量に依存するが、併し又使用される結晶装置に依存する
8選択温度に於て結晶を使用せる結晶装置次オで小分乃
至小時間成長させ、次に更に冷却し、好ましくは共融温
度の近くまで−但しこれに達することなしに一冷却する
。特に共融温度から0.5乃至5C高い温度まで冷却す
る。この場合DMTの不純物の種類に依存せるその都度
の共融混合物が分離する温度を共融温度と称する。液状
で残留せる部分を結晶から分離し、結晶に付着せる液状
不純物をできるだけ一様な温度上昇により分離しそして
この様に精製し7?:DMTを更に浴かして得る。 W
innacksr−に’ochlsr 、 C!hsm
is+chs TechnoLogis 、 第4
版、オ6巻(1982年J、第148頁に記載の如き、
静力学的プレート−又は攪拌式結晶器(滴下装置)中で
精製の除光づ好ましくは出発混合物の凝固点より1.5
乃至5Cのみ低く冷却しそして結晶の良好な形成を得る
ために、この温度を1−5時間保つ。
量に依存するが、併し又使用される結晶装置に依存する
8選択温度に於て結晶を使用せる結晶装置次オで小分乃
至小時間成長させ、次に更に冷却し、好ましくは共融温
度の近くまで−但しこれに達することなしに一冷却する
。特に共融温度から0.5乃至5C高い温度まで冷却す
る。この場合DMTの不純物の種類に依存せるその都度
の共融混合物が分離する温度を共融温度と称する。液状
で残留せる部分を結晶から分離し、結晶に付着せる液状
不純物をできるだけ一様な温度上昇により分離しそして
この様に精製し7?:DMTを更に浴かして得る。 W
innacksr−に’ochlsr 、 C!hsm
is+chs TechnoLogis 、 第4
版、オ6巻(1982年J、第148頁に記載の如き、
静力学的プレート−又は攪拌式結晶器(滴下装置)中で
精製の除光づ好ましくは出発混合物の凝固点より1.5
乃至5Cのみ低く冷却しそして結晶の良好な形成を得る
ために、この温度を1−5時間保つ。
次に好ましくは2乃至20特に4乃至10時間好ましく
は共融温度の近くまで更に冷却する。
は共融温度の近くまで更に冷却する。
その場合結晶器中でなお液状のままである不純物を分離
しそして残留せる結晶塊−を更に温度上昇させて精製す
る。
しそして残留せる結晶塊−を更に温度上昇させて精製す
る。
この温度上昇に徐々に、好ましくに毎時的1]、5乃至
2C上昇させて行われるべきである。この融解工程の始
めに得られる液状留分を分離しそして再融解結晶に付す
る。装置中で最後に残留する結晶塊に単離されたDMT
である。
2C上昇させて行われるべきである。この融解工程の始
めに得られる液状留分を分離しそして再融解結晶に付す
る。装置中で最後に残留する結晶塊に単離されたDMT
である。
米国特許第3621664号明細書に記載せる流動フィ
ルム結晶器を用いて1段階又は(殊にJ数段階で実施す
れば、ここでは混合物を先づ好ましくは小分間出発混合
物の凝固点より約1乃至10C低い温度に冷却する。次
に好ましくにα5乃至5時間以内特にI]、5乃至1.
5時間以内に更に、好ましくは再び共融温度の近くまで
冷却する2次に残留せる液状成分を分離する。次に別の
精製が上昇温度で結晶の発汗工程により行われる。この
様に単離したジメチルテレフタレートを次に更に加温し
て融解しそして装置から導出するか又に腸今により再融
解結晶に付する。
ルム結晶器を用いて1段階又は(殊にJ数段階で実施す
れば、ここでは混合物を先づ好ましくは小分間出発混合
物の凝固点より約1乃至10C低い温度に冷却する。次
に好ましくにα5乃至5時間以内特にI]、5乃至1.
5時間以内に更に、好ましくは再び共融温度の近くまで
冷却する2次に残留せる液状成分を分離する。次に別の
精製が上昇温度で結晶の発汗工程により行われる。この
様に単離したジメチルテレフタレートを次に更に加温し
て融解しそして装置から導出するか又に腸今により再融
解結晶に付する。
不純物の有効な分離を目的として結晶の溶解、良好な結
晶成長の達成のための最適な温度及び最も都合の良い結
晶時間に各出発混合物に就て予試験で上記の説明に従っ
て4易に確かめることができる。
晶成長の達成のための最適な温度及び最も都合の良い結
晶時間に各出発混合物に就て予試験で上記の説明に従っ
て4易に確かめることができる。
段階e)の目的に融解結晶のDMT及びDMOのできる
だけ高い濃縮及び副生成物−留分(DMエニーDMO−
留分J中のDMTのできるだけ低いa縮であるから、晶
出DMTは一般になお副生成物の残分を含有する。それ
故一般に引き伏いてメタノールから再結晶し、しかも好
ましくは段階a)からのDMTが豊かな留分と共に再結
晶する。
だけ高い濃縮及び副生成物−留分(DMエニーDMO−
留分J中のDMTのできるだけ低いa縮であるから、晶
出DMTは一般になお副生成物の残分を含有する。それ
故一般に引き伏いてメタノールから再結晶し、しかも好
ましくは段階a)からのDMTが豊かな留分と共に再結
晶する。
場合によってほあり得る段階g)に於て移されないDM
IニーDMO−留分の成分に、部分的に酸化されたDM
T−前段階物(4−カルボメトキシベンズアルデヒド及
びそのジメテルアtタール及びp−トルイルエステル)
を金回するため酸に段階に戻される。好ましく rLD
MニーエニO−留分の約5−15重量のみが移されそし
て残分に戻される。併しこの残分をなお蒸留することが
でき、次に部分的に[leされq DMT−前段階物の
みを戻すことができる。
IニーDMO−留分の成分に、部分的に酸化されたDM
T−前段階物(4−カルボメトキシベンズアルデヒド及
びそのジメテルアtタール及びp−トルイルエステル)
を金回するため酸に段階に戻される。好ましく rLD
MニーエニO−留分の約5−15重量のみが移されそし
て残分に戻される。併しこの残分をなお蒸留することが
でき、次に部分的に[leされq DMT−前段階物の
みを戻すことができる。
母g(メタノール−再結晶)の全残留物の代りに又その
一部を1回又は数回の融解結晶に付すことができる。そ
れ数本発明の別の対象に、p−キシレンの−1と及び引
き続いてのメタノールによるエステル化の除行られる、
ジメチルイソフタレート(DMT)及びジメナルオルト
7タレート(DMOJ及び他の副生成物とジメチルテレ
7メレート(DMT )との混合物からジメチルイソフ
タレート(DM工]及びジメナルオルトフタレート(D
MO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b) 段階
a) で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから
再結晶し、 cl 段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)
段階b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て
、 e) 段階d】 で得られる主としてDMT、DMT及
びDMOからなる残留物を融解しそして冷却によりDM
Tを晶出し一副生成物中のDMT−含有率により共融組
成に達することなしに−、C) 段階θ】 で得られる
DMTを導出し、 ・g)段階e)で得られるDMT
”DMO−留分を移し、h) 段階e)で使用されない
、段階υ で得られる残留物の部分を酸1を段階に戻す
ことを特徴とする上記方法である。
一部を1回又は数回の融解結晶に付すことができる。そ
れ数本発明の別の対象に、p−キシレンの−1と及び引
き続いてのメタノールによるエステル化の除行られる、
ジメチルイソフタレート(DMT)及びジメナルオルト
7タレート(DMOJ及び他の副生成物とジメチルテレ
7メレート(DMT )との混合物からジメチルイソフ
タレート(DM工]及びジメナルオルトフタレート(D
MO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b) 段階
a) で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから
再結晶し、 cl 段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)
段階b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て
、 e) 段階d】 で得られる主としてDMT、DMT及
びDMOからなる残留物を融解しそして冷却によりDM
Tを晶出し一副生成物中のDMT−含有率により共融組
成に達することなしに−、C) 段階θ】 で得られる
DMTを導出し、 ・g)段階e)で得られるDMT
”DMO−留分を移し、h) 段階e)で使用されない
、段階υ で得られる残留物の部分を酸1を段階に戻す
ことを特徴とする上記方法である。
要するにこの方法に於て母液の残留物の一部を技術水準
により酸τニに戻しそして他の部分を融解結晶によるD
MT及びDMOの移送に使用する。
により酸τニに戻しそして他の部分を融解結晶によるD
MT及びDMOの移送に使用する。
これにより必要な融解結晶装置の能力に前記の方法に比
較して低下する。
較して低下する。
段階a)、bl及びe)には再び既にオーの方法に於て
述べたことが妥当するが、但し段階e)に於て唯母液の
残留物の一部が使用される。ここで使用されない部分に
段階h)により酸1こ段階に戻される。
述べたことが妥当するが、但し段階e)に於て唯母液の
残留物の一部が使用される。ここで使用されない部分に
段階h)により酸1こ段階に戻される。
残留物に就でどのくらい段階e)に於て使用するかt’
;[、DMT及びDMOのν「形成率−これに再び使用
p−中シレンの異性体富有率により決定される−に左右
される1通導世界市場で取引されている如き99%以上
のp−1シレン一品質に於て好ましくは母液の残留物の
5−15重量%を段階の)に於て使用するーDM工及び
DMOの約3−5%のレベルを段階b)のDMTが豊か
な留分中で保つ場合−1母液の残留物の低含有率を段階
eλ に於て使用する場合、相応して高いDMエニDM
O−レベルが現われる。
;[、DMT及びDMOのν「形成率−これに再び使用
p−中シレンの異性体富有率により決定される−に左右
される1通導世界市場で取引されている如き99%以上
のp−1シレン一品質に於て好ましくは母液の残留物の
5−15重量%を段階の)に於て使用するーDM工及び
DMOの約3−5%のレベルを段階b)のDMTが豊か
な留分中で保つ場合−1母液の残留物の低含有率を段階
eλ に於て使用する場合、相応して高いDMエニDM
O−レベルが現われる。
メタノール−再結晶の母液に装置に於てDMT及びDM
Oの敢高鏝度を有するその混合物である。
Oの敢高鏝度を有するその混合物である。
それ故好ましくは母孜の残留物をDMT及びDMOの移
送に利用するCたった今記載せる両方irzこれに基づ
く。併し又技術水準により及び父上記の両方法(夫々段
階b) )によりメタノールから再結晶させるDMT
が豊かな留分に比較的高いDME−DMO−a度を有し
そしてそれ故この物質の移送に利用することができるe
DMTが豊かな全留分又にその一部を1回文に数回の融
解結晶に供給することができる。それ数本発明の別の対
象に、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノール
によるエステルiこの際得られる、ジメチルイソフタレ
ート(DM工J8Lびジメナルオルトフタレート(DM
O)及び他の副生成物とジメチルテレフタレート (D
MT)との混合物からジメチルイソフタレート(DM工
λ及びジメナルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a) エステル化生成物を1又に数回蒸留させる方法
に於て、 b)段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して0却によりDMTを晶出し一副生成物中のDMT−
含有率により共融組成に達することなしに−1 C) 段階b)で得られるDMTをメタノールから再結
晶し、 d) 段階b」 で得られるDMエニDMO−留分を少
くとも部分的に移し、 e) 段階C) で得られる結晶DMTを導出しr)段
階C)の母液からメタノールを蒸発させそして残w物を
酸化段階に戻すことを特徴とする上記方法である。
送に利用するCたった今記載せる両方irzこれに基づ
く。併し又技術水準により及び父上記の両方法(夫々段
階b) )によりメタノールから再結晶させるDMT
が豊かな留分に比較的高いDME−DMO−a度を有し
そしてそれ故この物質の移送に利用することができるe
DMTが豊かな全留分又にその一部を1回文に数回の融
解結晶に供給することができる。それ数本発明の別の対
象に、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノール
によるエステルiこの際得られる、ジメチルイソフタレ
ート(DM工J8Lびジメナルオルトフタレート(DM
O)及び他の副生成物とジメチルテレフタレート (D
MT)との混合物からジメチルイソフタレート(DM工
λ及びジメナルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a) エステル化生成物を1又に数回蒸留させる方法
に於て、 b)段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して0却によりDMTを晶出し一副生成物中のDMT−
含有率により共融組成に達することなしに−1 C) 段階b)で得られるDMTをメタノールから再結
晶し、 d) 段階b」 で得られるDMエニDMO−留分を少
くとも部分的に移し、 e) 段階C) で得られる結晶DMTを導出しr)段
階C)の母液からメタノールを蒸発させそして残w物を
酸化段階に戻すことを特徴とする上記方法である。
段階b)で得られるDMT i既に比較的細枠であるの
で、段階al に於けるメタノールからの再結晶に著
しく容易にされる。大抵の場合ここで既に1回の再結晶
で十分であり、−万技術水準によれば2回の再結晶が必
要である。
で、段階al に於けるメタノールからの再結晶に著
しく容易にされる。大抵の場合ここで既に1回の再結晶
で十分であり、−万技術水準によれば2回の再結晶が必
要である。
DMエニDMO−留分の場合によってぼ可能な方法υ
に於て移送されない部分がr¥11じ段階に戻される。
に於て移送されない部分がr¥11じ段階に戻される。
好ましくは約5−15重量%のみが移されそして残分く
戻される。
戻される。
ここで段階b)として実施される融解結晶にとってオー
の両方法に於てこのテーマに関して述べたこと(その場
合融解結晶か夫々段階e)を杉成する)が通用する。
の両方法に於てこのテーマに関して述べたこと(その場
合融解結晶か夫々段階e)を杉成する)が通用する。
エステル化生成物の蒸留からのDMTが豊かな全留分の
代りに又その一部を融解結晶に付することがでさる、そ
れ数本発明の別の対象に、p−−t’シレンの[1じ及
び引き吠いてのメタノールによるエステル化の除行られ
る、ジメナルインフタレート(DMI)及びジメチルオ
ルトフタレートCDMO)及び他の副生成物とジメナル
テレフタレート(DMT)との混合物からジメナルイン
7タレート(DMI)及びジメチルオルトフタレート(
DMOIを分離し、 その場合 a)エステルfご生成物を1又に数回蒸留させる万@に
於て、 b)段階a)で得られるDMTが量かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し一副生成物中のDMT−
含有率により共融組成に達することなしに−1 C)段階b)で得られるDMT t−メタノールから再
結晶し、 υ 段階b)で得られるDMエニDMO−留分を移し、
e) 段階C)で得られる結晶DMTを導出し、C)
段階C)の母液からメタノールを蒸発させそして残留物
を酸+c段階に戻し、 g) 段階b)では使用されない、段階a)で得られる
DMTが豊かな留分の部分をメタノールから再結晶し7
、この様に得られる結晶DMTを導出し、母液からメタ
ノールを蒸発しそして残留物を酸化段階に戻すことを特
徴とする上記方法である。
代りに又その一部を融解結晶に付することがでさる、そ
れ数本発明の別の対象に、p−−t’シレンの[1じ及
び引き吠いてのメタノールによるエステル化の除行られ
る、ジメナルインフタレート(DMI)及びジメチルオ
ルトフタレートCDMO)及び他の副生成物とジメナル
テレフタレート(DMT)との混合物からジメナルイン
7タレート(DMI)及びジメチルオルトフタレート(
DMOIを分離し、 その場合 a)エステルfご生成物を1又に数回蒸留させる万@に
於て、 b)段階a)で得られるDMTが量かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し一副生成物中のDMT−
含有率により共融組成に達することなしに−1 C)段階b)で得られるDMT t−メタノールから再
結晶し、 υ 段階b)で得られるDMエニDMO−留分を移し、
e) 段階C)で得られる結晶DMTを導出し、C)
段階C)の母液からメタノールを蒸発させそして残留物
を酸+c段階に戻し、 g) 段階b)では使用されない、段階a)で得られる
DMTが豊かな留分の部分をメタノールから再結晶し7
、この様に得られる結晶DMTを導出し、母液からメタ
ノールを蒸発しそして残留物を酸化段階に戻すことを特
徴とする上記方法である。
段階a)ニ再び既記のことが妥当する。同様に段階b)
として実施される融解結晶にも妥当する1段階C)に於
て一般に再び1回の再結晶で十分である。好ましくに段
階a)で得られるDMTが豊かな留分の5−15重量%
が段階b)に於て使用される。残分を段階g)に於て利
用する1段階g)に於て好ましくは2回再結晶する。
として実施される融解結晶にも妥当する1段階C)に於
て一般に再び1回の再結晶で十分である。好ましくに段
階a)で得られるDMTが豊かな留分の5−15重量%
が段階b)に於て使用される。残分を段階g)に於て利
用する1段階g)に於て好ましくは2回再結晶する。
次の例により不発明を説明するが、不発明にこれにより
限定されてにならぬ。百分率は夫々重量%である。
限定されてにならぬ。百分率は夫々重量%である。
例 1
そのジャケットが温度計及び温度一時間割り装置に接続
されている攪拌式結晶基中で凝固点870及び次の組成
を有する、メタノールによるDMTの再結晶から得られ
るメタノールのない残留物532gを使用する: ジメナルテレ7タレ〜ト(DMT) :
29.0%ジメtルイン7タレート(DMI):
56.3%ジメチルオルトフタレー
ト(DMO): 4.7%4−カルポメ
トキシベンズアルデヒドージ〆テルγでタール:5.0
% 4−カルボメトキシベンズアルデヒド:
t1%p−トレイル酸メナルエステル(PTK):
5.8%安息香駿メチルエステル:
(1,1%混合物を85.5 Cに
冷却し、その際結晶が急速に起こるc a4−ss、s
cで約I Qrtaj812時間以内に3DCに冷却し
、その後結晶器全開放する、液状で残留せる部分を流出
させ、結晶基中で残留ぜる結晶塊の温度を68Cに徐々
に高め、その際この場合滴下する融解物を既に50Cで
流出ぜる融解物と一緒にする。、凝固点13五4Cを有
する結晶体14Qg及び凝固点64、5 Gを有する結
晶残留物39CI’gが得られる。この残留物に次の組
成を有する: ジメtルテl/7タレート(DMTλ :
14.5%ジメナルインクメレート(DMI):
64.o%ジメナルオルト7タレート(
DMo): a1%4−カルポメトキラベ
ンズアルデヒドージメナルγtタール:
4.9X1 4−カルボメトキシ
ベンズアルデヒド: 2.01%p−1−ル
イル酸メチルエステル(PTE) : 6.
4%安息香酸メナルエステル二〇、1% 例 2 米国特許第562166A号明細苔に記載の如き結晶基
中で凝固点892c及び次の組成分有する、メタノール
にょるDMTの再W&かラノメタノールのない残留物2
9.8 KLiを使用する:ジメチルテレ7タレート(
DMT) : 30.7%ジメtル
イソ7タレート(DMT): 54.1
%ジメナルオルト7タレートCDMO):
5.6%4−カルポメトキシベンズアルデヒドー
ジメテルアtタール:
五2%4−カルポメトキシベンズアルデヒト:
1.1%p−トルイル酸メナルエステル(pT副:
5.2%安息香酸メチルエステル:
a1%この混合物を200(冷却媒体
温度)まで゛100分間で結晶させる。この場合凝固点
124Cを有する結晶体(7,9Kf)及び凝固点63
Cを有する結晶残留物(21,9Kg )が得られる。
されている攪拌式結晶基中で凝固点870及び次の組成
を有する、メタノールによるDMTの再結晶から得られ
るメタノールのない残留物532gを使用する: ジメナルテレ7タレ〜ト(DMT) :
29.0%ジメtルイン7タレート(DMI):
56.3%ジメチルオルトフタレー
ト(DMO): 4.7%4−カルポメ
トキシベンズアルデヒドージ〆テルγでタール:5.0
% 4−カルボメトキシベンズアルデヒド:
t1%p−トレイル酸メナルエステル(PTK):
5.8%安息香駿メチルエステル:
(1,1%混合物を85.5 Cに
冷却し、その際結晶が急速に起こるc a4−ss、s
cで約I Qrtaj812時間以内に3DCに冷却し
、その後結晶器全開放する、液状で残留せる部分を流出
させ、結晶基中で残留ぜる結晶塊の温度を68Cに徐々
に高め、その際この場合滴下する融解物を既に50Cで
流出ぜる融解物と一緒にする。、凝固点13五4Cを有
する結晶体14Qg及び凝固点64、5 Gを有する結
晶残留物39CI’gが得られる。この残留物に次の組
成を有する: ジメtルテl/7タレート(DMTλ :
14.5%ジメナルインクメレート(DMI):
64.o%ジメナルオルト7タレート(
DMo): a1%4−カルポメトキラベ
ンズアルデヒドージメナルγtタール:
4.9X1 4−カルボメトキシ
ベンズアルデヒド: 2.01%p−1−ル
イル酸メチルエステル(PTE) : 6.
4%安息香酸メナルエステル二〇、1% 例 2 米国特許第562166A号明細苔に記載の如き結晶基
中で凝固点892c及び次の組成分有する、メタノール
にょるDMTの再W&かラノメタノールのない残留物2
9.8 KLiを使用する:ジメチルテレ7タレート(
DMT) : 30.7%ジメtル
イソ7タレート(DMT): 54.1
%ジメナルオルト7タレートCDMO):
5.6%4−カルポメトキシベンズアルデヒドー
ジメテルアtタール:
五2%4−カルポメトキシベンズアルデヒト:
1.1%p−トルイル酸メナルエステル(pT副:
5.2%安息香酸メチルエステル:
a1%この混合物を200(冷却媒体
温度)まで゛100分間で結晶させる。この場合凝固点
124Cを有する結晶体(7,9Kf)及び凝固点63
Cを有する結晶残留物(21,9Kg )が得られる。
この残留物に次の組成を有するニ
ジメチルテレ7タレート(DMTJ :
1 al 5Xジメテルインクタレート(DMT)
= 60.8%ジメtルオルト7タレー
) (DMO): 9.6%4−カル
ポメトキシペンズアルデヒドージメナルアtタール:
5.5X4−カル
ボメトキシベンズアルデヒド: 2.03%p
−)ルイル酸メナルエステル(PTK): 6
.82%安息香酸メチルエステル二0.1 %例
5 米国特許第3621664号明細薔に記載の如き結晶話
中で例2の結晶から得られる凝固点63Cを有する結晶
残留勿を融解結晶に使用す机 この混合物をOCまでの温度範囲(冷却媒体温度)で1
20分間結晶させる。この場合凝固点106Cを有する
結晶体5.8 Kv及び凝固点49℃を有する結晶残留
物14.+Kfが得られる。
1 al 5Xジメテルインクタレート(DMT)
= 60.8%ジメtルオルト7タレー
) (DMO): 9.6%4−カル
ポメトキシペンズアルデヒドージメナルアtタール:
5.5X4−カル
ボメトキシベンズアルデヒド: 2.03%p
−)ルイル酸メナルエステル(PTK): 6
.82%安息香酸メチルエステル二0.1 %例
5 米国特許第3621664号明細薔に記載の如き結晶話
中で例2の結晶から得られる凝固点63Cを有する結晶
残留勿を融解結晶に使用す机 この混合物をOCまでの温度範囲(冷却媒体温度)で1
20分間結晶させる。この場合凝固点106Cを有する
結晶体5.8 Kv及び凝固点49℃を有する結晶残留
物14.+Kfが得られる。
この残留′#(付随物質ジメナルイン7pレート、ジメ
ナルオルト7メt/−ト、4−カルポメトキシペンズア
ルデヒドージメテルアtタール、4−カルボメトキシベ
ンズアルデヒド及びp−トイル酸メナルエステルを含有
するン中のDMTの含有率にもう約10%しかない。
ナルオルト7メt/−ト、4−カルポメトキシペンズア
ルデヒドージメテルアtタール、4−カルボメトキシベ
ンズアルデヒド及びp−トイル酸メナルエステルを含有
するン中のDMTの含有率にもう約10%しかない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノールに
よるエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート
(DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及
び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)と
の混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジ
メチルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b)段階a
)で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから再結
晶し、 c)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)段階
b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT、DMI及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出させ−副生成物中の DMT−含有率により共融組成に達することなしに−、 f)段階e)で得られるDMTを導出し、 g)段階e)で得られるDMI−DMO−留分を少くと
も部分的に移すことを特徴とする上記 方法。 2、段階e)で融解残留物を先づ0.5乃至2時間以内
に混合物の凝固点から0.5乃至15℃低い温度に冷却
し、次に結晶を成長させ、次に更に冷却する−但し共融
温度に達するこ となしに−、特許請求の範囲第1項記載の 方法。 3、段階e)で共融温度から0.5乃至3℃低い温度ま
で冷却する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法
。 4、段階g)でDMI−DMO−留分の5−15重量%
を移しそして残分を酸化段階に戻す特許請求の範囲第1
項乃至第3項のいづれかに記載の方法。 5、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノールに
よるエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート
(DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及
び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)と
の混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジ
メチルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b)段階a
)で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから再結
晶し、 c)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)段階
b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT、DMI及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出し−副生成物中の DMT−含有率により共融組成に達することなしに−、 f)段階e)で得られるDMTを導出し、 g)段階e)で得られるDMI−DMO−留分を移し、 h)段階e)で使用されない、段階d)で得られる残留
物の部分を酸化段階に戻すこと を特徴とする上記方法。 6、段階e)で残留物の融解部分を先づ0.5乃至2時
間以内に混合物の凝固点から0.5乃至15℃低い温度
に冷却し、次に結晶を成長させ、次に更に冷却する−但
し共融温度に達 することなしに−、特許請求の範囲第5項 記載の方法。 7、段階e)で共融温度から0.5乃至3℃低い温度ま
で冷却する特許請求の範囲第5項又は第6項記載の方法
。 8、段階d)で得られる残留物の5−15重量%を段階
e)に於て使用しそして残分を酸化段階に戻す特許請求
の範囲第5項乃至第7項のいづれかに記載の方法。 9、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノールに
よるエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート
(DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及
び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)と
の混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジ
メチルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留させる方法に於
て、 b、段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し− 副生成物中のDMT−含有率により共融組成に達するこ
となしに−、 c)段階b)で得られるDMTをメタノールから再結晶
し、 d)段階b)で得られるDMI−DMO−留分を少くと
も部分的に移し、 e)段階c)で得られる結晶DMTを導出し、f)段階
c)の母液からメタノールを蒸発させそして残留物を酸
化段階に戻すことを特 徴とする上記方法。 10、段階b)で融解せるDMTが豊かな留分を先づ0
.5乃至2時間以内に混合物の凝固点から0.5乃至1
5℃低い温度に冷却し、次に結晶を成長させ、次に更に
冷却する−但し共融 温度に達することなしに−、特許請求の範 囲第9項記載の方法。 11、段階b)で共融温度から0.5乃至3℃低い温度
まで冷却する特許請求の範囲第9項又は第10項記載の
方法。 12、段階d)でDMI−DMO−留分の5−15重量
%を移しそして残分を酸化段階に戻す特許請求の範囲第
9項乃至第11項のいづれかに記載の方法。 13、p−キシレンの酸化及び引き続いてのメタノール
によるエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレー
ト(DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)
及び他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)
との混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及び
ジメチルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留させる方法に於
て、 b)段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し− 副生成物中のDMT−含有率により共融組成に達するこ
となしに−、 c)段階b)で得られるDMTをメタノールから再結晶
し、 d)段階b)で得られるDMI−DMO−留分を移し、 e)段階c)で得られる結晶DMTを導出し、f)段階
c)の母液からメタノールを蒸発させそして残留物を酸
化段階に戻し、 g)段階b)では使用されない、段階a)で得られるD
MTが豊かな留分の部分をメタノールから再結晶し、こ
の様に得られる結晶 DMTを導出し、母液からメタノールを蒸発しそして残
分を酸化段階に戻すことを特徴 とする上記方法。 14、段階b)でDMTが豊かな留分の融解部分を先づ
0.5乃至2時間以内に混合物の凝固点から0.5乃至
15℃低い温度に冷却し、次に結晶を成長させ、次に更
に冷却する− 但し共融温度に達することなしに−、特 許請求の範囲第13項記載の方法。 15、段階b)で共融温度から0.5乃至3℃のみ高い
温度まで冷却する特許請求の範囲第 13項又は第14項記載の方法。 16、段階a)で得られるDMTが豊かな留分の5−1
5重量%を段階b)に於て使用しそ して残分を酸化段階に戻す特許請求の範囲 第13項乃至第15項のいづれかに記載の 方法。 17、p−キシレン及びp−トルイル酸メチルエステル
からなる混合物の酸化及び引き続いてのメタノールによ
るエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート(
DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及び
他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)との
混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジメ
チルオルトフタレート(DMO)を分離し、その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b)段階a
)で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから再結
晶し、 c)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)段階
b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT、DMI及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出し−副生成物中の DMT−含有率により共融組成に達することなしに−、 f)段階e)で得られるDMTを導出し、 g)段階e)で得られるDMI−DMO−留分を少くと
も部分的に移すことを特徴とする上記 方法。 18、p−キシレン及びp−トルイル酸メチルエステル
からなる混合物の酸化及び引き続いてのメタノールによ
るエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート(
DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及び
他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)との
混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジメ
チルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留し、b)段階a
)で得られるDMTが豊かな留分をメタノールから再結
晶し、 c)段階b)で得られる結晶DMTを導出し、d)段階
b)の母液からメタノールを蒸発させる方法に於て、 e)段階d)で得られる主としてDMT、DMI及びD
MOからなる残留物を融解しそして冷却によりDMTを
晶出し−副生成物中の DMT−含有率により共融組成に達することなしに−、 f)段階e)で得られるDMTを導出し、 g)段階e)で得られるDMI−DMO−留分を移し、
h)段階e)で使用されない、段階d)で得られる残留
物の部分を酸化段階に戻すことを特徴とする上記方法。 19、p−キシレン及びp−トルイル酸メチルエステル
からなる混合物の酸化及び引き続いてのメタノールによ
るエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート(
DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及び
他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)との
混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジメ
チルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留させる方法に於
て、 b)段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し−副生成物中のDMT−
含有率により共融組成に達することなしに−、 c)段階b)で得られるDMTをメタノールから再結晶
し、 d)段階b)で得られるDMI−DMO−留分を少くと
も部分的に移し、 e)段階c)で得られる結晶DMTを導出し、f)段階
c)の母液からメタノールを蒸発させそして残留物を酸
化段階に戻すことを特 徴とする上記方法。 20、p−キシレン及びp−トルイル酸メチルエステル
からなる混合物の酸化及び引き続いてのメタノールによ
るエステル化の際得られる、ジメチルイソフタレート(
DMI)及びジメチルオルトフタレート(DMO)及び
他の副生成物とジメチルテレフタレート(DMT)との
混合物からジメチルイソフタレート(DMI)及びジメ
チルオルトフタレート(DMO)を分離し、 その場合 a)エステル化生成物を1又は数回蒸留させる方法に於
て、 b)段階a)で得られるDMTが豊かな留分を融解しそ
して冷却によりDMTを晶出し− 副生成物中のDMT−含有率により共融組成に達するこ
となしに−、 c)段階b)で得られるDMTをメタノールから再結晶
し、 d)段階b)で得られるDMI−DMO−留分を移し、 e)段階c)で得られる結晶DMTを導出し、f)段階
c)の母液からメタノールを蒸発させそして残分を酸化
段階に戻し、 g)段階b)では使用されない、段階a)で得られるD
MTが豊かな留分の部分をメタノールから再結晶し、こ
の様に得られる結晶 DMTを導出し、母液からメタノールを蒸発しそして残
留物を酸化段階に戻すことを特 徴とする上記方法。
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