JPS6156561B2 - - Google Patents
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- JPS6156561B2 JPS6156561B2 JP54076699A JP7669979A JPS6156561B2 JP S6156561 B2 JPS6156561 B2 JP S6156561B2 JP 54076699 A JP54076699 A JP 54076699A JP 7669979 A JP7669979 A JP 7669979A JP S6156561 B2 JPS6156561 B2 JP S6156561B2
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- Japan
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- magnetic
- liquid paraffin
- coating film
- binder
- coating
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- Expired
Links
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体、特に磁気デイスク装置
用磁気記録媒体の製法に関する。
用磁気記録媒体の製法に関する。
支持体上に形成された磁気デイスク塗膜は磁気
ヘツドとの接触摩擦により損傷されるため、その
表面潤滑性が要求される。特に最近では、磁気デ
イスクの記録密度が高くなるとともに、磁気ヘツ
ドとの浮動間隔が狭くなる傾向にあるため、表面
潤滑性が高く、耐摩耗性に一層優れた塗膜が要求
されるようになつている。このような要求に対し
て従来は塗膜表面に潤滑剤を塗布することが行わ
れているが、十分な表面潤滑性を得るためには潤
滑剤を大量に塗布する必要がある。しかし、最近
では磁気デイスクの駆動、停止には接触駆動停止
方式が採用されることが多く、このため潤滑剤を
大量塗布した場合には磁気ヘツドがデイスクに密
着して駆動時にデイスクが損傷されることがあ
る。
ヘツドとの接触摩擦により損傷されるため、その
表面潤滑性が要求される。特に最近では、磁気デ
イスクの記録密度が高くなるとともに、磁気ヘツ
ドとの浮動間隔が狭くなる傾向にあるため、表面
潤滑性が高く、耐摩耗性に一層優れた塗膜が要求
されるようになつている。このような要求に対し
て従来は塗膜表面に潤滑剤を塗布することが行わ
れているが、十分な表面潤滑性を得るためには潤
滑剤を大量に塗布する必要がある。しかし、最近
では磁気デイスクの駆動、停止には接触駆動停止
方式が採用されることが多く、このため潤滑剤を
大量塗布した場合には磁気ヘツドがデイスクに密
着して駆動時にデイスクが損傷されることがあ
る。
本発明の目的は上記の如き従来の磁気デイスク
における欠点を解消し、表面潤滑性に優れ、従つ
て耐久性に優れた磁気デイスクを与えることので
きる磁気記録媒体の製法を提供することにある。
における欠点を解消し、表面潤滑性に優れ、従つ
て耐久性に優れた磁気デイスクを与えることので
きる磁気記録媒体の製法を提供することにある。
本発明は即ち支持体上に磁気デイスク塗膜を形
成して磁気記録媒体を製造する方法を提供するも
のであつて、この方法は磁気塗料中に、磁性粉末
及びバインダー等の固形分に対して2.5〜15重量
％の流動パラフインを添加し、これを支持体上に
塗布後、バインダーの硬化時に上記流動パラフイ
ンを分解、蒸発させて、塗膜中に多数のミクロポ
アを形成せしめることを特徴とする。
成して磁気記録媒体を製造する方法を提供するも
のであつて、この方法は磁気塗料中に、磁性粉末
及びバインダー等の固形分に対して2.5〜15重量
％の流動パラフインを添加し、これを支持体上に
塗布後、バインダーの硬化時に上記流動パラフイ
ンを分解、蒸発させて、塗膜中に多数のミクロポ
アを形成せしめることを特徴とする。
本発明により得られる磁気記録媒体はその磁気
塗膜中に２〜３μｍの大きさのミクロポアを多数
有し、従つてその表面に潤滑剤を塗布したとき、
このミクロポア内に多量の潤滑剤をトラツプし
て、その表面潤滑性を高くかつ経時安定性に優れ
たものとすることができる。
塗膜中に２〜３μｍの大きさのミクロポアを多数
有し、従つてその表面に潤滑剤を塗布したとき、
このミクロポア内に多量の潤滑剤をトラツプし
て、その表面潤滑性を高くかつ経時安定性に優れ
たものとすることができる。
本発明に用いられる流動パラフインは一般に―（
CH2―CH2（―oの構造を有し、その平均分子量は
500〜600であり、室温において粘稠な液体として
存在する。また、その分解量は250℃１時間で80
％以上であり、270℃、１時間では95％以上とな
る。磁気塗料中に添加されたこの流動パラフイン
は塗膜中において、バインダーの加熱硬化処理に
際して分解され、その分解物が蒸発して、その占
有領域にミクロポアとなる空間を作るのである。
CH2―CH2（―oの構造を有し、その平均分子量は
500〜600であり、室温において粘稠な液体として
存在する。また、その分解量は250℃１時間で80
％以上であり、270℃、１時間では95％以上とな
る。磁気塗料中に添加されたこの流動パラフイン
は塗膜中において、バインダーの加熱硬化処理に
際して分解され、その分解物が蒸発して、その占
有領域にミクロポアとなる空間を作るのである。
尚、本発明において流動パラフインの量を2.5
重量％よりも少なくする場合には十分な効果は得
られず、また15重量％より多くする場合には塗膜
の電磁変換特性、特にＳ／Ｎが劣化するので好ま
しくない。
重量％よりも少なくする場合には十分な効果は得
られず、また15重量％より多くする場合には塗膜
の電磁変換特性、特にＳ／Ｎが劣化するので好ま
しくない。
以下、本発明を例によつて更に説明する。
例 １
磁性粉末（γ−Fe2O3）55ｇ、アクリル樹脂
（50％溶液；三菱レーヨン、デユラクロン
SE5437）54ｇ、エポキシ樹脂（50％溶液；シエ
ル化学、エピコート1001）18ｇ、フエノール樹脂
（20％溶液；ユニオンカーバイド、BKR）45ｇ及
びトルエン／キシレン／ベンジルアルコール
（２：２：１）混合溶剤382ｇの混合物をボールミ
ル中で24時間混練した。これに流動パラフイン10
ｇを添加し、更に24時間混練した。得られた磁性
塗料をアルミ円板にスピンコートし、加熱硬化
（温度250℃）後、所定の膜厚になるまで研磨し
た。
（50％溶液；三菱レーヨン、デユラクロン
SE5437）54ｇ、エポキシ樹脂（50％溶液；シエ
ル化学、エピコート1001）18ｇ、フエノール樹脂
（20％溶液；ユニオンカーバイド、BKR）45ｇ及
びトルエン／キシレン／ベンジルアルコール
（２：２：１）混合溶剤382ｇの混合物をボールミ
ル中で24時間混練した。これに流動パラフイン10
ｇを添加し、更に24時間混練した。得られた磁性
塗料をアルミ円板にスピンコートし、加熱硬化
（温度250℃）後、所定の膜厚になるまで研磨し
た。
得られた磁性塗膜上に、フレオン中0.1〜10％
の濃度のパーフルオロアルキルポリエーテルの潤
滑剤溶液をコーテイングし、熱処理（温度200
℃）後、このデイスクを模擬ヘツドと摺動させ
て、耐久性を評価した。潤滑剤溶液濃度１％以上
において耐久性は良好であつたが、濃度が７％を
超えるとデイスクとヘツドとの密着のトラブルが
発性した。
の濃度のパーフルオロアルキルポリエーテルの潤
滑剤溶液をコーテイングし、熱処理（温度200
℃）後、このデイスクを模擬ヘツドと摺動させ
て、耐久性を評価した。潤滑剤溶液濃度１％以上
において耐久性は良好であつたが、濃度が７％を
超えるとデイスクとヘツドとの密着のトラブルが
発性した。
例 ２
例１と同様にし、流動パラフインの添加量をそ
れぞれ2.5ｇ、５ｇ、12.5ｇ、15ｇ及び20ｇとし
て磁気デイスクを製造し、耐久性を試験した。
れぞれ2.5ｇ、５ｇ、12.5ｇ、15ｇ及び20ｇとし
て磁気デイスクを製造し、耐久性を試験した。
その結果、耐久性は流動パラフイン量が磁性粉
末及びバインダーの固形分に対して2.5重量％以
上である場合に良好であることが認められた。
末及びバインダーの固形分に対して2.5重量％以
上である場合に良好であることが認められた。
Claims (1)
- １ 支持体上に磁気デイスク塗膜を形成するに際
して、磁気塗料中に、磁性粉末及びバインダー等
の固形分に対して2.5〜15重量％の流動パラフイ
ンを添加し、これを支持体上に塗布後、バインダ
ーの硬化時に前記流動パラフインを分解、蒸発さ
せて、塗膜の表面潤滑性を高めるために潤滑剤を
貯留するための多数のミクロポアを塗膜中に形成
せしめることを特徴とする磁気記録媒体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7669979A JPS563435A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Manufacture of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7669979A JPS563435A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Manufacture of magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS563435A JPS563435A (en) | 1981-01-14 |
| JPS6156561B2 true JPS6156561B2 (ja) | 1986-12-03 |
Family
ID=13612739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7669979A Granted JPS563435A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Manufacture of magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS563435A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990234A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-24 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| US4546035A (en) * | 1983-06-27 | 1985-10-08 | International Business Machines Corporation | Polymeric additives for magnetic coating materials |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53141003A (en) * | 1977-05-16 | 1978-12-08 | Hitachi Ltd | Production of magnetic disc |
-
1979
- 1979-06-20 JP JP7669979A patent/JPS563435A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53141003A (en) * | 1977-05-16 | 1978-12-08 | Hitachi Ltd | Production of magnetic disc |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS563435A (en) | 1981-01-14 |
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