JPS6147915A - 反射光学系 - Google Patents
反射光学系Info
- Publication number
- JPS6147915A JPS6147915A JP59169640A JP16964084A JPS6147915A JP S6147915 A JPS6147915 A JP S6147915A JP 59169640 A JP59169640 A JP 59169640A JP 16964084 A JP16964084 A JP 16964084A JP S6147915 A JPS6147915 A JP S6147915A
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- Japan
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- mirror
- optical system
- concave
- relay
- systems
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
- G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
- G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors
- G02B17/0657—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射光学系に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ等の集積
回路を製造するときの投影露光装置に用いられる反射光
学系に関するものである。
回路を製造するときの投影露光装置に用いられる反射光
学系に関するものである。
従来より投影露光装置＆１１に用いＩＣ、ＬＳＩ等の集
積回路のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反
射光学系が例えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開
昭５３−１００２３０号公報等で提案されている。これ
らの投影露光装置に用いられている反射光学系は非常に
高い解像力を有している。
積回路のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反
射光学系が例えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開
昭５３−１００２３０号公報等で提案されている。これ
らの投影露光装置に用いられている反射光学系は非常に
高い解像力を有している。
投影像の解株力は使用する波長が短かくなればなる程良
くなる。この為に、なるぺ〈短波長を放射する光源が用
いられている。
くなる。この為に、なるぺ〈短波長を放射する光源が用
いられている。
そして画面中心に限らず広い画面にわたシ高解像力が得
られるよう略冗全に収差補正がなされた光学系が用いら
れている。
られるよう略冗全に収差補正がなされた光学系が用いら
れている。
一般にレンズを用いた結像光学系は色収差を補正する為
に複数のガラス材料を用いて構成されている。短波長側
の光は閤解像力を得るには有利でわるが瓜波長側では色
分散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが困
難でらる◇この為に高解像力が要求されるＩＣパターン
等の焼付用の結像光学系には反射鏡を用い次光学系が多
く用いられている。
に複数のガラス材料を用いて構成されている。短波長側
の光は閤解像力を得るには有利でわるが瓜波長側では色
分散が大きい為設計上、色収差を良好に補正するのが困
難でらる◇この為に高解像力が要求されるＩＣパターン
等の焼付用の結像光学系には反射鏡を用い次光学系が多
く用いられている。
これは反射光学系は色収差がなく、任意の波長の光を使
用することができ、かつ光学系全体の透過率をレンズ系
を用い九ときに比べて高めることができる等の特徴かめ
る為でらる。
用することができ、かつ光学系全体の透過率をレンズ系
を用い九ときに比べて高めることができる等の特徴かめ
る為でらる。
本発明は反射光学系の特徴を生かし九投影露光装置に好
適な高解像力の得られる反射光学系の提供を目的とする
〇 本発明の目的を達成する為の反射光学系の主光る特徴は
凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させるように構
成し几単−のミツ−系を複数個連鎖的に配置する際、前
記ミラー系間の少なくとも一箇所に物体像を中継する為
の複数の凹面ｇＩＡを有するリレー系を配置し、全体の
結像倍率が縮少となるように構成したことである。
適な高解像力の得られる反射光学系の提供を目的とする
〇 本発明の目的を達成する為の反射光学系の主光る特徴は
凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させるように構
成し几単−のミツ−系を複数個連鎖的に配置する際、前
記ミラー系間の少なくとも一箇所に物体像を中継する為
の複数の凹面ｇＩＡを有するリレー系を配置し、全体の
結像倍率が縮少となるように構成したことである。
このように本発明は３つのミラー系と１つのリレー系で
構成し、リレー系をフィールド系的な作用をするように
構成し、全体的に小型でしかも良好に収差補正を行りｔ
反射光学系を達成して匹る。
構成し、リレー系をフィールド系的な作用をするように
構成し、全体的に小型でしかも良好に収差補正を行りｔ
反射光学系を達成して匹る。
次に本発明の実施列を各図と共に説明する。
第１図は本発明の一実施例の反射光学系の概略図でおる
。同図の反射光学系は第２図に示す３つの反射６Ａｉｌ
ｉ□ 、 Ｍ２． Ｍ３ より成るミラー系Ｓ１を３
個と第３図に示す２つの反射！３！ Ｍ３□。
。同図の反射光学系は第２図に示す３つの反射６Ａｉｌ
ｉ□ 、 Ｍ２． Ｍ３ より成るミラー系Ｓ１を３
個と第３図に示す２つの反射！３！ Ｍ３□。
Ｍ３□より成るリレー系Ｆｔ−実質的に同一光軸上に位
置するように、かつ全体の結像倍率が縮少となるように
配置しｋものでｆ５す、これにより高解像力の反射光学
系を達成してｉる。
置するように、かつ全体の結像倍率が縮少となるように
配置しｋものでｆ５す、これにより高解像力の反射光学
系を達成してｉる。
第１図の実Ｍ列では反射鏡Ｍ□〜Ｍ３で第１のミラー系
Ｓ１、反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２、反射鏡
Ｍ７〜Ｍ８でリレー系Ｆそして反射＠Ｍ９〜Ｍ１、で第
３のミラー系８３を各々構成してｉる。
Ｓ１、反射鏡Ｍ４〜Ｍ６で第２のミラー系Ｓ２、反射鏡
Ｍ７〜Ｍ８でリレー系Ｆそして反射＠Ｍ９〜Ｍ１、で第
３のミラー系８３を各々構成してｉる。
そして物点Ｐ を順次ミラー系Ｓ１．８２とリレー系Ｆ
そしてミラー系Ｓ３で各々結像を繰υ返し、最終的に像
点Ｐ’ （Ｐ５）に結像倍率１７、．５ となるよう
に結ｆ象させている。
そしてミラー系Ｓ３で各々結像を繰υ返し、最終的に像
点Ｐ’ （Ｐ５）に結像倍率１７、．５ となるよう
に結ｆ象させている。
次に第１図に示す反射光学系を構成しているミラー系の
結像状態を説明する。
結像状態を説明する。
第２図にしいて３つの反射鏡Ｍ１． Ｍ２゜Ｍ３ は
物点Ｐ工からの光束Ｌ工が凹面ｍＭ１、凸面鏡Ｍ２そし
て凹面鏡Ｍ３の順に反射しｔ後、像点Ｐ工′に結像する
ように配置されている。
物点Ｐ工からの光束Ｌ工が凹面ｍＭ１、凸面鏡Ｍ２そし
て凹面鏡Ｍ３の順に反射しｔ後、像点Ｐ工′に結像する
ように配置されている。
第２図に示すミラー系Ｓの凹面鏡Ｍ３は凸面鏡Ｍ２と凹
面鏡町との間に位置するよ５に配置されている。
面鏡町との間に位置するよ５に配置されている。
第３図に示すリレー系Ｆの２つの凹面鏡は物点Ｐ工から
の光束を２つの凹面鏡Ｍ３□２Ｍ３□により像点Ｐ□′
に結像するように配置されている。
の光束を２つの凹面鏡Ｍ３□２Ｍ３□により像点Ｐ□′
に結像するように配置されている。
本実施列においてＩＪ ｖ−系Ｆｆｒ：光学的に第２の
ミラー系Ｓ と第３のミラー系Ｓ３との開国配置しフィ
ールド作用をさせることくより第３のミラー系Ｓ３への
光束径を小さくして反射光学系の小型化を図っている。
ミラー系Ｓ と第３のミラー系Ｓ３との開国配置しフィ
ールド作用をさせることくより第３のミラー系Ｓ３への
光束径を小さくして反射光学系の小型化を図っている。
本実施列において物体は第４図に示すよりな円弧状の一
部分Ｑ□を有効面としている。この為にミラー系の各反
射鏡の外形を必ずしも円形とする必要はなく不要の所は
削除して用いれば全体として反射光学系を小型にするこ
とができる。
部分Ｑ□を有効面としている。この為にミラー系の各反
射鏡の外形を必ずしも円形とする必要はなく不要の所は
削除して用いれば全体として反射光学系を小型にするこ
とができる。
本実施列においてミラー系ｓ、ｓ２．ｓ３を各々凹面鏡
、凸面鏡そして凹面鏡より成るすなわち正、負そして正
の屈折力より成る反射鏡により構成することにより１つ
のミラー系から発生する諸収差、特にコマ収差、像面湾
曲を少なくして全体的に良好なる結像性能を得ている。
、凸面鏡そして凹面鏡より成るすなわち正、負そして正
の屈折力より成る反射鏡により構成することにより１つ
のミラー系から発生する諸収差、特にコマ収差、像面湾
曲を少なくして全体的に良好なる結像性能を得ている。
このように本実施例では第１図に示すようにミラー系Ｓ
により物点ｐｔ−像点Ｐ工′へ、すなわちミラー系Ｓ
の物点Ｐ２へ、ミラー系ＳＫより物点Ｐ を像点Ｐ２
′へすなわちリレ一系Ｆの物点Ｐ３へ以下同様にリレー
系Ｆそしてミラー系８３により順次結像を繰り返して最
終的に物点Ｐｌｔ像点Ｐ４′へ縮少させて結像させてい
る。
により物点ｐｔ−像点Ｐ工′へ、すなわちミラー系Ｓ
の物点Ｐ２へ、ミラー系ＳＫより物点Ｐ を像点Ｐ２
′へすなわちリレ一系Ｆの物点Ｐ３へ以下同様にリレー
系Ｆそしてミラー系８３により順次結像を繰り返して最
終的に物点Ｐｌｔ像点Ｐ４′へ縮少させて結像させてい
る。
本実施例ではミラー系Ｓ、Ｓ４とリレー系Ｐｉ縮少系と
し、ミラー系５２ｔ−拡大系として構成している。
し、ミラー系５２ｔ−拡大系として構成している。
具体的に各ミラー系及びリレー系の結像倍率を示すと表
−１の如くでらる。
−１の如くでらる。
表−１各ミラー系の結像倍率
本実施列では全体として結像倍率ワ４．５ を達成する
のに３つのミラー系と１つのリレー系を表−１に示すよ
うな結像倍ｉｔ有するように構成することＫより全体的
に収差補正をバランス良く行っている。
のに３つのミラー系と１つのリレー系を表−１に示すよ
うな結像倍ｉｔ有するように構成することＫより全体的
に収差補正をバランス良く行っている。
特にミラー系Ｓ２を拡大系とすることによりミラー系８
１８４とリレー系Ｆで生じ次コマ収差、像面湾曲及び歪
曲収差等を良好に補正している。
１８４とリレー系Ｆで生じ次コマ収差、像面湾曲及び歪
曲収差等を良好に補正している。
本実施列では複数のミラー系で反射光学系を構成する場
合に生じる光束のケラＶを第２のミラー系Ｓ２とリレー
系Ｆとの間と、第３のミラー系Ｓ３の後方に全反射鏡）
（、、Ｈ２ｔ−配置して防止している。
合に生じる光束のケラＶを第２のミラー系Ｓ２とリレー
系Ｆとの間と、第３のミラー系Ｓ３の後方に全反射鏡）
（、、Ｈ２ｔ−配置して防止している。
本実施列において％に光束のクランを少なくしかつ全体
的に良好なる光学性能を得る為にはミラー系Ｓエ 、Ｓ
３を構成する凹面鏡Ｍ工、凸面／ａ、Ｍ２そして凹面鏡
Ｍ３の曲率半径を各々Ｒ工、 Ｒ２，Ｒ３とするとき Ｒ□／Ｒ２≧２ ・・・・・−・・（１）
Ｒ□／Ｒ３〉ｌ ・・・・・・・・・（２
）なる諸条件を満足させるのが好ましい。
的に良好なる光学性能を得る為にはミラー系Ｓエ 、Ｓ
３を構成する凹面鏡Ｍ工、凸面／ａ、Ｍ２そして凹面鏡
Ｍ３の曲率半径を各々Ｒ工、 Ｒ２，Ｒ３とするとき Ｒ□／Ｒ２≧２ ・・・・・−・・（１）
Ｒ□／Ｒ３〉ｌ ・・・・・・・・・（２
）なる諸条件を満足させるのが好ましい。
条件式１１１ 、 ＋２１は物体の有効画面が第４図に
示すように円弧状の一部分でらるとき、軸外収差の発生
を押えつつ、ミラー系全体の小製化を図りかつ物体から
の光束がクランることなく所定位置に結像させる為のも
のである。
示すように円弧状の一部分でらるとき、軸外収差の発生
を押えつつ、ミラー系全体の小製化を図りかつ物体から
の光束がクランることなく所定位置に結像させる為のも
のである。
条件式（１１ｔ−外れるとコマフレアーが増大し又光束
のクランが多くなってくる。又条件式（２１ｔ−外れる
と凹面鏡Ｍ３の曲率半径が凹面鏡Ｍ工に比べ大きくなり
すぎミラー系全体としての小型化を図りつつ所定の屈折
力を得るのが困難となってくる。
のクランが多くなってくる。又条件式（２１ｔ−外れる
と凹面鏡Ｍ３の曲率半径が凹面鏡Ｍ工に比べ大きくなり
すぎミラー系全体としての小型化を図りつつ所定の屈折
力を得るのが困難となってくる。
特に本実施列において像面湾曲を少なくし高コントラス
トの物体像を得るＫは前記ミラー系Ｓ工、Ｓ３における
３つの反射鏡の曲率半径Ｒ□。
トの物体像を得るＫは前記ミラー系Ｓ工、Ｓ３における
３つの反射鏡の曲率半径Ｒ□。
Ｒ２，Ｒ３を更Ｋ
ＩＲ，Ｉ ＞ ｌＲ３１＞ ｌＲ２１・・・・・・・・
・（３）とすることである。
・（３）とすることである。
仁の条件を外れると像面湾曲が大きくなり光束のクラン
が大きくなってくると共に複数のミラー系を組み合わせ
九反射光学系において良好なる収差補正を行うのが困難
となる。
が大きくなってくると共に複数のミラー系を組み合わせ
九反射光学系において良好なる収差補正を行うのが困難
となる。
又本実施列において光束のクランを少なくしミラー系の
小型化を図る為に好ましくは前記ミラー系Ｓ２の凹面鏡
Ｍ工、凸面鏡Ｍ２そして凹面鏡Ｍ の曲率半径を各りＲ
工／ 、 Ｒ２′、 ａ３′とするとき なる条件を満足することである。
小型化を図る為に好ましくは前記ミラー系Ｓ２の凹面鏡
Ｍ工、凸面鏡Ｍ２そして凹面鏡Ｍ の曲率半径を各りＲ
工／ 、 Ｒ２′、 ａ３′とするとき なる条件を満足することである。
この条件を外れるとミラー系Ｓ□により結像された物体
像を光束のクランをなくした状態でリレー系Ｆの物点に
結像させるのが困難となる。
像を光束のクランをなくした状態でリレー系Ｆの物点に
結像させるのが困難となる。
そしてフィールド系として用いるリレー系Ｆ１ミラー系
Ｓ２からの光束を効率的に収斂して第３のミラー系Ｓ３
の物点く結像させる為には前記リレー系Ｆの凹面鏡１ｖ
ｌｌ、Ｍ の曲率半径を各々Ｒ、Ｒとするとき ＩＲ３□７Ｒ３□ｌ （１°−曲（５）なる条件を満足
することが好ましい。
Ｓ２からの光束を効率的に収斂して第３のミラー系Ｓ３
の物点く結像させる為には前記リレー系Ｆの凹面鏡１ｖ
ｌｌ、Ｍ の曲率半径を各々Ｒ、Ｒとするとき ＩＲ３□７Ｒ３□ｌ （１°−曲（５）なる条件を満足
することが好ましい。
この条件を外れるとフィールド系としての作用が十分で
なくな９ミラー系Ｓ３ヲ小型化にすＳ工〜Ｓ３そしてリ
レー系の少なくとも１つのミラー系を移動させて行うの
が収差補正及び倍率調整上好ましい。
なくな９ミラー系Ｓ３ヲ小型化にすＳ工〜Ｓ３そしてリ
レー系の少なくとも１つのミラー系を移動させて行うの
が収差補正及び倍率調整上好ましい。
次に第１図に示す実施列のｉ）＆数値を示す。
Ｒｉ は物点Ｐ□から数えて第１番目の反射鏡の曲率
半径、Ｄは各反射鏡との間隔で光の進行方向に沿って左
方から右方に到ったときを正、その逆を負として示す。
半径、Ｄは各反射鏡との間隔で光の進行方向に沿って左
方から右方に到ったときを正、その逆を負として示す。
物体の有効画面はスリット幅で２ｍＮｍＮ有効ノナンバ
ー３（ＮＡ−α１５）である。物点Ｐ０ の有効画面
幅は光軸からの高さ２１８〜２２０ｗ０範囲内である。
ー３（ＮＡ−α１５）である。物点Ｐ０ の有効画面
幅は光軸からの高さ２１８〜２２０ｗ０範囲内である。
Ｒ（Ｄ）
２−１４α５ ２７０
３ −３８５． −１０１０
５ ４３９．６７ −２８０
６ ４４＆６８ ５８０
？ −４２Ｌ３Ｂ −２９２，５８１０１Ｌ５
６２５ １Ｇ −１６７，５８３１０ １１−４４９，７９ 以上のように本発明によれば４つのミラー系を適切に組
み合わせることＫより、高解像力の反射光学系を達成す
ることができろ。
６２５ １Ｇ −１６７，５８３１０ １１−４４９，７９ 以上のように本発明によれば４つのミラー系を適切に組
み合わせることＫより、高解像力の反射光学系を達成す
ることができろ。
第１図は本発明の一実施例の光学系の概略図、第２図、
第３図は第１図の一部分の説明図、第４図は本発明に係
る物体の有効画面の説明図、第５図は第１図の光学系の
諸収差図である。 図中Ｙは物置、Ｓ −８３は各々ミラー系、Ｆはリレー
系、Ｍ□〜Ｍ□□は各々反射鏡を示す。
第３図は第１図の一部分の説明図、第４図は本発明に係
る物体の有効画面の説明図、第５図は第１図の光学系の
諸収差図である。 図中Ｙは物置、Ｓ −８３は各々ミラー系、Ｆはリレー
系、Ｍ□〜Ｍ□□は各々反射鏡を示す。
Claims (5)
- （１）凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させるよ
うに構成した単一のミラー系を複数個連鎖的に配置する
際、前記ミラー系間の少なくとも一箇所に物体像を中継
する為の複数の凹面鏡を有するリレー系を配置し、全体
の結像倍率が縮少となるように構成したことを特徴とす
る反射光学系。 - （２）前記反射光学系を物体側より順に第１、第２のミ
ラー系Ｓ＿１、Ｓ＿２、前記リレー系Ｆ＿１そして第３
のミラー系Ｓ＿３より構成したことを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の反射光学系。 - （３）前記ミラー系Ｓ＿１、Ｓ＿４の凹面鏡Ｍ＿１、凸
面鏡Ｍ＿２そして凹面鏡Ｍ＿３の曲率半径を各々Ｒ＿１
、Ｒ＿２、Ｒ＿３としたとき Ｒ＿１／Ｒ＿２≧２ Ｒ＿１／Ｒ＿３＞１ なる条件を満足することを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載の反射光学系。 - （４）前記ミラー系Ｓ＿２の凹面鏡Ｍ＿１、凸面鏡Ｍ＿
２そして凹面鏡Ｍ＿３の曲率半径を各々Ｒ＿１′、Ｒ＿
２′、Ｒ＿３′とするとき Ｒ＿１′／Ｒ＿２′＞１ Ｒ＿１′／Ｒ＿３′＞１ なる条件を満足することを特徴とする特許請求の範囲第
３項記載の反射光学系。 - （５）前記リレー系Ｆは２つの凹面鏡Ｍ＿３＿１、Ｍ＿
３＿２を有しており、前記凹面鏡Ｍ＿３＿１、Ｍ＿３＿
２の曲率半径を各々Ｒ＿３＿１、Ｒ＿３＿２とするとき ｜Ｒ＿３＿１／Ｒ＿３＿２｜＜１ なる条件を満足することを特徴とする特許請求の範囲第
４項記載の反射光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169640A JPS6147915A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
| US06/764,001 US4701035A (en) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Reflection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169640A JPS6147915A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147915A true JPS6147915A (ja) | 1986-03-08 |
| JPH0525087B2 JPH0525087B2 (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=15890235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59169640A Granted JPS6147915A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | 反射光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147915A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US5071240A (en) * | 1989-09-14 | 1991-12-10 | Nikon Corporation | Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image |
| JPH04234722A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 補償型光学システム |
| WO2006087978A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP59169640A patent/JPS6147915A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US5071240A (en) * | 1989-09-14 | 1991-12-10 | Nikon Corporation | Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image |
| JPH04234722A (ja) * | 1990-08-28 | 1992-08-24 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 補償型光学システム |
| WO2006087978A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
| EP1860477A1 (en) * | 2005-02-15 | 2007-11-28 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure equipment and device manufacturing method |
| EP1860477A4 (en) * | 2005-02-15 | 2008-08-20 | Nikon Corp | OPTICAL PROJECTION SYSTEM, EXPOSURE EQUIPMENT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
| JP5201526B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2013-06-05 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
| KR101332494B1 (ko) * | 2005-02-15 | 2013-11-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0525087B2 (ja) | 1993-04-09 |
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