JPS6130725A - 干渉計 - Google Patents
干渉計Info
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- JPS6130725A JPS6130725A JP15377184A JP15377184A JPS6130725A JP S6130725 A JPS6130725 A JP S6130725A JP 15377184 A JP15377184 A JP 15377184A JP 15377184 A JP15377184 A JP 15377184A JP S6130725 A JPS6130725 A JP S6130725A
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- Japan
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- beam splitter
- light path
- splitter
- phase plates
- fixed
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/45—Interferometric spectrometry
- G01J3/453—Interferometric spectrometry by correlation of the amplitudes
- G01J3/4537—Devices with refractive scan
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、フーリエ変換赤外分光光度計に使用して最適
なマイケルソン型の干渉計に関するっ［従来技術］ 第４図はフーリエ変換赤外分光方法に使用されるマイケ
ルソン型干渉計を示しており、入射赤外光ＩＲは、ビー
ムスプリッタ１によって分割させられる。該ビームスプ
リッタ１によって反射した赤外光は固定反射鏡２によっ
て反射され、再び該ど−ムスプリッタ１に入射する。該
ビームスプリッタ１を透過した赤外光は、移動反射鏡３
によって反射され、再び該ビームスプリッタに入射する
。
なマイケルソン型の干渉計に関するっ［従来技術］ 第４図はフーリエ変換赤外分光方法に使用されるマイケ
ルソン型干渉計を示しており、入射赤外光ＩＲは、ビー
ムスプリッタ１によって分割させられる。該ビームスプ
リッタ１によって反射した赤外光は固定反射鏡２によっ
て反射され、再び該ど−ムスプリッタ１に入射する。該
ビームスプリッタ１を透過した赤外光は、移動反射鏡３
によって反射され、再び該ビームスプリッタに入射する
。
該反射鏡２，３によって反射された赤外光は、該ど−ム
スブリッタ１上で干渉するが、該干渉光は、試料レル４
に照射された後、図示しない検出器によって検出される
。ここで、移動反射鏡３とビームスプリンタ１との間の
光路上、ビームスプリッタ１からの距離が、ビームスプ
リッタ１と固定反射鏡２どの間の距離に等しい位置を基
点Ｐとし、該基点Ｐから移動反射鏡３までの距離をＸと
すると、Ｘ＝Ｑからｘ＝ｍまで移動反射鏡を移動させ、
その間、干渉光を検出すれば、ｘ＝Ｑのところでピーク
を有する所謂インタフェログラムが得られる。
スブリッタ１上で干渉するが、該干渉光は、試料レル４
に照射された後、図示しない検出器によって検出される
。ここで、移動反射鏡３とビームスプリンタ１との間の
光路上、ビームスプリッタ１からの距離が、ビームスプ
リッタ１と固定反射鏡２どの間の距離に等しい位置を基
点Ｐとし、該基点Ｐから移動反射鏡３までの距離をＸと
すると、Ｘ＝Ｑからｘ＝ｍまで移動反射鏡を移動させ、
その間、干渉光を検出すれば、ｘ＝Ｑのところでピーク
を有する所謂インタフェログラムが得られる。
第５図は特開昭５８−７２７号に記載された干渉計を示
しており、ビームスプリッタ１によって反射された光は
第１の固定反射＃！Ｌ２によって反射され、該ビームス
プリッタ１を透過した光は、第２の固定反ｌ）ｊ鏡５に
よって反射される。該ビームスプリッタ１と固定反射鏡
５との間の光路には、一対の回転位相板６．７が配置さ
れている。該位相板６．７は、軸０．０−の回りに図中
矢印方向に回転可能に配置されており、第５図（ａ＞の
状態から第５図（ｂ）の状態とすることができる。
しており、ビームスプリッタ１によって反射された光は
第１の固定反射＃！Ｌ２によって反射され、該ビームス
プリッタ１を透過した光は、第２の固定反ｌ）ｊ鏡５に
よって反射される。該ビームスプリッタ１と固定反射鏡
５との間の光路には、一対の回転位相板６．７が配置さ
れている。該位相板６．７は、軸０．０−の回りに図中
矢印方向に回転可能に配置されており、第５図（ａ＞の
状態から第５図（ｂ）の状態とすることができる。
第５図（ａ）の状態と第５図（ｂ）の状態と比較すると
、後者においては、位相板６．７を通過する光の光路長
りが長くなり、位相板の屈折率が光路の他の雰囲気より
高いものを選択することにより、後者では、前者に比べ
て、ビームスプリッタ１と固定反射鏡５との間の実質的
な光路長を長くすることができる。従って、該一対の位
相板を対称的に回転させること、すなわち、該２枚の位
相板のなす角度θを変化させることにより、ビームスプ
リッタ１で分割された一方の光路長を連続的に変化さぼ
ることができる。この光路長の変化に伴う干渉光を検出
すれば、インクフェログラムが得られる。
、後者においては、位相板６．７を通過する光の光路長
りが長くなり、位相板の屈折率が光路の他の雰囲気より
高いものを選択することにより、後者では、前者に比べ
て、ビームスプリッタ１と固定反射鏡５との間の実質的
な光路長を長くすることができる。従って、該一対の位
相板を対称的に回転させること、すなわち、該２枚の位
相板のなす角度θを変化させることにより、ビームスプ
リッタ１で分割された一方の光路長を連続的に変化さぼ
ることができる。この光路長の変化に伴う干渉光を検出
すれば、インクフェログラムが得られる。
［発明が解決しようとする問題点コ
得られたインタフェログラムについて、フーリエ変換処
理を行えば、試料の赤外吸収スペクトルを得ることがで
きるが、フーリエ変換によって正確なスペクトルを得る
ためには、第４図の構成では、移動反射鏡の移動距離を
長くする必要がある。
理を行えば、試料の赤外吸収スペクトルを得ることがで
きるが、フーリエ変換によって正確なスペクトルを得る
ためには、第４図の構成では、移動反射鏡の移動距離を
長くする必要がある。
ところで移動反射鏡の反射面は、固定反射鏡によって反
射された赤外光と、移動反射鏡によって反射された赤外
光との干渉性を良好に維持するために、常に移動の方向
に垂直に保たれる必要がある。
射された赤外光と、移動反射鏡によって反射された赤外
光との干渉性を良好に維持するために、常に移動の方向
に垂直に保たれる必要がある。
該移動距離が短い場合には、該反射面を垂直に維持する
ことは比較的容易であるものの、該距離が長くなるに従
って、反射面の垂直度の維持は加速度的に困難になる。
ことは比較的容易であるものの、該距離が長くなるに従
って、反射面の垂直度の維持は加速度的に困難になる。
又、該距離を長くするためには、移動反射鏡を支持する
軸受けや駆動機構が、必然的に大型となり、干渉計自体
も大型とならざるを得ない。又、実際の装７置では、移
動反射１３は往復移動させられるが、その際、かなりの
質量の反射鏡を停止２反転させるエネルギが必要となり
、高速での反射鏡の往復移動は困難となる。
軸受けや駆動機構が、必然的に大型となり、干渉計自体
も大型とならざるを得ない。又、実際の装７置では、移
動反射１３は往復移動させられるが、その際、かなりの
質量の反射鏡を停止２反転させるエネルギが必要となり
、高速での反射鏡の往復移動は困難となる。
第５図の構成では、回転機構によって光路長を変化させ
るようにしている。その結果、回転位相板６．７の軸受
は、直線摺動軸受に比べて精度の良いものが作り易く、
又、光路長は回転角θによって変化するが、このθを大
きくしても、軸受製作上の困難さが増すことはない。更
に、固定反射鏡５へ入射する光は、単に位相板を透過し
た光であるため、該位相板６，７の回転軸精度が悪くと
も、該固定反射鏡への光の入射角度は変化せず、測定に
影響を及ぼすことが少ない。しかしながら、この第５図
の構成でも、θを大きくすると、位相板６，７がビーム
スプリッタ１．固定反射鏡５に接近するので、この位相
板６，７は往復回転させられ、該位相板の停止２反転に
大きなエネルギが必要となる。
るようにしている。その結果、回転位相板６．７の軸受
は、直線摺動軸受に比べて精度の良いものが作り易く、
又、光路長は回転角θによって変化するが、このθを大
きくしても、軸受製作上の困難さが増すことはない。更
に、固定反射鏡５へ入射する光は、単に位相板を透過し
た光であるため、該位相板６，７の回転軸精度が悪くと
も、該固定反射鏡への光の入射角度は変化せず、測定に
影響を及ぼすことが少ない。しかしながら、この第５図
の構成でも、θを大きくすると、位相板６，７がビーム
スプリッタ１．固定反射鏡５に接近するので、この位相
板６，７は往復回転させられ、該位相板の停止２反転に
大きなエネルギが必要となる。
従って、本発明の主目的は、往復移動機構を設ける必要
なく、ビームスプリッタによって分割された一方の光路
の長さを繰返し変化させることのできる干渉計を提供す
ることである。
なく、ビームスプリッタによって分割された一方の光路
の長さを繰返し変化させることのできる干渉計を提供す
ることである。
［問題点を解決するための手段］
本発明に基づく干渉計は、光をビームスプリッタによっ
て２種の光に分割し、該分割された夫々の光を第１と第
２の反射鏡によって反射させ、該反射された光を該ビー
ムスプリッタ上にて干渉させるように構成した干渉計に
おいて、該ビームスプリッタと一方の固定反射鏡との間
の光路上に、該光路の雰囲気と屈折率が異なった材料で
形成された複数の板状部材を回転可能に配置し、該複数
の板状部拐の夫々が対向する面を互いに平行に形成し、
該ビームスプリッタと対向する板状部材の面と該一方の
固定反射鏡と対向する板状部材の面とを平行に形成した
ことを特徴としている。
て２種の光に分割し、該分割された夫々の光を第１と第
２の反射鏡によって反射させ、該反射された光を該ビー
ムスプリッタ上にて干渉させるように構成した干渉計に
おいて、該ビームスプリッタと一方の固定反射鏡との間
の光路上に、該光路の雰囲気と屈折率が異なった材料で
形成された複数の板状部材を回転可能に配置し、該複数
の板状部拐の夫々が対向する面を互いに平行に形成し、
該ビームスプリッタと対向する板状部材の面と該一方の
固定反射鏡と対向する板状部材の面とを平行に形成した
ことを特徴としている。
［実施例］
以下、本発明の実施例を添附図面に基づいて詳述する。
第１図は、本発明の一実施例を示しており、入射光ＩＲ
はビームスプリッタ１１によって２光束に分割される。
はビームスプリッタ１１によって２光束に分割される。
該ビームスプリッタ１１によって反射された光は、第１
の固定反射＃Ｒ１２によって反射され、該ビーム哄プリ
ッタ１１に再入射する。
の固定反射＃Ｒ１２によって反射され、該ビーム哄プリ
ッタ１１に再入射する。
該ビームスプリッタ１１を透過した光は、第２の固定反
射鏡１３に入射して反射され、該ビームスプリッタ１１
に再入射する。該ビームスプリッタに再入射した２種の
光は干渉され、干渉光ＩＬは図示しない試料セルに照射
される。該ビームスプリッタ１１と第２の固定反射鏡１
３との間の光路上には、２枚の位相板１４．１５が配置
されている。該位相板１４．１５は、光路の雰囲気より
高い屈折率の材料で形成されている。該位相板１４のど
−ムスプリッタ１１と対向する面と位相板１５の固定反
射鏡１３と対向する面は光軸に対して垂直に形成され、
該位相板１４．１５の対向する面は、光軸に対して所定
の角度傾いて平行に形成されている。更に、該位相板１
４．１５は、図示しない回転機構によって、光軸Ｏに平
行で所定距離離れた軸ｓ、ｓ”の回りに回転させられる
。
射鏡１３に入射して反射され、該ビームスプリッタ１１
に再入射する。該ビームスプリッタに再入射した２種の
光は干渉され、干渉光ＩＬは図示しない試料セルに照射
される。該ビームスプリッタ１１と第２の固定反射鏡１
３との間の光路上には、２枚の位相板１４．１５が配置
されている。該位相板１４．１５は、光路の雰囲気より
高い屈折率の材料で形成されている。該位相板１４のど
−ムスプリッタ１１と対向する面と位相板１５の固定反
射鏡１３と対向する面は光軸に対して垂直に形成され、
該位相板１４．１５の対向する面は、光軸に対して所定
の角度傾いて平行に形成されている。更に、該位相板１
４．１５は、図示しない回転機構によって、光軸Ｏに平
行で所定距離離れた軸ｓ、ｓ”の回りに回転させられる
。
第２図（ａ）〜（ｄ）は、第１図の位相板１４゜１５を
夫々軸ｓ、ｓ′の回り回転させ１〔状態を示しており、
（ａ）は、第１図と同じ状態、（ｂ）。
夫々軸ｓ、ｓ′の回り回転させ１〔状態を示しており、
（ａ）は、第１図と同じ状態、（ｂ）。
（Ｃ）、（ｄ）は夫々、（ａ）から位相板１４゜１５を
９０°、１８０” 、２７０°回転させた状態を示し−
Ｃいる。この第２図から明らかな如く、位相板１４．１
５を通る光路の長さしは、第２図（ａ）の状態で最も短
く、（Ｃ）の状態で、最も長くされ、（ｂ）、（ｄ）の
状態は、夫々その中間の長さとされる。該長さＬの変化
は、実質的にビームスプリッタ１１と固定反射鏡１３と
の間の光路長の変化に対応するため、該２枚の位相板１
４．１５の回転によって、該光路長を連続的且つ周期的
に変化させることができる。尚、位相板１４．１５の対
向する面は、光軸に対して同じ角度に形成されているた
め、２枚の位相板１４．１５を透過した光が固定反射鏡
１３に入射する角度は、該位相板が回転しても変化する
ことはない。
９０°、１８０” 、２７０°回転させた状態を示し−
Ｃいる。この第２図から明らかな如く、位相板１４．１
５を通る光路の長さしは、第２図（ａ）の状態で最も短
く、（Ｃ）の状態で、最も長くされ、（ｂ）、（ｄ）の
状態は、夫々その中間の長さとされる。該長さＬの変化
は、実質的にビームスプリッタ１１と固定反射鏡１３と
の間の光路長の変化に対応するため、該２枚の位相板１
４．１５の回転によって、該光路長を連続的且つ周期的
に変化させることができる。尚、位相板１４．１５の対
向する面は、光軸に対して同じ角度に形成されているた
め、２枚の位相板１４．１５を透過した光が固定反射鏡
１３に入射する角度は、該位相板が回転しても変化する
ことはない。
尚、上述した実施例では、位相板を光軸に平行な軸の回
りに回転させるように構成したが、該位相板を光軸と所
定の角度傾いた軸の回りに回転させるようにしても良い
。又、ビームスプリッタと一方の固定反射鏡との間の光
路上に配置する位相板の数は２枚に限らず、３枚以上で
あっても良い。
りに回転させるように構成したが、該位相板を光軸と所
定の角度傾いた軸の回りに回転させるようにしても良い
。又、ビームスプリッタと一方の固定反射鏡との間の光
路上に配置する位相板の数は２枚に限らず、３枚以上で
あっても良い。
その場合、固定反Ｉ）Ｉ鏡に入射する光の入射角を常に
一定とするため、ビームスプリッタと対向する位相板の
面と、固定反射鏡に対向する位相板の面とを平行とする
と共に、位相板同志の対向する面は、平行とする必要が
ある。第３図は、３枚の位相板２０，２１．２２を用い
た場合の構成の一例を示している。該３枚の位相板２０
，２１．２２は、夫々回転軸ｓ、ｓ’ 、ｓ”の回りに
回転可能に配置されている。
一定とするため、ビームスプリッタと対向する位相板の
面と、固定反射鏡に対向する位相板の面とを平行とする
と共に、位相板同志の対向する面は、平行とする必要が
ある。第３図は、３枚の位相板２０，２１．２２を用い
た場合の構成の一例を示している。該３枚の位相板２０
，２１．２２は、夫々回転軸ｓ、ｓ’ 、ｓ”の回りに
回転可能に配置されている。
［効果］
以上詳述した如く、本発明に基づく干渉計は、ビームス
プリッタと固定反射鏡との間の光路上に複数枚の位相板
を配置し、該位相板を回転させるように構成しているた
め、従来の回転駆動方式の利点を全て備えており、更に
、該光学系を連続して同一方向に回転させることによっ
て、光学系の往復移動の必要なく、ビームスプリッタに
よって分割された光の光路長を繰返し変化させることが
できる。従って、光路長を変化させる駆動機構を簡単 なものとすることができる。
プリッタと固定反射鏡との間の光路上に複数枚の位相板
を配置し、該位相板を回転させるように構成しているた
め、従来の回転駆動方式の利点を全て備えており、更に
、該光学系を連続して同一方向に回転させることによっ
て、光学系の往復移動の必要なく、ビームスプリッタに
よって分割された光の光路長を繰返し変化させることが
できる。従って、光路長を変化させる駆動機構を簡単 なものとすることができる。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は、第１図
の位相板が回転した状態を示す図、第３図は本発明の他
の実施例を示す図、第４図、第５図は、従来の干渉計を
示す図である。 １１・・・ビームスプリッタ １２．１３・・・固定反射鏡 １４．１５・・・位相板
の位相板が回転した状態を示す図、第３図は本発明の他
の実施例を示す図、第４図、第５図は、従来の干渉計を
示す図である。 １１・・・ビームスプリッタ １２．１３・・・固定反射鏡 １４．１５・・・位相板
Claims (1)
- 光をビームスプリッタによって２種の光に分割し、該分
割された夫々の光を第１と第２の反射鏡によって反射さ
せ、該反射された光を該ビームスプリッタ上にて干渉さ
せるように構成した干渉計において、該ビームスプリッ
タと一方の固定反射鏡との間の光路上に、該光路の雰囲
気と屈折率が異なった材料で形成された複数の板状部材
を回転可能に配置し、該複数の板状部材の夫々が対向す
る面を互いに平行に形成し、該ビームスプリッタと対向
する板状部材の面と、該一方の固定反射鏡と対向する板
状部材の面とを平行に形成した干渉計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15377184A JPS6130725A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15377184A JPS6130725A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 干渉計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6130725A true JPS6130725A (ja) | 1986-02-13 |
Family
ID=15569777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15377184A Pending JPS6130725A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 干渉計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6130725A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5128798A (en) * | 1991-02-07 | 1992-07-07 | International Business Machines Corporation | Addressable wedge etalon filter |
| JP2014521087A (ja) * | 2011-07-14 | 2014-08-25 | ファロ テクノロジーズ インコーポレーテッド | 位相およびピッチ調節付きスキャナ |
-
1984
- 1984-07-24 JP JP15377184A patent/JPS6130725A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5128798A (en) * | 1991-02-07 | 1992-07-07 | International Business Machines Corporation | Addressable wedge etalon filter |
| JP2014521087A (ja) * | 2011-07-14 | 2014-08-25 | ファロ テクノロジーズ インコーポレーテッド | 位相およびピッチ調節付きスキャナ |
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