JPS6129291B2 - - Google Patents
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- JPS6129291B2 JPS6129291B2 JP53145117A JP14511778A JPS6129291B2 JP S6129291 B2 JPS6129291 B2 JP S6129291B2 JP 53145117 A JP53145117 A JP 53145117A JP 14511778 A JP14511778 A JP 14511778A JP S6129291 B2 JPS6129291 B2 JP S6129291B2
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- JP
- Japan
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- gas
- control member
- discharge control
- distribution device
- outer periphery
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Links
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Basic Packing Technique (AREA)
- Auxiliary Methods And Devices For Loading And Unloading (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は粒状物分配装置に関する。詳しくは本
発明は粒状物をある範囲全体に均一に分散させる
ための装置に関する。
発明は粒状物をある範囲全体に均一に分散させる
ための装置に関する。
従来、石油精製工場や化学工場で多数使用され
ている接触反応塔に触媒粒を充填する際にはソツ
ク(sock)法と呼ばれる方法が採用されて来
た。この方法においては、ホツパーから反応塔上
面の開口を通して反応塔の底部又は触媒層表面ま
でホース(これをソツクと称する)を延ばし、ホ
ース内に触媒粒を満したのちホースを徐々に引き
上げることによつて充填作業が行なわれる。この
場合、ホースから放出された触媒粒は円錐状に堆
積することになるので時々表面をかきならす必要
がある。このかきならし作業は反応塔内に人が入
つて行なうものであり、場合により防塵マスクや
酸素マスクをつけて行なう必要がある危険な作業
である。もしもかきならし作業が全く行なわれな
かつたり、不十分であつたりすると、触媒層中に
は空隙や充填の不均一な部分が生じ、その結果、
反応塔の運転中に触媒層が沈下してクエンチノズ
ル、再分配器、温度検出端子などの塔内機器を破
損したり、触媒層内を通過する流体に偏流を生じ
て局部的な異常発熱や望ましくない副反応を惹起
することとなる。従つて反応塔中に触媒粒を均一
に充填するための簡単な手段が強く求められてい
た。上記ソツク法に代るものとしていくつかの分
配装置が提案されてきているが、いずれも、分配
が不均一であつたり、コントロールが困難である
などの欠点を有し、必ずしも十分なものとはいえ
なかつた。
ている接触反応塔に触媒粒を充填する際にはソツ
ク(sock)法と呼ばれる方法が採用されて来
た。この方法においては、ホツパーから反応塔上
面の開口を通して反応塔の底部又は触媒層表面ま
でホース(これをソツクと称する)を延ばし、ホ
ース内に触媒粒を満したのちホースを徐々に引き
上げることによつて充填作業が行なわれる。この
場合、ホースから放出された触媒粒は円錐状に堆
積することになるので時々表面をかきならす必要
がある。このかきならし作業は反応塔内に人が入
つて行なうものであり、場合により防塵マスクや
酸素マスクをつけて行なう必要がある危険な作業
である。もしもかきならし作業が全く行なわれな
かつたり、不十分であつたりすると、触媒層中に
は空隙や充填の不均一な部分が生じ、その結果、
反応塔の運転中に触媒層が沈下してクエンチノズ
ル、再分配器、温度検出端子などの塔内機器を破
損したり、触媒層内を通過する流体に偏流を生じ
て局部的な異常発熱や望ましくない副反応を惹起
することとなる。従つて反応塔中に触媒粒を均一
に充填するための簡単な手段が強く求められてい
た。上記ソツク法に代るものとしていくつかの分
配装置が提案されてきているが、いずれも、分配
が不均一であつたり、コントロールが困難である
などの欠点を有し、必ずしも十分なものとはいえ
なかつた。
本発明はこれら従来技術の欠点を解決し粒状物
をある領域上に均一に分配するための簡便な装置
を提供することを目的とし、 上部に装入部を、また下端に排出口を、それぞ
れ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する円錐形
の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置、 を要旨とするものである。
をある領域上に均一に分配するための簡便な装置
を提供することを目的とし、 上部に装入部を、また下端に排出口を、それぞ
れ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する円錐形
の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置、 を要旨とするものである。
以下に本発明の好適な実施例を例示する図面を
参照しながら本発明についてより具体的に説明す
る。
参照しながら本発明についてより具体的に説明す
る。
第1図は本発明の粒状物分配装置の一例を示す
縦断面図(但しガス吹き出し器及びその付随部分
は断面図ではない。)であり、第2図はその底面
図である。また第3図は本発明の粒状物分配装置
を反応塔に設置した状態を示す模式的破断図であ
る。
縦断面図(但しガス吹き出し器及びその付随部分
は断面図ではない。)であり、第2図はその底面
図である。また第3図は本発明の粒状物分配装置
を反応塔に設置した状態を示す模式的破断図であ
る。
図中、1は供給管であり、その上部には粒状物
の装入口2を、また下端には排出口3を、それぞ
れ有している。装入口2には、ホース等の導管を
経て、あるいは第3図に示すように直接に、粒状
物を貯蔵したホツパー4を接続する。
の装入口2を、また下端には排出口3を、それぞ
れ有している。装入口2には、ホース等の導管を
経て、あるいは第3図に示すように直接に、粒状
物を貯蔵したホツパー4を接続する。
排出口3に近接してそれを塞ぐように円錐形の
吐出制御部材5が設けられている。吐出制御部材
5は軸受6を介して垂直軸7の周りに回転し得る
ようになつている。吐出制御部材5の外周部下面
に多数の羽根8が取り付けられている。この実施
例においては羽根8の各々は吐出制御部材5の底
面の円の半径方向に対して一定の角度を有する邪
魔板からなつている。9は吐出制御部材5の下面
に取付けられた整流板である10は吐出制御部材
5の円錐面に設けられた開口であり、円錐面上を
滑り落ちる粒状物がそこを通つて落下するように
なつている。開口10は、互に独立した円形又は
矩形の孔であつてもよく、また円錐面の頂部から
底部に至る範囲に設けられた連続的または断続的
なスリツトであつてもよい。開口10の大きさ及
び位置(特に円錐面における高さ分布)は該開口
を通つて落下する粒状物が円錐の底面円上に均一
に分布するように適当に定めることができる。後
述するように吐出制御部材5は粒状物の分配操作
中にガス圧によつて回転し、粒状物はこの回転す
る円錐面上の開口10から落下するので、開口分
布の多少の不均一はならされることとなるから、
開口分布の決定は厳密性を要しない。
吐出制御部材5が設けられている。吐出制御部材
5は軸受6を介して垂直軸7の周りに回転し得る
ようになつている。吐出制御部材5の外周部下面
に多数の羽根8が取り付けられている。この実施
例においては羽根8の各々は吐出制御部材5の底
面の円の半径方向に対して一定の角度を有する邪
魔板からなつている。9は吐出制御部材5の下面
に取付けられた整流板である10は吐出制御部材
5の円錐面に設けられた開口であり、円錐面上を
滑り落ちる粒状物がそこを通つて落下するように
なつている。開口10は、互に独立した円形又は
矩形の孔であつてもよく、また円錐面の頂部から
底部に至る範囲に設けられた連続的または断続的
なスリツトであつてもよい。開口10の大きさ及
び位置(特に円錐面における高さ分布)は該開口
を通つて落下する粒状物が円錐の底面円上に均一
に分布するように適当に定めることができる。後
述するように吐出制御部材5は粒状物の分配操作
中にガス圧によつて回転し、粒状物はこの回転す
る円錐面上の開口10から落下するので、開口分
布の多少の不均一はならされることとなるから、
開口分布の決定は厳密性を要しない。
ガス吹き出し器11は吐出制御部材5の外周部
下面近くに設けられた環状管であり、外側に多数
のガス吹き出し孔12を有している。ガス吹き出
し器11は輻13によつて垂直軸7に固定され、
垂直軸7はその上部の螺子部14によつて供給管
1上部の螺子部15に螺合して支えられている。
吐出制御部材5は軸受6によつて垂直軸7上に支
えられているので、上記螺子部の回転によつてそ
の垂直位置が変化させられ、それに応じて排出口
3と吐出制御部材5との間隙の大きさが調節され
る。本実施例においてはガス吹き出し器11に続
く輻13及び垂直軸7はいずれも中空となつてお
り、垂直軸7の上端は弁16を経てガス供給ライ
ン17に接続されている。ガス源(図示せず)か
ら供給されるガスは、ガス供給ライン17、弁1
6、垂直軸7、及び輻13を経てガス吹き出し器
11のガス吹出し孔12から半径方向に吹き出
し、羽根8に衝突して吐出制御部材5を回転させ
ながらさらに外側に吹き出すこととなる。18は
垂直軸7を供給管1内に心出しするための支持板
である。また19は供給管1を例えば反応塔開口
等の支持台上に載置するための支持フランジであ
る。
下面近くに設けられた環状管であり、外側に多数
のガス吹き出し孔12を有している。ガス吹き出
し器11は輻13によつて垂直軸7に固定され、
垂直軸7はその上部の螺子部14によつて供給管
1上部の螺子部15に螺合して支えられている。
吐出制御部材5は軸受6によつて垂直軸7上に支
えられているので、上記螺子部の回転によつてそ
の垂直位置が変化させられ、それに応じて排出口
3と吐出制御部材5との間隙の大きさが調節され
る。本実施例においてはガス吹き出し器11に続
く輻13及び垂直軸7はいずれも中空となつてお
り、垂直軸7の上端は弁16を経てガス供給ライ
ン17に接続されている。ガス源(図示せず)か
ら供給されるガスは、ガス供給ライン17、弁1
6、垂直軸7、及び輻13を経てガス吹き出し器
11のガス吹出し孔12から半径方向に吹き出
し、羽根8に衝突して吐出制御部材5を回転させ
ながらさらに外側に吹き出すこととなる。18は
垂直軸7を供給管1内に心出しするための支持板
である。また19は供給管1を例えば反応塔開口
等の支持台上に載置するための支持フランジであ
る。
次に本発明の粒状物分配装置を用いて反応塔に
触媒粒を充填する方法につき第3図を参照しなが
な説明する。供給管1はその支持フランジ19に
よつて反応塔30の開口31上に載置される。供
給管の装入部2は支持枠25上に固定されたホツ
パー4に直接接続されている。垂直軸7上部の螺
子部によつて吐出制御部材5の垂直高さ、従つて
供給管の排出口3を吐出制御部材5との間隙の大
きさ、が調節される。ガス供給ライン17から弁
16を経てガスが供給され、このガスはガス吹き
出し器11から外周へ向つて吹き出し、羽根8に
衝突して吐出制御部材5を回転させ、さらにその
外側へと吹き出す。触媒粒はホツパー4から装入
部2を経て供給管1内に供給され、さらに排出口
3と吐出制御部材5との間隙から吐出して、吐出
制御部材5の円錐面上を滑りまたは転がりながら
落下する。触媒粒子の一部は円錐面上の開口10
から落下し、円錐面の回転による力を受けながら
弧を描いて触媒層32の表面に到達する。円錐面
の下端に到達した触媒粒はそれ自身の重力並びに
円錐面の回転による接線方向の力及び遠心力を受
けながら円錐面から飛び出し、さらにガス吹き出
し器11から羽根8を通過して吹き出してきたガ
スの圧力をも受けて飛散し、弧を描いて落下して
触媒層32の表面上に到達する。
触媒粒を充填する方法につき第3図を参照しなが
な説明する。供給管1はその支持フランジ19に
よつて反応塔30の開口31上に載置される。供
給管の装入部2は支持枠25上に固定されたホツ
パー4に直接接続されている。垂直軸7上部の螺
子部によつて吐出制御部材5の垂直高さ、従つて
供給管の排出口3を吐出制御部材5との間隙の大
きさ、が調節される。ガス供給ライン17から弁
16を経てガスが供給され、このガスはガス吹き
出し器11から外周へ向つて吹き出し、羽根8に
衝突して吐出制御部材5を回転させ、さらにその
外側へと吹き出す。触媒粒はホツパー4から装入
部2を経て供給管1内に供給され、さらに排出口
3と吐出制御部材5との間隙から吐出して、吐出
制御部材5の円錐面上を滑りまたは転がりながら
落下する。触媒粒子の一部は円錐面上の開口10
から落下し、円錐面の回転による力を受けながら
弧を描いて触媒層32の表面に到達する。円錐面
の下端に到達した触媒粒はそれ自身の重力並びに
円錐面の回転による接線方向の力及び遠心力を受
けながら円錐面から飛び出し、さらにガス吹き出
し器11から羽根8を通過して吹き出してきたガ
スの圧力をも受けて飛散し、弧を描いて落下して
触媒層32の表面上に到達する。
このように本発明の分配装置を用いて粒状物を
分配する場合には、粒状物は、自身の重力による
垂直方向の力のみではなく、吐出制御部材の回転
による接線方向及び半径方向の力、さらにはガス
吹き出し器からのガス圧を含む複雑な力を受けて
分散し落下するので、広い範囲に渉る均一な分配
が達成される。
分配する場合には、粒状物は、自身の重力による
垂直方向の力のみではなく、吐出制御部材の回転
による接線方向及び半径方向の力、さらにはガス
吹き出し器からのガス圧を含む複雑な力を受けて
分散し落下するので、広い範囲に渉る均一な分配
が達成される。
ガス吹き出し器11に供給されるガスは通常、
空気を使用して支障はないが、粒状物の性質によ
り必要に応じて窒素、水素等を使用することもで
きる。弁16の調節によりガス吹き出し器11か
らのガスの吹き出し圧が変化し、それによつて吐
出制御部材5の回転速度が変化するので粒状物の
飛散距離を変化させることができる。粒状物の吐
出速度は、前記螺子部の調節により排出口3と吐
出制御部材5との間隙を変化させることによつて
変化させることができる。
空気を使用して支障はないが、粒状物の性質によ
り必要に応じて窒素、水素等を使用することもで
きる。弁16の調節によりガス吹き出し器11か
らのガスの吹き出し圧が変化し、それによつて吐
出制御部材5の回転速度が変化するので粒状物の
飛散距離を変化させることができる。粒状物の吐
出速度は、前記螺子部の調節により排出口3と吐
出制御部材5との間隙を変化させることによつて
変化させることができる。
本発明の粒状物分配装置を用いて粒状物の分配
を行なう場合には、粒状物は重力、回転による力
及びガス圧を含む複雑な力を受けて分配させられ
るので、分配の均一性が特に優れている。また分
配の速度も大きく、かつ種々の形状の粒状物の分
配に使用することができる。
を行なう場合には、粒状物は重力、回転による力
及びガス圧を含む複雑な力を受けて分配させられ
るので、分配の均一性が特に優れている。また分
配の速度も大きく、かつ種々の形状の粒状物の分
配に使用することができる。
特に本発明の粒状物分配装置を使用して反応塔
に触媒粒を充填する場合について考えると、触媒
粒は均一かつ高密度に充填されることとなるの
で、前述した触媒層沈下による内部機器の破損、
あるいは偏流及び空隙の発生を原因とする異常反
応が低減される。また触媒粒が高密度で充填され
るので、反応条件が同一であれば反応原料の供給
量を増大することによつて増産が可能となるし、
供給量を同一とすれば反応条件が緩和されること
によつて燃料の節約あるいは触媒寿命の延長とい
つた効果が達成される。
に触媒粒を充填する場合について考えると、触媒
粒は均一かつ高密度に充填されることとなるの
で、前述した触媒層沈下による内部機器の破損、
あるいは偏流及び空隙の発生を原因とする異常反
応が低減される。また触媒粒が高密度で充填され
るので、反応条件が同一であれば反応原料の供給
量を増大することによつて増産が可能となるし、
供給量を同一とすれば反応条件が緩和されること
によつて燃料の節約あるいは触媒寿命の延長とい
つた効果が達成される。
本発明の粒状物分配装置はこのような種々の利
点を有する粒状物の均一分配を達成する簡便な手
段を提供するものであり、工業上益するところ多
大である。
点を有する粒状物の均一分配を達成する簡便な手
段を提供するものであり、工業上益するところ多
大である。
第1図は本発明の粒状物分配装置の一例を示す
縦断面図であり、第2図はその底面図である。第
3図は本発明の粒状物分配装置を反応塔に設置し
て使用する状態を示す模式破断図である。 1:供給管、4:ホツパー、5:吐出制御部
材、7:垂直軸、8:羽根、10:開口、11:
ガス吹き出し器、16:弁、17:ガス供給ライ
ン、30:反応塔、32:触媒層。
縦断面図であり、第2図はその底面図である。第
3図は本発明の粒状物分配装置を反応塔に設置し
て使用する状態を示す模式破断図である。 1:供給管、4:ホツパー、5:吐出制御部
材、7:垂直軸、8:羽根、10:開口、11:
ガス吹き出し器、16:弁、17:ガス供給ライ
ン、30:反応塔、32:触媒層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 上部に装入部を、また下端に排出口を、それ
ぞれ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する、円錐
形の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置。 2 特許請求の範囲第1項に記載の粒状物分配装
置において、該ガス吹き出し器は吐出制御部材の
外周部下面近くに設けられた外側にガス吹き出し
孔を有する環状管であることを特徴とする装置。 3 特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の粒
状物分配装置において、該装入部にホツパーが取
り付けられていることを特徴とする装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14511778A JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14511778A JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5570641A JPS5570641A (en) | 1980-05-28 |
JPS6129291B2 true JPS6129291B2 (ja) | 1986-07-05 |
Family
ID=15377776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14511778A Granted JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5570641A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63172877A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | 日本建鐵株式会社 | 冷凍冷蔵クロ−ズドシヨ−ケ−スの加湿方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2872497B1 (fr) * | 2004-07-02 | 2007-11-30 | Total France Sa | Dispositif et procede pour le chargement d'une enceinte avec un solide divise comprenant un arbre de rotation creux |
ITBO20090446A1 (it) * | 2009-07-10 | 2011-01-11 | Balistreri Gianni Domenico Augusto | Macchina per la distribuzione di catalizzatore all'interno di un reattore. |
JP6383679B2 (ja) * | 2015-02-12 | 2018-08-29 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
WO2023112111A1 (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-22 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
CN115215052B (zh) * | 2022-06-21 | 2023-11-03 | 立达超微科技(安徽青阳)有限公司 | 一种颗粒料输送转运装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS484758U (ja) * | 1971-06-17 | 1973-01-19 |
-
1978
- 1978-11-24 JP JP14511778A patent/JPS5570641A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5570641A (en) | 1980-05-28 |
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