JPS61286380A - 1−アリ−ル−4−ヘテロサイクリル−ピラゾ−ル類 - Google Patents

1−アリ−ル−4−ヘテロサイクリル−ピラゾ−ル類

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JPS61286380A
JPS61286380A JP13041286A JP13041286A JPS61286380A JP S61286380 A JPS61286380 A JP S61286380A JP 13041286 A JP13041286 A JP 13041286A JP 13041286 A JP13041286 A JP 13041286A JP S61286380 A JPS61286380 A JP S61286380A
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イエルク・シユテツター
オツト・シヤルナー
ラインホルト・ゲーリング
マルクス・リンデイツヒ
ハンス−ヨアヒム・ザンテル
ロベルト・アール・シユミツト
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Bayer AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な1−アリール−4−ヘテロサイクリル
−ピラゾール、その製造法及びその除草剤としての使用
法に関する。
ある種の1−アリール−ピラゾール、例えば4−ジア/
−5−プロピオンアミド−1−(2,3゜4−トリクロ
ロフェニル)−ピラゾールが除ty 性を有することは
すでに公知である(参照、独■公開特許第3,226,
513号)。
しかしながら、これらの従来がら公知の化合物の雑草に
対する除草活性並びにその重要な作物111“1物によ
る許容性はすべての使用分野において必ずしも完全には
満足されない。
式(I) [式中、R’は水素又はアルキルを表わし、R2は水素
又はハロゲンを表わし、 R3,R’、R5,R6及びR7は互いに独立にそれぞ
れ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アルコキシカルボニル、ハロゲノアルキル、ハロ
ゲノアルキル又は基−3(0)n−R6を表わし、但し
基R3、R4、R5、R6及びR7の少くとも1つは水
素と異なり、そして R8はアルキル、ハロゲノアルキル、アミノ、アルキル
アミノ又はジアルキルアミノを表わし、また ■は数0.1又は2を表わし、そして I(eLは随時ハロゲン、ニトロ、アルキル、アルコキ
シ、アルキルチオ又はハロゲノアルキルで置換された芳
香族単核の複素環構造を表わす1 の新規な1−アリール−4−へテロサイクリル−ピラゾ
ールが発見された。
更に一般式(1) 1式中、R’は水素又はアルキルを表わし、R2は水素
又はハロゲンを表わし、 R3,R4、R5、R6及びR7は互いに独立にそれぞ
れ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アルコキシカルボニル、ハロゲノアルキル、ハロ
ゲノアルキル又は基−8(0)n−R6を表わし、但し
基[ぐ3、R4、R5、R6及びR7の少くとも1つは
水素と異なり、そして Raはアルキル、ハロゲノアルキル、アミノ、アルキル
アミノ又はジアルキルアミノを表わし、また nは数0.1又は2を表わし、そして Hetは随時ハロゲン、ニトロ、アルキル、アルコキシ
、アルキルチオ又はハロデフアルキルで16換された芳
香族単核の複素環構造を表わす1 の新規な1−アリール−4−へテロサイクリル−ピラゾ
ールは式(n) (n) 1(+ 1式中、Rl、R3,R4,R5,R6,R’及びHe
tは−に述の意味を有する] の5−アミノ−1−アリール−4−へテロサイクリル−
ピラゾールを反応助剤の存在下に及び適当ならばハロゲ
ン化水素酸の存在下に及び適当ならば還元剤の存在下に
及び適当ならば希釈剤の存在下に無機又は育成ナイトラ
イドと反応させることによって製造できることが発見さ
れた。
最後に、一般式(1)の新規な1−アリール−4−ヘテ
ロサイクリル−ビラゾールは除草性、特に選択的除草性
を有することが発見された。
驚くことに、本発明による式(1)の1−アリール−4
−へテロザイクリルービラゾールは化学的に及び作用に
関して類似の化合物である従来から公知の1−アリール
−ピラゾール、例えば4−シアノ−5−プロピオンアミ
ド−1−(2,3,4−トリクロルフェニル)−ピラゾ
ールと比べて、その雑草に対する大トな除草活性の他に
実質的に改良された重要な作物植物に対する選択性も示
す。
式(■)は本発明の1−アリール−4−へテロサイクリ
ル−ピラゾールの一般的な定義を与える。
式(I)の好適な化合物は、 R1が水素或いは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖のアル
キルを表わし、 R2は水素、弗素、塩素、臭素又はヨウ素を表わし、 R3、l’(4、RS 、 R6及びR゛′は互いに独
立にそれぞれ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、或いは
それぞれ直鎖又は分枝鎖の且つアルキル部分の炭素数が
1〜4のアルキル、アルコキシ又はアルコキシカルボニ
ル、或いはそれぞれ直鎖又は分枝鎖の且つ炭素数1〜4
及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9のハロデフ
アルキル又はハロゲノアルコキシを表わし、或いは基−
8(0)n−R8を表わし、但しR3、R4、R5、R
6及びR7の少くとも1つは水素と異なり、そして R6がアミノを表わし或いはそれぞれ直鎖又は分枝鎖の
且つ各アルキル部分の炭素数が1〜4のアルキル、アル
キルアミノ又はジアルキルアミノを表わし、或いは炭素
数1〜4の及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9
の直鎖又は分枝鎖ハロデフアルキルを表わし、また nが数0,1及び2であり、そして He t、が随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又
はポリ置換されていてよく、窒素、酸素及び硫黄を含ん
でなる群からの同一の又は異なるヘテロ原子1〜3つを
含有し且つ炭素原子又は窒素原子を通しで結合すること
ができる5貝又は6貝の単核芳香族複素環構造を表わし
、但しこの適当な置換基はハロゲン、ニトロ、それぞれ
直鎖又は分枝鎖の且つ炭素数1〜4のアルキル、アルコ
キシ又はアルキルチオ、或いは炭素数1〜4且つ同一の
又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分枝鎖ハロ
デフアルキルである、 のものである。
式(1)のとくに好適な化合物は、 R1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、
或いはn−1i−13−又はt−ブチルを表わし、 R2が水素、弗素、塩素、臭素又はヨウ素を表わし、 R3、R4、R5、R6及びR7が互いに独立に水素、
シアノ、ニトロ、弗素、塩素、臭素、ヨウ素、メチル、
エチル、n−及びi−プロピル、nti−。
S−及びt−ブチル、メ)4シ、エトキシ、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、トリフルオルメチル、
トリクロルメチル、ノクロルフルオルメチル、ジフルオ
ルクロルメチル、クロルメチル、ジクロルメチル、ジフ
ルオルメチル、ペンタフルオルエチル、テトラフルオル
エチル、トリフルオルクロルエチル、)lJフルオルエ
チル、ジフルオルジクロルエチル、トリフルオルジクロ
ルエチル、ペンタクロルエチル、トリフルオルメトキシ
、トリクロルメトキシ、ジクロルフルオルメトキシ、ジ
フルオルクロルメトキシ、クロルメトキシ、ジクロルメ
トキシ、ジフルオルメトキシ、ペンタフルオルエトキシ
、テトラフルオルエトキシ、トリフルオルクロルエトキ
シ、トリフルオルエトキシ、ジフルオルジクロルエトキ
シ、17フルオルジクロルエトキシ、ペンタクロルエト
キシ、又は基−8(0)n−R”を表わし、但し基R3
、R4、R5、R6又はR7の少くとも1つは水素と異
なり、そして R8がメチル、エチル、アミノ、メチルアミ/、エチル
アミ/、ジメチルアミ/、ジエチルアミ/、フルオルジ
クロルメチル、ジフルオルクロルメチル、テトラフルオ
ルエチル、17フルオルクロルエチル又はトリフルオル
メチルを表わし、nが数0.1又は2を表わし、そして Hetが随時弗素、塩素、臭素、ニトロ、メチル、エチ
ル、n−及びi−プロピル、メトキシ、エトキシ、□−
及びi−プロポキン、メチルチオ、エチルチオ、n−及
びi−プロピルチオ及びトリフルオルメチルの中からの
同一の又は異なる置換基でモノ置換ないしトリ置換され
ていてよい複索環構造を表わし且つ式 のらのであり、但し 一19= Yがそれぞれの場合酸素又は硫黄或いは炭素数1〜4の
N−アルキルを表わす、 のものである。
式(1)の非常に特に好適な化合物は、R1が水素を表
わし、 R2が水素、塩素又は臭素を表わし、 R3、R4、R5、R6及びR?はそれぞれ互いに独立
に水素、弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、イソプロ
ピル、メトキシ、ニドキシ、トリフルオルメチル、ジク
ロルフルオルメチル、ジフルオルクロルメチル、トリフ
ルオルメトキシ又は基−8(0)n−R8を表わし、但
し基R3、R4、R5、R6又はR7の少くとも1つは
水素と異なり、モしてR8がメチル、トリフルオルメチ
ル、フルオルジクロルメチル又はジフルオルクロルメチ
ルを表わし、また nが数0,1又は2を表わし、そして Hetが式 %式% 製造例で言及する化合物の他に、一般式(1)の次の1
−アリール−4−へテロサイクリル−ピラゾールもそれ
ぞれ言及することができる:第1s It   HCI   CI   CF3II   C
1//II   II   CI   HOCF、  
II   C1//It   II   CI   )
l  5o2CF3HCIHII   CI   If
   OCF、  )l   II     //II
   CI   CI   HCF3II   H//
)I   CI   CI   CI   CF3  
II   C1//It   II   CI   C
I   CF311   C1/lII   II  
 CI   II   OCF、  II   C1/
/II   CI   CI   II    CF、
  II   C1例えば5−7ミノー4−(1,2,
4−)リアゾル−1−イル)−1−(2,6−ジクロル
−4−トリフルオルメチルフェニル)−ピラゾールを出
発物質として用い且つ亜硝酸ナトリウム/臭化水素酸を
試薬として用いる場合、本発明の反応過程は次の方程式
で表わすことができる: 23一 式(If)は本発明の方法を行なうための出発物質とし
て必要とされる5−アミノ−1−アリール−4−ヘテロ
サイクリル−ピラゾールの一般的な定義を与える。この
式(I[[)において、R1、R3、R4、R5、R@
、R7及びHetは好ましくはこれらの置換基に好適な
ものとして本発明の式(1)の物質の記述と関連し、す
でに言及した基を表わす。
式(It)の5−7ミノー1−アリール−4−へテロサ
イクリル−ピラゾールは今までに公知である。
しかしながらそれらは本申請者の先行特許顧(1984
年6月22日付は秒間特許願第3423101号)の主
題をなす。
それらは例えば、式(III) 1式中、R3、R4、R5、R6及びR7は上述の意味
を有する] のフェニルヒドラジンを、先ず第1段階において、適当
ならば希釈剤例えばエタノール又は氷酢酸の存在下に及
び適当ならば反応助剤例えば酢酸ナトリウムの存在下に
式(■) A      Het [式中、R’は上述の意味を有し、そしてAはハロゲン
、ヒドロキシル、アルコキシル又はジアルキルアミノを
表わす1 のアクリロニトリル誘導体と一30〜+50℃の温度で
反応させて式(V) [式中、R1、R3、R(、R5、R6、R7及びHe
tは上述の意味を有する1 のフェニルヒドラジン誘導体を製造し、これを第2段階
において適当ならば希釈剤例えばエタノール又はエチレ
ングリコールモノメチルエーテルの存在下に及び適当な
らば触媒例えば硫酸の存在下に+50〜+150°Cの
温度で環化させることによって製造される。
式(■)のフェニルヒドラノンの、式(IV)のアクリ
ロニトリル誘導体との反応は、式(V)の中間体を単離
することなしに、適当ならば希釈剤例えばエタノール又
はエチレングリコールモノメチルエーテルの存在下、2
0〜150°Cの温度において1段の反応工程で直接性
なってもよい。
式(III)のフェニルヒドラジンの多くは公知であり
、或いは公知の方法[参照例えば7−ペン(1−1ou
b e n )−フィル(Weyl)着、[メトーデン
・デフ・オル〃ニッシエン◆ヘミ−(M ethode
n  der  Organiscben  Chem
ie)J+第X/2巻、 2 (1:3頁、シーメ出版
社(T I+ieme  V erlagS tuLL
gart、L 1967]に従い、簡単な方法で、例え
ば式(Vl)[式中、R3、R”、R5、r(8及びR
7は」二連の意味を有する] の公知のアニリンを、酸例えば硫酸の存在下に亜硫酸ナ
トリウムと反応させ、次いでこの生成物を、同様に酸例
えば塩酸の存在下に塩化スズ(■)と−20〜+80°
Cの温度で反応させることによって製造することができ
る。
式(IV)のアクリロニトリル誘導体は本申請者の先行
特許願(1984年6月22日付けの秒間特許願第34
23101号)を形成する。それらは、式(■) Hel  −CH、CN              
        (■ )[式中、Hetは上述の意味
を有する1のアセトニトリル誘導体を、適当ならば希釈
剤例えばトルエンの存在下に式(■) R9 R1−C−0R9(■) R11 [式中、R1は上述の意味を有し、そしてR9はアルキ
ル、特にメチル又はエチルを有する] のオルトエステルと又は式(H) R10 R’−C−OR10(IX) I E式中、R1は上述の意味を有し、 RIoはアルキル、特にメチル又はエチルを表わし、そ
して A1はジアルキルアミノ、特にジメチルアミノを表わす
] のアミドアセタールと80〜200℃の温度で或いは適
当ならば希釈剤例えばメタノール又はエタノールの存在
下に及び適当ならば塩基性触媒例えばナトリウムメチレ
ート又はエチレートの存在下に式(X) R1−C−0−R目         (X)E式中、
R1は上述の意味を有し、そしてR目はアルキル、特に
メチル又はエチルを表わす] のエステルと0〜100“Cの温度で反応させ、そして
得られる式(TVa) [式中、R1及び)letは]二連の意味を有する1の
ヒドロキシ化合物を常法に従ってハロゲン化剤例えば五
塩化燐、塩化チオニル又は三臭化燐との0〜100℃の
温度での置換反応に供することによって製造される。
式(Vl)のアニリン及び式(■)のニトリル誘導体は
公知であり[参照例えばツ・オルグ・キム(zh。
Org、   Khi+o)、 1 8,4 6 3(
1982)、C、A。
9−6,181213X;秒間公開特許第3,129゜
429号;ベル・ドチュ・ケム・デス(Ber、dts
c1+  C1+en+−Ges、 )27.3151
 (1894)]或いは公知の方法に従い、同様の簡単
な方法で製造することができる。
式(■)のオルトエステル、式(IX)のアミドアセタ
ール及び式(X)のエステルは一般に有様化学の公知の
化合物である。
本発明の方法は無機又は有機ナイトライドの存在下に行
なわれる。適当なニトリルはこの種のジアゾ化反応に普
通使用されるすべての通常のナイトライド化合物である
。アルカリ金属亜硝酸塩、例えば亜硝酸ナトリウムは特
に好適に使用される。
本発明の方法をハロゲン化水素酸の存在下に行なう場合
、R2がハロゲンを表わす式(1)の1−アリール−4
−へテロサイクリル−ピラゾールが反応生成物として得
られる。弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸又はヨウ化水素
酸の水溶液がそれぞれの場合に好適に使用される。
本発明による方法は普通反応助剤の存在下に行なわれる
。特に適当な反応助剤は強鉱酸例えば硫酸又は燐酸、或
いは」二連のハロゲン化水素酸であり、後者の場合それ
は試薬として及び触媒として同時に世ノく。
本発明の方法を行なうのに適当な希釈剤は、この種のジ
アゾ化反応に則して普通使用されるilD常のすべての
有機及び無機溶媒である。好ましくは反応物として用い
るハロゲン化水素酸を過剰量で使用し、或いは反応助剤
としても役立つ他の水性酸例えば硫酸を使用する。
本発明による方法は適当ならば適当な還元剤の存在下に
行なうことができる。この場合にはR2が水素を表わす
式(1)の1−アリール−4−へテロサイクリルービフ
ゾールが反応生成物として得られる。次亜燐酸(03P
 O2)は特に好ましくはこれらの場合に還元剤として
使用される。
本発明の方法を行なう場合、反応温度は比較的広い範囲
内で変えることかで外る。一般に反応は−30〜+6(
)℃、好ましくは一20〜+40°Cの温度で行なわれ
る。
本発明の方法を行なうためには、式(IT)の5−アミ
ノ−1−アリール−4−ヘテロサイクリル−ピラゾール
1モル当り1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜1
.8モルのナイトライド、適当ならば1.0〜20.0
モル、好ましくは1.0〜10.0モルのハロゲン化水
素酸、適当ならば1.0〜50.0モル、好ましくは1
.0〜20゜0モルの還元剤、及び適当ならば1.0〜
20゜0モル、好ましくは1.0〜10.0モル%の鉱
酸が一般に使用される。
ナイトライドは、普通適当ならば適当な希釈剤に溶解し
て、5−7ミノー1−7リールー4−へテロサイクリル
−ピラゾール、鉱酸、希釈剤及びハロゲン化水素酸又は
還元剤からなる反応混合物に少量ずつ添加する。
式(1)の反応生成物の処理及び単離は常法により、例
えば結晶生成物の炉別により又は適当な有機溶媒での抽
出により行なわれる。即ち同定は融32一 点及びプロトン核磁気共鳴スペクトルを用いて行なうこ
とカンできる。
いくつかの場合には、他の製造ルートにJ:って本発明
の式<I)の物質を合成することが有利であるとわかっ
た。これを行なうためには、複素環化合一の公知の合成
法と同様にして通常の試剤例えば1,4−ジケトン例え
ば勺りシンジアルデヒド又はN、N’−ビス−(ホルミ
ル)−ヒドラジ゛ンを用いることにより、ピラゾール環
の4−位の゛複素環族構造を、引き続いて適当な曲駆体
例えば式1式中、R1、R2、R:]、R4、)(5、
R”及び1で7は上述の意味を有する1 の4−アミノ−1−アリール−ピラゾールがら製遣する
[参照、例えばC,7,1す(Ferri)、[リアク
チオネン・デア畢オルガニツシエン・シンセーゼ(Re
aktionen  der  0rHanische
n  5yntl+ese)」、第1版、シーメ出版社
、698〜812灰;更に製造例を参照1゜ 式(X I )の4−アミノ−1−アリール−ピラゾー
ルは、例えば対応する4−ニトロ−1−アリール−ピラ
ゾールを常法により、例えば白金触媒の存在下に及び適
当な希釈剤例えばエタノールの存在下に0〜50℃の温
度において水素で還元することによって得られる。この
目的に必要とされる類似の4−ニトロ−1−アリール−
ピラゾールは、本申請者の先行特許顧、即ち1985年
1月17日付は秒間特許願第3501323号及び19
85年3月16日付は秒間特許願第3509567号の
主題を形成し、そして例えば適当ならば希釈剤例えば氷
酢酸の存在下に及び適当ならば触媒例えば硫酸又は無水
酢酸の存在下に硝酸でニトロ化することにより適当な1
−アリール−ピラゾールから製造することができる(f
i!!造例を参照のこと)。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤又は選択
的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使
用することがで外る: 次の の双子葉雑草二カラン属(S 1napis)、
マメグンバイナズナ属(L eipidium)、ヤエ
ムグラ属(Galium)、ハコベ属(S tel I
aria)、シカギク属(M atricaria)、
カミツレモドキ属(A nthemis)、〃リンソ〃
属(Galinsoga)、アカザ属(Chenopo
diu+++)、イラクサ属(U rtica)、キオ
ン属(Senecio)、ヒエ属(A maranth
us)、スベリヒエ属(F ortulaca)、オナ
モミ属(X anthium)、ヒルガオ属(Conv
olvulus)、サツマイモ属(I pomoea)
、タデ属(Polygonum)、セスバニア属(S 
esbania)、オナモミ属(A+nbrosia)
、アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属(Cgr
duus)、7デシ属(S onchus)、ナス属(
Solanu+o)、イヌブラシ属(Rorippa)
、キカシグサ14(Rotala)、アゼナ属(L 1
ndernia)、ラミラム属(Lamiu+a)、ク
ワガタソウ属(V eronica)、イチビJg(A
butil。
n)、エメクス属(Emex)、チョウセンアサガオ属
(Datura)、スミレ属(V 1ola)、チシマ
オドリコ属(Galeopsis)、ケシ属(p ap
aver)及びセンタウレア属(Centaurea)
〉の属の 子゛栽培 物:ワタ属(G ossypiu
m)xダイズ属(G 1ycine)、7グンソウ属(
Beta)、ニンジン属(D aucus)、インゲン
マメ属(P t+aseolus)・エントウ属(P 
isum)、ナス属(S olanun)、アマJK(
Linun+)、サツマイモ属(I pomoea)、
ソラマメ属(V 1cia)、タバコ属(N 1cot
iana)、トマト属(Lycopersicon)、
ラッカセイ属(Araehis)、アブラナ属(B r
assica)、アキノアデシ属(Lactuca)、
キュウリ属(Cucumis)及びウリ属(Cucur
b i ta )。
>fl(f’)    ’[:ヒエ属(E ehino
chloa)、エノコログサ属(S etaria)、
キビ属(P anicum)、メヒシバ属(D 1g1
taria)、アワ〃リエ属(Phleum)、スズメ
7カタビフ属(Poa)、ウシ7ケグサ属(Festu
ca)、オヒシバ属(E Ieusine)、ブラキア
リアJg(B racbiaria)、ドグムギ属(l
ol ium)、スズメノチャヒキ属(B romus
)、カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(C
yperus)、モロコシ属(Sorgt+。
m)、カモジグサ属(A gropyron)、ジノト
ン属(Cylodon)、ミズアオイ属(Monocl
+orin)、テンツキ属(F 1IIlbristy
l is)、オモグカ属(S agittaria)、
ハリイ属(E 1eocharis)、ホタルイ属(S
cirpus)、パスパルム属(Paspal+rm)
、カモノハシ属(I schaemua+)、スフニッ
クレア属(S pbenoc l ea )、グクチロ
クテニウム属(D actyloctenium)、ヌ
カボ属(Agrostis)、スズメノテツボウ属(A
 1opecurus)及びアベラ属(A pera)
〉の属の  栽 直物:イネ属(Oryza)、トウモ
ロコシ属(Zea)、コムギ属(Triticu+n)
、オオムギ@ (Hordeum )、カラスムギ属(
A vena)、ライムギ属(Secale)、モロコ
シ属(Sorghulfl)、キビ属(P anicu
Ill)、サトウキビ属(S accharu+D)、
アナナスJK(Ananas)、クサスギカズラM (
A sparagus )およびネギ属(A Iliu
m)。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の属に全く限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ。
化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線
路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び四角
い広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は
多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブド
ウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植
林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤ
シの植林、カカオの植林、小果樹の植え付は及びホップ
の栽培植物の中の雑草の防除に、そして1手生栽培植物
中の雑草の選択的防除に使用することができる。
本発明による活性化合物は、単子葉及び双子葉の有用な
作物植物例えばテンサイ、ダイズ、モロコシ又はコムギ
中の単子葉及び双子葉雑草の選択的防除に特に良好な成
功裏に使用することがで外る。
適当に量を減じて使用する場合、本発明による活性化合
物は良好な殺(14(fungicide)活性を史に
示し、イネの病気の防除に、例えばイモチ病(Pyri
cularia  oryzae)の病原有機体に対し
で使用することがで外る。
本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水利
性粉剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、水和剤、顆粒、
懸濁−乳′o、濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及
び合成物質、及び種子用の重合物質中の極く細かいカプ
セルに変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。
伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有
機溶媒を用いることもでbる。液体溶媒として、主に、
芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくはアル
キルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素化さ
れた脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチ
レンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシク
ロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱油及
び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグリコ
ール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例えばア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
もしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメ
チルホルムアミノ及びジメチルスルホキシド並びに水が
適している。
固体の担体として、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト
、モントモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシ
リケートが適している;粒剤に対する固体の担体として
、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、
軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきわり
合成種粒及び有機物質の種粒例えばおがくず、やしから
、トウモロコシ穂軸及びタバコ基が適している;乳化剤
及び/または発泡剤として例えば非イオン性及び陰イオ
ン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル
、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えば
アルキルアリールボ+7 クリコールエーテル、アルキ
ルスルボネート、アルキルスルフェート、アリールスル
ホネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している
;分散剤として、例えばリグニンスルファイト廃液及び
メチルセルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質例えばケファリン及びレシチ
ン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。
更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
及び金属7タロシアニン染料、及びmuの栄養剤例えば
鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバル1、モリブテン及び
亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量%開、好
ましくは0.5乃至90重景%間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。
公知の除草剤、例えば穀物中の雑草を防除するための1
−アミ7−6−エチルチオー3−(2,2−ジメチルプ
ロピル)−1,3,5−トリアジン−2,4−(IH,
3H)−ジオンまたはN−(2−ベンゾチアゾリル)−
N、N’−ジメチルウレア;テンサイ中の雑草を防除す
るための4−アミノ−3−メチル−6−フェニル−1,
2,4−トリアジン−5(4H)−オン及び大豆中の雑
草を防除するための4−アミノ−6−(1,,1−ジメ
チルエチル)−3−メチルチオ−1,2,4−トリアジ
ン−5(4H)−オンを混合物として用いることができ
る。
4−アミ/−6−t−ブチル−3−エチルチオ−L2+
4− vl) 7E’7−5(4II)−オン;2,4
−ジクロル7工/キシ酢酸;2./l−ジクロル71/
キシプロピオン酸;(2−メチル−4−クロルフェアキ
シ)−f’ll:酸;(4−クロル−2−メチルフェノ
キシ)−プロピオン酸;クロルh1−酸トl−(メトキ
シメチル)−2,6−ジエチルアニリド;2−エチル−
6−メチル−N−(1−メチル−2−メトキシエチル)
−クロルアセトアニリド;2,6−シニトロー4−トリ
フルオルメチル−N、N−ジプロピルアニリン:2−ベ
ンジロキシエチル、トリメチルシリルメチル又は2,2
−ジェトキシエチル2−[4−(3,5−ジクロルピリ
ド−2−イロキシ)−フェノキシ1−プロピオネート;
メチル5−(2,4−ジクロルフェノキシ)−2−ニト
ロベンゾニー);3,5−ショート−4−ヒドロキシベ
ンゾニトリル;3−イソプロピル−2、1,、3−ベン
ゾチアジアジン−4−オン2,2−ジオキシド;2−ク
ロル−N−[(4−メトキシ−6−メチル−1,3゜5
−トリアジン−2−イル)−アミ71−カルボニルーベ
ンゾスルホン゛?ミド;N−メチル−2−(1r3−ベ
ンゾチアゾルー2−イロキシ)−アセトアニ+71’;
S−エチルN、N−ジーn−プロビルーチオカーバメー
ト;エフソー1−メチル−4−(1−メチルエチル)−
2−(2−メチルフェニルメ11シ)−7−オキサビシ
クロ−(2,2,1)−へブタン;2− < 4−((
3−クロル−5−(トリフルオルメチル)−2−ピリジ
ニル)−オキシ]−7エ/キシ〉−プロピオン酸又はエ
チル2−<4−[(3−クロル−5−(トリフルオルメ
チル)−2−ピリジニル)−オキシ]−7エ7キシ〉−
プロピオネート;5−アミノ−4−クロル−2−フェニ
ル−2゜3−ジヒドロ−3−オキソ−ピリダジン;2−
クロル−・1−エチルアミノ−6−イソプロビルアミノ
−1,3,5−トリアジン;6−クロル−3−フェニル
−ピリダジン−4−イル S−オクチルチオカーボネー
ト;2−[5−メチル−5−(1−メチルエチル)−4
−オキソ−2−イミダゾリン−2−イル1−3−キノリ
ンカルボン酸;エチル2[[(4−クロル−6−メドキ
シー2−ピリミジニル)一アミ7カルボニル1−アミノ
スルホニル]−ベンゾエート;及び[(4−アミノ−3
,5−ジクロル−6−フルオル−2−ピリジニル)−オ
キシ]−酢酸及び1−メチルヘプチル[(4−アミノ−
3,5−ジクロル−6−フルオル−2−ピリジニル)−
才キシ1−アセテートとの混合物も有利である。
いくつかの混合物は驚くことに4’ll 垂作用も示す
また他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、殺
虫剤(insecticides)、殺ダニ剤(aca
ricides )、殺線虫剤(nematicide
s)、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混合
物が可能である。
本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態ま
たはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例
えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤
の形態で使用することができる。これらのものは普通の
方法で、例えば液剤散布く匈at、ering)、スプ
レー、アトマイジング(at。
mising)または粒剤散布(scatt、eriB
)lこよって施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することがでおる。
本化合物は種子をまく前に土壌中に混入することができ
る。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
6一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り活性化合
物0.01乃至10kg間、好ましくは0.05乃至5
にビ/ha間である。
以下の実施例は本発明の化合物の製造例及び使用例を記
述する。
聚章貫− 実施例1 水性50%臭化水素酸200m1 (4,5モル)中5
−アミノ−4−(1,2,4−)リアゾール−1−イル
)−1−(2,4,,6−)リクロルフェニル)−ビラ
ゾール33gの懸濁液に、水3()−中皿硝酸ナトリウ
ム12g(0,17モル)の溶液を−5〜0“Cで攪オ
しながら嫡々に添加した。添加が完了した時、混合物を
1−40゛Cにゆっくり加熱しながら更に3時間攪杼し
、そして冷却した反応混合物から沈殿した固体を吸引枦
別し、1f]び水に懸濁させ、懸濁液を炭酸水素す) 
+7ウムで中和し、次いでこのようにして得た固体を吸
引枦別し、乾燥した。
融点123〜125℃の5−ブロム−4−(1゜2.4
−トリアゾル−1−イル)−1−(2,4,6−ドリク
ロルフエニル)−ピラゾール32g(理論量の81%)
を得た。
出3−化」」ぜす11 エタノール200m1中2.4.6−ドリクロルーフエ
ニルヒドラジン1.6g(0,075モル)及び3−ツ
メチルアミノ−2−(1,2,4−トリアゾル−1−イ
ル)−アクリロニトリル塩酸塩16g(0,075モル
)を攪許しながら75〜78°Cに5時間加熱した。混
合物を処理するために、溶媒を留去し、残渣を水でそし
ゃくし、そして生成物を粘土で乾燥した。
融点170〜174℃の5−アミノ−4−(1,。
2.4−トリアゾール−1−イル)−1−(2,4,。
6−ドリクロルフエニル)−ピラゾールが得られた。
1.2.4−トリアゾル−1−イル−アセトニトリル1
08g(1モル)及びN、N−ジメチルボルムアミドジ
メチルアセタール160B(1、35モル)を還流下に
4時間加熱した。生成するメタノールを内部温度が12
0℃に十昇するまで留去した。
冷却した残渣をエタノール400m1 に溶解し、塩化
水素の20%エタノール性溶液400m1 を添加した
。結晶の沈殿を吸引枦別し、少量のエタノールでゆすぎ
、粘土で乾燥した。
融点200〜204℃の3−ジメチルアミノ−2−(1
,2,4−トリアゾル−1−イル)−アクリロニトリル
塩酸塩163I?(理論量の82%)を得た。
1.2.4−)リアゾール69g(1モル)、粉砕した
炭酸カリウム150g(1,08モル)及びアセトニト
リル500tnlの混合物に、クロルアセトニトリル7
6g(1モル)を攪拝しながら65〜70°Cで30分
間にわたって滴々に添加し、そして添加が完結した時混
合物を70℃で更に3時間攪許し、不溶性の沈殿を冷却
した反応混合物から炉別し、炉液を真空下に蒸発させ、
残渣を高真空下に蒸留した。
沸点85℃10.01ミリバールの1.2.4−トリア
ゾル−1−イル−アセトニトリル75g(理論量の69
%)を得た。これは冷却時に固化し、55〜58℃の融
点を有した。
実施例2 水80IIll及び98%硫酸30鎗+(0,55モル
)の混合物に50%亜燐酸80m1 (0,9モル)を
0℃下に滴々に添加し、次いで5−アミノ−4−(1,
2,4−)リアゾル−1−イル)−1−(2゜4.6−
)+7クロルフエニル)−ビラ’7’−ル1.6゜5g
(0,05モル)を同様に0℃で攪坪しながら導入し、
攪許を30分間継続し、次いで水12+nl中亜硝酸ナ
トリウム5g(0,072モル)の溶液を滴々に添加し
た。添加が完了した時、攪詳を室温で16時間継続し、
混合物を水中に注ぎ、トルエンで抽出し、トルエン相を
水、希水酸化すトリウム溶液及び再び水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、そして溶媒を真空下に除去した
に〜))) ゛・:、−、’% 51− の油状残渣はリグロインでのそしゃく時に結晶化した。
次いで結晶を吸引炉別し、粘土上で乾燥した。
融点112〜114℃の4−(1,2,4−トリアゾル
−1−イル)−1−(2,4,6−)ジクロルフェニル
)−ピラゾール9.2g(理論量の58゜5%)を得た
実施例3 トルエン150IIll中4−アミノ−1−(2,6−
ジクロル−4−トリフルオルメチルフェニル)−ビフゾ
ール11.8g、ヘキサン−2,5−ジオン5.2g(
0,045モル)及びp−)ルエンスルホン酸0.3g
(0,001モル)を、水分離器を゛ン廟52− 取付けて還流下に20時間加熱し、反応混合物を真空下
での蒸発により処理し、残渣をリグロインとのそしゃく
により結晶化させ、そして結晶を吸引炉別し、粘土で乾
燥した。
融点185℃の1−(2,6−ジクロル−4−トリフル
オルメチルフェニル)−4−(2,5−ジメチルピラゾ
ル−1−イル)−ピラゾール9.6g(理論量の64%
)を得た。
メタノール600m1中1−(2,6−ジクロル−4−
) +7 フルオルメチルフェニル)−4−ニトロ−ピ
ラゾール1’96g(0,6モル)及び白金/活性炭8
gを、オートクレーブ中において大気圧以上12バール
の水素圧下に室温で3時間水素化した。この混合物を処
理するために、結晶を炉別し、炉液を真空下に蒸発させ
、残渣をリグロインでのそしゃくにより結晶化させ、そ
して結晶を吸引炉別し、粘土上で乾燥した。
融点100〜103℃の4−アミノ−1−(2゜6−ジ
クロル−4−トリフルオルメチルフェニル)−ビラゾー
ル143g(理論量の81%)を得た。
96%硫酸150m1中1−(2,6−ジクロル−4−
トリフルオルメチルフェニル)−ピラゾール31.5g
(0,112モル)に、98%硝酸30m1 (0,7
14モル)を、反応混合物の温度が40℃を越えないよ
うに室温で添加した。添加が完了した時、混合物を50
℃で2時間攪坏し、注意深く氷約1000g中に注いだ
。沈殿を吸引炉別し、水約500mJLで中和するまで
洗浄し、真空下に50°Cで乾燥した。
融点91〜97℃の1−(2,6−ジクロル−4−トI
J フルオルメチルフェニル)−4−ニトロピラゾール
34.7g(理論量の95%)を得た。
エタノール1.00m1中2,6−ジクロル−4−トリ
フルオルメチルフェニルヒドラジン24.3g(0,1
モル)に1.1,3.3−テトラメトキシプロパン16
.4g(0,1モル)及び96%硫酸5゜1g(0,0
5モル)を連続的に添加し、そして混合物を還流温度に
2時間加熱した。反応混合物を冷却した後、これを炭酸
ナトリウム5.3g(0゜06モル)で中和し、室温下
に1時間攪秤し、次いで真空下に蒸発させた。この残渣
を水250m1に入れ、この溶液を塩化メチレン20(
1+lで−1・、6頷− 抽出した。有機相を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
真空下に溶媒を除去した。
融点83〜85℃の1−(2,6−フクロルー4−トリ
フルオルメチルフェニル)−ピラゾール23.9g(理
論量の86.5%)を得た。
実施例4 4−アミノ−1−(2,6−ジクロル−4−)リフルオ
ルメチルフェニル)−ピラゾール9(0,03モル)及
びN、N’−ジホルミルヒドラジン10g(0,11モ
ル)を190℃に8時間加熱し、冷却した混合物中に注
ぎ、生成物を吸引炉別し、粘土で乾燥し、そして酢酸エ
チルから再結晶させた。
融点180℃の1−(2*6−ジクロル−4−ト−,5
6− リフルオルメチルフエニル)−4−(1,3,4−トリ
アゾル−1−イル)−ピラゾール6、 3g(Fl、論
量の60%)を得た。
一般弐N>の次の1−7リールー4−ヘテロサイクリル
−ピラゾールを対応する方法で及び一般的な製造法に従
って製造した: 第2表 し1 使1i 以下の実施例−二おいて、下記の化合物を対11に物質
として用いた: し1 4−シアノ−5−プロピオンアミド−1−(2゜3.4
−)リクロルフェニル)−ピラゾール([1公開特許第
3,226,513号)。
実施例A 発芽前試験 溶媒:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
試験植物の種子を通常の土壌中にまき、24時1lll
後、活性化合物のvI4製物を液剤散布しすこ。単位面
積当りの水の量を一定に保持することが適当である。調
製物中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当
り施用した活性化合物の量のみが決めてとなる。3週間
後、植物に対する損傷の程度を、未処理対照植物の発育
と比較しで、%損傷として評価した。数字は次を意味す
る:0%=作用なしく未処理対照と同様) 100%二全破壊 この試験において、当該分野で公知の化合物と比べて、
例えば製造実施例6及び7による化合物は有用な作物に
関して明らかに優れた選択性と雑草に対するすぐれた活
性を示した。
特開I]R61−286380(17)実施例B 発芽後試験 溶媒:アセトン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
高さ5〜15cI11の試験植物に、単位面積当り所望
の活性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合
物の調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合
物の特定の量が1ヘクタール当り水20001  とし
て施用されるように選定した。
3週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育
と比較して%損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす: 0%=作用なしく未処理対照と同様) 100%=全で撲滅 この試験において、当該分野において公知の化′″\、
ノ (・′、′。
金物と比較して、例えば製造実施例6及び7による化合
物は明らかにすぐれた活性並びに有用植物に関して明ら
かにすぐれた選択性を示した。
・乏〕 QQ−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^ I は水素又はアルキルを表わし、R^2
    は水素又はハロゲンを表わし、 R^3、R^4、R^5、R^6及びR^7は互いに独
    立にそれぞれ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキ
    ル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ハロゲノアル
    キル、ハロゲノアルコキシ又は基−S(O)_n−R^
    6を表わし、但し基R^3、R^4、R^5、R^6及
    びR^7の少くとも1つは水素と異なり、そして R^8はアルキル、ハロゲノアルキル、アミノ、アルキ
    ルアミノ又はジアルキルアミノを表わし、また nは数0、1又は2を表わし、そして Hetは随時ハロゲン、ニトロ、アルキル、アルコキシ
    、アルキルチオ又はハロゲノアルキルで置換された芳香
    族単核の複素環構造を表わす] の1−アリール−4−ヘテロサイクリル−ピラゾール。 2、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1は水素或いは炭素数1〜6の直鎖又は分
    枝鎖のアルキルを表わし、 R^2は水素、弗素、塩素、臭素又はヨウ素を表わし、 R^3、R^4、R^5、R^6及びR^7は互いに独
    立にそれぞれ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、或いは
    それぞれ直鎖又は分枝鎖の且つアルキル部分の炭素数が
    1〜4のアルキル、アルコキシ又はアルコキシカルボニ
    ル、或いはそれぞれ直鎖又は分枝鎖の且つ炭素数1〜4
    及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9のハロゲノ
    アルキル又はハロゲノアルコキシを表わし、或いは基−
    S(O)_n−R^8を表わし、但しR^3、R^4、
    R^5、R^6及びR^7の少くとも1つは水素と異な
    り、そして R^8はアミノを表わし或いはそれぞれ直鎖又は分枝鎖
    の且つ各アルキル部分の炭素数が1〜4のアルキル、ア
    ルキルアミノ又はジアルキルアミノを表わし、或いは炭
    素数1〜4の及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜
    9の直鎖又は分枝鎖ハロゲノアルキルを表わし、また nは数0、1及び2であり、そして Hetは随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポ
    リ置換されていてよく、窒素、酸素及び硫黄を含んでな
    る群からの同一の又は異なるヘテロ原子1〜3つを含有
    し且つ炭素原子又は窒素原子を通して結合することがで
    きる5員又は6員の単核芳香族複素環構造を表わし、但
    しこの適当な置換基はハロゲン、ニトロ、それぞれ直鎖
    又は分枝鎖の且つ炭素数1〜4のアルキル、アルコキシ
    又はアルキルチオ、或いは炭素数1〜4且つ同一の又は
    異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分枝鎖ハロゲノ
    アルキルである] の1−アリール−4−ヘテロサイクリル−ピラゾール。 3、R^1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロ
    ピル、或いはn−、i−、s−又はt−ブチルを表わし
    、 R^2が水素、弗素、塩素、臭素又はヨウ素を表わし、 R^3、R^4、R^5、R^6及びR^7が互いに独
    立に水素、シアノ、ニトロ、弗素、塩素、臭素、ヨウ素
    、メチル、エチル、n−及びi−プロピル、n−、i−
    、s−及びt−ブチル、メトキシ、エトキシ、メトキシ
    カルボニル、エトキシカルボニル、トリフルオルメチル
    、トリクロルメチル、ジクロルフルオルメチル、ジフル
    オルクロルメチル、クロルメチル、ジクロルメチル、ジ
    フルオルメチル、ペンタフルオルエチル、テトラフルオ
    ルエチル、トリフルオルクロルエチル、トリフルオルエ
    チル、ジフルオルジクロルエチル、トリフルオルジクロ
    ルエチル、ペンタクロルエチル、トリフルオルメトキシ
    、トリクロルメトキシ、ジクロルフルオルメトキシ、ジ
    フルオルクロルメトキシ、クロルメトキシ、ジクロルメ
    トキシ、ジフルオルメトキシ、ペンタフルオルエトキシ
    、テトラフルオルエトキシ、トリフルオルクロルエトキ
    シ、トリフルオルエトキシ、ジフルオルジクロルエトキ
    シ、トリフルオルジクロルエトキシ、ペンタクロルエト
    キシ、又は基−S(O)_n−R^8を表わし、但し基
    R^3、R^4、R^5、R^6又はR^7の少くとも
    1つは水素と異なり、そして R^8はメチル、エチル、アミノ、メチルアミノ、エチ
    ルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、フルオル
    ジクロルメチル、ジフルオルクロルメチル、テトラフル
    オルエチル、トリフルオルクロルエチル又はトリフルオ
    ルメチルを表わし、 nは数0.1又は2を表わし、そして Hetが随時弗素、塩素、臭素、ニトロ、メチル、エチ
    ル、n−及びi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−
    及びi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−及
    びi−プロピルチオ及びトリフルオルメチルの中からの
    同一の又は異なる置換基でモノ置換ないしトリ置換され
    ていてよい複素環構造を表わし且つ式 ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
    表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります▼
    ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
    、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります
    ▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学
    式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等がありま
    す▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化
    学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があり
    ます▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、
    化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があ
    ります▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式
    、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等が
    あります▼又は▲数式、化学式、表等があります▼ のものであり、但し Yがそれぞれの場合酸素又は硫黄或いは炭素数1〜4の
    N−アルキルを表わす、 特許請求の範囲第1及び2項記載の1−アリール−4−
    ヘテロサイクリル−ピラゾール。 4、R^1が水素を表わし、 R^2が水素、塩素又は臭素を表わし、 R^3、R^4、R^5、R^6及びR^7はそれぞれ
    互いに独立に水素、弗素、塩素、臭素、メチル、エチル
    、イソプロピル、メトキシ、エトキシ、トリフルオルメ
    チル、ジクロルフルオルメチル、ジフルオルクロルメチ
    ル、トリフルオルメトキシ又は基−S(O)_n−R^
    8を表わし、但し基R^3、R^4、R^5、R^6又
    はR^7の少くとも1つは水素と異なり、そしてR^8
    がメチル、トリフルオルメチル、フルオルジクロルメチ
    ル又はジフルオルクロルメチルを表わし、また nが数0、1又は2を表わし、そして Hetが式 ▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、
    表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります▼
    ;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式
    、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があります
    ▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化学
    式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等がありま
    す▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、化
    学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があり
    ます▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式、
    化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等があ
    ります▼;▲数式、化学式、表等があります▼;▲数式
    、化学式、表等があります▼;▲数式、化学式、表等が
    あります▼;▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ の複素環構造を表わす、 特許請求の範囲第1及び2項記載の式( I )の1−ア
    リール−4−ヘテロサイクリル−ピラゾール。 5、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素又はアルキルを表わし、R^2は
    水素又はハロゲンを表わし、 R^3、R^4、R^5、R^6及びR^7は互いに独
    立にそれぞれ水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、アルキ
    ル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ハロゲノアル
    キル、ハロゲノアルコキシ又は基−S(O)_n−R^
    6を表わし、但し基R^3、R^4、R^5、R^6及
    びR^7の少くとも1つは水素と異なり、そして R^8はアルキル、ハロゲノアルキル、アミノ、アルキ
    ルアミノ又はジアルキルアミノを表わし、また nは数0、1又は2を表わし、そして Hetは随時ハロゲン、ニトロ、アルキル、アルコキシ
    、アルキルチオ又はハロゲノアルキルで置換された芳香
    族単核の複素環構造を表わす] の1−アリール−4−ヘテロサイクリル−ピラゾールの
    製造に際して、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1、R^3、R^4、R^5、R^6、R
    ^7及びHetは上述の意味を有する] の5−アミノ−1−アリール−4−ヘテロサイクリル−
    ピラゾールを、反応助剤の存在下に及び適当ならばハロ
    ゲン化水素酸の存在下に及び適当ならば還元剤の存在下
    に及び適当ならば希釈剤の存在下に無機又は有機ナイト
    ライトと反応させる該式( I )の1−アリール−4−
    ヘテロサイクリル−ピラゾールの製造法。 6、特許請求の範囲第1〜5項記載の1−アリール−4
    −ヘテロサイクリル−ピラゾールを少くとも1種含有す
    る除草剤。 7、特許請求の範囲第1〜5項記載の1−アリール−4
    −ヘテロサイクリル−ピラゾールを雑草及び/又はその
    生息地に作用せしめる雑草の駆除法。 8、特許請求の範囲第1〜5項記載の1−アリール−4
    −ヘテロサイクリル−ピラゾールを雑草の駆除に用いる
    こと。 9、特許請求の範囲第1〜5項記載の1−アリール−4
    −ヘテロサイクリル−ピラゾールを伸展剤及び/又は表
    面活性剤と混合する除草剤の製造法。
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