JPS61283394A - 回収水処理システム - Google Patents
回収水処理システムInfo
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- JPS61283394A JPS61283394A JP12539085A JP12539085A JPS61283394A JP S61283394 A JPS61283394 A JP S61283394A JP 12539085 A JP12539085 A JP 12539085A JP 12539085 A JP12539085 A JP 12539085A JP S61283394 A JPS61283394 A JP S61283394A
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- recovered water
- water
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、たとえば半導体ウェハーの最終洗浄に使用し
た高純度の超純水を初期洗浄用の純水として再利用する
ような場合に、回収した使用済みの水を再利用可能な状
態に処理する処理システムに関する。
た高純度の超純水を初期洗浄用の純水として再利用する
ような場合に、回収した使用済みの水を再利用可能な状
態に処理する処理システムに関する。
〈従来の技術〉
半導体ウェハーの最終洗浄に使用した高純度の超純水は
、純水としては純度が高く、再利用が可能であって、そ
のため、半導体の製造工場では、最終洗浄に使用した超
純水を回収して処理することが行なわれている。
、純水としては純度が高く、再利用が可能であって、そ
のため、半導体の製造工場では、最終洗浄に使用した超
純水を回収して処理することが行なわれている。
従来、使用済みの超純水を回収して処理するシステムは
、第3図の構成図に示すように、洗浄槽ioで使用した
高純度の超純水を回収貯溜する回収水タンク2oと、該
回収水タンク2oから圧送された回収水から主として有
機溶剤を吸着除去する吸着槽3oと、吸着槽3oの次段
で回収水からイオンを除去するイオン交換槽4oと、回
収水中の微粒子を除去するためのフィルタ50と、フィ
ルタ5oを通過した回収水を初期洗浄用の一次純水とし
て貯溜する一次純水タンク60等から構成されている。
、第3図の構成図に示すように、洗浄槽ioで使用した
高純度の超純水を回収貯溜する回収水タンク2oと、該
回収水タンク2oから圧送された回収水から主として有
機溶剤を吸着除去する吸着槽3oと、吸着槽3oの次段
で回収水からイオンを除去するイオン交換槽4oと、回
収水中の微粒子を除去するためのフィルタ50と、フィ
ルタ5oを通過した回収水を初期洗浄用の一次純水とし
て貯溜する一次純水タンク60等から構成されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
このような回収水処理システムでは、洗浄時に超純水が
空気に接し、超純水に雑菌が混入する。
空気に接し、超純水に雑菌が混入する。
超純水には、殺菌のための物質が含まれないから、混入
した菌は超純水中で繁殖する。
した菌は超純水中で繁殖する。
ところで、従来のシステムでは、このような菌の混入に
対して配慮が全くなされておらず、滅菌のための装置を
有していないため、このシステムに菌が混入すると、そ
の菌によりシステム中の回収水の送水ラインが汚染され
ることとなり、度々システム全体の稼動を停止して殺菌
洗浄を行なう必要が生じる。
対して配慮が全くなされておらず、滅菌のための装置を
有していないため、このシステムに菌が混入すると、そ
の菌によりシステム中の回収水の送水ラインが汚染され
ることとなり、度々システム全体の稼動を停止して殺菌
洗浄を行なう必要が生じる。
また、従来のシステムでは、活性炭等の吸着剤を内蔵し
た吸着槽3oが、混入した菌の繁殖の温床となるのであ
って、この菌と少量の有機物とでスライムが発生し、早
期に入口部分の吸着剤に目詰まりを生じて、吸着槽3o
全体での圧力損失が増大し、吸着剤の大半がまだ充分な
吸着能力を保有しているにもかかわらず、その吸着剤を
交換しなければならなくなる。そのため、吸着剤の交換
を頻繁に行なう必要があって保守に手間がかかり、しか
も吸着剤は有効に使用されないまま廃棄されることとな
り、無駄が多い。
た吸着槽3oが、混入した菌の繁殖の温床となるのであ
って、この菌と少量の有機物とでスライムが発生し、早
期に入口部分の吸着剤に目詰まりを生じて、吸着槽3o
全体での圧力損失が増大し、吸着剤の大半がまだ充分な
吸着能力を保有しているにもかかわらず、その吸着剤を
交換しなければならなくなる。そのため、吸着剤の交換
を頻繁に行なう必要があって保守に手間がかかり、しか
も吸着剤は有効に使用されないまま廃棄されることとな
り、無駄が多い。
本発明は、上述の問題点に鑑み、システム中の雑菌の混
入繁殖を防止してスライムによる汚染をなくすことがで
きる回収水処理システムの提供を目的とする。
入繁殖を防止してスライムによる汚染をなくすことがで
きる回収水処理システムの提供を目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、上記の目的を達成するために、回収水の送水
ラインに吸着剤を内蔵する吸着槽、およびイオン交換槽
を配設してなる回収水処理システムにおいて、前記吸着
槽の前段に、同一の槽内で回収水に紫外線を照射すると
ともにオゾンを接触させる殺菌装置を設けて回収水処理
システムを構成したものである。
ラインに吸着剤を内蔵する吸着槽、およびイオン交換槽
を配設してなる回収水処理システムにおいて、前記吸着
槽の前段に、同一の槽内で回収水に紫外線を照射すると
ともにオゾンを接触させる殺菌装置を設けて回収水処理
システムを構成したものである。
〈実施例〉
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。第1図は、本発明の一実施例に係る超純水用の回
収水処理システムの構成図であって、該回収水処理シス
テムは、回収水タンクlと、送入ポンプ2により前記回
収水タンクl内の回収水が供給される吸着槽3と、吸着
槽3の次段に設けられたイオン交換槽4と、イオン交換
槽4を通過した回収水が送り込まれるフィルタ5と、フ
ィルタ5を通過した回収水を貯溜する一次純水タンク6
とを備え、前記回収水タンク1には、クリーンルーム内
の洗浄槽7から半導体ウェハーの最終洗浄に使用された
超純水が゛送り込まれ、また、−次純水タンク6に貯溜
された処理水は、初期洗浄に使用する一次純水として送
出ポンプ8により二次純水システム(図示せず)に送り
出されるようになっている。洗浄槽7には、上記二次純
水システムと、それより後段の三次純水システム(図示
せず)とを経た高純度の水が供給される。前記吸着槽3
には、活性炭のような吸着剤が充填され、また、イオン
交換槽4にはイオン交換樹脂が内蔵されている。
する。第1図は、本発明の一実施例に係る超純水用の回
収水処理システムの構成図であって、該回収水処理シス
テムは、回収水タンクlと、送入ポンプ2により前記回
収水タンクl内の回収水が供給される吸着槽3と、吸着
槽3の次段に設けられたイオン交換槽4と、イオン交換
槽4を通過した回収水が送り込まれるフィルタ5と、フ
ィルタ5を通過した回収水を貯溜する一次純水タンク6
とを備え、前記回収水タンク1には、クリーンルーム内
の洗浄槽7から半導体ウェハーの最終洗浄に使用された
超純水が゛送り込まれ、また、−次純水タンク6に貯溜
された処理水は、初期洗浄に使用する一次純水として送
出ポンプ8により二次純水システム(図示せず)に送り
出されるようになっている。洗浄槽7には、上記二次純
水システムと、それより後段の三次純水システム(図示
せず)とを経た高純度の水が供給される。前記吸着槽3
には、活性炭のような吸着剤が充填され、また、イオン
交換槽4にはイオン交換樹脂が内蔵されている。
しかして、前記回収水タンクlには、殺菌装置9が並設
されており、循環ポンプlOにより回収水が回収水タン
クlと殺菌装置9との間で循環するようになっている。
されており、循環ポンプlOにより回収水が回収水タン
クlと殺菌装置9との間で循環するようになっている。
第2図は殺菌装置9の構成を示す構成図であって、同図
に示すように、該殺菌装置9は、同一の槽内で回収水に
紫外線を照射するとともに、回収水にオゾンを接触させ
るものであって、単一の殺菌槽11と、該殺菌槽11の
内部に設けた紫外線照射部12と、殺菌槽ti内にオゾ
ンを供給するオゾン発生器13を備えている。14は回
収水タンクlから殺菌槽11への回収水の流入管、15
は殺菌槽11から回収水タンク1への回収水の流出管で
ある。前記紫外線照射部12は、紫外線ランプ16と、
紫外線を透過するカバー17とからなり、紫外線ランプ
16は、電源装置18からの通電により紫外線を放射す
る。また、前記オゾン発生器13にはエアポンプ19に
より空気が圧入され、オゾン発生器13で生成されたオ
ゾンは供給管20を通じて回収水の流出口の近傍で回収
水内に噴出する。なお、多量のオゾンが回収水中に混入
するように、殺菌槽11内へのオゾンの流入口を流出管
15側にも設けてよい。
に示すように、該殺菌装置9は、同一の槽内で回収水に
紫外線を照射するとともに、回収水にオゾンを接触させ
るものであって、単一の殺菌槽11と、該殺菌槽11の
内部に設けた紫外線照射部12と、殺菌槽ti内にオゾ
ンを供給するオゾン発生器13を備えている。14は回
収水タンクlから殺菌槽11への回収水の流入管、15
は殺菌槽11から回収水タンク1への回収水の流出管で
ある。前記紫外線照射部12は、紫外線ランプ16と、
紫外線を透過するカバー17とからなり、紫外線ランプ
16は、電源装置18からの通電により紫外線を放射す
る。また、前記オゾン発生器13にはエアポンプ19に
より空気が圧入され、オゾン発生器13で生成されたオ
ゾンは供給管20を通じて回収水の流出口の近傍で回収
水内に噴出する。なお、多量のオゾンが回収水中に混入
するように、殺菌槽11内へのオゾンの流入口を流出管
15側にも設けてよい。
上記の構成において、送入ポンプ2が稼動して回収水が
吸着槽3に送り込まれるときは、循環ポンプ10が稼動
し、殺菌装置9の各部も稼動する。
吸着槽3に送り込まれるときは、循環ポンプ10が稼動
し、殺菌装置9の各部も稼動する。
循環ポンプ10の駆動により回収水タンク1内の回収水
が殺菌槽!■との間を循環する。このときには、紫外線
照射部12から紫外線が殺菌槽11の内部全体に照射さ
れるとともに、オゾン発生器13から殺菌槽11内にオ
ゾンが吹き込まれる。
が殺菌槽!■との間を循環する。このときには、紫外線
照射部12から紫外線が殺菌槽11の内部全体に照射さ
れるとともに、オゾン発生器13から殺菌槽11内にオ
ゾンが吹き込まれる。
したがって、殺菌槽11内では、回収水に紫外線が照射
されるとともに、オゾンが接触することになり、紫外線
とオゾンとの相乗効果により、殺菌効果の高い回収水の
殺菌処理がなされる。
されるとともに、オゾンが接触することになり、紫外線
とオゾンとの相乗効果により、殺菌効果の高い回収水の
殺菌処理がなされる。
殺菌槽11内に吹き込まれたオゾンは、回収水中に残留
して、回収水ととともに回収水タンク1以下の回収水の
送水ラインに流入する。このようにオゾンは、回収水と
ともに殺菌槽11から流出することによって、その流動
過程において回収水に混入してきた菌の殺菌を行なうほ
か、既に配管内壁に付着している藻類やカビを分解して
除去する。
して、回収水ととともに回収水タンク1以下の回収水の
送水ラインに流入する。このようにオゾンは、回収水と
ともに殺菌槽11から流出することによって、その流動
過程において回収水に混入してきた菌の殺菌を行なうほ
か、既に配管内壁に付着している藻類やカビを分解して
除去する。
なお、本発明の回収水処理システムでは、オゾンを含ん
だ回収水が吸着槽3に流入するから、該吸着槽3で活性
炭等の吸着剤に接触し、その吸着作用により回収水から
オゾンが除去される。そのため、オゾンは吸着槽3以下
の送水ラインには流人せず、したがって残留オゾンによ
る被洗浄物の酸化といった不都合を生じない。
だ回収水が吸着槽3に流入するから、該吸着槽3で活性
炭等の吸着剤に接触し、その吸着作用により回収水から
オゾンが除去される。そのため、オゾンは吸着槽3以下
の送水ラインには流人せず、したがって残留オゾンによ
る被洗浄物の酸化といった不都合を生じない。
吸着槽3では、上記の残留オゾンが除去されるほか、回
収水に含まれる有機溶剤のような有機物質が除去され、
次段のイオン交換槽4では、イオンの除去が行なわれて
、初期洗浄に使用しうる程度の純水となり、さらに、そ
の次のフィルタ5では、前記以外の混入物粒子が除去さ
れて、より高純度の純水(1次純水)となる。
収水に含まれる有機溶剤のような有機物質が除去され、
次段のイオン交換槽4では、イオンの除去が行なわれて
、初期洗浄に使用しうる程度の純水となり、さらに、そ
の次のフィルタ5では、前記以外の混入物粒子が除去さ
れて、より高純度の純水(1次純水)となる。
紫外線とオゾンとの併用による殺菌効果は、強力である
ので、殺菌装置9および循環ポンプ10は常時稼動する
必要はなく、間欠的に稼動させるだけでよい。
ので、殺菌装置9および循環ポンプ10は常時稼動する
必要はなく、間欠的に稼動させるだけでよい。
なお、上記実施例のように、回収水タンクとの間で回収
水を循環させる殺菌槽内で、回収水に対して紫外線の照
射とオゾンの接触とを行なうようにすると、従来の既存
の回収水処理システムを利用して、安価に実施しうる。
水を循環させる殺菌槽内で、回収水に対して紫外線の照
射とオゾンの接触とを行なうようにすると、従来の既存
の回収水処理システムを利用して、安価に実施しうる。
〈発明の効果〉
以上のように、本発明によれば、同一殺菌槽内における
紫外線とオゾンとの相乗効果により、塩素殺菌の10倍
以上の速さで迅速かつ効果的に回収水の殺菌が行なわれ
るから、処理システム全体の菌による汚染が未然に防止
され、回収水の送水ラインの殺菌洗浄や、その洗浄のた
めに処理システムの稼動を停止するといった保守の手間
が軽減されるほか、長期にわたる処理システムの連続運
転が可能となり運転効率が向上する。
紫外線とオゾンとの相乗効果により、塩素殺菌の10倍
以上の速さで迅速かつ効果的に回収水の殺菌が行なわれ
るから、処理システム全体の菌による汚染が未然に防止
され、回収水の送水ラインの殺菌洗浄や、その洗浄のた
めに処理システムの稼動を停止するといった保守の手間
が軽減されるほか、長期にわたる処理システムの連続運
転が可能となり運転効率が向上する。
しかも、オゾンは回収水に残留して吸着槽まで殺菌効果
を発揮するから、回収水ラインの汚染を効果的に防止し
うる。
を発揮するから、回収水ラインの汚染を効果的に防止し
うる。
さらに、オゾンの殺菌効果は吸着槽にまで及ぶので、従
来のように吸着槽が菌の繁殖の温床となるようなことが
なく、吸着槽でスライムが発生しない。したがってスラ
イムにより吸着剤が早期に使用不能となるようなことが
なく、吸着剤を吸着能力がなくなるまで有効に使用する
ことができ、吸着剤の交換回数が著しく減少する。
来のように吸着槽が菌の繁殖の温床となるようなことが
なく、吸着槽でスライムが発生しない。したがってスラ
イムにより吸着剤が早期に使用不能となるようなことが
なく、吸着剤を吸着能力がなくなるまで有効に使用する
ことができ、吸着剤の交換回数が著しく減少する。
また、殺菌槽から流出した回収水中の残留オゾンは、吸
着槽で活性炭等の吸着剤に吸着除去されるから、吸着槽
以下の送水ラインには流入せず、したがって処理水を使
用する個所で、オゾンによる被洗浄物の酸化といった不
都合を生じない。
着槽で活性炭等の吸着剤に吸着除去されるから、吸着槽
以下の送水ラインには流入せず、したがって処理水を使
用する個所で、オゾンによる被洗浄物の酸化といった不
都合を生じない。
第1図は本発明の一実施例に係る回収水処理システムの
構成図、第2図はその殺菌装置の構成図、第3図は従来
の回収水処理システムの構成図である。 l・・・回収水タンク、3・・・吸着槽、4・・・イオ
ン交換槽、5・・・フィルタ、9・・・殺菌装置、11
・・・殺菌槽、12・・・紫外線照射部、13・・・オ
ゾン発生器。
構成図、第2図はその殺菌装置の構成図、第3図は従来
の回収水処理システムの構成図である。 l・・・回収水タンク、3・・・吸着槽、4・・・イオ
ン交換槽、5・・・フィルタ、9・・・殺菌装置、11
・・・殺菌槽、12・・・紫外線照射部、13・・・オ
ゾン発生器。
Claims (1)
- (1)回収水の送水ラインに吸着剤を内蔵する吸着槽お
よびイオン交換槽を配設してなる回収水処理システムに
おいて、 前記吸着槽の前段に、同一の槽内で回収水に紫外線を照
射するとともにオゾンを接触させる殺菌装置を設けたこ
とを特徴とする回収水処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12539085A JPS61283394A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 回収水処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12539085A JPS61283394A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 回収水処理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61283394A true JPS61283394A (ja) | 1986-12-13 |
JPH0521038B2 JPH0521038B2 (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=14908951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12539085A Granted JPS61283394A (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 回収水処理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61283394A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01194990A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Fumio Denpo | 水処理装置 |
JPH0461984A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-27 | Ebara Infilco Co Ltd | 活性炭の静菌方法 |
JP2010214300A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
CN111491898A (zh) * | 2017-10-31 | 2020-08-04 | 株式会社开滋 | 清洗水处理装置和清洗水处理方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5491955A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Water treatment |
JPS5689894A (en) * | 1979-12-21 | 1981-07-21 | Toray Eng Co Ltd | Method of refining water used for flushing electronic parts |
JPS5715885A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-27 | Nippon Rensui Kk | Method for recovery of high-purity waste water of washing |
-
1985
- 1985-06-10 JP JP12539085A patent/JPS61283394A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0577479B2 (ja) * | 1990-06-28 | 1993-10-26 | Ebara Infilco | |
JP2010214300A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
CN111491898A (zh) * | 2017-10-31 | 2020-08-04 | 株式会社开滋 | 清洗水处理装置和清洗水处理方法 |
JPWO2019088015A1 (ja) * | 2017-10-31 | 2020-12-24 | 株式会社キッツ | 洗浄水処理方法 |
US11306014B2 (en) * | 2017-10-31 | 2022-04-19 | Kitz Corporation | Wash water processing method |
JP2022118082A (ja) * | 2017-10-31 | 2022-08-12 | 株式会社キッツ | 洗浄水処理装置と除菌浄化装置 |
US11975995B2 (en) | 2017-10-31 | 2024-05-07 | Kitz Corporation | Wash water processing apparatus and sterilization and purification unit, and wash water processing method of semiconductor element or liquid-crystal glasses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0521038B2 (ja) | 1993-03-23 |
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