JPS6127322B2 - - Google Patents

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JPS6127322B2
JPS6127322B2 JP13511480A JP13511480A JPS6127322B2 JP S6127322 B2 JPS6127322 B2 JP S6127322B2 JP 13511480 A JP13511480 A JP 13511480A JP 13511480 A JP13511480 A JP 13511480A JP S6127322 B2 JPS6127322 B2 JP S6127322B2
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JP
Japan
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sulfur
hydrofluoric acid
reaction
hydrochloric acid
pyridine compound
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JP13511480A
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English (en)
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JPS5761604A (en
Inventor
Kimihiko Sato
Isao Goto
Keiichi Uchida
Shinsuke Morikawa
Masaaki Ikemura
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は四弗化硫黄の製造方法、特に高価な電
力を用いて弗酸を電解して得た弗素ガスを用いる
事なく、比較的安価な弗素源を用い、かかる弗素
源を再生循環しつつ高純度、高収率で四弗化硫黄
を製造する方法に係るものである。
従来、四弗化硫黄を製造する手段としては、例
えば二塩化硫黄と弗化ソーダをアセトニトリル等
の有機溶媒中で反応せしめる方法(USP2992073
号明細書参照)、二塩化硫黄と塩素と弗化水素と
を−50℃において反応せしめ、反応生成物をアミ
ン類で処理して四弗化硫黄を分離せしめる方法
(OLS2363679号公報参照)、二塩化硫黄をNOF・
3HFと反応せしめる方法(USP4082839号明細書
参照)などが知られている。
これら方法のうち、前記USP2992073号明細書
で代表される方法は、二塩化硫黄と反応させる弗
化ソーダ及び副生物である食塩が固体である為、
スラリー状で反応を行なわねばならず、反応操作
が行ないにくく、又弗化ソーダの粒度により四弗
化硫黄の収率が大きく変動する等反応操作面であ
まり好ましくない欠点を有する。
又、OLS2363679号公報に代表される方法は、
−50℃というかなりの低温が要求され、又アミン
類での処理を要し、操作が煩雑であると共にコス
トも高い欠点を有する。
又、USP4082839号明細書で代表される方法
は、NOFが腐食性であり、装置に特殊材質を用
いる必要があり、しかも四弗化硫黄の収率は低
く、副生物として硫黄が析出し、操作が煩雑とな
る欠点を有する。
更に、Py(HF)9.2(Py:ピリジン)と二塩化
硫黄を反応せしめ、四弗化硫黄を68%という低い
収率で得た旨の報告がある。(G.A.Olah et.al.
Inorg.Chem.16、2637(′77)short
communication参照) しかしながら、本発明者等の追試によると、こ
の方法では収率が68%どころか四弗化硫黄の生成
は認められなかつた。即ち、本発明者等がその後
検討を進めた結果によると、HF/Pyのモル比を
種々採つて二塩化硫黄と反応せしめた処、HF/
Py=5〜6を超えると、弗素化能が著しく低下
するか全くなくなる事を見出した。そして、本発
明者は、HF/Py=4以下に限つて二塩化硫黄と
の反応により、四弗化硫黄を高純度且つ収率90%
以上で容易に得られることを見出し、既に特願昭
54−130833号(特開昭56−54209号)として提案
した。
この方法の基本反応は次の通りである。
3SCl2+4Py・HF→ SF4+S2Cl2+4Py・HCl 得られた生成物のうち、SF4のみがガス状であ
り、他は液状であるので、SF4の分離が極めて容
易である利点を有している。
処で、ピリジンはそれ自身反応にはあずから
ず、この方法を採用して四弗化硫黄を得る限りピ
リジンはPy−HClの形で大量に生成してくること
になり、特に大規模な四弗化硫黄の製造に際して
は、ワンパス方式ではピリジンの消費量が膨大な
ものになつてしまう。
本発明者等は、この様なピリジンを必要最小限
に用いならがも、四弗化硫黄の大量生産を可能に
し、ピリジンを有効に循環使用すべく、種々研
究、検討した結果、副生した塩酸のピリジン化合
物に、該塩酸が脱離するのに十分量の弗酸を反応
せしめ、次いで得られた反応生成物から必要とす
る弗酸のピリジン化合物となるまで弗酸を脱離す
ることにより、所望する弗酸のピリジン化合物が
再生でき、これを再び二塩化硫黄との反応に供せ
られることを見出し、先に特願昭55−300号(特
開昭56−100109号)として提案した。
そして、本発明者等はその後更に検討を進めた
処、原料として二塩化硫黄を用いるよりも、分解
等の虞れのない一塩化硫黄及び塩素を用いる方が
操作上安定して、四弗化硫黄が得られることを見
出した。
かくして本発明は、Py(HF)1〜4と一塩化硫黄
及び塩素とを反応せしめて四弗化硫黄を生成せし
め、同時に副生した塩酸のピリジン化合物に、該
塩酸が脱離するのに十分量の弗酸を反応せしめ、
次いで得られた反応生成物からPy(HF)1〜4にな
るまで弗酸を脱離し、得られた弗酸のピリジン化
合物を前記一塩化硫黄との反応に循環使用するこ
とを特徴とする四弗化硫黄の製造方法を提供する
にある。
本発明において、Py(HF)1〜4と一塩化硫黄及
び塩素とを反応せしめて四弗化硫黄を生成せしめ
る手段としては、これらを直ちに反応させること
もできるが、反応をより円滑に実施する為、溶媒
を用いるのが望ましい。
溶媒としては、これ自身が反応原料や、反応生
成物に対し、不活性であることが必要であり、一
般にハロゲン化炭化水素類が適当である。ハロゲ
ン化炭化水素類の中でも、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、フロロトリクロロメタン、
トリクロロトリフルオロエタンが好ましく、これ
らは夫々単独若しくは適宜混合して用い得る。
そして、特にトリクロロトリフルオロエタン溶
媒を用いる場合には、反応につて生成した四弗化
硫黄のみがガス状で分離でき、更に未反応の
S2Cl2と溶媒は、副生した塩酸のピリジン化合物
と液層において実質的完全に2層に分離でき、後
述するピリジン化合物の再生に極めて好都合とな
る利点があるので好ましい。
トリクロロトリフルオロエタン溶媒を用いて反
応を行なう場合、その温度は0〜60℃、好ましく
は20〜40℃を採用するのが適当である。
温度が0℃より低すぎると、反応速度が著しく
低下し、逆に60℃を超える場合には四弗化硫黄へ
の転化率が低下する恐れがあるので何れも好まし
くない。
反応は通常大気圧で行なわれるが、所望により
加圧下で実施しても差し支えない。反応原料とな
る弗酸のピリジン化合物と一塩化硫黄及び塩素の
使用割合は、用いられる弗酸のピリジン化合物
(Py(HF)o、n=1〜4)のnの値によつて厳
密には決定されるが、例えばn=3の場合一般に
一塩化硫黄1モルに対し、弗酸のピリジン化合物
3〜16モル、塩素1〜4.0モルの割合で用いるの
が好ましい。モル比が前記範囲を逸脱する場合に
は、四弗化硫黄への転化率が急激に低下するか、
原料の利用率が悪くなるので好ましくない。又、
溶媒の使用量は、一塩化硫黄(S2Cl2)に対し、
S2Cl2/溶媒=0.2〜25モル/、好ましくは1〜
5モル/を採用するのが適当である。溶媒の使
用量が前記範囲より低いと反応速度が遅く、又塩
素が気相に飛散し反応率が低下し、逆に前記範囲
を超えると、最早やそれ以上の効果はなく、単に
容量が増えるのみなので好ましくない。
かくして反応が実施され、得られた生成物であ
る四弗化硫黄、塩酸のピリジン化合物及び未反応
塩化硫黄のうち、四弗化硫黄のみガス状であり、
他は液状であるので、四弗化硫黄のみガスとして
取り出せる為、高純度な製品が得られる。
液状であるS2Cl2、塩酸のピリジン化合物は前
者が溶媒と共に下層を形成し、後者がその上層を
形成するように自然分離される。
かくして上層に存在する塩酸のピリジン化合物
は、塩酸が完全に脱離し、弗酸のピリジン化合物
に転化するよう弗酸が添加される。
このときの弗酸の添加量は、塩酸のピリジン化
合物に対してモル比で6以上必要であり、弗酸の
ピリジン塩に転化した上層へのS2Cl2の溶解を防
止するために、好ましくは塩酸のピリジン化合物
に対し、モル比で7〜8程度が適当である。
かくして得られた弗酸のピリジン化合物はPy
(HF)6〜8程度となり、この状態になると塩酸は
完全に脱離される。この反応は通常、常圧で温度
0〜50℃の範囲で実施される。
弗酸の添加量が前記範囲に満たないと、塩酸の
脱離が不完全となり、それだけ不活性なピリジン
化合物が残り、ピリジンの利用効率が低下する。
逆に前記範囲を超える場合には、最早やそれ以上
の効果を期待し得ないばかりでなく、後述する弗
酸の脱離の為の負担がそれだけ増えることにな
り、何れも好ましくない。
塩酸のピリジン化合物を弗酸のピリジン化合物
に転化せしめる手段としては、前述した以外に温
度と圧力を変化させる方法もあり、例えば低温で
弗酸を添加し、高温、加圧下で塩酸を脱離せしめ
ることにより、弗酸の使用量を減少させることが
できる場合もある。
かくして得られた弗酸のピリジン化合物は、前
述の如くPy(HF)6〜8であり、このままでは不活
性な為、これをPy(HF)1〜4になるまで弗酸を脱
離せしめる。
かかる手段としては、例えばPy(HF)6〜8を温
度100〜300℃、圧力760〜100mmHgの減圧下で蒸
留するが、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、塩化メチレン、ジオキサン、トリクロロトリ
フルオロエタン等の有機溶媒の存在下に100〜200
℃で蒸留する方法、或はNaF、KFと接触させ、
NaF・HF又はKF・HF複合体として弗酸を脱離
せしめる手段等を適宜使用し得る。
これら手段のうち、NaFやKFと接触せしめる
手段は、Py(HF)1〜2を得る場合に好結果を期待
し得る。
かくしてPy(HF)1〜4が再生され、これは再び
一塩化硫黄及び塩素との反応に循環使用される。
他方未反応のS2Cl2を含む溶媒層は、これに塩素
とS2Cl2を添加し、再びPy(HF)oとの反応に循環
使用される。
次に本発明を実施例により説明する。
SUS製の完全混合型の反応槽を用い、二塩化硫
黄26.9Kg、Cl242.0Kg、Py(HF)3333.6Kgとをトリ
クロロトリフルオロエタンから成る溶媒120中
に溶解し、反応温度40℃にて反応を行ない、四弗
化硫黄をガスとして99%(43Kg)の収率で得た。
反応が完結した処で、槽の撹拌を止めた処、液状
体が二層に分離した。そして、上層にはPy
((HCl+HF)oが、その下層には未反応S2Cl2を含
む溶媒相が存在していた。次いでこれらに対し、
無水弗酸を272Kg導入し、40℃下に撹拌しながら
反応を行なつた処、HClが57.5Kg(これはPyに含
まれるHClの99%以上に相当する)発生し、Py
(HF)8が生成した。撹拌を止めた処、上層には
Py(HF)8を含む層が、下層にはS2Cl2を含む溶媒
相に分離し、該上層にはS2Cl2は実質的に皆無で
あつた。
上層のPy(HF)8をSUS製蒸留塔に導き、150
℃、300mmHgの圧力下に2時間蒸留を行つた処、
Py(HF)8はPy(HF)3に転化せしめることがで
きた。下層の未反応S2Cl2を含む溶媒とPy
(HF)3は前述の四弗化硫黄製造用原料として再び
使用される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 Py(HF)1〜4(Py:ピリジン)と一塩化硫
    黄及び塩素とを溶媒の存在若しくは不存在下に反
    応せしめて四弗化硫黄を生成せしめ、同時に副生
    した塩酸のピリジン化合物に、該塩酸が脱離する
    のに十分量の弗酸を反応せしめ、次いで得られた
    反応生成物からPy(HF)1〜4になるまで弗酸を脱
    離し、得られたPy(HF)1〜4を前記一塩化硫黄と
    の反応に循環使用することを特徴とする四弗化硫
    黄の製造方法。 2 溶媒はトリクロロトリフクオロエタンである
    特許請求の範囲1の方法。 3 副生した塩酸のピリジン化合物から塩酸を脱
    離するのに用いられる弗酸量は、塩酸のピリジン
    化合物に対し、モル比で6以上で7〜8である特
    許請求の範囲1の方法。
JP13511480A 1980-09-30 1980-09-30 Preparation of sulfur tetrafluoride Granted JPS5761604A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6184011A (ja) * 1984-09-29 1986-04-28 Osaka Denki Kk 変圧器等のコイル巻枠
JPS6242225U (ja) * 1985-09-03 1987-03-13

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EP3560889A4 (en) * 2016-12-26 2020-07-29 Daikin Industries, Ltd. METHOD FOR PRODUCING SULFUR TETRAFLUORIDE

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