JPS61272367A - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、蒸着により薄膜を形成する装置。

特にノズルの目詰まりを防止することができる薄膜形成
装置に関するものである。

〔従来の技術〕

第２図は、例えば特開昭５４−９５４２号公報に示され
た従来の薄膜形成装置を示すもので１図中、（１）は真
空槽、（２）は真空排気口、（３）は真空排気口パルプ
、（４）は、蒸着物質、（６）は蒸着物質（４）を入れ
るるつぼ、（６）はるつぼ支持台、（γ）はるつぼ（６
）を加熱するために電子を放出する電子ボンバード用フ
ィラメント、（８）はるつぼ（６）および電子ボンバー
ド用フィラメント（７）からの熱放射を遮えぎるるつぼ
熱シールド板、（９）はるつぼ熱シールド板を支える絶
縁物、（ロ）はクラスタをイオン化するために電子を放
出するイオン化フィラメント、（農はイオン化フィラメ
ント（６）から電子を引出す′成子引出グリッド、α場
はイオン化フィラメント（２）からの熱放射を遮えぎる
イオン化熱シールド板、に）はイオン比熱シールド板α
埠を支えるイオン化熱シールド板絶縁物、（ロ）はイオ
ン化フィラメント（ロ）から電子引出グリッド（（２）
で引出された電子、（至）は加速電極、Ｃ１，）は加速
電極を支える加速電極絶縁物、（ト）はるつぼ（５）か
ら噴出した蒸着物質（４）の中性クラスタ、四はイオン
化電子（ロ）によシイオン化された蒸着物質（４）のイ
オン化クラスタ、麹は中性クラスタ（至）とイオン化ク
ラスタ（至）を含むクラスタビーム％　（２１１ハクラ
スタビ〜ムを遮えぎるシャッター、（財）はシャッター
（２１１を支持回転させるシャッター支持棒、（財）は
真空槽（１）をシャッター支持棒（財）が買通するシャ
ッター支持棒シール部、−は基板、（７）は基板ホルダ
ー、善は基板ホルダーシール部、（ロ）はるつぼ（５）
に設けられたノズルである。

従来の薄膜形成装置は上記のように構成され、まず真空
槽（１）の真空排気口（２）から真空排気口バルブ（８
）を介して真空排気された高真空領域内で、蒸着物質（
４）を入れたるつぼ（６）を電子ボンバード用フィラメ
ント（７）から出た電子の電子衝撃により蒸着物質（４
）のるつぼ（６）内の蒸気圧が数　ＴＯｒｒになる温度
に加熱する。次いで、るつぼ（５）に設けられたノズル
（ロ）から高真空領域内へ蒸着物質（４）の蒸気を噴出
し、このとき断熱膨張による過冷却状態によつ・　　て
クラスタビーム（イ）が発生する。このクラスタビーム
−にイオン化フィラメント（２）から電子引出グリッド
（田により引出されたイオン化電子（ロ）を衝突させる
ことにより、クラスタをイオン化させイオン化りラスタ
α呻を形成させる。一部のクラスタはイオン化電子（ロ
）と衝突せず、中性クラスタμｓ）として、るつぼ（５
）からの噴出速度で基板（財）へ蒸着される。イオン化
クラスタ（至）は、電子引出グリッド（習及びイオン化
熱シールド板ａ印と加速電極ａａ）の間に、前者が正、
後者が負となるよう電位差を与え、加速されて基板−に
蒸着される。シャッター（２１￥はクラスタビーム−を
制御する開閉装置であり、基板−に必要な厚さの薄膜を
形成する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のような従来の薄膜形成装置では、加工性や高温時
の蒸気圧等の制約からるつぼ（５）をカーボンで形成し
ているが、るつぼ（５）からの熱ふく射が大きいため、
るつぼ（６）の加熱効率が悪く、また熱伝導率が低いた
め、ノズル（ロ）を有するるつぼ（６）の蓋部に温度分
布が生じ、温度の低いノズル一部分では蒸気が凝縮して
ノズル（ロ）に目詰まりが生じる等の問題があった。

この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、るつぼの加熱効率を向上させることができ、しかも
ノズルの目詰まシを解消できる薄膜形成装置を得ること
を目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る薄膜形成装置は、ノズルが設けられてい
るるつぼの蓋部を耐熱性金属材料で形成するようにした
ものである。

〔作用〕

この発明においては、るつぼの蓋部を耐熱性を有する金
属材料で形成しているので、熱ふく射によるるつぼ温度
の低下が少なくなシ、また蓋部の熱伝導率が高くなるた
め温度分布が均一になシ、ノズルの目詰まシを有効に防
止することが可能となる。

〔実施例〕

第１図はこの発明の一実施例を示すもので、図中、第２
図と同一符号は同−又は相当部分を示す０ｔ５１）はノ
ズル（ロ）を有するるつぼの蓋で、タンタル、タングス
テン、あるいはモリブデン等の耐熱性を有する金属材料
で形成されている。ｔｉｓは蓋押さえである。

上記のように構成された薄膜形成装置においては、るつ
ぼ（６）の側面からの放熱は、熱シールド板（８）で断
熱されているため比較的少ないが、加速電極（至）の開
口部を通して直接基板−又は真空槽（１）忙対向してい
るるつぼの蓋１５１）からの放熱は、どうしても多くな
りがちである。

ところがこの実施例では、るつぼの蓋１５１）を耐熱性
を有する金属材料で形成しているので、るつぼの蓋φ１
）のふく対車が低くなって放熱を少なくすることが可能
となる。このため、るつぼ（６）の加熱効率を向上させ
ることができる。

また、るつぼ（６）は電子衝撃によシ側面から加熱され
るが、るつぼの蓋へ）の熱伝導がよいため温度分布が均
一となシ、蒸気が凝縮してノズル（財）が目詰まりを生
じるのを有効に防止することができる。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおシ、るつぼの蓋部を耐熱性
を有する金属材料で形成しているので、るつぼの放熱を
抑えて加熱効率を向上させることができるとともに、蓋
部の温度分布を均一にしてノズルの目詰まシを防止でき
、効率よく安定に蒸着できる等の効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す説明図、第２図は従
来の薄膜形成装置を示す全体構成図である０ （４）：蒸着物質　　　　（５）：るつぼ（ロ）：ノズ
ル　　　　　四）：るつぼの蓋なお各図中、同一符号は
同−又は相当部分を示すものとする。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）蓋部にノズルが設けられたるつぼ内を加熱昇圧し
   、るつぼ内に配された蒸着物質の蒸気を、上記ノズルか
   ら高真空領域内に噴出させて基板に蒸着させるものにお
   いて、上記るつぼの蓋部を、耐熱性を有する金属材料で
   形成したことを特徴とする薄膜形成装置。
2. （２）耐熱性を有する金属材料として、タンタル、タン
   グステン、あるいはモリブデンを用いることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の薄膜形成装置。