JPS6126924A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6126924A JPS6126924A JP14782184A JP14782184A JPS6126924A JP S6126924 A JPS6126924 A JP S6126924A JP 14782184 A JP14782184 A JP 14782184A JP 14782184 A JP14782184 A JP 14782184A JP S6126924 A JPS6126924 A JP S6126924A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic recording
- layer
- film
- magnetic
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体に関する
。
。
従来例の構成とその問題
近年、磁気記録は高密度化遮急激に進み、強磁性微粒子
を結合剤で高分子基板上に分散固定した、いわゆる塗布
型媒体を用いての高密度化は限界に近いとの認識が一般
化し、高密度記録に適する結合剤をもたない、いわゆる
金属薄膜型の磁気記録媒体の実用化の必要性が高まって
いる。
を結合剤で高分子基板上に分散固定した、いわゆる塗布
型媒体を用いての高密度化は限界に近いとの認識が一般
化し、高密度記録に適する結合剤をもたない、いわゆる
金属薄膜型の磁気記録媒体の実用化の必要性が高まって
いる。
特に第１図に示したように、高分子基板１上に軟磁性層
２と垂直磁化膜３を積層して成る、いわゆる垂直磁気記
録媒体は、高密度化する程、減磁界が無視できることか
ら、注目されている。
２と垂直磁化膜３を積層して成る、いわゆる垂直磁気記
録媒体は、高密度化する程、減磁界が無視できることか
ら、注目されている。
第２図は、第１図に示す例のような金属薄膜型の実用性
能、とりわけ耐スリ傷性を改良するための提案にもとづ
いた磁気記録媒体の要部拡大模式図で、高分子基板４上
に、微粒子６を配し、その上に磁性層６を形成したもの
で接触面積が小さくなり、走行性能、耐スリ傷性に於て
、向上効果は明確にでている。
能、とりわけ耐スリ傷性を改良するための提案にもとづ
いた磁気記録媒体の要部拡大模式図で、高分子基板４上
に、微粒子６を配し、その上に磁性層６を形成したもの
で接触面積が小さくなり、走行性能、耐スリ傷性に於て
、向上効果は明確にでている。
しかし、かかる構成をもとに、垂直磁気記録媒体、長手
記録媒体を得ても、信号対雑音比（Ｓ／Ｎ）で十分な値
が得られない問題がある。
記録媒体を得ても、信号対雑音比（Ｓ／Ｎ）で十分な値
が得られない問題がある。
従来、理想と考えられていた、平滑な基板で磁気記録媒
体は、耐スリ傷性、走行性等の面で全く実用に供し得る
レベルにないので、前記した粒子を付与した基板を基礎
にＳ／Ｎの問題を解決することは重要である。
体は、耐スリ傷性、走行性等の面で全く実用に供し得る
レベルにないので、前記した粒子を付与した基板を基礎
にＳ／Ｎの問題を解決することは重要である。
発明の目的
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、Ｓ／Ｎ
が良好でかつ耐久性の改良された磁気記録媒体を提供
するものである。
が良好でかつ耐久性の改良された磁気記録媒体を提供
するものである。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体は、高分子基板上に突起を形成す
る基礎粒子を配した上に形成した磁性薄膜の突起の密度
が該基礎粒子密度の４／５以下であることを特徴としＳ
／Ｎが良好で、走行性、耐スリ傷性等の耐久性が改良さ
れたものである。
る基礎粒子を配した上に形成した磁性薄膜の突起の密度
が該基礎粒子密度の４／５以下であることを特徴としＳ
／Ｎが良好で、走行性、耐スリ傷性等の耐久性が改良さ
れたものである。
実施例の説明
以下図面を参照しながら本発明を説明する。
第３図は本発明の磁気記録媒体の要部拡大模式第３図で
７は高分子基板で８は基礎粒子で９は磁性層で、１ｏを
突起として計数するものである。
７は高分子基板で８は基礎粒子で９は磁性層で、１ｏを
突起として計数するものである。
第３図で示すように模式的に示した磁性層９に、基礎粒
子８の影響を受けて現出する突起１０の密度が基礎粒子
より小さく、満足すべき臨界条件として２１３以下にな
るよう構成することが要点となるものである。
子８の影響を受けて現出する突起１０の密度が基礎粒子
より小さく、満足すべき臨界条件として２１３以下にな
るよう構成することが要点となるものである。
この構成は、磁性層が、軟磁性層との積層であっても、
或いは、垂直磁化膜、長手磁化膜、等方磁化膜の単独で
あってもよいものである。
或いは、垂直磁化膜、長手磁化膜、等方磁化膜の単独で
あってもよいものである。
尚臨界条件は、磁気記録の実用化に必要な最低限のＳ／
Ｎを４６ ｄＢと想定した時に実験的に求められたもの
で、雑音の減る理由については、製法のいかんを問わず
、微視的に原子の基板への入射角が異なって１ハる為に
起る磁気的不均一性が減少するためと考えられるもので
ある。
Ｎを４６ ｄＢと想定した時に実験的に求められたもの
で、雑音の減る理由については、製法のいかんを問わず
、微視的に原子の基板への入射角が異なって１ハる為に
起る磁気的不均一性が減少するためと考えられるもので
ある。
かかる媒体を構成するのに用いられる高分子基板は、ポ
リエステル類、ポリオレフィン類、ポリカーボネート、
セルロース誘導体、ポリアミド。
リエステル類、ポリオレフィン類、ポリカーボネート、
セルロース誘導体、ポリアミド。
ポリイミド等であるが、内部に粒子を添加したもの、表
面にマント構造をもつものについても含まれる。
面にマント構造をもつものについても含まれる。
本発明に用いることの出来る微粒子は、ＺｎＯ。
ＭｇＯ，Ａβ２Ｊ 、ＳｉＯ２，ＴｉＯ２’、ＭｇＣＯ
３゜ＣａＣＯ２，ｃａｓｏ４．ＢａＳＯ４等で、単独或
いは、複合、或いは、用いるサイズを組み合わせるなど
′も本発明の範囲である。
３゜ＣａＣＯ２，ｃａｓｏ４．ＢａＳＯ４等で、単独或
いは、複合、或いは、用いるサイズを組み合わせるなど
′も本発明の範囲である。
この上に形成する軟磁性層は例えばＮｉ−Ｆｅ。
Ｍｎ−Ｎｉ−Ｆｅ 、 Ｍｎ−Ｚｎ −Ｎｉ−Ｆｅ等、
強磁性層は、Ｇｏ 、 Ｆｅ 、 Ｃｏ−Ｎｉ 、−Ｇ
ｏ−Ｔｉ 、 Ｃｏ−８ｎ 、 Ｇｏ−Ｍｏ 。
強磁性層は、Ｇｏ 、 Ｆｅ 、 Ｃｏ−Ｎｉ 、−Ｇ
ｏ−Ｔｉ 、 Ｃｏ−８ｎ 、 Ｇｏ−Ｍｏ 。
Ｇｏ−Ｗ 、 Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｃｏ−Ｒｕ 、 Ｃｏ
−Ｖ 、 Ｃｏ−Ｍｇ 。
−Ｖ 、 Ｃｏ−Ｍｇ 。
Ｇｏ−０、Ｃｏ−Ｎｉ −０、ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ等で磁化
容易軸の方向には依存しない。
容易軸の方向には依存しない。
本発明の構成を得る一般的な法則は見出し得てないが、
材料が決れば、それに応じて、蒸着時に微量のガスを添
加することや、基板温度を制御することなどで実験的に
求めることができる。中でも有効な方法は、実効的に１
００Å以下の厚み領域で、７０度以上で斜め蒸着してか
ら、垂直蒸着することや、反対側の角度から斜め蒸着す
ることである。
材料が決れば、それに応じて、蒸着時に微量のガスを添
加することや、基板温度を制御することなどで実験的に
求めることができる。中でも有効な方法は、実効的に１
００Å以下の厚み領域で、７０度以上で斜め蒸着してか
ら、垂直蒸着することや、反対側の角度から斜め蒸着す
ることである。
特に顕著な効果が雑音改良でみられた軟磁性層をもった
垂直磁化膜を配した磁気記録媒体について具体的に一実
施例を説明する。
垂直磁化膜を配した磁気記録媒体について具体的に一実
施例を説明する。
（実施例）
厚み１Ｏμｍのポリアミドフィルム上に、微粒子を基礎
粒子として塗布固定した。樹脂はエポキシ樹脂を利用し
た。
粒子として塗布固定した。樹脂はエポキシ樹脂を利用し
た。
この上にＮｉ−Ｆｅ、（Ｆｅ ２０ ｗｔ、９６ ）膜
を０．３μｍ配す前にＴｉ膜を入射角７０度以上で６０
人形成した。その時の基板フィルムの温度は７６℃から
２１５℃まで変化させ、真空度を１Ｏ−８Ｔｏｒｒまで
排気した後１ｘ１ｏ ’Ｔｏｒｒから４×１０Ｔｏｒｒ
までＣＯガスを導入制御した。Ｎ１−Ｆａ膜形成は、入
射角１０度以内の垂直蒸着で、フィルムの温度は１６６
℃一定とした。その上にＱＯ−（：ｒ膜を高周波スパッ
タ法で０．１μｍ形成した。
を０．３μｍ配す前にＴｉ膜を入射角７０度以上で６０
人形成した。その時の基板フィルムの温度は７６℃から
２１５℃まで変化させ、真空度を１Ｏ−８Ｔｏｒｒまで
排気した後１ｘ１ｏ ’Ｔｏｒｒから４×１０Ｔｏｒｒ
までＣＯガスを導入制御した。Ｎ１−Ｆａ膜形成は、入
射角１０度以内の垂直蒸着で、フィルムの温度は１６６
℃一定とした。その上にＱＯ−（：ｒ膜を高周波スパッ
タ法で０．１μｍ形成した。
基礎粒子数と突起の数は、走査型電子顕微鏡で任意の１
０ケ所を測定して、平均値で評価した。
０ケ所を測定して、平均値で評価した。
Ｓ／Ｎは、波長０．３１μｍ トラック幅７μｍで主磁
極はＣｏ−Ｂ系の非晶質スパッタ膜で厚み０．１６μｍ
である。
極はＣｏ−Ｂ系の非晶質スパッタ膜で厚み０．１６μｍ
である。
尚Ｃｏ−Ｃｒ膜の垂直抗磁力は、テープによシ少し異な
っているが、１ｏＱＯ〔Ｏｅ〕から１０４０〔Ｏｅ〕の
範囲に入っている。
っているが、１ｏＱＯ〔Ｏｅ〕から１０４０〔Ｏｅ〕の
範囲に入っている。
得られたテープの諸定数と特性を表に示した。
＊１ スチル特性は、回転ヘリカル走査方式のビテオへ
ノド（Ｇｏ−Ｂアモルファスヘッド）で出力が初期から
３ ｄＢ 低下するまでの時間でみた（テスト環境は４
０″Ｇ９３％ＦＩＨ）。
ノド（Ｇｏ−Ｂアモルファスヘッド）で出力が初期から
３ ｄＢ 低下するまでの時間でみた（テスト環境は４
０″Ｇ９３％ＦＩＨ）。
＊２ 動摩擦係数は、４０°Ｃ９３％ＲＨで試作したビ
デオテープレコーダで３５０回走行させた時の走行前後
の変化で示した。
デオテープレコーダで３５０回走行させた時の走行前後
の変化で示した。
表より本発明構成はＳ／Ｎと耐久性のバランスがよくと
れていることがわかる。
れていることがわかる。
本発明の磁気記録媒体は、前述の他の材料の組み合わせ
に於ても実施例に示したものと同等か近い性能が得られ
るもので、磁気テープはもとより磁気ディスク、シート
に於ても有効である。
に於ても実施例に示したものと同等か近い性能が得られ
るもので、磁気テープはもとより磁気ディスク、シート
に於ても有効である。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、基板上の基礎粒子の密度より
４／５以下１い磁気記録層の突起密度にすることにより
、Ｓ／Ｎを改良した上で耐久性も実用になるレベルを保
持できるものであってその実用的効果は太きい。
４／５以下１い磁気記録層の突起密度にすることにより
、Ｓ／Ｎを改良した上で耐久性も実用になるレベルを保
持できるものであってその実用的効果は太きい。
第１図、第２図は従来の磁気記録媒体の断面模式図、第
３図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面模式図である。 ７・・・・・高分子基板、８・・・・・・基礎粒子、９
・・・・・・磁性層、１ｏ・・・・・・突起。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 −１力１１名
第１図
３図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面模式図である。 ７・・・・・高分子基板、８・・・・・・基礎粒子、９
・・・・・・磁性層、１ｏ・・・・・・突起。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 −１力１１名
第１図
Claims (1)
- 高分子基板上に突起を形成する基礎粒子を配した上に形
成した磁性薄膜の突起の密度が該基礎粒子密度の４／５
以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14782184A JPS6126924A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14782184A JPS6126924A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126924A true JPS6126924A (ja) | 1986-02-06 |
Family
ID=15438987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14782184A Pending JPS6126924A (ja) | 1984-07-17 | 1984-07-17 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126924A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04332624A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-19 | Chisso Corp | 結晶性熱可塑性樹脂製小口径スティックおよびその製造方法 |
| WO2022202965A1 (ja) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | 株式会社クラレ | メタクリル系共重合体、メタクリル系樹脂組成物およびその製造方法、並びに成形体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5868227A (ja) * | 1981-10-15 | 1983-04-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-07-17 JP JP14782184A patent/JPS6126924A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5868227A (ja) * | 1981-10-15 | 1983-04-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04332624A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-19 | Chisso Corp | 結晶性熱可塑性樹脂製小口径スティックおよびその製造方法 |
| WO2022202965A1 (ja) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | 株式会社クラレ | メタクリル系共重合体、メタクリル系樹脂組成物およびその製造方法、並びに成形体 |
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