JPS61215523A - Production of liquid crystal apparatus - Google Patents

Production of liquid crystal apparatus

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JPS61215523A
JPS61215523A JP5709285A JP5709285A JPS61215523A JP S61215523 A JPS61215523 A JP S61215523A JP 5709285 A JP5709285 A JP 5709285A JP 5709285 A JP5709285 A JP 5709285A JP S61215523 A JPS61215523 A JP S61215523A
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JP
Japan
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liquid crystal
spacer
thickness
photosensitive polyimide
crystal layer
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Application number
JP5709285A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Akimoto
一彦 秋元
Tokihiko Shinomiya
時彦 四宮
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve an uniformity and an accuracy of a dimension in a thickness of the liquid crystal layer by forming spacers composed of a photosensitive polyimide so as to correspond each other on each surfaces of a pair of electrodes which are face to face each other. CONSTITUTION:The linear upperward spacer 8a and the linear downward spacer 8b having an uniform thickness of 1-2mum are arranged over a whole surface of the electrode substrates 3, 4 so as to intersect at right angles. By the sum (d1+d2) of the thickness (d1) and (d2) of each upperward spacer 8a and the downward spacer 8b is limitted the thickness (d) of the liquid crystal layer. The upper ward spacer 8a and the downward spacer 8b compose of the high molecule film of the photosensitive polyimide. The high molecule films are formed on the whole surfaces of the electrode substrates 2, 3 respectively. The photosensitive polyimide films are optically cured by irradiating a light so as to dispose patterns of each photosensitive polyimide films in order in a right slantwise direction, and in a left slantwise direction respectively. Both substrates 2, 3 are piled up so as to contact the upperward spacer 8a and the downward spacer 8b each other.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、たとえば強誘電性を有する液晶を封入した光
変調方式の液晶装置の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a light modulation type liquid crystal device in which a liquid crystal having ferroelectricity is sealed, for example.

背景技術 従来からの液晶を用いた表示装置としては、ツイスト−
冬マチイック電界効果型が一般的であり、電子式卓上計
算機、デジタル式時計等に広く用いられている。しかし
液晶材料、セル、駆動方法等の改良にも拘わらず、高速
応答性に欠け、最近待に注目されているテレビ画像表示
、ポータプルコンピュータの表示装置、尤シャッタ装置
として用いら胱る場合にはその応答性に問題があった。
BACKGROUND TECHNOLOGY As a conventional display device using liquid crystal, twist
The winter magnetic field effect type is common, and is widely used in electronic desktop calculators, digital watches, etc. However, despite improvements in liquid crystal materials, cells, driving methods, etc., they lack high-speed response, and cannot be used as television image displays, portable computer display devices, or shutter devices, which have recently been attracting attention. There was a problem with its responsiveness.

そこでこの応答性に関する問題を解決するため、強誘電
性カイラルスメクティック液晶を用いた液晶変調方式の
表示装置が用いられているが、一般にこのような強誘電
性液晶物質の特徴であるメモリ性を得るためには、液晶
層の厚みを1〜3μ鰺確保することが必要とされる。と
ころが液晶層の厚みを規定するスペーサとしては、ガラ
ス繊維、酸化アルミナ粉、ガラスお上りプラスチック製
ビーズなどが従来から用いられており、このようなスペ
ーサでは、通常5μ−以上の厚みとなり、所望の1〜3
μ−の寸法を得ることができない。またスペーサ寸法の
ばらつきに起因して、液晶層の厚さを均一に保つことは
容易ではなかった。
In order to solve this response problem, liquid crystal modulation display devices using ferroelectric chiral smectic liquid crystals have been used, but generally it is difficult to obtain the memory properties that are characteristic of such ferroelectric liquid crystal materials. In order to achieve this, it is necessary to ensure a thickness of the liquid crystal layer of 1 to 3 μm. However, glass fiber, alumina oxide powder, glass-topped plastic beads, etc. have traditionally been used as spacers to define the thickness of the liquid crystal layer, and such spacers usually have a thickness of 5μ or more, making it difficult to achieve the desired thickness. 1-3
It is not possible to obtain the μ- dimension. Furthermore, due to variations in spacer dimensions, it has not been easy to maintain a uniform thickness of the liquid crystal layer.

発明が解決しようとする問題点 要約すれば、とくに強誘電性液晶物を用いる光変調方式
の表示装置において、従来のスペーサでは液晶層の厚み
を3μ勝以下に確保することができず、またその厚みを
均一に保つことができない。
Problems to be Solved by the Invention In summary, especially in light modulation type display devices using ferroelectric liquid crystal materials, conventional spacers cannot ensure the thickness of the liquid crystal layer to be less than 3 μm; Unable to maintain uniform thickness.

したがって高速応答性および双安定性を確保することが
できなかった。
Therefore, it was not possible to ensure high-speed response and bistability.

本発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、液晶層の
厚みを3μ輪以下とし、かつその厚みを均一化して高速
応答性および双安定性を確保し、これによって表示品質
の向上を図ることができるようにした液晶装置のg1造
方法を提供することである。
The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned technical problems, reduce the thickness of the liquid crystal layer to 3 μm or less, and make the thickness uniform to ensure high-speed response and bistability, thereby improving display quality. An object of the present invention is to provide a G1 manufacturing method for a liquid crystal device that can achieve the following objectives.

問題前を解決するための手段 本発明は、一対の相互に対向する電極基−板の相互に対
向する各表面に、感光性ポリイミドから虞。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method of applying photosensitive polyimide to each mutually opposing surface of a pair of mutually opposing electrode substrates.

るスペーサを相互に対応して形成し、各電極基板の対応
するスペーサが当接しで電極基板部の空間が規定され、
この空間内に液晶を封入することを特徴とする液晶装置
の製造方法である。
The spacers of the electrode substrates are formed so as to correspond to each other, and the space of the electrode substrate portion is defined by the corresponding spacers of each electrode substrate being in contact with each other.
This method of manufacturing a liquid crystal device is characterized in that liquid crystal is sealed in this space.

作  用 本発明に従えば、スペーサの材料として感光性ポリイミ
ドを用いるようにしたことによって、液晶層の厚さを3
μ輪以下に確保することができ、しかもその厚み精度の
向上を図ることができる。
Effect According to the present invention, by using photosensitive polyimide as the material of the spacer, the thickness of the liquid crystal layer can be reduced to 3.
It is possible to ensure that the thickness is less than a μ ring, and furthermore, it is possible to improve the thickness accuracy.

実施例 第1図は、本発明に従う液晶装置1の断面図である。光
変調方式の液晶装置1は、2枚の電極基板2.3の相互
に対向する面に透明電極4.5および配向処理が施され
た配向膜6,7を配置し、シール材9を介して相互に圧
着し、シール材9によって規定されるセル空間内に強誘
電性カイラルスメクティック液晶10を封入して構成さ
れる。
Embodiment FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal device 1 according to the present invention. A light modulation type liquid crystal device 1 includes transparent electrodes 4.5 and alignment films 6, 7 that have been subjected to an alignment process, arranged on mutually opposing surfaces of two electrode substrates 2.3, and arranged with a sealing material 9 in between. ferroelectric chiral smectic liquid crystal 10 is sealed in the cell space defined by the sealing material 9.

これら電極基板2.3上にはスペーサ8.8&がそれぞ
れパターン形成されており、このスペーサ8゜8aを相
互に重ね合わせることによって、電極基板2.3闇の液
晶層の厚みdが規定される。透明基板2,3の外部両面
側には、一対の偏光子11゜12が配置されており、上
下の透明電極4,5間の所定電圧の印加、解除によって
、たとえば光シヤツタ装置としての機能を果すことがで
きる。
Spacers 8.8 & are patterned on these electrode substrates 2.3, and by overlapping these spacers 8.8a, the thickness d of the dark liquid crystal layer of the electrode substrate 2.3 is defined. . A pair of polarizers 11 and 12 are arranged on both external sides of the transparent substrates 2 and 3, and by applying and releasing a predetermined voltage between the upper and lower transparent electrodes 4 and 5, they can function as, for example, a light shutter device. can be accomplished.

第2図を参照して、強誘電性カイフルスメクティック液
晶10の分子10mは、矢符aで示される螺旋軸方向に
対して、ティルト角度θだけ傾いて配列した螺旋構造を
有している。この液晶分子10aは、個々の分子に直交
した方向に自発分極を有している。いま、上下の電極基
板2廖3閏に、一定の臨界電場以上の電界Eを印加する
と、液晶分子10mの螺旋構造が解消されで、液晶分子
10aは総て同一方向を向く、この液晶分子10mの配
列は自発分極によるので、電界の向きE、−Eによって
2つの配列方向を持つ、液晶分子10mは、縞長い形状
をしており、長袖方向と短軸方向で屈折率の異なる複屈
折性を示すため、電極基板2゜3の上下に偏光子11.
12を直交配置することで、電界極性によってスイッチ
ングを行なう光変調装置を得ることができる。この液晶
分子10mの配列の変化は、層内での分子の向きが変わ
るだけであるので、ツイスト−ネマティック電界効果型
のような層構造の変化を伴うものではな(、したがって
高速応答性を有するものである。
Referring to FIG. 2, the molecules 10m of the ferroelectric Kaiflusmectic liquid crystal 10 have a helical structure arranged at a tilt angle θ with respect to the helical axis direction indicated by the arrow a. The liquid crystal molecules 10a have spontaneous polarization in a direction perpendicular to each molecule. Now, when an electric field E higher than a certain critical electric field is applied to the upper and lower electrode substrates 2 and 3, the helical structure of the liquid crystal molecules 10m is dissolved, and the liquid crystal molecules 10a all face in the same direction. Since the alignment is due to spontaneous polarization, the liquid crystal molecules 10m have two alignment directions depending on the direction of the electric field, E and -E.The 10m liquid crystal molecules have a long striped shape, and have birefringence with different refractive indexes in the long axis direction and the short axis direction. To show this, polarizers 11. are placed above and below the electrode substrate 2°3.
By arranging 12 orthogonally, it is possible to obtain an optical modulation device that performs switching based on electric field polarity. This change in the arrangement of 10 m of liquid crystal molecules only changes the orientation of the molecules within the layer, so it does not involve a change in the layer structure as in the twisted nematic field effect type (therefore, it has high-speed response). It is something.

さらに、電界を印加しない定常状態においても、液晶分
子10−の螺旋ピッチより液晶層の厚さdを薄くするこ
とで、螺旋を解消することが可能である。この場合にお
いでも、液晶分子10mの配列方向は2方向を示し、双
安定性を有す、したがって電界Eを印加すれば、すべて
の液晶分子10mは螺旋軸方向aに対してティルト角θ
だけ傾斜した分子配列となり、第2図(2)に示される
ような双安定状態の配向を得ることができるが、電界を
切ってもこの状態を維持し続ける。これに対して電界−
Eを印加すると、すべての液晶分子10aは螺旋軸方向
aに対してティルト角−θだけ傾斜した分子配列となり
、#2図(2)に示されるような安定状態の配向を得る
ことができるが、電界を切ってもこの状態を維持し続け
る。このように、液晶層の厚さdを薄くすることで、高
速応答性を得ると同時に、双安定性を得ることができる
Furthermore, even in a steady state where no electric field is applied, it is possible to eliminate the helix by making the thickness d of the liquid crystal layer thinner than the helical pitch of the liquid crystal molecules 10-. Even in this case, the alignment directions of the liquid crystal molecules 10m show two directions and have bistability.Therefore, if the electric field E is applied, all the liquid crystal molecules 10m will have a tilt angle θ with respect to the helical axis direction a.
This results in a bistable orientation as shown in FIG. 2 (2), which continues to maintain this state even when the electric field is turned off. On the other hand, the electric field −
When E is applied, all the liquid crystal molecules 10a have a molecular alignment that is tilted by a tilt angle of -θ with respect to the helical axis direction a, and it is possible to obtain a stable orientation as shown in Figure #2 (2). , continues to maintain this state even if the electric field is turned off. In this way, by reducing the thickness d of the liquid crystal layer, high-speed response and bistability can be obtained at the same time.

以上の複屈折現象を利用した光変調方式では、第2図(
2)における入射光強度Ioと透過光強度Iの関係は、
第1式で示され、第2図(3)におけるその関係は第2
式で示される。
The optical modulation method using the above birefringence phenomenon is shown in Figure 2 (
The relationship between the incident light intensity Io and the transmitted light intensity I in 2) is
The relationship in Figure 2 (3) is expressed by the second equation.
It is shown by the formula.

I=O・・・(1) I −(I o/ 2 )・(S in”4θ)・(S
 in”f −(Δn・ d/λ )  )     
   ・・・(2)ここでΔnは強誘電性力イラルスメ
クティック液晶10の屈折率異方性を表わし、dは強誘
電性カイラルスメクティック液晶層の厚みを表わし、θ
は強誘電性力イラルスメクティック液晶10の螺旋ティ
ルト角度を表わす。
I=O...(1) I-(I o/2)・(S in"4θ)・(S
in”f − (Δn・d/λ))
(2) Here, Δn represents the refractive index anisotropy of the ferroelectric chiral smectic liquid crystal 10, d represents the thickness of the ferroelectric chiral smectic liquid crystal layer, and θ
represents the helical tilt angle of the ferroelectric smectic liquid crystal 10.

第2図(2)に示される状態を、その波長λが450n
m、550口箇および6501論である場合についてプ
ロットすると第3図に示されるようになり、θ=π/8
であるときの透過光強度IはΔn−dと波長入に強く依
存することが明らかである。したがって、可視光波長領
域においては、Δn−dは0゜2〜0.3の範囲に設定
する必要があり、これによって色5Iきのない良好な表
示素子を得ることができる。また、強誘電性カイラルス
メクティフク液晶10の屈折率異方性Δnは一般的に0
.1〜O02程度であるので、液晶層の厚みdの値は1
〜3μ−が最適である。加えて、双安定状態を得るため
には、液晶層の厚みdの値を強誘電性力イラルスメクテ
ィック液晶10の螺旋ピッチより小さくする必要があり
、この点からも、液晶層の厚みdを1〜3μ−に選ぶの
が適当であることが理解される。
The state shown in Fig. 2 (2) is
Plotting the case of m, 550 points and 6501 theory is shown in Figure 3, and θ=π/8
It is clear that the transmitted light intensity I when .DELTA.n-d and wavelength input strongly depend on .DELTA.n-d. Therefore, in the visible light wavelength region, Δn-d needs to be set in the range of 0°2 to 0.3, thereby making it possible to obtain a good display element with no color distortion. Furthermore, the refractive index anisotropy Δn of the ferroelectric chiral smectifuku liquid crystal 10 is generally 0.
.. Since it is about 1 to O02, the value of the thickness d of the liquid crystal layer is 1
~3μ- is optimal. In addition, in order to obtain a bistable state, the value of the thickness d of the liquid crystal layer must be smaller than the helical pitch of the ferroelectric smectic liquid crystal 10, and from this point of view, the thickness d of the liquid crystal layer must be set to 1. It is understood that it is appropriate to choose ~3μ-.

上記強誘電性カイラルスメクティック液晶10の例は、
第1表に示さ、れるとおりである。
An example of the ferroelectric chiral smectic liquid crystal 10 is as follows:
As shown in Table 1.

(以下余白) 第4図は、第1図の切断面線ff−IVから見た断面図
である。電極基板3,4上には、その全表面に亘って1
〜2μ齢、好ましくは1.5μmの均一な厚みを有する
線形状の上部スペーサ8aおよび下部スペーサ8bが相
互の直交する方向に延在してそれぞれ形成される。この
上部スペーサ8aおよび下部スペーサ8bの各厚みd、
、d2の和d、 + d、によって液晶層の厚みdが規
定される。
(The following is a margin.) FIG. 4 is a sectional view taken along the section line ff-IV in FIG. 1. 1 on the entire surface of the electrode substrates 3 and 4.
Line-shaped upper spacers 8a and lower spacers 8b having a uniform thickness of ~2 μm, preferably 1.5 μm, are formed extending in directions perpendicular to each other. Each thickness d of this upper spacer 8a and lower spacer 8b,
, d2, d, + d, defines the thickness d of the liquid crystal layer.

上部スペーサ8aおよび下部スペーサ8bは、感光性ポ
リイミドの高分子膜から成る。この感光性ポリイミドの
材料としては、たとえば分子中に感光基を持つジアミン
化合物と、テトラカルボン酸無水物とを反応させて成る
感光性重合体などが好適である。
The upper spacer 8a and the lower spacer 8b are made of a photosensitive polyimide polymer film. A suitable material for this photosensitive polyimide is, for example, a photosensitive polymer obtained by reacting a diamine compound having a photosensitive group in its molecule with a tetracarboxylic anhydride.

このような上部スペーサ8aおよび下部スペーサ8bの
パターン形成を行なうにあたっては、その−例として、
まず電極基板2,3上に全面に亘ってスピンナー塗布法
やロールコータ法などにより、感光性ポリイミドから成
る高分子膜をそれぞれ形成する。この感光性ポリイミド
膜の厚みは、本文施例では1.5μIとする。次に光照
射によって、一方の感光性ポリイミド膜を第4図に示さ
れるように長手形状とし、かつ第4図の左斜め方向に秩
序をもってパターン配列されるように光硬化させる。ま
た、他方の感光性ポリイミド膜もまた第5図に示される
ように長手形状とし、かつ第5図の右斜め方向に秩序を
もってパターン配列されるように光硬化させる。その後
、ポリイミド膜の光硬化部分以外の残余の部分を除去し
、こうして電極基板2,3上に1.5μ−の均一な厚み
を有する長手形状の感光性ポリイミド膜から成る上部ス
ペーサ8aおより下部スペーサ8bがそれぞれ形成され
る。
For patterning the upper spacer 8a and lower spacer 8b, for example,
First, polymer films made of photosensitive polyimide are formed over the entire surface of the electrode substrates 2 and 3 by a spinner coating method, a roll coater method, or the like. The thickness of this photosensitive polyimide film is 1.5 .mu.I in this example. Next, by light irradiation, one of the photosensitive polyimide films is formed into a longitudinal shape as shown in FIG. 4, and photocured so as to be arranged in an orderly pattern diagonally to the left in FIG. Further, the other photosensitive polyimide film is also formed into a longitudinal shape as shown in FIG. 5, and is photocured so as to be patterned in an orderly manner diagonally to the right in FIG. Thereafter, the remaining portions of the polyimide film other than the photocured portions are removed, and the upper spacer 8a and the lower portion made of the elongated photosensitive polyimide film having a uniform thickness of 1.5μ are placed on the electrode substrates 2 and 3. Spacers 8b are respectively formed.

このように電極基板2,3上に感光性ポリイミド膜から
成る上部スペーサ8aお上り下部スペーサ8bをそれぞ
れパターン形成した後は、電極基板2,3の配向膜6,
7の配向処理をそれぞれ行ない、上部スペーサ8aと下
部スペーサ8bとが相互に当接するように両基板2,3
を重ね合わせる。
After patterning the upper spacer 8a and lower spacer 8b made of photosensitive polyimide film on the electrode substrates 2 and 3 in this way, the alignment films 6 and 8 of the electrode substrates 2 and 3 are formed.
Both substrates 2 and 3 are aligned so that the upper spacer 8a and the lower spacer 8b are in contact with each other.
Overlap.

このときの上部スペーサ8aと下部スペーサ8bの配列
状態は第6図に示されるようにそれぞれクロスした形状
となり、電極基板2,3間の空間の厚みは両スペーサ8
,9の各交差位置における各厚みd、(=1.5μ−L
 d2(=1゜5μ−)の和d、十d、(= 3μ−)
となる。
At this time, the upper spacer 8a and the lower spacer 8b are arranged in a crossed shape as shown in FIG. 6, and the thickness of the space between the electrode substrates 2 and 3 is
, 9, each thickness d, (=1.5μ-L
The sum d of d2 (=1゜5μ-), 10d, (= 3μ-)
becomes.

このように相互に重ね合わされた電極基板2゜3は、シ
ール材9によって相互に接着され、そのセル空間内に強
誘電性力イラルスメクティーツク液晶が封入される。こ
の液晶層の厚みdは均一に3μ曽であるため、これによ
って強誘電性力イラルスメクティック液晶10を用いる
光変調方式の液晶層ra1の高速応答性および双安定性
が確保されることとなり、したがって表示品質の向上を
図ることが可能となる。
The electrode substrates 2.3 stacked one on top of the other in this manner are adhered to each other by a sealing material 9, and a ferroelectric liquid crystal is sealed in the cell space thereof. Since the thickness d of this liquid crystal layer is uniformly 3μ, this ensures high-speed response and bistability of the liquid crystal layer ra1 of the optical modulation method using the ferroelectric irradial smectic liquid crystal 10, and therefore It becomes possible to improve display quality.

また上部スペーサ8Bと下部スペーサ8bとをそれぞれ
クロスした状態で相互に重ね合わすようにしたことによ
って、位置ずれなどによる液晶層の厚みdのばらり軽を
確実に防止することができるので、製造工程の容易化お
よび液晶セルの歩留りの向上が図られることとなる。
Furthermore, by overlapping the upper spacer 8B and the lower spacer 8b in a crossed state, it is possible to reliably prevent the thickness d of the liquid crystal layer from varying due to misalignment, etc. This will facilitate the process and improve the yield of liquid crystal cells.

マタ各スペーサ8,9の数量、形状および配置パターン
は感光性ポリイミド膜の光照射の態様によって任意に選
ぶことができるので、液晶セルの種類ニ応じた設計、変
更をきわめてスムーズに行なうことが可能である。
Since the quantity, shape, and arrangement pattern of each spacer 8, 9 can be arbitrarily selected depending on the mode of light irradiation of the photosensitive polyimide film, it is possible to design and change the design according to the type of liquid crystal cell extremely smoothly. It is.

前記実施例では、感光性ポリイミド膜をそれぞれ斜め方
向に延びる長手形状(\、/)としたけれど、これに限
定されず、たとえばそれぞれ縦横方向に墓びる長手形状
(−1)とするようにしてもよい。
In the above embodiment, the photosensitive polyimide films each have a longitudinal shape (\, /) extending in an oblique direction, but the invention is not limited to this. For example, the photosensitive polyimide film may have a longitudinal shape (-1) extending vertically and horizontally. Good too.

前期実施例では、感光性ポリイミドから成るスペーサ8
,8aを電極基板2,3の両表面!こパターン形成した
けれども、本発明の他の実施例として、一方の電極基板
2上に感光性ポリイミドから成るスペーサ8をパターン
形成し、他方の電極基板3上にポリイミド以外の物質、
たとえばシリコン酸化物などの電気絶縁性を有する光透
過性物質によってスペーサ8aを形成し、相互に重ね合
わせて液晶層の厚みdを規定するような構成であっても
よ−1。
In the first embodiment, the spacer 8 made of photosensitive polyimide
, 8a on both surfaces of electrode substrates 2 and 3! Although this pattern was formed, as another embodiment of the present invention, a spacer 8 made of photosensitive polyimide was formed on one electrode substrate 2, and a material other than polyimide was formed on the other electrode substrate 3.
For example, the spacer 8a may be formed of an electrically insulating, light-transmitting material such as silicon oxide, and the spacers 8a may be overlapped with each other to define the thickness d of the liquid crystal layer.

本発明に従う液晶装置の製造方法は、強誘電性カイラル
スメクティック液晶を用いた光変調方式の表示装置に限
定されず、ネマティック液晶などを■いる表示装置に関
連しても用いることが可能である。
The method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is not limited to a light modulation type display device using a ferroelectric chiral smectic liquid crystal, but can also be used in connection with a display device using a nematic liquid crystal or the like.

効  果 以上のように本発明によれば、一対の相互に対向する電
極基板の相互に対向する各表面に、感光性ポリイミドか
ら成るスペーサを相互に対応して形成し、各電極基板の
対応するスペーサが当接してW極基板間の空間が規定さ
れるようにしたことによって、液晶層の厚さの寸法を均
一かつ高精度にすることができる。したがって本発明に
従う液晶装置の^速応答性および双安定性が確保され、
表示品質の向上を図ることができろ。
Effects As described above, according to the present invention, spacers made of photosensitive polyimide are formed on each of the mutually opposing surfaces of a pair of mutually opposing electrode substrates, and the spacers are formed on the corresponding surfaces of each electrode substrate. By abutting the spacers to define the space between the W pole substrates, the thickness of the liquid crystal layer can be made uniform and highly accurate. Therefore, the quick response and bistability of the liquid crystal device according to the present invention are ensured,
Be able to improve display quality.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に従う液晶層R1の断面図、第2図は液
晶分子10mを模式的に示した図、1@3図は強誘電性
カイラル入/クチイック液晶10の透過光強度工を説明
するための図、第4図は第1図の切断面線fV−IVか
ら見た断面図、第5図は第1図の切断面線■−■から見
た断面図、第6図は上部スペーサ8aと下部スペーサ8
bとの重ね合わせ状態を説明するための図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of the liquid crystal layer R1 according to the present invention, FIG. 2 is a diagram schematically showing 10 m of liquid crystal molecules, and FIG. Figure 4 is a sectional view taken from section line fV-IV in Figure 1, Figure 5 is a sectional view taken from section line ■-■ in Figure 1, and Figure 6 is a cross-sectional view taken from section line fV-IV in Figure 1. Spacer 8a and lower spacer 8
FIG.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 一対の相互に対向する電極基板の相互に対向する各表面
に、感光性ポリイミドから成るスペーサを相互に対応し
て形成し、各電極基板の対応するスペーサが当接して電
極基板間の空間が規定され、この空間内に液晶を封入す
ることを特徴とする液晶装置の製造方法。
Spacers made of photosensitive polyimide are formed on each of the mutually opposing surfaces of a pair of mutually opposing electrode substrates, and the corresponding spacers of each electrode substrate abut to define the space between the electrode substrates. A method for manufacturing a liquid crystal device, characterized in that the liquid crystal is sealed in this space.
JP5709285A 1985-03-20 1985-03-20 Production of liquid crystal apparatus Pending JPS61215523A (en)

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JP5709285A JPS61215523A (en) 1985-03-20 1985-03-20 Production of liquid crystal apparatus

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59201021A (en) * 1983-04-28 1984-11-14 Canon Inc Optical modulation element and its manufacture
JPS59223413A (en) * 1983-06-02 1984-12-15 Seiko Instr & Electronics Ltd Display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59201021A (en) * 1983-04-28 1984-11-14 Canon Inc Optical modulation element and its manufacture
JPS59223413A (en) * 1983-06-02 1984-12-15 Seiko Instr & Electronics Ltd Display device

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