JPS61215367A - カルバペネム中間体の製造方法 - Google Patents

カルバペネム中間体の製造方法

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JPS61215367A
JPS61215367A JP61059639A JP5963986A JPS61215367A JP S61215367 A JPS61215367 A JP S61215367A JP 61059639 A JP61059639 A JP 61059639A JP 5963986 A JP5963986 A JP 5963986A JP S61215367 A JPS61215367 A JP S61215367A
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JP61059639A
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デイーター・ヘビツヒ
ボルフガング・ハルトビツヒ
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Bayer AG
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    • C07D477/04Preparation by forming the ring or condensed ring systems
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40Esters thereof
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカルバペネム(carbapenem)抗生物
質を製造する際に重要な中間体であり且つその成るもの
は公知である4−〔3−カルボキシ−3−ジアシー2−
オキソプロピル〕アゼチジンー2−オン類の新規な製造
方法に関する。
4−アセトキシアゼチジノンがルイス(Lewis)酸
の存在下においてトリメチルシリルエノールエーテルと
反応して対応するC−C−結合した4−〔3−カルボキ
シ−3−ジアゾ−2−オキツブaピル〕アゼチジンー2
−オンを生成することは公知である〔ヨーロッパ特許出
!aE7&ozs号;シエイ・ティー・ブイナック(J
、 D、Buynak)等、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサエティ・ケミカル・コミュニケーショy (J
、 Chem、8oc、。
Chem、 Commun、 ) l 984.948
頁参照〕。
この方法は各々の場合に用いるトリメチルシリルエノー
ルエーテルの別個の且つ極めて手のこんだ製造を必要と
する。現在まで、その製造において有機金属基基、例え
ばn−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルア
ミドが用いられていたために、この製造方法は最も重要
な且つほとんど常に用いられるカルバペネムエステル保
護基、4−ニトロベンジルエステルと結合させることが
できない。加えて、現在まで、ジアゾエノールエーテル
の結合においてルイス酸としてハロゲン化亜鉛(1)の
みが用いられた。はとんどの場合に、このタイプの不均
一反応は高い反応温度及び長い反応時間を必要とし〔ヨ
ーロッパ特許出願筒78,026号; J、 D、Bu
ynak 、J、 Chern、 8oc、、Chem
Commun、 l 984.948;ピー・ジエイ・
ライダー(P、J、Re1der)等、テトラヘトCI
7−1/ターズ(Te t rahedron Le 
t t、) 1982.379参照〕、これはよく知ら
れている如く、生成物が敏感であるために極めて不利な
効果をもたらす。
加えて、反応を成功させるために、はとんどの場合にN
−保護基の前もって且つ別々の結合を必要とすることが
知られている〔エム・シオザキ(M、 5hiozak
i)等、ジャーナル・オプ・オーガニック・ケミストリ
ー(J、Org、 Chem、) 39.2399(1
983):M、5hiozaki等、テトラヘトo y
 (Tetrahedron 40.1795(198
4)及びTetrahedron Lett、 198
4.2793;エイ・ジー・エム・パレット(A、G。
M、Barrett)、J、Org、 Chem、 4
9.1679(1984)参照〕。
また、4−アセトキシ−アゼチジノンとリチウム二ル−
トとの直接反応は乏しい収率を与え、そして同様に有機
金属化合物に対して敏感でないエステルを用いてのみ反
応を行い得ることが知られている〔ティー・カメタニ(
T、 Kame t a n i )等、ヘテロサイク
ルズ(Heterocycles) 14.1967 
(1980) :T、Kametani等、J。
Chem、 8oc、、パー*ン(Perkin)I 
 1981.2228参照〕。
今回、一般式I 式中、 R1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし、 Btは水素を表わすか、随時置換されていてもよいアル
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いはN
HRlを表わし、ここで、R1は上記の意味を有し、 R3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいアル
キルを表わすか、随時置換されていてもよいアリールを
表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わすか
、ノ・ロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
は=N−フェニルを表わすか、 −(”ORツ、−CO□R’、−CO−NRうR6、−
C8NR″R,8、−C(=NR1)NR,SR’  
を表わすか、 −NR’R6、−NRI−COR’、−NR8−Co、
R,? 、−NR”−CR,5(=NR,6)、−NR
’−Co−NR’R6、−al−C8−NR5R’ 、
−NRI−C(=NR’)−asR”、−NR”−80
,B、?を表わすか、 −OR” 、 −0CORI 、−0CO−NR’R6
、−080,R丁。
−08O3Rs%−0PO(OR5)OR6ヲ表ワスカ
、−8R’ 、 −8(0)nR’ (ここで、nは1
または2である〕、−8COR1,−80,OR’。
−8o、NR’R’ 、 −8ON、−8CONHR”
を表わすか、或いは −PX(OR’)OR’ 、−PX(NR5R6) 、
、−PX(OR,l)NasR6を表わし、ここに各場
合において、 Rs及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを表わ
すか、随時置換されていてもよいアリールを表わすか、
随時置換されていてもよい複素環を表わすか、或いは随
時ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボキシ
ルに対する保護基を表わし、 R?はR3及びR6と同一の意味を有するが、但し、水
素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、セして R6はカルボキシルに対する保護基を表わすか、または
生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の4−〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロ
ピル〕アゼチジンー2−オン類は、ワン−ポット法(o
ne−pot process)において、一般式ぼ 式中、几1及びR3は上記の意味を有する、の4−アセ
トキシ−2−アゼチジノンを、不活性溶媒中で、塩基及
びシリル化剤の存在下において、一般式I 式中、R3及び几4は上記の意味を有する、の化合物と
反応させることによって得られることが見出された。
式■の化合物が本発明における方法によって良好な収率
で得られることは極めて驚くべきことと云える。当該分
野の現状から、一般式Iの化合物が均一溶液において本
発明によるワン−ポット法によって製造し得ることは予
期されなかった。
方法の簡単さ及び温和な条件は別として、本発明による
方法は加水分解に敏感な前駆物質の別々の手のこんだ製
造を必要としない利点を有している。加えて、また新規
方法は重要なニトロベンジル保護基の使用を可能にする
。同時に用いるシリル化剤が触媒として作用し、このた
めに他のルイス酸の使用を不必要とする。更に、また本
方法は、基Rsかへテロ原子を介して結合した置換基(
例えば−0CR,)である化合物■の製造に用いること
ができる。
本発明における方法によって製造し得るアゼチジノン類
は一般に式(■)によって定義される。この式において
、 R1は好ましくは水素を表わすか、またはアミノ保護基
を表わし、 Btは好ましくは水素を表わすか、好ましくはフッ素、
塩素、臭素またはアジドを表わすか、好ましくはフェニ
ルを表わすか、好ましくはNHRI[ここで、R1は上
記の意味を有する〕を表わすか、好ましくは式 ここで、Xは酸素または硫黄を表わす、の基を表わすか
、或いは好ましくは炭素原子6個までを有し且つ随時フ
ッ素、塩素または基OR″で置換されていてもよい直鎖
状、分校鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを
表ねし、 R1は水素を表わすか、好ましくはトリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、  te
rt、−ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリルま
たはトリメチルシリルエトキシカルボニルを表わすか、
好ましくはベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2−
もしくは4−ニトロベンジル、2−4.t、<ハ4−ニ
トロベyジルオキシカルボニル、 tart。
−ブチルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、
4−メトキシベンジル、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルを表ワすか、或いは好ましくはホルミル、アセ
チル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシカルボ
ニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエトキシ
メチル、(”2−()リメチルシリル)エトキシコメチ
ル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニル、
テトラヒドロピラニルまたはベンゾイルを表わし、 Bsは好ましくは水素を表わすか、好ましくは随時塩素
、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオ
ロメチルまたは(随時保護されていてもよい)ヒドロキ
シルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、好ま
しくはフッ素、塩素、臭素、シアノ、シアナトまたはア
ジドを表わすか、好ましくは各々随時メチル、アミノ(
随時保護されていてもよい)、フッ素、塩素、トリフル
オロメチルまたはヒドロキシルで置換されていてもよい
チェニル、フリル、イミダゾリル、チア/ジル、チアジ
アゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ
ペラジニルまたはピリミジルを表わすか、好ましくはS
−複素環(heterocyclyl )を表わし、該
複素環は各々随時メチル、アミノ、ヒドロキシルまたは
アセチルアミノで置換されていてもよいトリアゾリル、
テトラゾリル、チアジアゾリル、フリル、チェニル、ピ
リジルまたはピリミジルを意味を有するか、好ましくは
一〇〇R,!、−Co、R’、−CONHR’、7 ミ
ジ/ を表わスカ、好ましくは−NRIB”、ウレイド
、グアニジノを表わすか、好ましくは一0R−一〇〇〇
R’、080、R’、−0PO(ORI)、を表わすか
、好ましくは一8B’ 、 −8(0) rJL ’ 
 (ここで、n=1または2〕、−8COR’ 、−8
CONHRI、−8=O,OR’、−80,NHR’、
−8ON を[わ−iか、或いは好ましくは−PO(O
R1)、、−PO(NR5R6) 、を表わし、ここに
各々の場合に、 R5及びR6は同一もしくは相異なるものであり、水素
を表わすか、炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル
または1個もしくはそれ以上のフッ素で置換されていて
もよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和
アルキルを表わすか、随時ニトロまたはメトキシで置換
されていてもよいフェニルを表わすか、フリル、チェニ
ルまたはピリジルを表わすか、或いはヒドロキシル、メ
ルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する保護基を
表わし、R7はR1及びR6と同一の意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、或いは好ましくは
炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル、フッ素、塩
素、フリル、チェニル、ピリジル、イミダゾリル、トリ
アゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリルまたは式 ノ基テ、−1たけ−Co、R’、−CONHR’、 シ
アノ、アミジノ、−NHR”、−NHCOCH,、グア
ニジノ、アシド、−0R5、−0COR5。
−080,R’ 、 −0PO(OR1)、  、 −
8RI  。
−80,R?、−8COR’ 、−80,OR’ 、 
−8o、NHK’  。
−PO(ORm)、 、−PO(NR’ R’) ! 
CCCテ、R6、R6及びR?は上記の意味を有する〕
で置換されていてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の
飽和または不飽和アルキルを表わし、そして R4は好ましくはカルボキシル保護基または生体内で開
裂され得るエステル基を表わす。
一般式Iの化合物を製造する際の本発明によるワン−ポ
ット法は数種の個々の反応工程からなる。
用いる出発物質が、 a )  (3R* 4 B )  4−アセトキシ−
3−(1(m)−l−tert、−プチルジlfk’/
I)kオ命ジエチル〕アゼチジン−2−オン(IIにお
いて几!=H)及びアリル2−ジアゾ−3−オキソ−ペ
ンタエートまたは b)  (3R,4R)−4−アセトキシ−3−CI 
(R) −1−tert、−プチルジl f k ’/
 IJ kオキシエチル)−1−(4−メトキシフェニ
ル)アゼチジン−2−オン(IにおいてR,’=H)及
び4−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−オキソブタノエ
ート、 である場合、 この反応過程は次のダイアグラムによって表わすことが
できる: 一般式■、itたは■の化合物において、RtlkLa
 、 R1、Ba及びR7が随時置換されていてもよい
アルキルを表わす場合、該基は炭素原子10個まで、好
ましくは6個までを有する直鎖状、分校鎖状または環式
の飽和または不飽和アルキルを表わす。これに関する適
当な置換基は次のものである: a) メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメ
チル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ
、ニトロ、シアノ、または各々随時保護されていてもよ
いヒドロキシル、メルカプトもしくはアミノ、ジメチル
アミノ、カルバモイル、アミジノ、スルホ、スルファモ
イルまたはハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは
臭素によって数個、好ましくは2個まで置換されていて
もよいフェニル、 b) 0、SまたはNよ)なる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6員の随時−緒に融合していてもよい複素環、好ま
しくはチェニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリル、インチアゾリル、チアゾリル、オキサシリル
、イソキサゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、チアジ
アゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダ
ジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、キノキ
サリル、キナゾリル、プリニル、プでリジル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チ
オモルホリニル或いハ式の基、該複素環はまたフェニル
に対してすでに示したと同じ置換基をもつことができる
、C) ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素または臭素
、 d )  −COR9、−Co、R9、−Co−NR’
R”、−C(、、、NRIO)NRjRIG、 −〇N
、e)  −NR+’几10.−NR”−CoR10,
−N(COR”)(Con、1G)−NR”−CO,R
11、−NRIO−CR9(=NRIO)、−NRIO
−CO−NRIOR’、−NR0−C(=NRIO)−
N几9几10−NR1180,R1+ 、−N8、 f )  −0R9,−OC’ORO、−0CO−NR
IOR9、−0SO□R+1、−080.R9、−0P
O(OR9)OR”、g )  −8R’ 、−8(0
)nR”  [: nは1または2である]、−8CO
RI+、−8o、OR” 、−8o、NR,10RIG
或いは h)  −PX(ORIO)OR’、−PX(NR11
80)、、−PX(OTLO)NR+OR@ 。
ここで、各々の場合に、 R・及びR1’は同一もしくは相異なるものであり、水
素を表わすか、炭素原子10個まで、好ましくは6個ま
でを有する直鎖状、分校鎖状または環式の飽和または不
飽和アルキルを表わすか、フェニルまたはベンジルを表
わすか、複素環または複素環−メチルを表わし、該複素
環ばb)に示した意味を有するか、或いは随時ヒドロキ
シル、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する
保護基を表わし、R”はRo及びRloと同じ意味する
が、但し、水素または保護基を表わさず、そして Xは酸素または硫黄を表わす。
R2、几3、几6、R6及びR7が随時置換されていて
もよいアリールを表わす場合、該アIJ −ルは好まし
くは01〜C4−アルキル(好ましくはメチルまたはエ
チル)、01〜C6−アルコキシ(好ましくはメトキシ
)、01〜C6−アルキルチオ(好ましくはメチルチオ
)、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリ
フルオロアチルチオ、ハロゲン(好ましくはフッ素、塩
素または臭素)、シアノ、ニトロ、アジド、ジメチルア
ミノ、アミノ、ヒドロキシル、メルカプト(各々の場合
に随時保護されていてもよい)、スルホ、スルファモイ
ル、アセトキシまたはカルバモイルで好ましくは一また
は二置換、そして場合によっては三置換されていてもよ
いフェニルを表わす。
R1、R’ 、15 、R’ 及びR’ ;61M時置
換されていてもよい複素環を表わす場合、このものは好
ましくは0、S及びNよシなる群からの同一もしくは相
異なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の
5〜6−員の随時−緒に融合していてもよいヘテロサイ
クリルを表わし、殊に好ましくはチェニル、フリル、ピ
ロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
チアゾリル、ヘテトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジ
ル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリ
ル、キノリル、イソキノリル、キノキサリル、ピロリジ
ニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ベンゾチアゾリル
、ベンズイミダゾリル、プリニル、プテリジニル、モル
ホリニル、チオモルホリニル或いは式 の基を表わし、該複素環の置換基はアリールに対してす
でに示したものであり、そしてXは硫黄または酸素を表
わす。
R” 、R” 、n’ 及びR7<おいて、/N Oケ
アは好ましくはフッ素塩素または臭素を表わす。
几1がアミノ保護基である場合、該基はβ−ラクタム化
学においては普通のものである。殊に好ましいものとし
て挙げ得る例はビニル、アリル、tart。−フトキシ
カルボニル、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2
−ニトロベンジルモジ<は4−ニトロベンジル、2−ニ
トロベンジルオキシカルボニルモt、<ハ4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、4−メトキシフェニル、ホル
ミル、ベンゾイル、アセチル、クロロアセチル、トリク
ロロアセチル、トリフルオロアセチル、メチルオキシカ
ルボニル、アリルオキシカルボニル、トリメチルシリル
、トリエチルシリルもしくはトリフェニルシリル、te
rt、−ブチルジメチルシリル、2.4−ジメトキシベ
ンジル、2,4−ジメトキシオキシベンジルオキシカル
ボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシメチルオ
キシフェニル、ビス(4−メトキシフェニル)メチル、
tert。
−ブトキシカルボニルメチル、アリルオキシカルボニル
メチル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシ
エトキシエチル、(2−()リメチルシリル)エトキシ
コメチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボ
ニルまたはテトラヒドロピラニルである。
また、基R1、R3及び几6〜R11におけるアミノ保
護基並びにヒドロキシル及びメルカプトの保護基なる用
語は同様な意味を有するOR4及びBs 、 Ba 、
 Be及びR+1’がカルボキシル保護基を表わす場合
、これらのものはβ−ラクタム化学にbいては普通の保
護基を表わす。容重に除去される基は好ましいものとし
て次のものを挙げることができる:例えばメチル、エチ
ル、tert、−ブチル、デクル、2−クロロエチル、
2゜2.2−トリクロロエチル、シアノエチル、ジフェ
ニルメチル及びトリフェニルメチル、アセトキシメチル
、アリル、ベンジル、4−メトキシ7エ二ル、4−ニト
ロベンジル、2−ニトロベンジル、2.4−ジメトキシ
ベンジル、トリメチルシリルエチル、ジメチル−ter
t、−ブチルシリルエチル、トリメチルシリル、ジメチ
ル−t 6 r t、−ブチルシリル、アセトニル、1
−フェノキシエチルまたは2−メチル−2−プロペニル
基R” 、R’ 、R’ 、R’ 及びR”  Kおf
fるカルボキシル保護基なる用語は同様な意味を有する
R′が生体内において容易に開裂され得るエステル基を
表わす場合、これは生体内において容易に加水分解され
て遊離カルボキシル基(R,4=H)を生成する製剤上
許容し得るエステル基を意味する。
このタイプのエステル基R′はペニシリンノ分野におい
てはよく知られている。はとんどの場合に1これらの基
はβ−ラクタム化合物の吸収特性を改善する。加えて、
R4の性質は、式(I)の化合物に製剤上許容し得る特
性を与え、そして生体内で開裂した際、製薬学的に許容
し得るフラグメントを放出するようなものであるべきで
ある。このタイプの基R6はドイツ国特許出願公開明細
書第2.517,316号に見出すことができる。好ま
しhエステル基R6は次の式の基である:式中、 Bat及びR13は同一もしくは相異なるものであり、
水素を表わすか、フェニルを表わすか、またはC,、C
,−アルキル、好ましくはメチルを表わし、 R+”及びR+1’は同一もしくは相異なるものであ夛
、水素を表わすか、または01〜C4−アルキル、好ま
しくはメチルを表わし、そしてRI6はC8〜C6−ア
ルキル、好ましくはC1〜C4−アルキルを表わす。
一般式■の化合物の成るものはすでに公知のものである
が、しかし異なる方法によって製造されていた〔ヨーロ
ッパ特許出願第78.026号;J。
0、 Buynak等、J、Chem、 Soc、 、
 Chem。
Commun 、 1984.948; 米国特許第4
.444゜685号及び同第4.400.323号;デ
ィー・エイチ・チー(D、 Hoshth)等、Het
erocycles21.29(1984)参照〕。
新規な、かくして同様に本発明に関する化合物は、 R1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし、 R1は水素を表わすか、ハロゲンを表わすか、アジドま
たはフェニルを表わす力)、NHR,1〔ここで、RI
は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ここで、Xは硫黄または酸素を表わす、の基を表わすか
、或いは随時フッ素、塩素または基0−R” で置換さ
れていてもよい直鎖状、分校鎖状または環式の飽和また
は不飽和アルキル(Ceまで)を表わし、 Bsは水素を表わすか、トリメチルシリル、トリエチル
シリル、トリイソプロピルシリル、tert、−ブチル
ジメチルシリル、 トリフェニルシリル、トリメチルシ
リルエトキγカルボニルヲ表わすか、ベンジル、ベンジ
ルオキシカルボニル、2−41.<は4−ニトロベンジ
ル、2−41.<は4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、tert、−ブチルオキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルヲ表ワす力)、マたはホルミル
、アセチル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシ
カルボニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル、メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエ
トキシメチル、(2−()リメチルシリル)エトキシコ
メチル、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニ
ル、テトラヒドロピラニルもしくハベンゾイルを表わし
、 几1は随時塩素、ニトロ、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、トリフルオロメチルまたは(#L時保護されていて
もよい)ヒドロキシで置換されていてもよいアリール(
CS、C1゜)を表わすか、ハロゲン、シアノ、アジド
、シアナト、トリフルオロメチルまたはニトロを表ワス
カ、−CORI8.−CONB、”R1” t タハ−
C8NR11SR119を表わすか、アリルオキシカル
ボニルtたは4−ニトロベンジルオキシカルボニルを表
わすか、 −N319R+Im、ウレイド、グアニジノ
、アミジノ、−NRIaSO,R”Oを表ワスカ、−0
801R1O、−080,R′8 、 t タハ−0P
O(ORI@)OR,18を表わすか、 5RII。
−8(0)nR10(ここで、n = 1または2〕、
−8COR”、−8CONHR”、  SO宜01’L
”−−8O,NRI’Rぎ+s、−8CNを表わすか、
−S−複素環を表わし、ここで該複素環は各々随時メチ
ル、アミノ、ヒドロキシルもしくはアセチルアミノで置
換されていてもよいトリアゾリル、テトラゾリルもしく
はチアジアゾリル、またはフリル、チェニル、ピリジル
もしくはヒリミシルを意味シ、−PO(OR+”)OR
1mを表わすか、或いは R′′及びR”は同一もしくは相異なるものであり、水
素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル(C6ま
で)を表わすか、フェニルまたはベンジル(随時ニトロ
、メチルまたはメトキシで置換されていてもよいフェニ
ル)を表わすか、或いはヒドロキシル、メルカプトま九
はアミノに対する保護基を表わし、そして R”はR′18及びI’LI”と同じ意味を有するが、
但し、水素または保護基を表わさず、 R′は水素を表わすか、メチル、エチル、tcrt、−
7”チル、テシル、 2−クロロエチル、2,2.2−
)IJクロロエチル、シアノエチル、ジフェニルメチル
もしくはトリフェニルメチル、アセトキシメチル、アリ
ル、ベンジル、4−メトキシベンジル、2.4−ジメト
キシベンジル、tart、−ブチルジメチルシリル、1
−フェノキシエチル、2−メチル−2−プロペニル、4
−4)ロベンジル、2−ニトロヘンシル、トリメチルシ
リルエチルまたはジメチル−tert、−ブチルシリル
エチルを表わすか、或いは式 %式%) 式■の化合物である。
式■の好ましい新規化合物は、 1(、lが水素またはアミノ保護基を表わし、R1が水
素、塩素、臭素、アジドを表わすか、NHRI(ここで
、R′は上記の意味を有する〕の基を表わすか、メチル
、エチル、イソプロピル、t e r t、−ブチルを
表わすか、或いは−CH−OR1丁、−C((”:H,
)、−OR+?またはCH3 CH,を表わし、 一〇−(C,Hll) −OR1丁 R+1?は水素を表わすか、3.4−ジメトキシフェニ
ルを表わすか、トリメチルシリルを表わすか、トリメチ
ルシリル、  tert、−ブチルジメチルシリルを表
わすか、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、tcrt、−ブトキシカルボニル
、アリルオキシカルボニルを表わすか、或いはホルミル
またはアセチルを表わし、 R″がフェニル、3.4−ジメトキシフェニルを表わす
か、塩素、臭素、シアノ、シアナト、アジドまたはCF
3を表わすか、−COR,I8、−CONRI・R+I
sを表わすか、アリルオキシカルボニルtたは4−ニト
ロベンジルオキシカルボニルを表わすか、−NHRI8
.ウレイド、グアニジノ、アミジノ、−NH8O,R1
0を表ワスカ、−0S O、R”Oi タハ−0PO(
OR,l ” )OR+ ”ヲ表わスカ、−8−R18
,−8CORI8、−80.OR”、−8otNHRI
8.−8ON、 −8o、R,” −$ タけ一8CO
NH,を表わすか、−8−ピリジル、−3−ピリミジル
、−8−メチルテトラゾリル、−8−チアジアゾリル、
2−アミノチアジアゾリルを表わすか、或いは基 を表わし、 R,I 8及びR+1”は同一もしくは相異なるもので
あり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキル
(C4iで)を表わすか、フェニル、ヘンシルtた1d
4−メチルフェニルヲ表ワスか、或いはヒドロキシル、
メルカプトまたはアミンに対する保護基を表わし、セし
てR”はR+”及びR+1”と同一の意味を有するが、
但し水素または保護基を表わさず、 R,4が水素を表わすか、メチル、エチル、tart。
−ブチル、2,2.2−)リクロロエチル、71Jル、
アセトニル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジル
、4−メトキシベンシル、ベンジルまたはトリメチルシ
リルエチルを表わすか、或いは式 または−CH,0COC(OH8)。
の基を表わす、 化合物である。
アミノ保護基またはヒドロキシルもシくハメルカブトに
対する保護基なる用語はすでに上に示した意味を有する
=   エ エ エ   エ   エ    エ エ工
 工 =   工  = エ エ   エ  エ%%b
’1kkkbb%  = 、   1.1Q 「 工 ■ :Cエ エ 工 工 ===  エ エ エ   工 
  工 工0:  工 閃 工 = エ エ エ エ 
エ   エ   エ一般式冒の化合物は公知のものであ
るか、或いは文献から公知の方法によって製造すること
ができる〔ドイツ国特許出顕公開明細書19 04 4
01号;エイ・オイダ(A、0ida)等、ケム・ファ
ームーブA/ (Chem、 Pharm、 Bu I
 1.29.2899(1981):エム・シオザキ(
M、 8hiozaki)等、Tetrahedron
 39.2399(1983):M、 5hiozak
i等、Tetrahedron 40.1795(19
84)、ダブリュー・ジエイ・リーンザ(W、J、 L
eanza)等、Tetrahedron  39.2
505(1983)、ティー・カメタニ(T、Ka−m
ejani)等、J、Chem、8oc、Perkin
  11981.2228ニジエイ・エル・ロバート(
J。
L、Roberts)等、シンセテイク・コミュニケー
ショ7 (Synthet ic Commu、n1c
at 1ons) 13.797(1983)参照〕。
一般式Iの化合物は公知のものであるか、或いは文献か
ら公知の方法によって製造することができる〔ニス・シ
ュリア(S、Julia)等、コンブト・レント・アカ
ド・サイ(Compt、 Rend、 Acad。
Sc i、)、パリx(Paris)、セクタ:1y(
8ec−tion) C246,1890(1967)
、ヨーIff”7ハ特許出1i第7 &026号、ヨー
ロッパ特許第52.299号、アール・エム・ケロッグ
(R,、M。
Kellogg)等、J、C0S、 Chem、 Co
mm、(1977)932参照〕。
不活性有機溶媒が希釈剤として適当である。これらの溶
媒には好ましくはエーテル類、例えばジメトキシエタン
、ジグリム、トリグリム、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテルまたはテトラブチルメチルエー
テル、ハロゲン化すれた炭化水素、例えばジクロロメタ
ン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,1.
2−)ジクロロエタン、ジクロロエタンまたはトリクロ
ロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸
エチル、トルエンまたはシクロヘキサンが含まれる。
本反応は一般に一30℃乃至+50℃の温度、好ましく
は室温で行われる。塩基として全ての第三アミンが適当
である。好ましいものとして挙げ得る塩基は次のもので
あるニトリエチルアミン、トリプロピルアミンもしくは
トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリ
ジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルモルホリン、N
−メチルピペリジン、】、5−ジアザビシクロ〔5,4
,0)ウンデク−5−エン(DBU)または1,5−ジ
アザビシクロ(4,3,0)−3−エン(DBN)。
またルイス酸として作用し得る全てのシリル化剤がシリ
ル化剤及び触媒として適当である。これらのものには好
ましくは次のものが含まれるニトリアルキルシリルパー
フルオロアルカンスルホネート、トリアルキルシリルア
ルカンヌルホネート、トリアルキルシリルアリールスル
ホネ−)、トリアルキルシリルパーフルオロアルカノエ
ート、トリアルキルシリルアルカノエート、トリアルキ
ルシリルハライド、トリアルキルシリルバークロレ−)
、)lJフルキルシリルジフルオロホスフェート、トリ
アルキルシリルジクロロホスフェート、トリアルキルシ
リルフルオロスルホネート、N。
0−ビス(トリアルキルシリル)アセトアミド及びトリ
アルキルシリルシアナイド。殊に適当なものは次のもの
であるニトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネ
ート、トリメチルシリルノナフルオロブタンスルホネー
ト、トリメチルシリルトリフルオロアセテルト、トリメ
チルシリルバークロレート、トリメチルシリルブロマイ
ド、トリメチルシリルジフルオロホスフェート、トメチ
ルシリルフルオロスルホネート及びN、O−ビス(トリ
メチルシリル)トリフルオロアセトアミド。
本方法を行うために1最初K a) 化合物■の当量につき化合物l091〜11好ま
しくは0.5〜1当量、 b) 化合物Iの当量につきシリル化剤1〜2、好まし
くは1〜1.5当景及び C) シリル化剤の当量につき塩基(アミン)1.03
〜3、好ましくは1.05〜2当量を導入し、次に0゜
1〜24時間、好ましくは0.1〜12時間後、シリル
化剤が塩基(アミン)よシもやや過剰量、好ましくは触
媒的過剰量で存在するように十分な追加のシリル化剤を
加える必要がある。
本方法を行う際に、上記のシリル化剤及び塩基(アミン
)の量比に加えて、化合物寥及び頁(例えばRI=H)
における遊離の、即ち、保護する各ヒドロキシル、メル
カプト及びアミノ基に対してシリル化剤及び塩基(アミ
ン)の追加の1当量を用いるべきである。
反応速度は実質的に用いる触媒の量、即ち、シリル化剤
の過剰量に依存する。この反応は0.1〜48時間、好
ましくは0.1〜24時間以内に起こる〇 一般式lの化合物は有効な抗生物質を合成する際の価値
ある中間体である〔なかでも、D、 H。
8hih等、Heterocycles 21.29(
1984)参照〕。
以下の実施例は本発明を説明するものであるが、しかし
本発明を限定するものではない。
A) 式頁の化合物の製造に対する実施例:製造実施例
1 トリエチルアミン55.4 s+7 (0,4モル、2
当量)を無水アセトニトリル4QQm中のアセト酢酸ア
リル2B、43f(0,2モル)及びp−)ルエンスル
ホニルアジド43.39p(o、z2モル、1.1当量
)のO″cKcK冷却液に滴下した。この混合物を0℃
で3,5時間攪拌し、次にケイソウ±502を加え、真
空下で蒸発させ、シリカゲル400?上でクロマトグラ
フィーにかけた(トルエン:酢酸エチル96:4)。表
題の化合物31.95’(95%)が淡黄色消として得
られた、Rf:0.36(トルエン:酢酸エチル9:1
)。
IR(CHCIs) 2141 (Ny)、1714(
C=O)、1651cm−’ (C=O)。
’H−NMR(200MHz%CDCI 、)δ2.5
0(s。
3H,0H8)、4.76(m、2H1−CH,−CH
=CH,)、5、3−5.4 (m、 2 H,−CH
,−CI4=CH,)、5.9−6、1 (m、 I 
H,−CH,−CH−=CH,)。
CrHsNtos  (168,2) 計算値:C’50.OO)14.80  N16.66
実測値:C49,9H4,8N16゜6製造実施例2 a)  xル各つxイラー(L、 We i 1er)
等によりジャーナル・オプ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティ(J、Am、 Chem、 Soc、 ) 9
6.1o82(1974)  に記載された方法と同様
にして、3−オキソ酪酸アリル2B、43f(0,2モ
ル)及びヨウ化メチル15m1(0,24モル、1.2
当匍から製造し、粗製の生成物をシリカゲル700 f
上でクロマトグラフィーKかけ(トルエン:酢酸エチル
95. : 5 )、次に蒸留し、無色の液体として3
−オキソバレリアン酸アリル831(27%)が得られ
た、沸点84℃/14yHf、Rf :0.34(トル
エン:酢酸エチル9:1)。
IR(CHC+、)1741(C=O)、1714cn
L−’ (C=O)’ H−NMR(300MHz、 
CDCl5)δ1.to(t%J13Hz、 3H,C
H,CH5)、’;L60 (q、 J=8Hz、2H
,CH,(”:H,)、3.48 (s、 2B、 C
H,)、4.65(m、 2H,CH,−CH=CH,
)、5.2−5.4 (m、  2H,CH=CH,)
、5.8−6.0 (m、 LH,CH,ゴ工=Cf(
、)。
C5HstOs (156,2) 計算値:C61,52H7゜74 実測値:C61,4H7,8 b) 製造方法1に述べた如くして、3−オキソバレリ
アン酸アリル8.3F(53,1ミリモル)から製造し
、粗製の生成物をシリカゲル130f上でクロマトグラ
フィー(かけ(トルエン:酢酸エチル96:4)、淡黄
白油として表題の化合物9.34F(97X)が得られ
た、Rf二0.5(トルエン:酢酸エチル9:l)。
IR(CHCIs ) 2137 (Nz)、1712
(C=O)、1650cm−’ (C=O)。
’H−NMR(200MHz、CDCl 3)δ1.1
6(t。
J=8Hz、3H,C)l、)、189(q、J=8H
z、2H,CH1CH8)、5.52 (m、 2 H
%CH,−CH=CH)、5.3−5.4 (m、 2
B%CH=CH,)、5゜9−6.1 (m、IH,C
H,−CH=CH,)。
CaH+oNzos (1812) 計算値:C3L74  H5,53N15.38実測値
:C52,I  H5,5N14.8製造実施例3 トリエチルアミン35.0#l/(0,25モル、1.
8当量)を無水アセトニトリル280d中のアセト酢酸
4−ニトロベンジル3&1gF(0,14モル)及びp
−トルエンスルホニルアシ)” 30.40 t(0,
15モル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。
この混合物を0℃で2時間攪拌し、生じた沈殿物を吸引
戸別し、エーテルで洗浄し、高真空下にてP2O,。上
で乾燥した。融点142℃の無色の結晶として表題の化
合物20.3 f (55%)が得られた。F液をシリ
カゲル400f上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、更に表題の化合物a3p(t7%)
が得られた、Rf:0.35()ルエン:酢酸エチル9
:1)。
IR(KBr ) 2144 (Ny)、1709(C
=0)、1662(C=0)、1514 (NOI対称
)、1343c1rL’  (Not対称)。
’ H−NMR(200MHz、 DM80 )δ2.
44(s、3H,CH,)、5゜44 (s、2H,C
H,)、7.72(d、J=9Hz、2H,H芳香族)
、8.28(d、 J =9Hz、 2H,H芳香族)
CttH*N5Oa (263,2) 計算値:C50,20H3,45N15.96実測値:
C50,2H3,4N15.9製造実施例4 CH,0−OH,−C−C−C−(JL:)i3N。
2−ジアゾ−4−メトキシ−3−オキソ酪酸メチ!− 製造実施例1に述べ九如くして、4−メトキシアセト酢
酸メチル’2.92f(20ミリモル)から製造し、粗
製の生成物をシリカゲル900f上でクロマトグラフィ
ーにかけ(トルエン:酢酸エチル3:1)、淡黄色の油
として表題の化合物3.05F(89%)が得られ九、
R,f:0.35(トルエン:酢酸エチル3:1)。
IR(CHCI、) 2138 (Nt)、1711(
C=O)、16650−1 ((、=0)。
IH−NMR(25QMHz、CDcl 、 )δ14
B(s、3H%(”!0OCH8)、3.86 (s、
 3H,OCH,)、453(s、 2H%C)(、)
c、H,N、O,(172,1) 計算値:C41,86H4゜68  N16.27実側
値:C42,I   H4,7N16.6製造実施例5 4−ベンジルオキシ−2−ジアゾ−3−オキソ酪トリエ
チルアミン5.54 s7 (40ミリモル、2当量)
を無水アセトニトリル40−中の4−ベンジルオキシア
セト酢酸tert、−ブチル5.29f(20ミリモル
)及びp−トルエンスルホニルアジド4.34 f (
22ミリモル)の0℃に冷却した溶液に滴下した。この
混合物を0℃で30分間攪拌し、ケイソウ±8fを加え
、真空下で蒸発させ、シリカゲル100P上でクロマト
グラフィーにかけた(トルエン:酢酸エチル95:5)
。無色の結晶として表題の化合物&98F(69%)が
得られた、融点68℃、Rf:0.31(トルエン:酢
酸エチル95:5)。
IR(KB r ) 2144 (Nt )、1700
、l 673cIft−’。
’H−NMR(30QMHz%CDCI 、 )δ1.
51(S、9H%C(CHs)s ) 、 459 (
S、 2H%OHハ、4.67(3,2H%CH,)、
7.3−7.5 (m、 5H%Ph )。
011上1MN!o4 (290,3)計算値:C!6
LO6H6,23N9.65実測値:C5zx  H6
,2N9.6製造実施例6 乾燥チオ酢酸カリウムλ40t(21,0ミリモル)を
無水アセトニトリル40m中の4−クロロアセト酢酸t
ert、−ブチA48SP(20,0ミリモル)の0℃
に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度で30分
間攪拌した。次にこのものをNaC1及び酢酸エチルの
混合物中に注ぎ、有機相を分離し、酢酸エチル2×30
dで抽出し、抽出液を水で洗浄し、Mg804上で乾燥
した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣をシリカゲル6(
l上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル95
 :5)にかけた後、無色の油として表題の化合物3.
87 f (83%)が得られた、Rf:0.24(ト
ルエン:酢酸エチル95:5)。
IR(CHCIs) l 740 1710c!!1−
’ (C=0 )。
’H−NMR(250MHz、CDCl、)δ1.50
(8,9)1゜C(C!Hs)3)、Z42(s、3H
,0H3Co)、&53(3,2H,C!H,)、3.
90 (s、 2H,CH,) 。
製造実施例7 ベンジルメルカプタン7.04m1(60ミリモルを無
水THF50ar中の水素化ナトリウム(液体パラフィ
ン中の80%)1.8F(60ミリモル)の懸濁液に室
温で徐々に滴下した。次に混合物を15分間攪拌し、続
いて0℃に冷却した。この温度で、THF23−中の4
−クロロアセト酢酸tart、−ブチルlo、57F(
55ミリモル)の溶液を1時間以内に加えた。水浴を除
去し、混合物を室温で更に1時間攪拌し、次にl0XH
CI2.3滴を添加して中和した。溶媒を真空下で蒸発
させ、エーテルを数回加え、抽出液を水で洗浄し、Mg
5O,上で乾燥した。エーテルを真空下で蒸発させて油
が得られ、このものをシリカゲル800f上でクロマト
グラフィー(トルエン)にかけてff製した。無色の油
状物として表題の化合物12.74F(83%)が得ら
れた、Rf:0.13(トルエン)。
IR(CHCI、) 1740−1710cm  ’ 
(C=O1β−ケトエステル)。
’H−NMR(2QOMHz%CDCl 、)δ1−4
9(s。
9H,C(C)I、)、)、3.22 (s 、 2 
H,CH* )、3.52 (s、 2H,CH,C1
3,68(s、  2H,CH,)、7.33 (s、
 5H%ph)。
C,、H,、O,S (280,4) 計算値:C64,3H7゜2 5IL4実測値:C64
,3H7゜2 811゜3製造実施例8 −ブチル 製造実施例1に述べた如くして、4−クロロアセト酢酸
tert、−ブチルλ79F(14,5ミリモル)から
製造し、粗製の生成物をシリカゲル30f上で濾過しく
トルエン)、結晶として表題の化合物λ67f(84%
)が得られた、Rf=0.29()ルエン)、融点40
〜41℃。
IR(CHCI 3) : 2140 (Nり、] 7
08 (C=0)、] 662cIn−’ 。
’H−NMR(300MHz %CDCI 、 )δ1
.54(s。
9H,Cσ’Hs)s)、4.60 (s、 2H%C
H,)。
c、Hl、N、03C1(218,6)計算値:C43
,9H5,I  Nlλ8実測値:C44,OH5,I
  N13.3製造実施例9 N。
4−アセチルチオ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸型造実
施例1に述べた如くして、4−アセチルチオアセト酢酸
tert、−ブチル6.97F(30,0ミ’)モル)
から、粗製の生成物をシリカゲル280を上でクロマト
グラフィーに力)けた後、油として表題の化合物3.4
8f(45%)が得られた、Rf:0.34()ルエン
:酢酸エチル95:5)。
IR(CHCIm ) 2140 (Nt)、1705
(C=0)1656cWL ’。
’H−NMR(300MHz、 CDCl、)、1.5
5(s、9H,C(CH3)5 )、2.39 (s、
 3H,C0CH,)、4.23(s、2H%CH8)
C1゜H,、N、048  (258,3)計算値:0
46゜5  H5,5N10.8実測値:C46,5T
(5,4N11.3製造実施例10 製造実施例IR述べた如くして、4−ベンジルチオアセ
ト酢酸t e r t、−ブチル4.21 f (15
,0ミリモル)から、粗製の生成物をシリカゲル100
f上でクロマトグラフィー(トルエン)にかけた後、黄
色油として表題の化合物3.4f(749c)が得られ
た、Rf:0.28()ルエン)。
IR(CHCI、 ) 2145 (Nt)、1705
.1635cm’’ H−NMR(250MHz、 C
DCl 、)δ1.52(s、9H,C(Ci’1s)
s ’)、3.58(s、2)J、 CH,)、3.7
7(s、2H,CH,)、7.3−7.4 (m、 5
H,Ph )。
Cs5HtsNtOsS(306,38)計算値:Cs
s、so  H5,92810,46実測値:C59,
2H6,0810,5製造実施例11 3−オキソ−5−フタルイミドパレリアン酸アリアリル
アルコール14m中の3−オキソ−5−7タルイミドパ
レリアン酸エチルZ 89 f(10,0ミリモル)の
溶液を触媒量のp−トルエンスルホン酸水和物の存在下
において80℃に3日間加熱した。次に溶媒を真空下で
蒸発させ、残媒をシリカゲル170f上でクロマトグラ
フィー(トルエン:酢酸エチル4:1)によって精製し
た。無色の結晶として表題の化合物が得られ九、融点5
3〜55℃、Rf:0.40(トルエン:酢酸エチル4
 : ] )。
IR(CHCIg ) 1716crn’ (C=o)
’H−NMR(300MHz、 CDCIs) 3.0
1 (t%J=7Hz12H%CH,Co)、3.54
 (s、 2H。
(”OCH,(”’O)、4.0 (t%J=7Hz、
 2B%CH,N)、4.65 (m、 2H,C)1
.−〇H=CH,)、5.2−5.4(m、2H,CH
=CH,)、5.8−6.0(m、IHlOH,−C)
l=cH,)、7,73.7.87(m、各々2H1H
芳香族)O C,、Hl、No、 (301,3’)計算値:C63
,78H5,02N4.64実測値:C63,8H5,
4N4.3 製造実施例12 THF10’lj中の4−ブロモ−3−オキソ酪酸アリ
ル(ドイツ国特許出願公開明細書第2,048゜470
号)の溶液をT)IF中の水素化ナトリウム300■(
10,0ミリモル)の−30℃に冷却した溶液に徐々に
滴下した。この混合物を一30℃で15分間攪拌し、次
にジエチルホスファイト0、65 M (5,02ミ1
7モル)を滴下した。冷却浴を除去し、混合物を室温で
30分間攪拌した。処理するために、混合物を酢酸エチ
ル及び飽和NaHCO3溶液の混合物中に注ぎ、酢酸エ
チルで抽出を行い、飽和NaC1溶液で洗浄し、MgS
O4上で乾燥した。
溶媒を真空下で蒸発させ、残渣をシリカゲル90?上で
クロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチルl:4)に
かけた後、油として表題の化合物705ダ(51%)が
得られた、Rf:0.30(トルエン:酢酸エチル1:
4)。
IEL(CHCI、) 1735.1718.1640
,1250c!R−’ (P=0 )。
’)]−NMR(300MHz、 CDCl、)δ1.
35(t。
J=7.5Hz、 6H,(’7H3C)T、)、3.
26(d、J=23Hz、2B%PCI、Co)、3.
71(s、2H1COCH,CO)、4.17 (q、
 J=7.5Hz、 4H1CH,CH,)、4.66
 (m、 0H2−CH=CH,)、5.2−5.4 
(m、 28%CH=CH,)、5.8−6.0 (m
、 I H。
CH,−目=cH,)。
製造実施例13 ル酪酸アリル m−クロロ過安息香酸z59r(1s、oミリモル)を
ジクロロメタン10m中の2−シアソー3−オキソ−4
−フェニルチオ酪酸アリル1.38F(5,Oミリモル
)の0℃に冷却した溶液に加え、この混合物をこの温度
で1時間攪拌した。処理するために、このものを飽和N
aHCO3溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水で洗
浄し、Mg5O。
上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、ffl製の生
成物をシリカゲル30f上で濾過(トルエン:゛酢酸エ
チル9:l)した後、表題の化合物883!(57X)
が得られた、Rf : 0.24  (トルxン:酢酸
エチル95:5)。
エル(CHD Ig ) 2150 (Na )、17
16.1647.1328 (So、非対称)、116
0cm−’ (So、対称)。
’H−NMR(200MHz%cDcI、 )δ4.7
8(d、J= 7 Hz、 2 H%叩、−CH=CH
,)、4.88 (S、 2B。
So、CH,(”O)、5.4−5.5 (m、 2 
H,CH=CH,)。
5.9−6.1 (m%IH,CH,−CH=CH,)
、7.55−7.75 (m13H,Ph )、8.0
2 (m、 2H,Ph )。
C,!H,,N、0.8 (308,3)計算値:C5
0,6483,92N9.09  S10.40実測値
:050.3  H3,9N8.9 810.4製造実
施例14 トルエン360m1中の4−二トロベンジルアルコール
55.3 f (0,36モル)及び3−オキソバレリ
アン酸エチル56.2 F (0,39モル)の懸濁液
を加熱沸騰させた。トルエン約3QQmを10時間にわ
たって留去し、次に混合物を冷却し、更にトルエン20
0mを加え、この操作をくり返し行った。冷却後、混合
物をケイソウ土を通して濾過し、これをトルエンで洗浄
し、濾過溶液を真空下で蒸発させた。油として表題の化
合物89F(98%)が得られた、Rf : 0.42
 ()ルエン:酢酸エチル4二1)。
IR(CHC13’l、1751(C=O)、1722
(C=0)、1524(No、非対称)、1351cW
L−’(NO3対称)。
’ HNMR(300MHz 、 ’CDCl s )
δ1.10(t。
J=7.5Hz、3)!、 CH,CH,)、2.59
 (q、J=7.5Hz、2H,CH5CH,)、3.
57(s、2H,C0CH,Co)、5.29 (s、
 2H,Co、CH,)、7.53(d%J=9Hz、
 2)i、 H芳香族)、8.20 (d、 J =9
Hz、 2H,H芳香族)。
すでに述べた製造実施例と同様の方法において、また次
の4−置換されたアセト酢酸エステルが得られた(製造
実施例15〜21、第1表):これらのものから、製造
実施例1に述べた如くして、ジアゾ転位によって対応す
る化合物が得られた(製造実施例22〜34、第2表)
:N。
B)本発明における方法による式Iの化合物の製造実施
例 実施例1 (35ttR)−3−(:(IR)−1−tgrt。
−プチルゾメチルシリルオキシエチル〕−4−〔3−ア
リルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−オキツプロ♂
ル〕アゼチジン−2−オントリエチルアミン7、2 m
 (52ミリモル、2.6当量)を無水ジクロロメタン
190d中の(3R94R)−4−アセトキシ−3−[
:(IR)−1−を璽rt、−プテルゾメチルシリルオ
キシエチル〕アゼチゾン−2−オン〔ニス・オイダ(S
、 O4dd)等、 Chgtn、  phατ惧。 
B聾IL、29  2899(1981) HM、 5
hiozaki等、Tatrahedrox59 25
99(1985)15,75f(20ミリモル)及び2
−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル4.57fC26ミリ
モル1,1.3当量)の0℃に冷却した溶液に加え、次
にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル9.
3 m (48ミリモル、′2−4当量)を滴下した。
冷却浴を除去し、この混合物を室温で1時間攪拌し、ト
リフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル1.55
1nl(8ミリモル、0.4当量)を加え、この混合物
を室温で更に0.5時間攪拌した。次に反応溶液を冷却
した飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に
注ぎ、酢酸エチルで抽出し、合液した有機抽出液を飽和
NaC1溶液で洗浄し、MQSO,上で乾燥した。溶媒
を真空下で蒸発させ、残渣をシリカグル150fを通し
て濾過した(トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶
として表題の化合物6.4f(f31%)が得られた、
融点66℃、Rf:α53(トルエン:酢酸エチル7:
3)(α〕”、; = 59.2゜(Cα969、CH
Cl、)。
I R(CHCl5) 2144 (Nt )、176
1(C=0.β−ラクタム)、1714.1649CI
IL−’。
重H−NMR(250MHz、CDCl、)  δ α
06(s 、6H、CH,Sイ)、0.88 <8 、
9K。
CM、C−Sイ)、1.23 (d、J=6Hz 、5
H。
4cg)、2.90 (dd 、 J =2Hz 、 
5Hz 。
1H,H−5)、!A、03 (dd、J=10Hz。
17.51g 、 1H,CM、CO)、4.06 (
ddd 。
/ =5 Hz v 5 Hz 210 N g * 
1Ht H4)、4.24 (d qt / =s H
g t b Hz * 1HtCH,堕)、4.78(
m、2M、叫−CH=CH)、5、!t−5,5(懲、
2H、CM−C7ft)、5.9−6.1(惰、 CH
R−!;J1=CH2)、6.07(b8.NH)2H
と共に。
CI、H,、N、 0. S i (3q 5.5 )
計算値:(’54,66  N7.59  A’1α6
2実測値:C54,3N7.4   N1CJ、、4実
施例2 ■ (!i5,4R)−3−C(IR)−1−t+rt。
−プチルソメチルシリルオキシエチル)−4−〔6−ジ
アゾ−3−p−ニトロペンシルオキシカルボニル−2−
オキソクロぎル〕アゼチジンー2−オン 実施例1に述べた如くして、(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−〔(IR)−1−tttrt。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル〕アゼチソン−2
−オン1.44f(5,0ミリモル)及び4−二トロペ
ンソルー2−シアシー5−オキソ−ブタノエート1.7
1F(6,5モル)から、粗製の生成物をシリカダル5
5f上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル7
:3)にかけた後、粘性油として表題の化合物2.02
f(82%)が得られた、Rf”、r:1.55(トル
エン:酢酸エチル3:2)、((E〕”=44.75°
(CQ、373、CHCl、)。
J R(CHCIs ) 2160 (Nz )、17
59(C=o、β−ラクタム)、1722.1655.
1520 (NO,as、 )、1355cm−’  
(NO,s、)’H−NMR(250Hz z 、CD
Cl、)  δ0.006゜0.007 (a 、 6
H、CH35i )、0.86(g。
9 H、CH2O−5i )、1.22 (d 、 J
=6Hz 。
3H、CHCH,)、2.97(dd、J=2Hz。
5 Hz 、 I H、H−5)、3.01  (dd
 、 J=10Hz+ 17Hz、 1H,cH,CO
)、 五41(dd 、J=5Hz 、17Hz 、 
1H、CH,CO)、4.04 (m、’IH,H−4
)、a、2o(dq、J=5Hg 、6Hz t 1H
、CH,CH)、5.38(s 、 2 H、C00C
H,)、7.57及びα28(d。
!=9Hz、各h 2 H、p−NO,−C,ll4)
実施例3 (55,4R)−5−C(1R−1−tgrt、−ブチ
ルツメチルシリルオキシエチル)−4−C(1R,5)
−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−1−メチ
ル−2−オキソプロピル〕アゼチジン−2−オン 無水ジクロロメタン48d中の(3R,4R)−4−ア
セトキシ−3−C(1R)−1−tart。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕アゼチソン−2
−オンt23r(4,2sミリモル)及び2−ジアゾ−
3−オキソバレリアン酸アリル1.18F(6,5ミリ
モル、1.5当量)の0℃に冷却した溶液にトリエチル
アミン1.8tnt(13,0ミリモル、5当量)を加
え、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリ
ル2.31nt(12ミリモル、2.8当量)を滴下し
た。冷却浴を除去し、この混合物を室温で4時間攪拌し
、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.
4t/(2,0ミリモル、α5当量)を加え、混合物を
室温で更に1時間攪拌した。次に反応溶液を、冷却した
飽和NaHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、飽和NaC1溶液で洗浄し、M
QSO,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残渣
をシリカグル60f上でクロマトグラフィーにかけた(
トルエン:酢酸エチル4:1)。淡い結晶の(1R,5
)−1−メチルシアステレオマ−の6:4混合物として
表題の化合物870wq(42%)が得られた、融点1
67℃、Rf:121(トルエン:酢酸エチル4:1)
I7?(fBr)2135(#、)、1761((’−
o、β−ラクタム)、1720 (C=0)、1657
cx−’。
’H−NMR(250Hzz 、CDCl、)δα07
゜Q、08 (& 、 6H,CH3Sイ)、0.86
.α87(s 、 9H,CM、C−5i )、1.1
8 、1.20 Cd=1=7Hz 、 3KI 、 
CH,CH)、1.22,1.2S(d 、 J =7
.5Hg 、 5H、CH,CHO5i )、2−82
.2.9BCdd、J=2Hz、5Hz。
1H,H−s)、五58 五90(常、1H2CM、C
H)、五92(倶、1ff、#−4)、4.20(m 
、 I H、CH3CHO5i )、4.7 s (m
 * 2ElΩq、−CH=CH,)、5.3−5.4
(惧、2E、CH=旦h)、5.81,5.91(6a
、IH,##)、5.9−6.1 (m 、 I E 
、 −CH,−CH=CH,)。
実施例4 4−(3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−
オキソグロビル)アゼチジン−2−オン実施例1に述べ
た如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジン(ドイツ
国特許第1,906,401−08.02.1969)
2.58F(20,0ミリモル)から、粗製の生成物を
シリカグル200?上でクロマトグラフィーにかけ(ト
ルエン:酢酸エチル1:3)、淡い結晶として表題の化
合物5.6Of<76%)が得られた、融点83℃、R
f:Q、26(トルエン:酢酸エチル1:4)。
IR(KBr)(2150(#、)、1771(C,=
O,β−ラクタム)、1701.1634CIIL−1
゜ ”H−Nk(R(250Hzz 、CDCl、) δ2
.69(d d 、7 =I Hz 、14−5 Hz
 + I H−H−3β)、3.04(dd、J=1.
0Hz、18H2j1 H、C11x CO) 、3.
19 (d d d 、J=I Hz 。
5Hz、  14.511z、  1H,H−5α)、
3.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、 1H
、CHICO)、4.01  (m、  1H,H−4
)、4.76(常、2H2CH,−CH=CH,)、5
.3−5.4 (常、2H,−CH4、)、5.9−6
.1 (m、1#、CH2−CH=CH,)、6.10
 (b s 、 I H、HE )。
C,oH,1N、0.  (237,2)計算値:C5
0,63H4,67#17.71実測値:C50,2H
4,7N16.8実施例5 4−(6−ジアゾ−5−p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル−2−オキソプロピル)アゼチジンα) 実施例
1に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノ
ン646119(5,0ミリモル)及び2〜ソアゾー3
−オキソ酪酸4−ニトロベンツル1.711(6,5ミ
IJモル)から、粗製の生成物をシリカダル2フf上で
クロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル3 
: 2 ) 、無色の結晶として表題の化合物1.12
F(67%)が得られた、融点104℃、Rf’、0.
29(−酢酸エチル)。
IR(KBr ) 2145 (A’t)、1767(
(’=0.β−ラクタム)、1969,1655゜15
2 B (NO,as、 )、1349cn−’  (
NO。
8暑。
’H−NMR(250MHz 、 CDCl3)δ2.
70(dd 、J=1Hz 、17.5Hz 、 1H
,H−3β)、108(dd、J=9.5Hz、 18
Hz。
I H、CH,Co )、3.20 (d d d 、
 J = 1.5Hz。
5Hz 、 17.5ffg 、 ’IH,H−3cり
、′5.40(dd 、J=5Hz 、18Hz 、 
1H,CH,CO)、4.04 (frLt 1H1H
−4)、5.42 <8 t 2H。
C00CH,) 、7.59及びa42 (d 、7=
 1QHz。
各々2 Hs ’I) Not −Co”a )014
H1□N406 (532,3)計算値:C50,61
H五64N16.86実測値:050゜6  H五6 
  #16.76) 無水THF48−中の4−アセト
キシ−2−アゼチソノン646w9C5,0ミリモル)
及び2−ノアシー3−オキソ酪酸4−ニトロベンジル1
.71 y (6,sミ+)モル)の0℃に冷却した溶
液にエチルツインプロピルアミン2.52mj(IAO
ミリモル)、次にトリフルオロメタンスルホン酸トリメ
チルシリル2.3m(12ミリモル)を加えた。冷却浴
を除去し、この混合物を室温で1時間攪拌し、次にトリ
フルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルQ、3d(
1,5ミリモル)を加え、混合物を室温で1時間攪拌し
、実施例1に述べた如くして処理した。粗製の生成物を
シリカグル902上でクロマトグラフィー(酢酸エチル
)にかけた後、無色の結晶として表題の化合物9501
n?(57%)が得られた、融点106〜104℃。
他の物理データは方法α)によって得られた物質と同一
であった。
実施例6 4−(3−シアシー1−メトキシ−3−メトキシカルボ
ニル−2−オキソプロピル)アゼチジン−実施例1に述
べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン64
6■(560ミリモル)及び2−ジアゾ−4−メトキシ
−3−オキソ酪酸メチル1.12F(6,5ミリモル)
から、室温で4時間後、粗製の生成物をシリカダル60
を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:
9)にかけた後、分離することができ表かったノアステ
レオマ−の5=1混合物として表題の化合物が得られた
JR(CHCI、) 2150 (A’z)、1560
((’=0.β−ラクタム)、17201660信−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl、)、主
なノアステレオマJ  2−93 (d d 、/ =
4−5Hz *15Hz 、177.77−3)、 ′
5.07(dd、J=1.5Hz 、  15#’z 
、  1H,H−3β)、五46(5、5H,0CH8
)、3.90  (813HICOOCH,)、3.9
5 (fi、  1H,H−4)、4,90(d 、J
=4.5Ez 、 1K 、CMづ’:H−OCH5)
、6.00 (6g 、  1H,HE)。
実施例7 4−(5−tart。−ブチルオキシカルボニル−1−
クロロ−3−シアシー2−オキソプロピル)トリエチル
アミン1.8td(IAOミ!jモル、2.6当量)及
びトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル2.
3d(12,0ミリモル、2.4当量)を、無水ジクロ
ロメタン45−中の4−アセトキシ−2−アゼチジノン
646ap(5,0ミリモル)及び4−クロロ−2−ジ
アゾ−5−オキノ酪酸tert、−ブチル1.42F(
6,5ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却
浴を除去し、混合物を室温で5時間攪拌し、次にトリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル0.31I!
7!(1,5ミリモル、0.5当量)を加え、この混合
物を室温で1時間攪拌した。処理するために、混合物を
冷却した飽和NaHCO3溶液及び酢酸エチルの混合物
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和Na
C1溶液で洗浄し、MgSO4上で乾燥した。
溶媒を真空下で蒸発させ、シリカグル40?上でクロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エチル1:1)にかけた
後、ノアステレオマ−(10:1)混合物として表題の
化合物426m!!(30%)が得られた、Rf二0.
35(トルエン:酢酸エテル1:1)。
IR(CHCI3) 3419 (NH)、2143 
(Nt)、1770(C=0.β−ラクタム)、171
1゜1648二1゜ ”H−NMR(250MHz 、CDCl、)δ1.5
6(a 、 9H、C(CH3)、)、2.95 (d
d 、 J=1.5Hz 、15Hz 、  1H,H
−5β)、3.24(ddd 、 J=2.511z 
、 5F12.15.51g +1H,H−3α)、4
.15 (fi、  1H,H=4>、5.20 (d
 、J=9Hz 、 1H、CH−CHCI )、6.
05(be、1H,ME)。
C,、H,4C1N、0. (287,7)計算値:(
’45.92  H4,91実測値:C46,2ff5
.1 実施例8 4−(1−ベンジルオキシ−3−tert。−ブトキシ
カルボニルオキシ−3−ジアゾ−2−オキソ実施例7に
述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン6
4.6119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルオキ
シ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸tert、−ブチル1
.89F(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ
カダル150y上でクロマトグラフィーにかけ、比〉9
:1における2種のノアステレオマ−の混合物として表
題の化合物が得られた、Rf:0.56(トルエン:酢
酸エテル1:9)。
IR(CIICE、) 2145 (A’t)、176
5(C=0.β−ラクタム)、1705、・1650c
IrL−1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
1,)  δ1.50(819H、C(CH3)5)、
2.90Cddd。
J=2Hz 、5Hz + 16Hz 、 1H,H−
3α)、109(dd、J=1Hz、16Hz、1H。
H−5β)、五92(毒、1H,H−4)、4.4B、
4.72(AB、J=11Hz、2H。
OCH,Ph)、5.08 (d 、 J =4.5H
z 、 1H。
CHCHOCH2ph)、&03 (bs 、 1H,
NH)。
実施例9 (3S、4R)−3−、C(IR)−1−アリルオキシ
カルボニルオキシエチル)−4−[3−アリルオキシカ
ルボニル−3−ノアシー2−オキソゲ実施例1に述べた
如くして、(5R,l?)−4−アセトキシ−3−C(
IR)−1−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕ア
ゼチジ/−2−オン447m!(1,74ミリモル)及
び2−ジアゾ−3−オキン酪酸アリル58Q?C2,2
6ミリモル)から、粗製の生成物を7リカrル50f上
でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル3:2)
にかけた後、油として表題の化合物226η(36%)
が得られた、Rf;cL26(トルエン:酢酸エチル5
:2)。
JR(CHCI、) 2150 (Nt)、1755(
(’=0.β−ラクタム)、1720 1645傷−1
゜’H−NMR(250MHz 、 CDCl5)δ1
.44(d、I=6.5 Hg 、 3 H、CH,C
H)、&03Cdd 、J=9.5Hz 、18Hz 
、CM、CO)、五〇8(鶏、H−6)2ffと共に、
3.44(dd。
J=4.5Hz 、18Hz 、 1H、CH,Co)
、4.0 Cm、 1H,H−5)、4.62 (fi
、2H。
づ’:H,−CII=:CM、 )、4.74 (m 
、 2 H、−CM、−βH=CE、)、5.11 (
dq−J =l>511z 。
7Hz 、IH、CM、CgO)、5.25−5.4 
(’yyLt4H、CH=Ωh)、5.9−6.0(惧
、’lH,C互=CH,)、6.14 (ba 、 1
H,ME)。
実施例10 4−(1−アセチルチオ−5−tart、−ブトキシカ
ルボニル−3−ジアゾ−2−オキソグロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−アゼチジノン
64611F(5,0ミリモル)及び4−ア七チルチオ
ー2−ジアゾー5−オキソ酪酸tart、−ブチル1.
67f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリ男
rル502上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エ
チル3:2)Kかけ、比2:1における211のシアス
テレオマ−〇混合物として表題の化合物548ay(2
1%)が得られた、Rf−0,22(トルエン:酢酸エ
チル3:2)。
I R(CHCI、) 2140 (A’t )、17
65(Cm0.β−ラクタム)、1713 1641c
!L″″1゜’H−NMR(250MHz 、 CDC
l、)δ1.52゜1.53 (s 、 9M 、 (
ACHs)s )、2.58(a。
3 H、C0CH,)、2.7− !h、1(m、2H
,H−5゜H−3’)、4.10 (?7L、 IH,
H−4)、5,45(d、J=6Hz)、5.58 (
d 、 / =5Hz 。
CM−CH5COCH,IHと共に、5.92,6.1
0(6g、IH,#H)6 実施例11 4−(1−ペンツルチオ−3−tart、−ブトキシカ
ルボニル−3−シアシー2−オキソプロビル)実施例7
に述べた如くして、4−アセトキシ−2−7ゼチソノン
646119(5,0ミリモル)及び4−ペンツルチオ
−2−ジアゾ−3−オキン酪酸tart、−ブチル1.
99f(6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカ
グル180を上でクロマトグラフィー(トルエン:酢酸
エチル3:2)にかけた後、比3:1における2種のノ
アステレオマ−混合物の結晶として表題の化合物410
■(22%)が得られた、融点119℃、Rf:α31
(トルエン:酢酸エテル3:2)。
IR(CHCI、) 2140 (A’t)、1758
((’=0.β−ラクタム)、1705,1632cI
L−’。
’H−NMR(250MHz 、CDCl、)δ1.5
6゜1.57 (# 、9H,C(CH3)、)、2.
52 (dd。
7 =15Hg −1,5Hz * I Hs 3− 
Hβ)、2.92(ddd、J−15Hz、4.5ff
g。
5Hz 、 1H,5−H)、&ヅB 、 3.89 
CAD。
7 = 14.5 Hz 、 21j1,5CHxP 
A )、4.0(fi。
1H、H−4) 、4−47 (d 、/ =10 H
z 。
CH3CN、Ph)、4.65Cd、J=8Hz。
9互SCH,Ph)、1Hと共に、5.62 、5.7
0(b s 、 I H、HE )、7.4 (m 、
5H、Ph)。
”la”llN5 O4S 計算値:(’57.58  H5,64#11.19S
&54 実測値:(’57.2   H5,6ff10.7a7 実施例12 (55,45>−5−C(1R)−1−tart。
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−C(IR
)−3−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−ジ
アゾ−2−オキソグロビル〕アゼチジン−2−オン 及び (3S* 4S)−3−C(IR)−1−tert。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル)−4−C(IS
)−5−アリルオキシカルボニル−1−クロロ−3−シ
アシー2−オキンクロビル〕アゼ実施例7に述べた如く
して、(3R,4R)−4−アセトキシ−3−((17
?)−1−tlデt。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル〕アゼチジン−2
−オン1.44F(5,0ミリモル)及び4−クロロ−
2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル1.32f(6,5
ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル240を上
でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エチル8
5:15)、無色の結晶として無極性の異性体171+
19(13%)が得られた、融点104℃、Rf:11
58(トルエン:酢酸エチル4:1)。
IA(fBr)2145(A’tL  1769(C=
0.β−ラクタム)、1720,1662信−1゜重H
−NMR(300MHg 、 CDCl5)δ(LO8
(’ + 6 Ht CHB Ss )、Q、87 (
11、9H。
CH,C−5i)、1.20(d、J=6.3H,,3
y。
惺CH)、&07うり、 1H,H−5)、4.08(
dd、J=2.3Hz 、4.3Hg 、IH、H−4
>、4.17 (dq 、 J =18Hz 、 6.
5Hz 、 1H。
CH,CHO5i )、4.70 (d 、 7 = 
5.8Hg 。
2H、CE、−CH=CH,)、5.3−5.4(慣、
2H9CH=CH,)、5.50 (d −7=4.3
 Hz + I H。
CHCI)、5.8−6.0(常、1H,−CE霊−9
互=CH,)、6.0(ha、1H,NH)。
加えて、無色の結晶として有極性異性体755Wq(3
5%)が得られた、融点107℃、Rf:0.27()
ルエン:酢酸エチル4:1)。
IRCKBデ) 2140 (Nt)、176B (C
=0.β−ラクタム)、1720.1671cm−’。
”H−NMR(500MHz 、CDCl、)δα08
゜Q、09 (s # 6 H* CHs 5 s )
、0.88(#。
9 H、CM、C−5< )、1.24 (d 、 J
=6.5Hz。
5H、CH,CH)、3.08 (dd 、 1.=2
.5Hz 。
”1.4Hz 、、Lff、J7−3)、4.26(d
d、J=2Hz 、8.9Hz 、H−4)、4.5(
m。
CM、CHO5i )2Hと共に、4.79(frL、
2J7゜CH,−CH=CII、 )、5.20 (d
 、 J=8.9Hz 。
1H,CHCl)、5.3−5.4  (m 、2H、
CM=pH,)、5.86(bs、NH)、5.8−6
.0(常。
−C1l、−CH=CH,) 2 Hと共に。
実施例15 (3S、4R)−3−((IR)−1−tart。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル)−4−((17
?)−5−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾ−2−
オキソ−1−フユニルプロビル〕ア及び <55 e 4R) −3−C(17?)−1−tar
t。
−ブチルツメチルシリルオキシエチル)−4−((1s
)−3−アリルオキシカルボニル−3−ジアゾル2−オ
キソ−1−ツエニルゾロビル〕ア実施例7に述べた如く
して、(5R,4R)−4−7七ト−+シー3−C(I
R)−1−6art。
−ブチルシンチルシリルオキシエチル〕アゼチジン−2
−オン1.44t(5,0ミリモル)及び2−ゾアゾー
3−オキソ−4−フェニル酪酸アリル1.59 f (
6,5ミリモル)から、粗製の生成物をシリカダル23
02上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸エ
チル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物20
0Wq(9%)が得られた、Rf:Q、′52(トルエ
ン:酢酸エチル4:1)。
I R(CHCI3) 2140 (Nt )、176
0((’=O1β−ラクタム)、1720 t 165
0(X−’。
翼H−NMR(300MHz 、 CDCLB )δ0
.07゜0.08 (8p 6Hr CHsS’ )、
D、8B(#。
9H,CH,C−5j )、1.19 (d 、 J=
6.5H2゜5H,ぷH8CH)、λ68(常、1H,
H−3)、4.18(情、CH,CHO5i )、4.
24(dd。
J=2.5Hz 、6.5Hz 、H−4)2Hと共に
、4.6−4.8<毒、2H1ΩFj、−CH=CH,
)、4.97(d、J=6.5Hz、1H1CHPh)
、5,2−5.4 (tFL 、 2H、CH=91り
、5.83(bS。
HE)、5.8− &O(tn 、 CH,−CH=C
H,)  2Hと共に、7.35 (m、5H,Ph)
加えて、無色の結晶として有極性の表題化合物5301
+1i(22%)が得られた、融点159℃、Rf;α
21(トルエン;酢酸エチル4;1)。
IR(KBr ) 213 B (A’l)、1764
(C=0.β−ラクタム)、1725 t 1658I
IXm−’。
’H−NMR(300ME g 、 CDCl、)  
δQ、01(8* 6 H* CHs Ss )、α2
5 (d 、J =6Hz r5H,□SCM)、0.
88 (s 、 9 H、CH,C−5i)、184 
(fn* 1ff 、H−3)、4.09 (?3.I
H。
CHμ’HO5i)、4.36 (d d + 7 =
 2.3Hz −10,5Hz p H−4)、4.6
6(fn、づ’:H,−CH=CH,)、 4.75(
d、!=1 α5 Hz  、CHPん)、2Hと共に
、5.2−5.4 (m 、 2 H、CH=CH,)
、5.99−40(、(j7.づ’::H=CH,)、
5.94(bS。
NH)’IHと共に、ス54(倶、5H,Ph)。
実施例14 <55.45)−5−C(1R)−1−tart。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル)−4−[:(I
R)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル
−3−ジアゾ−2−オキソグロビル]及び (55,45)−5−〔C1R)−i−tert。
−ブチルツメチルシリルオキシエテル]−4−〔(1S
)−1−アセチルチオ−3−アリルオキシカルボニル−
3−ジアゾ−2−オキソグロビル〕実施例7に述べた如
くして、(5R,4R)−4−アセトキシ−3−((I
R)−1−tart。
−プチルゾメチルシリルオキシエチル〕アゼテソン−2
−オン2.70f(9,4ミリモル)及び4−アセチル
チオ−2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル2.96F(
12,2ミリモル)から、粗製の生成物をシリカグル6
50v上でクロマトグラフィーにかけ(トルエン:酢酸
エチル4 : 1 )、油として無極性の表題化合物4
57η(15%)が得られ九、Rf:α40(トルエン
:酢酸エチル7:3)。
IR(CHCI、> 2135 (N、 )、1765
(C=0.β−ラクタム)、1715 t 163Bc
m−”*”H−NMR(25ONE g 、 CDCl
、)δQ、07゜(108(8$ 6H,CH,54)
、0.87 C819H、CM、C−5i )、1.2
2 (d 、 J=6.5Hz 。
5H,βH,CH)、2.59 (8、5H、5COC
H,)、2.92 (m、IH,j7−3)、4.18
(m、ff−4)、4.23(常、CH,CHOSイ)
2Hと共に、4.75(常、2H,−9h−CH=CH
り、5.3−5、4 (fn + CI=9h)、5−
61 (d s / =4Hz +IH,CH3C0C
H5)、s、s−6,o(m。
−CH,づ’:11=CH,)、5.98 (bs 、
ME)2Hと共に。
加えて、油として有極性の表題化合物1.52(48%
)が得られた、Rf:0.36()ルエン:酢酸エチル
7:3)。
JR(CIIC’l、 ) 5350 (HE)、21
40(N、)、1758((’=0.β−ラクタム)、
1715 s 1640cm−’。
’H−NMR(250MHz、CDCL、)δCLO7
(8、611、CM、54 )、0.88(j、9H。
CH,C−5i)、1.19 (d 、 J=6.5H
z 、 5B。
βH30H)、2.37 (8,5H,5COCH,)
、3.12(惧、 111.H−3)、4.20 (d
d。
J=2Hz 、 15Hz 、H−4)、4.20 (
?W+CH3CHO5イ)2Hと共に、4.75(毒、
2B。
二〇!、−CH=CH,)、5.3−5.4(惜、2H
1−CH=CH1)、5.42 (d 、J=7.5H
z 、 1H。
CH3C0CH5)、5..80 (6g 、 1H,
ME)、5.85−6.0(慣、1H,CH,−イg=
CH,)。
実施例15 C55,45)−5−C<1R)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−((IR,5)−1−アセチルチオ−3−ア
リル〕オキシカルボニルー3−ノア無水ソクロロメタン
2〇−中の(3R,47?)−4−アセトキシ−3−(
(1R)−1−ヒドロキシエチル〕アゼチソン−2−オ
ン400η(2,3ミIJモル)及び4−アセチルチオ
−2−シアシー3−オキソ酪酸アリル720η(五〇ミ
リモル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミン1
.15m(a3ミリモル、3.6尚量)、次にトリフル
オロメタンスルホン酸トリメチルシリル1゜51 m 
(7,8ミリモル、&4当量)を加えた。
冷却番を除去し、混合物を室温で4時間攪拌し、トリフ
ルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル135μ1(
CL7ミリモル、0.3轟量)を加え、混合物を室温で
6時間攪拌し、実施例1に述べた如くして処理した。粗
製の生成物をシリカグル40f上でクロマトグラフィー
(酢酸エチル)にかけた後、分離することができなかっ
た2種のシアステレオマ−の混合物として表題の化合物
が得られた、Rf二0.31(酢酸エチル)。
IR(CHCI、) 3380 (HE)、2150(
N、)、1758((:’=0.β−ラクタム)、17
20.1642(X−’。
’H−NMR(250MHz 、 CDCl、 )δ1
.30゜1.52(d、I=6.5Hz、SH,呂CH
)、2.25.2.75Cb8.1H,OH)、2.4
0(s 、 5 H、5COCH3)、2.96.五1
4(情。
1H,H−3)、4.14 (−+ 2H,H−4。
CH=CH1H)、5.25(常、 2 H、CH,−
CH=CH,)、5.3−5.4 (m 、 2H、C
H=CH,)、5.50 (d 、 J= 6Hz 、
 CH3C0CR,)、5.45(d + 7 =4.
8Hz 、CH3COCR5)IHと共に、5.85−
 <S、05 (m 、 1H、CH,−CH=CH,
)、6.15 (bs 、 1H,NH)。
実施例16 (35,4S)−5−((IR)−1−ヒドロキシエチ
ル)−4−[3−ジアゾ−3−p−ニトロペンツルオキ
シカルボニル−2−オキソプロピル〕(55,4R)−
5−C(1R)−1−tart。
−プチルソメチルシリルオキシエチル)−4−〔5−ジ
アゾ−3−p−ニトロペンツルオキシカルボニル−2−
オキソプロピル〕アゼチソンー2−オン10〜(α02
ミリモル)を、アセトニトリル中の三フッ化ホウ素エー
テラート五76μ!(003ミリモル、1.5当量)の
飽和溶液1−中に0℃で溶解し、混合物をこの温度で2
時間攪拌した。次に反応溶液をシリカダル/NaHCO
30,5fを通して濾過し、真空下で蒸発させ、表題の
化合物が得られた、Rf”、0.24 ()ルエン:酢
酸エチル1:9)。
IRCCHCl、> 5419 (OH)、2142(
N2)、1768c!IL−’  (C=0 、β−ラ
クタム)。
’H−NMR(250MHz 、CDCl、)J 1.
35(d 、J=6.5Hz 、5H、CH,CM)、
1,62(ba、jH,□J7)、2.91  Cdd
、I=1.5Hz 、7.5ffz 、’IH、H−6
)、A22 (dd−1=7.5Hz 、19Hz 、
 1H、CH,CO)、!1.35 (dd 、J=7
.5Hz 、19Hz 、  1H。
CM、CO)、4,00 (m、 1E、H−5)、4
.20(dq、J=/h5Hz、7.5Hz、 1H*
cH,CHOH)、5.40 (8、2H、C00CH
,)、6.00(b s 、 1H,NH)、7.58
及び&3Q(d。
J−=9Hz、各k 2 Ht p−NOx (’1l
H4)。
本実施例の化合物はチェナマイシン(を屓gsa−my
csn)の合成に対する中間体として用いられている〔
米国特許第4,29()、947号:ザルツマ/(Th
、 N、 Salzmann )等、J、 Ayn、 
Cんam。Soa。
102 6163(1980))。
実施例17 ■ CsS 、4R)−s−tart、−プチルソ)’f−
にシリルオキシメチル)−4−(3−アリルオキシカル
ボニル−5−ジアゾ−2−オキンクロビル〕無水ソクロ
ロメタン18−中の(3R,4R)−4−アセトキシ−
3−(tart、−ブチルツメチルシリルオキシメチル
〕アゼチジン−2−オン547wf(2,0ミリモル)
及び2−ジアゾ−3−オキソ酪酸アリル43719(2
,61モル)の0℃に冷却した溶液に、トリエチルアミ
ンα72−(s、’z1モル)、次にトリフルオロメタ
ンスルホン酸トリメチルシリルQ、91m(4,8ミリ
モル)を加えた。冷却浴を除去し、混合物を室温で15
分間攪拌し、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチル
シリルα1211Lt(cL6ミリモル)を加え、混合
物を室温で更に15分間攪拌した。反応溶液を冷却した
飽和NαHCO,溶液及び酢酸エチルの混合物中に注ぎ
、酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を飽和NaCL溶液
で洗浄し、Mg5O,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸
発させ、残渣をシリカダル50f上でクロマトグラフィ
ーにかけた(トルエン:酢酸エチル4:1)。油として
表題の化合物462F(61%)が得られた、Rf:0
.11(トルエン;酢酸エチル4:1)。
JR(CHCIs) 5580 (ME)、2150(
N、)、1760(Cm0.β−ラクタム)、1715
.1648cst−’。
”H−NMR(250MHg 、 CDCl5)δG、
07(Jt 、 6H、C’H,Si )、α88(l
l19HtCM、C3s)、303 (m、 1H,H
−!l)、工11(dd 、7−10Hz 、18Hz
 、 1H,CM、CO)、X40 (dd 、J=5
Hz 、1877g 、 1H。
cg、co)、X95(情、H−4)、4.0(仇。
CH,O5i ) 5 Hと共に、4.76 Cm、2
H。
ヨ、=にH=CH,)、5.3−閂、45(常、2H9
−cn=βI、)、5.9−6.1 (m 、 −CM
、−CH=CH,)、X01 (ha、NH)2Hと共
に。
実施例18 <55 * 4R)−5−(tttrt、−プfsa)
)fルシリルオ會ジメチル)−4−[3−シアシー3−
p−ニトロペンシルオキシカルボエル−2−オΦソクロ
ビル〕アゼチヅンー2−オン 実施例17に述べた如くして、<3R,aR)−4−ア
セトキV−3−1: tart、−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル〕アゼチジン−2−オン930岬(3,
4ミリモル)及び2−ジアゾ−5−オキソ酪酸4−ニト
ロペンシル1.16F(4,42ミリモル、1.5当量
)から、粗製の生成物をシリカダル100f上でクロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エテル1:1.)にかけ
た後、無色の結晶として表題の化合物1.22F(65
%)が得られた、融点104℃、Rf:0.31(トル
エン:酢酸エチル1:1)。
IR(MEデ)3352 (7VH)、2139(N、
)、1755cc=0.β−ラクタム)、1713.1
660.1525<NO,α8.)、1349cm−’
  (NO,a、)。
’H−NMR(500MHg 、CDCl2)δCLO
6(8,6H,CH,Ss)、0.86(#19H1c
g、csi)、2.98 (m−1# +H5)、3−
05(dd 、J=9Hz 、18Hz 、 1H,C
H,CO)、5.54 (dd 、 J=511 g 
、 18Hz 、 1H。
CH,CO)、189 (m、 1H,H−4)、A9
6(m、2H+CH,05i)、5.31(l y 2
HtCOOCH2)、5.93 (bj、 1H,ME
)、7.50(d 、J=9Hz 、2H,H芳香族)
、a23(d 、J=9Hz 、2H,p芳香族)。
実施例7に述べた如くして、(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−((IR)−j−tsデt。
−ブチルツメチルシリルオキ7エチル〕アゼテゾン−2
−オンを対応するソアゾアセト酢酸エステルと反応させ
て次の化合物(実施例19〜24、第3表)が得られた
: (時間のコラムは、触媒量のトリフルオロメタンスルホ
ン酸トリメチルシリルの添加後、室温での攪拌時間を表
わす)。
C) カルバペネム抗生物質の製造に対する一般式■の
化合物の使用実施例 使用実施例1 (2S、SR,68)−2−アリルオキシカルボニル−
3,7−シオキソー6− ((I R)−1−tert
、−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−1−7ザビ
シクロ320  ヘ タン 無水ジクロロメタン50−1中の(3S、4R)−3−
((I R)−tert、−ブチルツメチルシリルオキ
シエチル)−4−[3−アリルオキシカルボニル−3−
ノアシー2−オキシプロピル〕アセチジンー2−オン3
゜96g(10ミリモル)のf#液を酢酸ロジウム(I
[)40 mg(1モル%)の存在下において30分間
加熱還流させた。1反応溶液を少量のケイソウ土及びシ
リカゾルを通して、真空下で蒸発させた。無色の油とし
て表題の化合物3.5.(95%)が得られた、Rf:
0.46()ルエン:酢酸エチル7:3)。
I R(CHCI:l)1766.1740 c+*−
’。
’ H−N M R(250M Hz 、、CD CI
 3 )δ0.06s。
6 H、CHs S i )、0.87(s、9HSC
HsC−3i)、1.26(dSJ”6.5Hz、3H
,CHsCH)、2.44(dd、J=8Hz、19H
z、IH。
CH,CO)、2.88(dd、J=8Hz、19Hz
IH,CH2C0)、3.15(ddSJ=2Hz、5
Hz、IH,H−6)、4.16(dddSJ=2Hz
8Hz、8Hz、IHlH−5)、4.33 (dq、
 J =5  Hz、  6.5  Hz、  I  
H% CHsC二EL)、 4.65(m、2H,CH
I−CH=CH,)、4.71 (s、 I H。
H−2)、5.25−5.4(m、2H,CH=CHz
)、5.8−6.0(+e、 IH,CH2−坦=CH
2)。
使用実施例2 (5R,6S)−2−(,4−ピリジルチオ)−6−(
(I R)−1−tert、−ブチルツメチルシリルオ
キシエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン ア
リル無水THF100*7中の(2S、SR,6S)−
2−7リルオキンカルボニルー3.7−シオキンー6−
((IR)−1−tert、−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル〕−1−7ザビシクロ(3,2,0)へブタ
ン3゜68g(10ミリモル)の−78℃に冷却した溶
液に、1.5−ノアザシクロ〔5,4゜0〕ウンデク−
5−エン(DBU)1.94s−J (13ミリモル)
、そして20分後、無水トリフルオロメタンスルホン酸
2.2−j!(13ミリモル)を滴下した0次に混合物
を一78℃で30分間攪拌し、この溶液を真空下で、温
度を−2,0℃以上に上昇させずに、約40m/に濃縮
した。次に順次、DMF20mr、エチルジイソプロピ
ルアミン2.1m1(12ミリモル)及v4−メルカプ
トピリジン1.33g(12ミリモル)を加元、この混
合物を一20℃で1時間攪拌した0次に混合物を酢酸エ
チルで希釈し、そして冷却した飽和NaHCO,溶液中
に注いだ。酢酸エチルで抽出し、飽和NaCl溶液で洗
浄し、MgSO4上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発さ
せ、残渣をシリカゾル600g上でクロマトグラフィー
(トルエン二酢酸エチル)にかけた後、粘性油として表
題の化合物3.1g(66%)が得られた、Rf:0.
30(トルエン:酢酸エチル7:3)。
I R(CHCIs)1781 (C=O5β−ラクタ
ム)、1710cm−’(C=0、エステル)。
’H−NMR(250MHz、CDCIj)δ0.02
.0.04(s、6H,CHsSi)、0.84(s、
9H。
CHs C−S ! )、1.10(d、J=6.5H
z、C旦ユCH)、2.86(ddSJ=11 Hz、
  18Hz、 IH%H−1)、3.04(dd、J
=9Hz、18Hz。
IH,H−1’)、3.48(ml 1g%H−6)、
4゜17 (−12g% H−5、CH,CH)、 4
.73(m。
2H,以±、−CH= CH)、5゜25(dd、J=
IHz、10.5Hz、I HSCH=CHコーシス)
、5゜47(dd、  J=I Hz、  17 Hz
、  I H,CH=C辻、−トランス)、5.9−6
.1(+m11 H,CHz−CH=CH,)、7.6
3(d、J”5.5Hz、2H。
3.5−ピリジル−H)、8.62(d、J=5.5H
z、2H,2,6−ピリツルーH)。
使用実施例3 OH (SR,6S)−2−(4−ピリノルチオ)−6−((
I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルバペンー2〜エ
ム−3−カルボン  1ル 氷酢酸3.69mj(64,5ミリモル、10当量)及
びTHF中のテトラブチルアンモニウムフルオライドの
IM#液19.3鋤j (19,3ミリモル、3当量)
を、THF60117!中の(SR,6S)−2−(4
−ピリノルチオ)−6−[(I R)−1−tert、
−ブチルジメチルシリルオキシエチル]カルバベン−2
−エム−3−カルボン#I17リル2,97g(6,5
ミリモル)の0℃に冷却した溶液に加えた。冷却浴を除
去し、反応溶液を室温で62時間放置した。処理するた
めに、このものを冷却した飽和N a HCO3溶液及
び酢酸エチルの混合物中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
飽和NaHCO3及びNaC1溶液で洗浄し、Mg5O
,上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させ、残置をシリ
カゾル360g上でクロマトグラフィーにかけ(トルエ
ン:酢酸エチル)、油として表題の化合物472mg(
21%)が得られた、RGo。
24(トル・エン:酢酸エチル9:1)。
IR(CHCI、)3400(OH)、1776(C=
0、β−ラクタム)1720ct−’(C=O,エステ
ル)。
’H−NMR(250M82%CDCl5)#1.32
(d。
J=6.5Hz、3H,旦jic H)、2.78.2
゜90(dd%J=10Hz、18Hz、2H,H−1
)、3゜16(ddSJ=2.5Hz、7Hz、IH,
H−6)、4.2(+s、2H,H−5、CHs車止)
、4゜75.4.87(dd、J=7.5Hz、  1
4.5Hz、2H1CHコーCH=CH2)、5.30
(d、J=9Hz、IH,CH=C旦ニーシス)、5.
48(d、J=17Hz、IH,CH=CH2−トラン
ス)、5.9−6.1(閣、 I  H,−c)It−
、≦:H=CH,)、 7.43(d、J=7Hz、2
H13,5−ピリツルーH)、8.64(d。
J = 7 Hz、2H,2,6−ピリジルーH)。
使用実施例4 OH (S R,65)−2−(4−ピリジルチオ)−6−(
(I R)−1−ヒドロキシエチル〕カルパペム−2−
エム−3−カルボン  ト1ウム 無水ジクロロメタン3.4鋤!中の(5R,6S)−2
−(4−ピリジルチオ)−6−((I R)−1−ヒド
ロキンエチル〕カルバベン−2−エム−3−カルボン酸
7リル462論g(1,33ミリモル)の溶液に順次、
酢酸エチル中の0.5M2−エチルヘキサン酸ナトリウ
ム2.8論j(1,4ミリモル)、トリフェニルホスフ
ィン35B(0,13ミリモル、0.1当量)及びテト
ラキス(トリフェニルホスフィン)−パラジウム(0)
35鋤g(0,03ミリモル)を加え、この混合物を室
温で1時間攪拌した1次に混合物を無水ア七トン20m
1で希釈した。沈澱物を吸引炉別し、エーテル50醜!
と共に0.5時間はげしく攪拌し、再び吸引炉別し、高
真空下にてP 40111上で乾燥した。無色の吸湿性
粉末として表題の化合物361mg(83%)が得られ
た。
I R(KBr)3400(OH)、1755(C=0
゜β−ラクタム)、1600(COONm)、1576
.1392ea″″I。
’H−NMR(250MHz%DMSO)81.11(
d。
J =6 Hz、 ’3 H、Cji、CH)、2.7
2.2.75(3,2H,H−1)、3.20(dd、
J=3Hz。
6Hz、  IH,I(−6)、 3.92(m、 1
8% H−5)、4.07(m、IH,cHz以比)、
7.33(d、J=6Hz、2H,3,5−ビリジルー
トI)、8.44(d。
J−6Hz、2H12,6−ピリツルーH)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を
    表わし、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
    し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
    は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
    ^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
    ^5R^6を表わすか、 −NR^5R^6、−NR^5−COR^6、−NR^
    5−CO_2R^7、−NR^6−CR^5(=NR^
    6)、−NR^6−CO−NR^5R^6、−NR^5
    −CS−NR^5R^6、−NR^5−C(=NR^6
    )−NR^5R^6、−NR^5−SO_2R^7を表
    わすか、−OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR
    ^5R^6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5
    、−OPO(OR^5)OR^6を表わすか、 −SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、nは1また
    は2である〕、−SCOR^5、−SO_2OR^5、
    −SO_2NR^5R^6、−SCN、−SCONH^
    5を表わすか、或いは−PX(OR^5)OR^6、−
    PX(NR^5R^6)_2、−PX(OR^5)NR
    ^5R^6を表わし、ここに各場合において、R^5及
    びR^6は同一もしくは相異なるものであり、水素を表
    わすか、随時置換されていてもよいアルキルを表わすか
    、随時置換されていてもよいアリールを表わすか、随時
    置換されていてもよい複素環を表わすか、或いは随時ヒ
    ドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに
    対する保護基を表わし、 R^7はR^3及びR^6と同一の意味を有するが、但
    し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
    は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の4−〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロ
    ピル〕アゼチジン−2−オン類を製造するにあたり、ワ
    ン−ボット法において、一般式II▲数式、化学式、表等
    があります▼(II) 式中、R^1及びR^3は上記の意味を有する、の4−
    アセトキシ−2−アゼチジノンを、不活性溶媒中で、塩
    基及びシリル化剤の存在下において、一般式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^3及びR^4は上記の意味を有する、の化合
    物と反応させることを特徴とする上記一般式 I の4−
    〔3−カルボキシ−3−ジアゾ−2−オキソプロピル〕
    アゼチジン−2−オン類の製造方法。 2、R^1が水素を表わすか、またはアミノ保護基を表
    わし、 R^2が水素を表わすか、フッ素、塩素、臭素またはア
    ジドを表わすか、フェニルを表わすか、NHR^1〔こ
    こで、R^1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでXは酸素または硫黄を表わす、 の基を表わすか、或いは炭素原子6個までを有し且つ随
    時フッ素、塩素または基OR^3で置換されていてもよ
    い直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アル
    キルを表わし、R^3は水素を表わすか、トリメチルシ
    リル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、t
    ert.−ブチルジメチルシリル、トリフェニルシリル
    またはトリメチルシリルエトキシカルボニルを表わすか
    、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、2−もしくは
    4−ニトロベンジル、2−もしくは4−ニトロベンジル
    オキシカルボニル、tert.−ブチルオキシカルボニ
    ル、アリルオキシカルボニル、4−メトキシベンジル、
    4−メトキシベンジルオキシカルボニルを表わすか、或
    いはホルミル、アセチル、トリクロロアセチル、トリク
    ロロエトキシカルボニル、2,4−ジメトキシベンジル
    オキシカルボニル、メトキシメチル、メチルチオメチル
    、メトキシエトキシメチル、〔2−(トリメチルシリル
    )エトキシ〕メチル、2−(メチルチオメトキシ)エト
    キシカルボニル、テトラヒドロピラニルまたはベンゾイ
    ルを表わし、 R^3が水素を表わすか、随時塩素、ニトロ、メチル、
    メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチルまたは(随
    時保護されていてもよい)ヒドロキシルで置換されてい
    てもよいフェニルを表わすか、フッ素、塩素、臭素、シ
    アノ、シアナトまたはアジドを表わすか、各々随時メチ
    ル、アミノ(随時保護されていてもよい)、フッ素、塩
    素、トリフルオロメチルまたはヒドロキシルで置換され
    ていてもよいチエニル、フリル、イミダゾリル、チアゾ
    リル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、
    ピリジル、ピペラジニルまたはピリミジルを表わすか、
    S−複素環を表わし、該複素環は各々随時メチル、アミ
    ノ、ヒドロキシルまたはアセチルアミノで置換されてい
    てもよいトリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル
    、フリル、チエニル、ピリジルまたはピリミジルを意味
    するか、−COR^3、−CO_2R^5、−CONH
    R^5、アミジノを表わすか、−NR^5R^6、ウレ
    イド、グアニジノを表わすか、−OR^5、−OCOR
    ^5、OSO_2R^7、−OPO(OR^5)_2を
    表わすか、−SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、
    n=1または2〕、−SCOR^5、−SCONHR^
    5、−SO_2OR^5、−SO_2NHR^5、−S
    CNを表わすか、或いは−PO(OR^5)_2、−P
    O(NR^5R^6)_2を表わし、ここに各々の場合
    に、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
    水素を表わすか、炭素原子6個までを有し且つ随時フェ
    ニルまたは1個もしくはそれ以上のフッ素で置換されて
    いてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和または不
    飽和アルキルを表わすか、随時ニトロまたはメトキシで
    置換されていてもよいフェニルを表わすか、フリル、チ
    エニルまたはピリジルを表わすか、或いはヒドロキシル
    、メルカプト、アミノまたはカルボキシルに対する保護
    基を表わし、R^7及びR^5及びR^6と同一の意味
    を有するが、但し、水素または保護基を表わさず、或い
    は炭素原子6個までを有し且つ随時フェニル、フッ素、
    塩素、フリル、チエニル、ピリジル、イミダゾリル、ト
    リアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼もしくは ▲数式、化学式、表等があります▼ の基で、または−CO_2R^5、−CONHR^5、
    シアノ、アミジノ、−NHR^5、−NHCOCH_3
    、グアニジノ、アジド、−OR^5、−OCOR^3、
    −OSO_2R^7、−OPO(OR^5)_2、−S
    R^5、−SO_2R^7、−SCOR^5、−SO_
    2OR^5、−SO_2NHR^5、−PO(OR^5
    )_2、−PO(NR^5R^6)_2〔ここで、R^
    5、R^6及びR^7は上記の意味を有する〕で置換さ
    れていてもよい直鎖状、分枝鎖状または環式の飽和また
    は不飽和アルキルを表わし、そして R^4がカルボキシル保護基または生体内で開裂され得
    るエステル基を表わす、 一般式 I の化合物を製造するための特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 3、一般式 I 、II及びIIIの化合物において、R^2、
    R^3、R^5、R^6及びR^7が炭素原子10個ま
    でを有し且つ a)メチル、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチ
    ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
    ニトロ、シアノ、または各々随時保護されていてもよい
    ヒドロキシル、メルカプトもしくはアミノ、ジメチルア
    ミノ、カルバモイル、アミジノ、スルホ、スルファモイ
    ルまたはハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは臭
    素によつて数個置換されていてもよいフェニル、 b)O、SまたはNよりなる群からの同一もしくは相異
    なるヘテロ原子1〜4個を有する飽和または不飽和の5
    〜6員の随時一緒に融合していてもよい複素環、該複素
    環はフェニルに対してa)に示したと同じ置換基をもつ
    ことができる、c)ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素
    または臭素、 d)−COR^9、−CO_2R^9、−CO−NR^
    9R^1^0、−C(=NR^1^0)NR^9R^1
    ^0、−CN、e)−NR^9R^1^0、−NR^9
    −COR^1^0、−N(COR^9)(COR^1^
    0)−NR^9−CO_2R^1^1、−NR^1^0
    −CR^9(=NR^1^0)、−NR^1^0−CO
    −NR^1^0R^9、−NR^9−C(=NR^1^
    0)−NR^9R^1^0−NR^9SO_2R^1^
    1、−N_3、f)−OR^9、−OCOR^9、−O
    CO−NR^1^0R^9、−SO_2R^1^1、−
    OSO_3R^9、−OPO(NR^1^0R^9)、
    g)−SR^9、−S(O)nR^1^1〔nは1また
    は2である〕、−SCOR^1^1、−SO_2OR^
    9、−SO_2NR^1^0R^1^0或いは h)−PX(OR^1^0)OR^9、−PX(NR^
    1^0R^9)_2、−PX(OR^9)NR^1^0
    R^9、 ここで、各々の場合に、 R^9及びR^1^0は同一もしくは相異なるものであ
    り、水素を表わすか、炭素原子10個までを有する直鎖
    状、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを
    表わすか、フェニルまたはベンジルを表わすか、複素環
    または複素環−メチルを表わし、該複素環はb)に示し
    た意味を有するか、或いは随時ヒドロキシル、メルカプ
    ト、アミノまたはカルボキシルに対する保護基を表わし
    、 R^1^1はR^1^0及びR^9と同じ意味を有する
    が、但し、水素または保護基を表わさず、そしてXは酸
    素または硫黄を表わす、 よりなる群からの基で随時置換されていてもよい直鎖状
    、分枝鎖状または環式の飽和または不飽和アルキルを表
    わす特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4、R^2、R^3、R^5、R^6及びR^7がC_
    1〜C_4−アルキル、C_1〜C_4−アルキルチオ
    、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフ
    ルオロメチルチオ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アジド
    、各々随時保護されていてもよいアミノ、ヒドロキシル
    もしくはメルカプト、或いはジメチルアミノ、スルホ、
    スルファモイル、アセトキシまたはカルバモイルで一、
    二または三置換されていてもよいフェニルを表わす特許
    請求の範囲第1項記載の方法。 5、R^2、R^3、R^5、R^6及びR^7がO、
    S、及びNよりなる群からの同一もしくは相異なるヘテ
    ロ原子1〜4個を有し且つC_1〜C_4−アルキル、
    C_1〜C_4−アルコキシ、C_1〜C_4−アルキ
    ルチオ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
    トリフルオロメチルチオ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、
    アジド、各々随時保護されていてもよいアミノ、ヒドロ
    キシルもしくはメルカプト、或いはジメチルアミノ、ス
    ルホ、スルファモイル、アセトキシまたはカルバモイル
    で一、二または三置換されている飽和または不飽和の5
    〜6員の、随時一緒に融合していてもよい複素環を表わ
    す特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、反応をジメトキシエタン、ジグリム、トリグリム、
    テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、
    tert.−ブチルメチルエーテル、ジクロロメタン、
    トリクロロメタン、テトラクロロメタン、1,1,2−
    トリクロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエチレ
    ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、酢酸エチル、
    トルエンまたはシクロヘキサン中にて、−30℃乃至+
    50℃の温度で、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
    ンもしくはトリブチルアミン、エチルジイソプロピルア
    ミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルモル
    ホリン、N−メチルピペリジン、1,5−ジアザビシク
    ロ〔5.4.0〕ウンデク−5−オン(DBU)または
    1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノン−3−エン
    (DBN)の存在下において行う特許請求の範囲第1〜
    5項のいずれかに記載の方法。 7、シリル化剤及び触媒として、トリアルキルシリルパ
    ーフルオロアルカンスルホネート、トリアルキルシリル
    アルカンスルホネート、トリアルキルシリルアリールス
    ルホネート、トリアルキルシリルパーフルオロアルカノ
    エート、トリアルキルシリルアルカノエート、トリアル
    キルシリルハライド、トリアルキルシリルパークロレー
    ト、トリアルキルシリルジフルオロホスフェート、トリ
    アルキルシリルジクロロホスフェート、トリアルキルシ
    リルフルオロスルホネート、N,O−ビス(トリアルキ
    ルシリル)アセトアミド及びトリアルキルシリルシアナ
    イドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第1〜6
    項のいずれかに記載の方法。 8、シリル化剤として、トリメチルシリルトリフルオロ
    メタンスルホネート、トリメチルシリルノナフルオロブ
    タンスルホネート、トリメチルシリルトリフルオロアセ
    テート、トリメチルシリルパークロレート、トリメチル
    シリルプロマイド、トリメチルシリルジフルオロホスホ
    スフェート、トリメチルシリルフルオロスルホネートま
    たはN,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロア
    セトアミドを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
    1〜7項のいずれかに記載の方法。 9)a)化合物IIIの当量につき化合物II 0.1〜1当量、 b)化合物IIIの当量につきシリル化剤1〜2当量、 c)シリル化剤の当量につき塩基1.01〜3当量 を導入し、0.1〜24時間後、塩基よりもやや過剰量
    に存在するシリル化剤に対して十分な追加のシリル化剤
    を加え、適当ならば上で導入したシリル化剤の量比とは
    別に、化合物II及びIIIにおける遊離の、即ち、保護す
    べき各ヒドロキシル、メルカプト及びアミノ基に対して
    シリル化剤及び塩基の追加の1当量を導入することを特
    徴とする特許請求の範囲第1〜8項のいずれかに記載の
    方法。 10、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
    、 R^2は水素を表わすか、ハロゲンを表わすか、アジド
    またはフェニルを表わすか、NHR^1〔ここで、R^
    1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、Xは硫黄または酸素を表わす、 の基を表わすか、或いは随時フッ素、塩素または基O−
    R^5で置換されていてもよい直鎖状、分枝鎖状または
    環式の飽和または不飽和アルキル(C_6まで)を表わ
    し、 R^5は水素を表わすか、トリメチルシリル、トリエチ
    ルシリル、トリイソプロピルシリル、tert.−ブチ
    ルジメチルシリル、トリフェニルシリル、トリメチルシ
    リルエトキシカルボニルを表わすか、ベンジル、ベンジ
    ルオキシカルボニル、2−もしくは4−ニトロベンジル
    、2−もしくは4−ニトロベンジルオキシカルボニル、
    tert.−ブチルオキシカルボニル、アリルオキシカ
    ルボニル、4−メトキシベンジル、4−メトキシベンジ
    ルオキシカルボニルを表わすか、またはホルミル、アセ
    チル、トリクロロアセチル、トリクロロエトキシカルボ
    ニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、
    メトキシメチル、メチルチオメチル、メトキシエトキシ
    メチル、〔2−(トリメチルシリル)エトキシ〕メチル
    、2−(メチルチオメトキシ)エトキシカルボニル、テ
    トラヒドロピラニルもしくはベンゾイルを表わし、 R^3は随時塩素、ニトロ、メチル、メトキシ、メチル
    チオ、トリフルオロメチルまたは随時保護されていても
    よいヒドロキシルで置換されていてもよいアリール(C
    _6、C_1_0)を表わすか、ハロゲン、シアノ、ア
    ジド、シアナト、トリフルオロメチルまたはニトロを表
    わすか、−COR^1^7、−CONR^1^8R^1
    ^9または−CSNR^1^8R^1^9を表わすか、
    アリルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキ
    シカルボニルを表わすか、−NR^1^9R^1^8、
    ウレイド、グアニジノ、アミジノ、−NR^1^8SO
    _2R^2^0を表わすか、−OSO_2R^2^0、
    −OSO_3R^1^8または−OPO(OR^1^9
    )OR^1^8を表わすか、−SR^1^8、−S(O
    )nR^2^0〔ここで、n=1または2〕、−SCO
    R^1^8、−SCONHR^1^8、−SO_2OR
    ^1^8、−SO_2NR^1^9R^1^8、−SC
    Nを表わすか、−S−複素環を表わし、ここで該複素環
    は各々随時メチル、アミノ、ヒドロキシルもしくはアセ
    チルアミノで置換されていてもよいトリアゾリル、テト
    ラゾリルもしくはチアジアゾリル、またはフリル、チエ
    ニル、ピリジルもしくはピリミジルを意味するか、−P
    O(OR^1^9)OR^1^8を表わすか、或いは、
    ▲数式、化学式、表等があります▼またはベンジル を表わし、 R^1^8及びR^1^9は同一もしくは相異なるもの
    であり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキ
    ル(C_6まで)を表わすか、フェニルまたはベンジル
    (フェニルは随時ニトロ、メチルまたはメトキシで置換
    されていてもよいを表わすか、或いはヒドロキシル、メ
    ルカプトまたはアミノに対する保護基を表わし、そして R^2^0はR^1^9及びR^1^8と同一の意味を
    有するが、但し、水素または保護基を表わさず、 R^4は水素を表わすか、メチル、エチル、tert.
    −ブチル、デシル、2−クロロエチル、2,2,2−ト
    リクロロエチル、シアノエチル、ジフェニルメチルもし
    くはトリフェニルメチル、アセトキシメチル、アリル、
    ベンジル、4−メトキシベンジル、2,4−ジメトキシ
    ベンジル、tert.−ブチルジメチルシリル、1−フ
    ェノキシエチル、2−メチル−2−プロペニル、4−ニ
    トロベンジル、2−ニトロベンジル、トリメチルシリル
    エチルまたはジメチル−tert.ブチルシリルエチル
    を表わすか、或いは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、▲数式、化学式、表等があります▼、 −CH_2−OCO−C(CH_3)_3、−CH(C
    H_3)OCOOC_2H_3または−CH_2OCO
    CH_3 の基を表わす、 の化合物。 11、R^1が水素またはアミノ保護基を表わし、R^
    2が水素、塩素、臭素、アジドを表わすか、NHR^1
    〔ここでR^1は上記の意味を有する〕を表わすか、式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ の基を表わすか、メチル、エチル、イソプロピル、te
    rt.−ブチルを表わすか、或いは▲数式、化学式、表
    等があります▼、−C(CH_3′)_2−OR^1^
    7または▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 R^1^7は水素を表わすか、トリメチルシリル、te
    rt.−ブチルジメチルシリルを表わすか、ベンジルオ
    キシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル
    、tert.−プトキシカルボニル、アリルオキシカル
    ボニルを表わすか、或いはホルミルまたはアセチルを表
    わし、 R^3がフェニルを表わすか、塩素、臭素、シアノ、シ
    アナト、アジドまたはCF_3を表わすか、−COR^
    1^8、−CONR^1^9R^1^8を表わすか、ア
    リルオキシカルボニルまたは4−ニトロベンジルオキシ
    カルボニルを表わすか、−NHR^1^8、ウレイド、
    グアニジノ、アミジノ、−NHSO_2R^2^0を表
    わすか、−OSO_2R^2^0または−OPO(OR
    ^1^9)OR^1^8を表わすか、−S−R^1^8
    、−SCOR^1^8、−SO_2OR^1^8、−S
    O_2NHR^1^8、−SCN、−SO_2R^2^
    0または−SCONH_2を表わすか、−S−ピリジル
    、−S−ピリミジル、−S−メチルテトラゾリル、−S
    −チアジアゾリル、2−アミノチアジアゾリルを表わす
    か、或いは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、 R^1^8及びR^1^9は同一もしくは相異なるもの
    であり、水素を表わすか、直鎖状または分枝鎖状アルキ
    ル(C_4まで)を表わすか、フェニル、ベンジルまた
    は4−メチルフェニルを表わすか、或いはヒドロキシル
    、メルカプトまたはアミノに対する保護基を表わし、そ
    してR^2^0はR^1^8及びR^1^9と同一の意
    味を有するが、但し水素または保護基を表わさず、 R^4が水素を表わすか、メチル、エチル、tert.
    −ブチル、2,2,2−トリクロロエチル、アリル、ア
    セトニル、4−ニトロベンジル、2−ニトロベンジル、
    4−メトキシベンジル、ベンジルまたはトリメチルシリ
    ルエチルを表わすか、或いは式 ▲数式、化学式、表等があります▼、−CH(CH_3
    )OCOOC_2H_5または−CH_2OCOC(C
    H_3)_3の基を表わす、 特許請求の範囲第10項記載の式 I の化合物。 12、カルバペネム抗生物質を製造するための、特許請
    求の範囲第1項記載の方法によつて製造した式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
    、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
    し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
    は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
    ^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
    ^5R^6を表わすか、−NR^5R^6、−NR^5
    −COR^6、−NR^5−CO_2R^7、−NR^
    6−CR^5(=NR^6)、−NR^6−CO−NR
    ^5R^6、−NR^5−CS−NR^5R^6、−N
    R^5−C(=NR^6)−NR^5R^6、−NR^
    5−SO_2R^7を表わすか、 −OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR^5R^
    6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5、−OP
    O(OR^5)OR^6を表わすか、−SR^5、−S
    (O)nR^7〔ここで、nは1または2である〕、−
    SCOR^5、−SO_2OR^5、−SO_2NR^
    5R^6、−SCN、−SCONHR^5を表わすか、
    或いは−PX(OR^5)OR^6、−PX(NR^5
    R^6)_2、−PX(OR^5)NR^5R^6を表
    わし、ここに各場合において、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
    水素を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを
    表わすか、随時置換されていてもよいアリールを表わす
    か、随時置換されていてもよいヘテロサイクリルを表わ
    すか、或いは随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノま
    たはカルボキシルに対する保護基を表わし、 R^7はR^5及びR^6と同一の意味を有するが、但
    し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
    は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の化合物。 13、カルバペネム抗生物質を製造するための式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素を表わすか、またはアミノ保護基を表わし
    、 R^2は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、シアノ、アジドまたはハロゲンを表わすか、或いは NHR^1を表わし、ここで、R^1は上記の意味を有
    し、 R^3は水素を表わすか、随時置換されていてもよいア
    ルキルを表わすか、随時置換されていてもよいアリール
    を表わすか、随時置換されていてもよい複素環を表わす
    か、ハロゲン、シアノ、シアナト、アジド、ニトロまた
    は =N−フェニルを表わすか、 −COR^5、−CO_2R^5、−CO−NR^5R
    ^6、−CSNR^5R^6、−C(=NR^5)NR
    ^5R^6を表わすか、−NR^5R^6、−NR^5
    −COR^6、−NR^5−CO_2R^7、−NR^
    6−CR^5(=NR^6)、−NR^6−CO−NR
    ^5R^6、−NR^5−CS−NR^5R^6、−N
    R^5−C(=NR^6)−NR^5R^6、−NR^
    5−SO^2R^7を表わすか、 −OR^5、−OCOR^5、−OCO−NR^5R^
    6、−OSO_2R^7、−OSO_3R^5、−OP
    O(OR^5)OR^6を表わすか、 −SR^5、−S(O)nR^7〔ここで、nは1また
    は2である〕、−SCOR^5、−SO_2OR^5、
    −SO_2NR^5R^6、−SCN、−SCONHR
    ^5を表わすか、或いは −PX(OR^5)OR^6、 −PX(NR^5R^
    6)_2、−PX(OR^5)NR^5R^6を表わし
    、ここに各場合において、 R^5及びR^6は同一もしくは相異なるものであり、
    水素を表わすか、随時置換されていてもよいアルキルを
    表わすか、随時置換されていてもよいアリールを表わす
    か、随時置換されていてもよい複素環を表わすか、或い
    は随時ヒドロキシル、メルカプト、アミノまたはカルボ
    キシルに対する保護基を表わし、 R^7はR^5及びR^6と同一の意味を有するが、但
    し、水素または保護基を表わさず、 Xは酸素または硫黄を表わし、そして R^4はカルボキシルに対する保護基を表わすか、また
    は生体内で開裂され得るエステル基を表わす、 の化合物の使用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5615038A (en) * 1989-07-11 1997-03-25 Canon Kabushiki Kaisha Scanning optical device with aberration compensation feature

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4960879A (en) * 1988-03-23 1990-10-02 Shionogi & Co., Ltd. Process for carbapenem intermediates
US5395931A (en) * 1988-06-30 1995-03-07 Merck & Co., Inc. 6-amido-1-methyl-2-(substituted-thio)carbapenems
US5138050A (en) * 1988-06-30 1992-08-11 Merck & Co., Inc. 6-amido-1-methyl carbapenems
EP0350211A3 (en) * 1988-06-30 1990-07-25 Merck & Co. Inc. Novel 6-amido-1-methyl carbapenems
US5051502A (en) * 1990-06-06 1991-09-24 University Of Notre Dame Du Lac Rhodium catalyzed cyclization process for bicyclic β-lactams
TW198035B (ja) * 1991-05-29 1993-01-11 Hoechst Ag
NZ290722A (en) * 1994-08-02 1999-03-29 Procter & Gamble A process for making derivatives of quinolonyl lactam (qla's); intermediates
WO1996004247A1 (en) * 1994-08-02 1996-02-15 The Procter & Gamble Company Process for making antimicrobial compounds
JP2003277390A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Takasago Internatl Corp アゼチジノン化合物の製造方法
CN105906529B (zh) * 2016-06-07 2018-11-27 江西富祥药业股份有限公司 4-卤代-2-重氮-3-氧代-戊酸(4-硝基苯)甲酯及其制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4312871A (en) * 1979-12-03 1982-01-26 Merck & Co., Inc. 6-, 1- And 2-substituted-1-carbadethiapen-2-em-3-carboxylic acids
DE3167774D1 (en) * 1980-02-28 1985-01-31 Fujisawa Pharmaceutical Co 4-substituted-2-oxoazetidine compounds, processes for their preparation, and their use for preparing antibiotics
US4382949A (en) * 1980-07-31 1983-05-10 Schering Corporation 2-(Amino acid-thio)-1-carbapen-2-em-3-carboxylic acids and congeners
CA1190236A (en) * 1981-10-23 1985-07-09 Edward J.J. Grabowski Antibiotic synthesis

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5615038A (en) * 1989-07-11 1997-03-25 Canon Kabushiki Kaisha Scanning optical device with aberration compensation feature

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DK123786A (da) 1986-09-20

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