JPS61205619A - 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜 - Google Patents

耐熱性酸化亜鉛透明導電膜

Info

Publication number
JPS61205619A
JPS61205619A JP60046782A JP4678285A JPS61205619A JP S61205619 A JPS61205619 A JP S61205619A JP 60046782 A JP60046782 A JP 60046782A JP 4678285 A JP4678285 A JP 4678285A JP S61205619 A JPS61205619 A JP S61205619A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zinc oxide
conductive film
transparent conductive
oxide transparent
group iii
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60046782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0372011B2 (ja
Inventor
Uchitsugu Minami
内嗣 南
Shinzo Takada
新三 高田
Hidehito Nanto
秀仁 南戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OSAKA TOKUSHU GOKIN KK
Original Assignee
OSAKA TOKUSHU GOKIN KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OSAKA TOKUSHU GOKIN KK filed Critical OSAKA TOKUSHU GOKIN KK
Priority to JP60046782A priority Critical patent/JPS61205619A/ja
Publication of JPS61205619A publication Critical patent/JPS61205619A/ja
Publication of JPH0372011B2 publication Critical patent/JPH0372011B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は耐熱性酸化亜鉛透明導電膜、具体的には、広い
温度範囲にわたって抵抗率の変化の小さい耐熱性酸化亜
鉛透明導電膜に関する。
(従来の技術) 従来、透明導電膜としては、ITO膜として知られてい
る酸化インジウム−酸化スズ系透明導電膜が広く実用に
供されている。このITO膜は、光学的特性、電気的特
性および耐熱性に優れているが、原材料のインジウムが
希少金属であるため資源的に問題があり、また高価であ
るという問題があった。最近、安価な酸化亜鉛が透明導
電膜用材料として注目されている。
(発明が解決しようとする問題点) この酸化亜鉛透明導電膜は、ITO膜に比ベコストが1
/10〜1150と安価であり、常温で使用する限りに
おいてはIT○膜と同程度の電気特性および光学特性を
実現できるが、高温域、例えば、200〜500℃の温
度で使用すると、使用後の抵抗率が102〜IQIO倍
以上に増加するという問題がある。
即ち、従来の酸化亜鉛透明導電膜は常温で10−4Ωc
IIIオーダの抵抗率を示し、十分実用可能であるが、
各種雰囲気中で高温にさらされると、第1図および第2
図に比較例として示すように、抵抗が真空や不活性〃ス
雰囲気中においてさえも、102〜106倍に増大する
。従って、酸化亜鉛透明導電膜を、例えば、エレクトロ
ルミネッセンス素子用透明導電膜として適用する場合、
その製造過程で透明導電膜は約400℃の真空あるいは
不活性〃ス雰囲気中に約1時間放置されることになるた
め、実用に供することができない。
このような酸化亜鉛透明導電膜の抵抗率が増大する原因
は、膜中に捕らえられていた酸素が温度上昇に伴い膜中
で化学吸着することによると考えられる。即ち、酸化亜
鉛透明導電膜の低抵抗率が真性格子欠陥である酸素空孔
もしくは格子間亜鉛の作る浅いドナー準位の存在により
実現されているため、酸素の吸着により伝導電子密度が
減少し、結果として抵抗が増大する。従って、酸化亜鉛
透明導電膜の低抵抗率化が材料固有の真性格子欠陥に依
存する限り、抵抗率増大は材料物性上の本質的な欠点と
も言える。
従って、本発明は安価に、かつ容易に製造でき、室温以
上の高温度で、各種雰囲気中での使用に対し抵抗率変化
の極めて小さい酸化亜鉛透明導電膜を得ることを目的と
する。
(問題点を解決するための手段) 本発明は酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛透明導電膜中
に、亜鉛原子に対し少なくとも一種の■族金属元素を含
有させることによって、前記問題を解決したものである
酸化亜鉛透明導電膜中に含有させる■族金属の含有量は
、亜鉛原子に対し1〜20原子%、好ましくは、2〜8
原子%とするのが適当である。これは、含有量が1原子
%未満ではその添加効果が得られず、20原子%を越え
ると、結晶性が悪化し抵抗率が増加するからである。な
お、■族金属の含有量は、■族金属含有透明導電膜の全
構成元素に対し、0.5〜10原子%となる。
■族金属としては、ホウ素、アルミニウム、スカンジウ
ム、ガリウム、イツトリウム、タリウム及びインジウム
などが挙げられ、これらは単独であるいは2種以上を含
有させることができるが、コスト上からはアルミニウム
を使用するのが好適である。
本発明に係る酸化亜鉛透明導電膜は、スパッタ法、真空
蒸着法、化学気相成長法、陽極酸化法などの公知の任意
の膜形成方法により形成することができる。また、酸化
亜鉛透明導電膜中に■族金属を含有させる方法としては
、前記膜作成過程で原材料に金属元素、金属酸化物、有
機金属およびハロゲン化物等の形態で導入することが好
適であるが、酸化亜鉛透明導電膜形成後に■族金属元素
を熱拡散やイオン注入することも可能である。
(作用) 酸化亜鉛は四肢金属を添加しなくても、i「述の真性格
子欠陥によるドナー準位により縮退したN形半導体が比
較的容易に得られ、はぼ1020cm=オーダの伝導電
子密度を実現で外る。これに■族金属、例えば、アルミ
ニウム、を導入すると、アルミニウム原子がドナーとし
て有効に働き102102l’オーグの伝導電子密度を
実現で終る。アルミニウム原子のような外因性ドナーは
、酸化亜鉛の真性格子欠陥による内因性ドナーと比較し
て、高温の酸化性雰囲気中でも膜中で安定に存在する。
このように、面族金属を含有する酸化亜鉛透明導電膜は
無添加酸化亜鉛透明導電膜に比べて、伝導電子密度が約
1桁大きいこと、及びドナーが不純物による外因性であ
ること等の特性改善によって耐熱性を実現するものであ
る。
次に、本発明を実施例について説明する。
〈実施例1〉 酸化アルミニウム(1!20.)と酸化亜鉛(ZnO)
を原料として用い、亜鉛原子に対し4原子%のアルミニ
ウムを含有する酸化亜鉛からなる焼結体を製造し、これ
をターゲットとして用いて高周波マグネトロンスパッタ
装置により、室温に保持したガラス基板上にアルミニウ
ム含有酸化亜鉛透明導電膜を形成した。
この酸化亜鉛透明導電膜は、常温での抵抗率が2゜2X
10−’ΩcI11で、可視光透過率が85%以上であ
った。また、酸化亜鉛透明導電膜を真空中(真空度 1
0”Pa)に配置し、温度を室温から400℃まで上昇
させ、400°Cで1時間保持したのち徐冷し、その過
程での抵抗の変化を測定し、酸化亜鉛透明導電膜の抵抗
温度特性を求めた。その結果を第1図に示す。
上記の高温域での熱処理によって、酸化亜鉛透明導電膜
の可視光透過率の顕著な変化を認めなかった。また、本
発明に係るアルミニウム含有酸化亜鉛透明導電膜を2重
絶縁構造ZnS:Mnエレクトロルミネッセンス素子の
透明電極として適用した場合、従来のITO透明電極を
利用した素子に比べて遜色のない素子が実現できること
を確認できた。
さらに、膜厚を50〜11000nの範囲で変化させた
酸化亜鉛透明導電膜を製造し、それらの特性を同様に測
定したところ、抵抗の温度依存性に関する限り膜厚によ
る大きな相異は認められなかった。
また、これらの膜は、500℃まで昇温しで1時間保持
した後の抵抗値も、はぼ第1図と同様の値と傾向を示し
、アルミニウム含有酸化亜鉛透明導電膜は真空雰囲気中
で使用する場合、500℃までの耐熱性が得られること
が明らかとなった。
なお、ここに使用した透明導電膜の処理前の抵抗率は全
て10−4Ωcmオーグのものである。
〈実施例2〉 実施例1と同様にして、亜鉛原子に対し10原子%のア
ルミニウムを含有する酸化亜鉛からなる焼結体を得、こ
れをターゲットとして用いて、高周波マグネトロンスパ
ッタ装置により、室温に保持したガラス基板上にアルミ
ニウム含有酸化亜鉛透明導電膜を形成した。
この酸化亜鉛透明導電膜は、常温での抵抗率が9.5X
10−’ΩCl11で、その可視光透過率は85%であ
った。また、実施例1と同様にして、酸化亜鉛透明導電
膜の抵抗温度特性を求めたところ、第1図に示す結果が
得られた。
く比較例1〉 高純度酸化亜鉛(ZnO)からなる焼結体をターゲット
として用い、高周波マグネトロンスパッタ装置により、
室温に保持したガラス基板上に酸化亜鉛透明導電膜を形
成した。
この酸化亜鉛透明導電膜は、常温での抵抗率が5.6X
10−’Ωcn+で、可視光透過率が85%であった。
また、実施例1と同様にして、酸化亜鉛透明導電膜の抵
抗温度特性を求めたところ、第1図に示す結果が得られ
た。
第1図の結果から、亜鉛原子に対してアルミニウムを1
〜10原子%導入された本発明に係る酸化亜鉛透明導電
膜は、400°Cで1時間放置した後でも室温での抵抗
の変化がほとんどなく、抵抗の温度依存性が小さく、耐
熱性が著しく改善されていることがわかる。また、約1
0原子%以上のアルミニウム原子を導入した膜では40
0°Cで放置した後の室温での抵抗が処理前の値より低
くなることがわかる。
〈実施例3〉 亜鉛原子に対し4原子%のアルミニウムを含有する酸化
亜鉛からなるターゲットを用い、実施例1と同様にして
250nmの厚さのアルミニウム含有酸化亜鉛透明導電
膜を形成した。
このアルミニウム含有酸化亜鉛透明導電膜は、抵抗率が
5xio−’Ωamで、実施例1と同様にして大気圧の
アルゴンガス雰囲気中でのアルミニウム含有酸化亜鉛透
明導電膜の抵抗温度特性を測定したところ、第2図に示
す結果が得られた。
〈比較例2〉 比較例1で形成した高純度酸化亜鉛(ZnO)からなる
酸化亜鉛透明導電膜を実施例3と同条件下で熱処理し、
その抵抗温度特性を測定した。その結果を第2図に示す
第2図の結果から、実施例3のアルミニウム含有酸化亜
鉛透明導電膜は、不活性がス中において高温度にされさ
れても、優れた耐熱性を示すことがわかる。
また、実施例3のアルミニウム含有酸化亜鉛透明導電膜
は500℃の不活性ガス中で1時間の熱処理に対しても
、電気特性および光学特性の顕著な変化は認められず、
耐熱性の得られることが確認された。
〈実施例4〉 酸化亜鉛と酸化インジウム(In20−)とを原料とし
て、亜鉛原子に対し2原子%のインジウムを含有する酸
化亜鉛からなる焼結体を形成し、これをターゲットとし
て用いて高周波マグネトロンスパッタ装置により、イン
ジウム含有酸化亜鉛透明導電膜を室温に保持したガラス
基板上に形成した。
このインジウム含有酸化亜鉛透明導電膜は、抵抗率が6
゜3X10−4Ωca+で、実施例1及び実施例3と同
様にして真空中および不活性ガス中において熱処理した
ところ、実施例1及び実施例3のアルミニウム含有酸化
亜鉛導電透明膜とほぼ同様の抵抗温度特性が得られ、5
00℃までの耐熱性の得られることがわかった。
〈実施例5〉 酸化亜鉛と酸化ガリウム(Ga2a、)とを原料として
用い、亜鉛原子に対して3原子%のガリウムを含有する
酸化亜鉛からなる焼結体を製造し、これをターデッドと
して高周波マグネトロンスパッタ装置により室温に保持
したガラス基板上にガリウム含有酸化亜鉛透明導電膜を
形成した。
ガリウム含有酸化亜鉛透明導電膜は、抵抗率が4.2X
10−4Ωcmで、真空中および不活性ガス中において
、第1図および第2図に示す実施例のアルミニウム含有
酸化亜鉛透明導電膜とほぼ同様の抵抗温度特性を示すと
共に、500’(Jでの耐熱性を示すことが判った。
(発明の効果) 以上の説明から明らかなように、本発明に係る酸化亜鉛
透明導電膜は耐熱性に優れ、ITO膜と同等の電気特性
及び光学特性を示し、しかも主原料である亜鉛がITO
膜の主原料であるインジウムに比べ極めて安価で、資源
的にも豊富で、公害を招くこともほとんどなく、製造コ
ストを著しく低減できる。また、透明導電膜中に含有さ
せる■族金属のうちインジウムおよびガリウムは高価で
はあるが、主原料が亜鉛であり、■族金属元素はドーパ
ントであるため、必要とする量はITO膜の1/30以
下であり、安価となる。また、■族金属を含有する酸化
亜鉛透明導電膜の表面は極めて平滑(゛、かつ膜のプラ
ス等の基体に対する付着力が強く、熱的また化学的にも
機械的にも安定であるので、透明電極、熱線遮蔽膜、透
明ヒータ等の多層コーティングを必要とする用途に適用
できるなど優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る酸化亜鉛透明導電膜および従来の
酸化亜鉛透明導電膜の真空中での抵抗温度特性を示すグ
ラフ、第2図は本発明に係る酸化亜鉛透明導電膜およゾ
従来の酸化亜鉛透明導電膜のアルゴンガス中での抵抗温
度特性を示すグラフである。 第1図 OToo       200      300  
    400温 屋 〔°C〕 第2図 3K   捜   〔°C〕

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛透明導電膜中に
    、亜鉛原子に対し少なくとも一種のIII族金属元素を1
    〜20原子%含有させてなる耐熱性酸化亜鉛透明導電膜
  2. (2)少なくとも一種のIII族金属がホウ素である特許
    請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜。
  3. (3)少なくとも一種のIII族金属がアルミニウムであ
    る特許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電
    膜。
  4. (4)少なくとも一種のIII族金属がスカンジウムであ
    る特許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電
    膜。
  5. (5)少なくとも一種のIII族金属がガリウムである特
    許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜。
  6. (6)少なくとも一種のIII族金属がイットリウムであ
    る特許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電
    膜。
  7. (7)少なくとも一種のIII族金属がインジウムである
    特許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜
  8. (8)少なくとも一種のIII族金属がタリウムである特
    許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜。
  9. (9)少なくとも一種のIII族金属元素の含有量が2〜
    6原子%である特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれ
    か一項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜。
  10. (10)酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛透明導電膜中
    に、亜鉛原子に対しホウ素を1〜10原子%および亜鉛
    原子に対しアルミニウムを1〜8原子%含有させてなる
    特許請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜
  11. (11)酸化亜鉛を主成分とする酸化亜鉛透明導電膜中
    に、亜鉛原子に対しホウ素を1〜10原子%および亜鉛
    原子に対しガリウムを1〜8原子%含有させてなる特許
    請求の範囲第1項記載の耐熱性酸化亜鉛透明導電膜。
JP60046782A 1985-03-08 1985-03-08 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜 Granted JPS61205619A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60046782A JPS61205619A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60046782A JPS61205619A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61205619A true JPS61205619A (ja) 1986-09-11
JPH0372011B2 JPH0372011B2 (ja) 1991-11-15

Family

ID=12756897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60046782A Granted JPS61205619A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61205619A (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6433811A (en) * 1987-04-04 1989-02-03 Gunze Kk Transparent conductive film and its manufacture
JPH01201021A (ja) * 1988-02-04 1989-08-14 Bridgestone Corp 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス
JPH01242417A (ja) * 1988-03-25 1989-09-27 Mitsubishi Metal Corp 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法
US5776353A (en) * 1996-02-16 1998-07-07 Advanced Minerals Corporation Advanced composite filtration media
US5972527A (en) * 1992-12-15 1999-10-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Transparent electrically conductive layer, electrically conductive transparent substrate and electrically conductive material
WO2003022954A1 (en) * 2001-09-10 2003-03-20 Japan Represented By President Of Tokyo Institute Of Technology Method for producing ultraviolet absorbing material
WO2007108266A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 酸化亜鉛系透明導電体及び同透明導電体形成用スパッタリングターゲット
JP2007280910A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Ind Technol Res Inst 金属ナノ粒子を含むアルミニウム添加亜鉛酸化物透明導電膜とその製造方法
WO2008023482A1 (fr) 2006-08-24 2008-02-28 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. conducteur électrique transparent à base d'oxyde de zinc, cible de pulvérisation cathodique pour former le conducteur et processus de fabrication de la cible
JPWO2006090806A1 (ja) * 2005-02-24 2008-07-24 積水化学工業株式会社 ガリウム含有酸化亜鉛
JP2009114538A (ja) * 2007-10-19 2009-05-28 Hakusui Tech Co Ltd 酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット
JP2009132998A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法
JP2009132997A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ZnO蒸着材とその製造方法
US8197908B2 (en) 2008-03-14 2012-06-12 Hestia Tec, Llc Method for preparing electrically conducting materials
JP2012144409A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Tosoh Corp 酸化物焼結体、それから成るターゲットおよび透明導電膜
US8895427B2 (en) 2008-09-04 2014-11-25 Kaneka Corporation Substrate having a transparent electrode and method for producing the same
JPWO2016092902A1 (ja) * 2014-12-09 2017-09-21 リンテック株式会社 透明導電膜及び透明導電膜の製造方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7867636B2 (en) * 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
CN101496117B (zh) * 2006-07-28 2012-04-18 株式会社爱发科 透明导电膜的成膜方法
KR101455419B1 (ko) 2006-10-06 2014-10-28 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 초미립자 산화아연 및 그의 제조 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5023918A (ja) * 1973-07-02 1975-03-14
JPS515360A (ja) * 1974-07-02 1976-01-17 Yoshiaki Sakai Horiesuterukeshobanno seizoho

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5023918A (ja) * 1973-07-02 1975-03-14
JPS515360A (ja) * 1974-07-02 1976-01-17 Yoshiaki Sakai Horiesuterukeshobanno seizoho

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6433811A (en) * 1987-04-04 1989-02-03 Gunze Kk Transparent conductive film and its manufacture
JPH01201021A (ja) * 1988-02-04 1989-08-14 Bridgestone Corp 熱線遮蔽材料及び熱線遮蔽ガラス
JPH01242417A (ja) * 1988-03-25 1989-09-27 Mitsubishi Metal Corp 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法
US5972527A (en) * 1992-12-15 1999-10-26 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Transparent electrically conductive layer, electrically conductive transparent substrate and electrically conductive material
US5776353A (en) * 1996-02-16 1998-07-07 Advanced Minerals Corporation Advanced composite filtration media
WO2003022954A1 (en) * 2001-09-10 2003-03-20 Japan Represented By President Of Tokyo Institute Of Technology Method for producing ultraviolet absorbing material
JPWO2006090806A1 (ja) * 2005-02-24 2008-07-24 積水化学工業株式会社 ガリウム含有酸化亜鉛
WO2007108266A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 酸化亜鉛系透明導電体及び同透明導電体形成用スパッタリングターゲット
JP2007280910A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Ind Technol Res Inst 金属ナノ粒子を含むアルミニウム添加亜鉛酸化物透明導電膜とその製造方法
WO2008023482A1 (fr) 2006-08-24 2008-02-28 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. conducteur électrique transparent à base d'oxyde de zinc, cible de pulvérisation cathodique pour former le conducteur et processus de fabrication de la cible
JP2009114538A (ja) * 2007-10-19 2009-05-28 Hakusui Tech Co Ltd 酸化亜鉛系薄膜製造用のイオンプレーティング用ターゲット
JP2009132998A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法
JP2009132997A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ZnO蒸着材とその製造方法
US8197908B2 (en) 2008-03-14 2012-06-12 Hestia Tec, Llc Method for preparing electrically conducting materials
US8895427B2 (en) 2008-09-04 2014-11-25 Kaneka Corporation Substrate having a transparent electrode and method for producing the same
JP2012144409A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Tosoh Corp 酸化物焼結体、それから成るターゲットおよび透明導電膜
JPWO2016092902A1 (ja) * 2014-12-09 2017-09-21 リンテック株式会社 透明導電膜及び透明導電膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0372011B2 (ja) 1991-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61205619A (ja) 耐熱性酸化亜鉛透明導電膜
US3655545A (en) Post heating of sputtered metal oxide films
JP2001007026A (ja) 透明で化学的に安定した導電性の広いバンドギャップを備えた半導体材料および堆積方法
JPS62122011A (ja) 透明導電膜の製造方法
JPH06187833A (ja) 透明導電膜
JPH09259640A (ja) 透明導電膜
JPH056766B2 (ja)
JP3616128B2 (ja) 透明導電膜の製造方法
JP2917432B2 (ja) 電導性ガラスの製造方法
KR20070016203A (ko) 산화아연계 투명 도전막
US6094295A (en) Ultraviolet transmitting oxide with metallic oxide phase and method of fabrication
JPH1083719A (ja) 透明導電膜
JP5647130B2 (ja) 透明導電性亜鉛酸化物ディスプレイフィルム及びその製造方法
JPH0987833A (ja) 透明導電膜の製造方法
Lee et al. Heat treatment effects on electrical and optical properties of ternary compound In 2 O 3–ZnO films
JPH0784654B2 (ja) Ito透明導電膜用スパッタリングターゲットの製造方法
JPH054768B2 (ja)
CN111593310B (zh) 一种利用磁控溅射制备高光电稳定性透明导电膜的方法
JPH0641723A (ja) 透明導電膜
JPH0668713A (ja) 透明導電膜
JPH01283369A (ja) Ito透明導電膜形成用スパッタリングターゲット
JPH0452566B2 (ja)
Tsunashima et al. Preparation of tin-doped indium oxide thin films by thermal decomposition of metal octanoates
JPH0765167B2 (ja) Ito透明導電膜用スパッタリングターゲット
JPH02163363A (ja) 透明導電膜の製造方法