JPS61199538A - エンボスロ−ルの製造方法 - Google Patents
エンボスロ−ルの製造方法Info
- Publication number
- JPS61199538A JPS61199538A JP60040112A JP4011285A JPS61199538A JP S61199538 A JPS61199538 A JP S61199538A JP 60040112 A JP60040112 A JP 60040112A JP 4011285 A JP4011285 A JP 4011285A JP S61199538 A JPS61199538 A JP S61199538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- resin layer
- spraying
- metallic
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Reduction Rolling/Reduction Stand/Operation Of Reduction Machine (AREA)
- Shaping Metal By Deep-Drawing, Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は表面に凹凸模様を有するシートの製造に用いら
れるエンボスロールの製造方法に関する。
れるエンボスロールの製造方法に関する。
（従来の技術）
従来この種のエンボスロールとしては、ミル押しエンボ
スロール、ＫＭ工／ボスロール、エツチングエンボスロ
ール、鋳造エンボスロールカ知うれている。
スロール、ＫＭ工／ボスロール、エツチングエンボスロ
ール、鋳造エンボスロールカ知うれている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしミル押しエンボスロールにおいてはシートにミル
跡が生じること、繰返し模様となること、製造コストが
高くまた手間がかかる欠点があシ、電鋳エンボスロール
においては電鋳によって形成される金属体層の厚みが不
均一であるため機械的強度が劣ること、真円度が悪いこ
と、生産効率が悪いという欠点があシ、エツチングエン
ボスロールにおいては凸部のエッヂがシャープであるこ
と、エツチングにムラがあること、エツチング液が公害
になること等の欠点がある。
跡が生じること、繰返し模様となること、製造コストが
高くまた手間がかかる欠点があシ、電鋳エンボスロール
においては電鋳によって形成される金属体層の厚みが不
均一であるため機械的強度が劣ること、真円度が悪いこ
と、生産効率が悪いという欠点があシ、エツチングエン
ボスロールにおいては凸部のエッヂがシャープであるこ
と、エツチングにムラがあること、エツチング液が公害
になること等の欠点がある。
本発明は上記従来の欠点を解消した新規なエンボスロー
ルの製造方法を提供することを目的とするものである。
ルの製造方法を提供することを目的とするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明のエンボスロールの製造方法は、金属ロール表面
の部分面に金属熔射で肉盛りを行い、凹凸模様を形成さ
せたことを特徴とするものである。
の部分面に金属熔射で肉盛りを行い、凹凸模様を形成さ
せたことを特徴とするものである。
本発明で使用される金属ロールとしては、従来エンボス
ロール用として用いられる金属素材よシなるロールは全
て使用でき、例えは鉄ロール、鉄ロール表面をニッケル
、クロム、真鍮等の異種金属で被覆したもの、などが挙
げられる。
ロール用として用いられる金属素材よシなるロールは全
て使用でき、例えは鉄ロール、鉄ロール表面をニッケル
、クロム、真鍮等の異種金属で被覆したもの、などが挙
げられる。
この金属ロール表面の部分面に金属熔射で肉盛プを行う
には、例えばロール光面にスクリーン、感光性樹脂等で
マスキングを施こし、非マスキング面にのみ金属熔射に
よる肉盛シ部を設ける方法が採用できる。
には、例えばロール光面にスクリーン、感光性樹脂等で
マスキングを施こし、非マスキング面にのみ金属熔射に
よる肉盛シ部を設ける方法が採用できる。
（実施例）
以下本発明を実施例図面に基づき詳説する。
鉄ロール１の表面に感光性樹脂を例えばスプレーによっ
て塗布し、第１図に示すように、感光性樹脂層１を形成
゛する。感光性樹脂として従来公知のものを使用できる
。次に６０〜８０℃で１５〜３０分プレベーキングを行
って感光性樹脂層フを乾燥させる。次いで感光性樹脂層
１０表面にネガフィルム８を密着させネガフィルム８の
後方よシ第２図に示すように光線、例えば紫外線９を照
射して焼付を行う。ネガフィルム８には所定の模様が陽
画として形成されている。この焼付工程において、紫外
線９の透過したネガフィルム部位８ａと接する感光性樹
脂層部位フａ１換言すれば紫外ＩＩ！！９０当たった感
光性樹脂層部位７ａは硬化し、以て感光部に硬化樹脂層
Ａが形成され、一方、紫外線９の透過しないネガフィル
ム部位８ｂと接する感光性樹脂層部位１ｂ１換言すれば
紫外線９の当たらなかった感光性樹脂層部位ツｂは硬化
せず、以て未感光部に未硬化樹脂層Ｂが形成される。（
第３図）同、ここにおいて「硬化」とは例えば架橋反応
が起って不溶化することをいう。
て塗布し、第１図に示すように、感光性樹脂層１を形成
゛する。感光性樹脂として従来公知のものを使用できる
。次に６０〜８０℃で１５〜３０分プレベーキングを行
って感光性樹脂層フを乾燥させる。次いで感光性樹脂層
１０表面にネガフィルム８を密着させネガフィルム８の
後方よシ第２図に示すように光線、例えば紫外線９を照
射して焼付を行う。ネガフィルム８には所定の模様が陽
画として形成されている。この焼付工程において、紫外
線９の透過したネガフィルム部位８ａと接する感光性樹
脂層部位フａ１換言すれば紫外ＩＩ！！９０当たった感
光性樹脂層部位７ａは硬化し、以て感光部に硬化樹脂層
Ａが形成され、一方、紫外線９の透過しないネガフィル
ム部位８ｂと接する感光性樹脂層部位１ｂ１換言すれば
紫外線９の当たらなかった感光性樹脂層部位ツｂは硬化
せず、以て未感光部に未硬化樹脂層Ｂが形成される。（
第３図）同、ここにおいて「硬化」とは例えば架橋反応
が起って不溶化することをいう。
焼付終了後、ネガフィルム８を取シ外し、硬化及び未硬
化の樹脂層ＡＸＢを有する鉄ロールを現像液に浸漬し、
現像を行う。この現像工程において、未硬化樹脂層Ｂが
現像液に溶解して除去され、硬化樹脂層Ａは溶解せずに
残るので第４図に示すようにネガフィルム８の陽画模様
のパターンに対応した凹凸が鉄ロール１表面に形成され
る。次に金属粉末溶射を行って硬化樹脂層Ａ間に露出し
ている鉄ロール素地１ａに金属粒子堆積層を形成する前
記金属粉末溶射において例えばニッケル粉末９０重量％
とアルミニウム粉末１０重量−からなる混合粉末を用い
た場合テルミット反応によシなる純ニッケルはその性質
上、硬化樹脂層ム表面には付着しない。従って鉄ロール
１表面上の凹部にニッケル粒子が充填される格好となる
。（第５図）この金属粉末溶射工程を詳しく説明すると
、まず鉄ロール１を適当な支持部材に回転可能に支持し
且つ前記鉄ロール１に対向して金属粉末溶射装置を水平
方向移動可能に設ける。そして前記金属粉末溶射装置に
おいて例えば、ニッケル粉末９０Ｘｔチとアルミニウム
粉末１０重ｉｔｓからなる混合粉末を２８００℃のアセ
チレンフレームに供給する。ここで混合粉末は溶融する
と共にアルミニウムがニッケルの酸化膜中から酸素を奪
い（テルミット反応）、ニッケルは純度の高いニッケル
となる。そしてこの純ニッケルはフレームの勢いで溶融
粒子状態で飛んでいき鉄ロール１ａに付着し、ニッケル
粒子堆積層２ａを形成する。
化の樹脂層ＡＸＢを有する鉄ロールを現像液に浸漬し、
現像を行う。この現像工程において、未硬化樹脂層Ｂが
現像液に溶解して除去され、硬化樹脂層Ａは溶解せずに
残るので第４図に示すようにネガフィルム８の陽画模様
のパターンに対応した凹凸が鉄ロール１表面に形成され
る。次に金属粉末溶射を行って硬化樹脂層Ａ間に露出し
ている鉄ロール素地１ａに金属粒子堆積層を形成する前
記金属粉末溶射において例えばニッケル粉末９０重量％
とアルミニウム粉末１０重量−からなる混合粉末を用い
た場合テルミット反応によシなる純ニッケルはその性質
上、硬化樹脂層ム表面には付着しない。従って鉄ロール
１表面上の凹部にニッケル粒子が充填される格好となる
。（第５図）この金属粉末溶射工程を詳しく説明すると
、まず鉄ロール１を適当な支持部材に回転可能に支持し
且つ前記鉄ロール１に対向して金属粉末溶射装置を水平
方向移動可能に設ける。そして前記金属粉末溶射装置に
おいて例えば、ニッケル粉末９０Ｘｔチとアルミニウム
粉末１０重ｉｔｓからなる混合粉末を２８００℃のアセ
チレンフレームに供給する。ここで混合粉末は溶融する
と共にアルミニウムがニッケルの酸化膜中から酸素を奪
い（テルミット反応）、ニッケルは純度の高いニッケル
となる。そしてこの純ニッケルはフレームの勢いで溶融
粒子状態で飛んでいき鉄ロール１ａに付着し、ニッケル
粒子堆積層２ａを形成する。
金属粉末溶射装置を水平方向に移動しながら且り鉄ロー
ル１を回転しながら前記溶射処理を行えは鉄ロール１０
表面の硬化樹脂間に霧出している鉄ロール素地１ａに万
遍なくニッケル粒子堆積層２ａを形成できる。また前記
***を繰９返すことによシ、鉄ロール素地１ａに堆積す
るニッケル粒子の高さを高くすることができる。
ル１を回転しながら前記溶射処理を行えは鉄ロール１０
表面の硬化樹脂間に霧出している鉄ロール素地１ａに万
遍なくニッケル粒子堆積層２ａを形成できる。また前記
***を繰９返すことによシ、鉄ロール素地１ａに堆積す
るニッケル粒子の高さを高くすることができる。
金属粉末溶射処理終了後、冷却し、次いで溶剤（例えは
メチルエチルケトン）で硬化樹脂層Ａを溶解除去するこ
とによシ第６図に示すようにニッケル粒子堆積層−多曲
として残シ、シかして鉄ロール１表面に凹凸模様１０が
形成され、かかる凹凸模様１０を有するエンボスロール
番が得られるに本発明は前記実施例に制約されない。例
えばニッケル粒子堆積層の上に更に真鍮、タングステン
カーバイド等の金属粒子金金属粉末溶射によって堆積し
、多層構造となしてもよい。
メチルエチルケトン）で硬化樹脂層Ａを溶解除去するこ
とによシ第６図に示すようにニッケル粒子堆積層−多曲
として残シ、シかして鉄ロール１表面に凹凸模様１０が
形成され、かかる凹凸模様１０を有するエンボスロール
番が得られるに本発明は前記実施例に制約されない。例
えばニッケル粒子堆積層の上に更に真鍮、タングステン
カーバイド等の金属粒子金金属粉末溶射によって堆積し
、多層構造となしてもよい。
（発明の効果）
この様に本発明によるエンボスロールは工程上の煩雑さ
はなく製造容易であシ、且つ真円度が良く、強度大にし
て耐久性、耐摩耗性に優れている。
はなく製造容易であシ、且つ真円度が良く、強度大にし
て耐久性、耐摩耗性に優れている。
図面は本発明の製造工程の一例を示すもので、第１図は
扶ロールに感光性樹脂層を形成した状態を示す縦断面図
、第２図は焼付工程を示す縦断面図、第３図は焼付工程
によって硬化樹脂層と未硬化樹脂層が形成された状態を
示す縦断面図、第４図は現像工程によって未硬化樹脂を
溶解除去した状態を示す縦断面図、第５図は金属粉末溶
射工程によって硬化樹脂層間にニッケル粒子堆積層を形
成した状態を示す縦断面図、第６図は硬化樹脂層を溶解
除去してニッケル粒子堆積層による凸部を形成した状態
を示す縦断面図。
扶ロールに感光性樹脂層を形成した状態を示す縦断面図
、第２図は焼付工程を示す縦断面図、第３図は焼付工程
によって硬化樹脂層と未硬化樹脂層が形成された状態を
示す縦断面図、第４図は現像工程によって未硬化樹脂を
溶解除去した状態を示す縦断面図、第５図は金属粉末溶
射工程によって硬化樹脂層間にニッケル粒子堆積層を形
成した状態を示す縦断面図、第６図は硬化樹脂層を溶解
除去してニッケル粒子堆積層による凸部を形成した状態
を示す縦断面図。
Claims (1)
- 金属ロール表面の部分面に金属熔射で肉盛りを行い、凹
凸模様を形成させたことを特徴とするエンボスロールの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60040112A JPS61199538A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | エンボスロ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60040112A JPS61199538A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | エンボスロ−ルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61199538A true JPS61199538A (ja) | 1986-09-04 |
Family
ID=12571765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60040112A Pending JPS61199538A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | エンボスロ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61199538A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016159A1 (de) * | 1998-09-12 | 2000-03-23 | INSTITUT FüR MIKROTECHNIK MAINZ GMBH | Verfahren zur herstellung eines körpers mit mikrostrukturen aus thermisch aufgespritztem material |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5188305A (ja) * | 1975-01-29 | 1976-08-02 | Kankoseijushentojogurabiaban | |
| JPS53109827A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-26 | Eiji Yoshida | Inlay obtained by melting and injecting metal into sand blast drilled portion at low temperature and its preparation |
| JPS5976868A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | Showa Denko Kk | 溶射用マスク |
| JPS59225829A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-12-18 | ユ−エスエス・エンジニヤ−ズ・アンド・コンサルタンツ・インコ−ポレ−テツド | スパイクのないシ−トを製造する方法 |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP60040112A patent/JPS61199538A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5188305A (ja) * | 1975-01-29 | 1976-08-02 | Kankoseijushentojogurabiaban | |
| JPS53109827A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-26 | Eiji Yoshida | Inlay obtained by melting and injecting metal into sand blast drilled portion at low temperature and its preparation |
| JPS5976868A (ja) * | 1982-10-26 | 1984-05-02 | Showa Denko Kk | 溶射用マスク |
| JPS59225829A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-12-18 | ユ−エスエス・エンジニヤ−ズ・アンド・コンサルタンツ・インコ−ポレ−テツド | スパイクのないシ−トを製造する方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016159A1 (de) * | 1998-09-12 | 2000-03-23 | INSTITUT FüR MIKROTECHNIK MAINZ GMBH | Verfahren zur herstellung eines körpers mit mikrostrukturen aus thermisch aufgespritztem material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101051184B (zh) | 大面积微纳结构软压印方法 | |
| CA2056307A1 (en) | Method of manufacturing a stamper | |
| US4264714A (en) | Process for the manufacture of precision templates | |
| JPH02264254A (ja) | パターン形成用材料とそれを用いたパターン形成基板の作製方法 | |
| US3703450A (en) | Method of making precision conductive mesh patterns | |
| TWI756888B (zh) | 製造鐘錶組件之方法 | |
| JPS61199538A (ja) | エンボスロ−ルの製造方法 | |
| US7344990B2 (en) | Method of manufacturing micro-structure element by utilizing molding glass | |
| JP2002182403A (ja) | エンボス面として使用される光画定可能なポリイミドフィルム | |
| CA2135091A1 (en) | Method for Producing a Tapered Waveguide | |
| JPS60230650A (ja) | 微細パタ−ンの製作法 | |
| JPH0740543B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0136557B2 (ja) | ||
| JP4774889B2 (ja) | 光学部品用成形型の製造方法 | |
| JPS63303737A (ja) | スクリ−ン印刷用メタルマスク、及びその製造法 | |
| KR101244856B1 (ko) | 원통형 패턴 마스크를 이용한 원통형 스탬프 제작 장치 및 제작 방법 | |
| JPS5597220A (en) | Method of producing metal filter | |
| EP0124064A1 (de) | Herstellung von galvanoplastischen Flachteilen mit rotationsunsymmetrischen, kegelförmigen Strukturen | |
| Conedera et al. | A simple optical system to optimize a high depth to width aspect ratio applied to a positive photoresist lithography process | |
| Trausch | New photolithographic pattern generation process for producing precision flat parts by the electroforming method | |
| KR20190043264A (ko) | 나노패턴을 포함하는 금형 제조방법 | |
| KR100297839B1 (ko) | 3차원공간광변조기를이용한미세구조물제조방법및장치 | |
| JPS5799738A (en) | Charged beam exposure method | |
| JPH07167968A (ja) | 時計部品およびその製造方法 | |
| JP2800378B2 (ja) | 焦点板の製造方法 |