JPS61176662A - Stabilized polymeric material composition - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To provide a stabilized polymeric material composition having improved resistance to light, by adding a specific amount of a specific cyanurate derivative containing 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl group to a polymeric material. CONSTITUTION:The objective composition can be produced by compounding 100pts.(wt.) of a polymeric material (e.g. polyethylene) with 0.001-5pts., preferably 0.01-3pts. of the compound of formula I [R1 is H, alkyl, or group of formula II (R7 is H, alkyl, alkenyl, acyl or oxyl); R2 is alkylene having ether bond; X1 and X2 are Cl, group of formula III (R3 and R4 are H, alkyl, aryl or group of formula IV) or formula V; Y1 and Y2 are group of formula VI (R5 and R6 are H, alkyl, aryl or group of formula IV); n is 1-50] (e.g. the compound of formula VII). EFFECT:The light-resistance of the polymer is maintained stably for a long period because of the excellent heat-resistance and extraction resistance of the light stabilizer.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に耐光性の改善された安定化高分ラメチル
ピペリジル基を有するシアヌレート誘導体を含有せしめ
てなる、特に耐光性の改善された安定化高分子材料組成
物に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention provides a cyanurate derivative having particularly improved light resistance, which contains a cyanurate derivative having a stabilized polymeric lamethylpiperidyl group, which has particularly improved light resistance. The present invention relates to stabilized polymeric material compositions.

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合成樹
脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用によ
り劣化し、変色或いは機械的強度の低下等を引き起こし
、長期の使用に耐えないことが知られている。[Prior art and problems to be solved by the invention] Synthetic resins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride are generally sensitive to the effects of light, and deteriorate due to the effects of light, resulting in discoloration or a decrease in mechanical strength. It is known that it causes such problems and cannot withstand long-term use.

そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止するために
、従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられ
てきた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、
また安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって樹脂から抽出され易いものが多
く、・さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を
持っており、長期にわたって合成樹脂を安定化すること
ができなった。Therefore, in order to prevent the deterioration of synthetic resins due to this light, various stabilizers have been used in the past, but the stabilizing effect of the conventionally used light stabilizers is still insufficient.
In addition, many of the stabilizers themselves are unstable to heat or oxidation, or are easily extracted from the resin by solvents such as water, and many of them also color the resin, making them difficult to maintain over a long period of time. It was not possible to stabilize the synthetic resin over a period of time.

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、また紫外線吸
収剤としてではなく、消光剤として作用するなどの特徴
を有しており近年特に注目されている。Among these conventionally used light stabilizers, piperidine-based compounds have attracted particular attention in recent years because they are non-coloring in themselves and act as quenchers rather than UV absorbers. ing.

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出されてしまうという欠点もあった。However, conventionally known piperidine-based compounds have insufficient photostabilizing ability and also have the disadvantage that they are easily extracted from the resin by water.

また、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の耐
熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で加工する際など
に、分解あるいは揮散し、その効果を失う場合も多かっ
た。Furthermore, these piperidine-based compounds themselves have insufficient heat resistance, and when processing synthetic resins at high temperatures, they often decompose or volatilize and lose their effectiveness.

これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環を含
有する化合物は比較的化合物自体の耐熱性が良好であり
、また、原料として安価な塩化シアヌルを用いることが
でき、反応も容易である等の利点を有している。Among these piperidine-based compounds, compounds containing a triazine ring have advantages such as the compound itself has relatively good heat resistance, the inexpensive cyanuric chloride can be used as a raw material, and the reaction is easy. have.

トリアジン環を含有するピペリジン化合物としては特開
昭４９−２１３８９号、特開昭５２−７１４８６号、特
開昭５２−７３８８６号、特開昭５３−９７８２号、特
開昭５３−６７７４９号、特開昭５４−１０６４８３号
、特開昭５４−１２６２４９号、特開昭５５−９８１８
０号、特開昭５５−１０２６３７号、特開昭５５−１０
４２７９号、特開昭５６−４６３９号及び特開昭５６−
３０９７４号の各公報に種々の化合物が提案されている
。Examples of piperidine compounds containing a triazine ring include JP-A-49-21389, JP-A-52-71486, JP-A-52-73886, JP-A-53-9782, JP-A-53-67749, 1987-106483, JP-A-54-126249, JP-A-55-9818
No. 0, JP-A-55-102637, JP-A-55-10
No. 4279, JP-A-56-4639 and JP-A-56-
Various compounds are proposed in each publication of No. 30974.

これら公報記載の化合物において、特開昭５２−７１４
８６号公報に記載された化合物に代表される、ジアミン
又はグリコールで２個以上のトリアジン環を縮合させた
化合物が耐熱性、耐抽出性等が比較的優れている。In the compounds described in these publications, JP-A-52-714
Compounds in which two or more triazine rings are condensed with diamine or glycol, such as the compound described in Japanese Patent No. 86, are relatively excellent in heat resistance, extraction resistance, and the like.

しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱性、耐抽
出性及び光安定化能は未だ満足し得るものではなく、さ
らに優れた光安定剤の開発が要望されていた。However, even with these compounds, their heat resistance, extraction resistance, and photostabilizing ability are still unsatisfactory, and there has been a demand for the development of even better photostabilizers.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、エーテル結合を有するジアミンを結合基として用い
た次の一般式（１）で表される化高分子材料用の安定剤
として極めて有用であることを知見した。In view of the current situation, the present inventors have conducted intensive studies and found that the present inventors have found that diamine having an ether bond can be used as a stabilizer for polymer materials represented by the following general formula (1) as a bonding group. We found this to be useful.

７゛。7゛.

（式中、Ｘ、及びｋはそれぞれ−Ｎ 〜 ）゛ はそれぞれ−Ｎ　　を示し、Ｒ１は水素原子、アルル結
合を有するアルキレン基を示し、Ｒ３、へ、Ｒ５及びＲ
６はそれぞれ水素原子、アルキル基、アリー或いはＲ５
と階は互いに結合して窒素原子とともに５〜７員環を形
成しても良＜、幻は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アシル基又はオキシルを示す。また、Ｒ１、陥、−
１Ｒ５及びＲ６の少なくと５０を示す。） 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料１００重量部に、上記一般式（Ｉ）で表される化合物
０．００１〜５重量部を添加してなる、安定化高分子材
料組成物を提供するものである。(wherein,
6 is each a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or R5
and may be combined with each other to form a 5- to 7-membered ring with a nitrogen atom, and phantom represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an acyl group, or an oxyl group. Also, R1, fall, -
Shows at least 50 of 1R5 and R6. ) The present invention was made based on the above findings, and provides a stabilized polymer obtained by adding 0.001 to 5 parts by weight of the compound represented by the general formula (I) to 100 parts by weight of the polymer material. A material composition is provided.

以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。The polymer material composition of the present invention will be explained in detail below.

本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
において、Ｒ２で表されるエーテル結合を有するアルキ
レン基としては、例えば、−（ＣＨ２）　３−０−（Ｃ
）！２　）　３−・−（Ｃ）ｌｚ　）　３−０−ＣＨ２
ＣＨ２−０−（ＣＨ２）　３−１Ｈ３ 等のエーテル結合を１〜約４０個有するアルキレン基が
あげられる。In the compound represented by the general formula (I) used in the present invention, the alkylene group having an ether bond represented by R2 is, for example, -(CH2) 3-0-(C
)! 2) 3-・-(C)lz) 3-0-CH2
Examples include alkylene groups having 1 to about 40 ether bonds, such as CH2-0-(CH2) 3-1H3.

Ｒ１，Ｒ３、胸、Ｒ５及びＲ６で表されるアルキル基と
しては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、ヘキシル、シ
クロヘキシル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘ
キシル、第３オクチル、デシル、ドデシル、ブトラブシ
ル、オクタデシル、２−ヒドロキシエチル、メトキシエ
チル、ブトキシエチル、ジメチルアミノプロピル等があ
げられる。Examples of the alkyl group represented by R1, R3, R5, and R6 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, isooctyl, 2-ethylhexyl, tertiary Examples include octyl, decyl, dodecyl, butrabutyl, octadecyl, 2-hydroxyethyl, methoxyethyl, butoxyethyl, dimethylaminopropyl, and the like.

Ｒ３、〜、Ｒ５及、びＲ６で表されるアリール基として
は、例えば、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル、
第３ブチルフエニル、オクチルフェニル、２．４−ジー
第３ブチルフエニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニ
ル等があげられる。Examples of the aryl group represented by R3, ~, R5, and R6 include phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl,
Examples include tert-butylphenyl, octylphenyl, 2,4-di-tert-butylphenyl, nonylphenyl, dinonylphenyl, and the like.

また、Ｒ３と勧或いはＲ５とＲ６が互いに結合して窒素
原子とともに環を形成する場合は、例えば、ピロリジノ
、ピペリジノ、モルホリノ、メチルピペラジノ、メチル
ホモピペラジノ等があげられる。Further, when R3 and R5 or R5 and R6 are bonded to each other to form a ring with a nitrogen atom, examples thereof include pyrrolidino, piperidino, morpholino, methylpiperazino, methylhomopiperazino, and the like.

また、階で表されるアルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、アミル
、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル
、ノニル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベンジル
、フェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、２−ヒドロキシブチル、２．３−エポキ
シプロビル等があげられ、アルケニル基としてはアリル
等があげられ、アシル基としては、例えば、アセチル、
クリロイル、オクタノイル、ベンツ゛イル等カベあレゾ
られる。In addition, examples of the alkyl group represented by the floor include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, amyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, benzyl, phenylethyl, Examples of the alkenyl group include allyl, and examples of the acyl group include acetyl,
Kryloyl, octanoyl, benzyl, etc. can be used.

本発明で用いられる前記一般式（１）で表される化合物
の代表例を次の表−１に示す。Representative examples of the compound represented by the general formula (1) used in the present invention are shown in Table 1 below.

表−１ Ｎ１１３ 隘７ １１ａ１０ Ｈ３ ■ １ｈ１２ ｔｋ１３ ｔｌｈ１４ 本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
は、例えば、塩化シアヌルとテトラメチルピペリジルア
ミン類及び／又は他のアミン類とを反応させた後、これ
とエーテル結合を有するジアミンとを反応させることに
よって容易に製造し得る。また、塩化シアヌルと、エー
テル結合を有するジアミンとを反応させた後、これとテ
トラメチルピペリジルアミン類及び／又は他のアミン類
とを反応させることによっても容易に製造し得る。Table-1 N113 隘7 11a10 H3 ■ 1h12 tk13 tlh14 The compound represented by the general formula (I) used in the present invention can be obtained by, for example, reacting cyanuric chloride with tetramethylpiperidylamines and/or other amines. After that, it can be easily produced by reacting this with a diamine having an ether bond. It can also be easily produced by reacting cyanuric chloride with a diamine having an ether bond, and then reacting this with tetramethylpiperidylamines and/or other amines.

以下に本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される
化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は以下の合成例によって制限を受けるもので
はない。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail by showing synthesis examples of the compound represented by the general formula (I) used in the present invention, but the present invention is not limited by the following synthesis examples.

合成例１　（表−１の隘１化合物の合成）２．４−ビス
ＣＮ　−（２’、２’、６”、６′−テトラメチル−４
゛−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミノコ−６−クロロ
トリアジン５．７ｇ及び１．３−ビス（３−アミノプロ
ポキシ）−２，２−ジメチルプロパン１．０９ｇをキシ
レン２０ｍ１に溶解シ、これに粉末水酸化ナトリウム０
．４　ｇを加え、還流下に８時間加熱攪拌した。Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound 1 in Table 1) 2.4-bisCN-(2',2',6'',6'-tetramethyl-4
Dissolve 5.7 g of ゛-piperidinyl)-n-butylaminoco-6-chlorotriazine and 1.09 g of 1,3-bis(3-aminopropoxy)-2,2-dimethylpropane in 20 ml of xylene, and add powdered hydroxide to this. Sodium 0
．． 4 g was added thereto, and the mixture was heated and stirred under reflux for 8 hours.

冷却後トルエンを加え、水洗、乾燥後減圧下に脱溶媒し
、淡黄色ガラス状固体の生成物（目的物）を得た。After cooling, toluene was added, washed with water, dried, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain a pale yellow glassy solid product (target product).

合成例２（表−１の阻７化合物の合成）２．４−ビス［
Ｎ−（１’−アセチル−２’、２’、６’、６−テトラ
メチル−４１−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミノコ−
６−クロロトリアジン６．２０ｇ及び１゜２−ビス−（
３−アミノプロポキシ）−エタン０、８８　ｇをキシレ
ン２０Ｉｌｌｌに溶解し、これに粉末水酸化ナトリウム
０．４ｇを加え、還流下に１０時間加熱攪拌した。Synthesis Example 2 (Synthesis of compound 7 in Table 1) 2.4-bis[
N-(1'-acetyl-2',2',6',6-tetramethyl-41-piperidinyl)-n-butylaminoco-
6.20 g of 6-chlorotriazine and 1°2-bis-(
0.88 g of 3-aminopropoxy)-ethane was dissolved in 20 Ill. of xylene, 0.4 g of powdered sodium hydroxide was added thereto, and the mixture was heated and stirred under reflux for 10 hours.

冷却後トルエンを加え、水洗、乾燥後減圧下に脱溶媒し
、淡黄色ガラス状固体の生成物（目的物）を得た。After cooling, toluene was added, washed with water, dried, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain a pale yellow glassy solid product (target product).

・き成例３（表−１の嵐１３化合物の合成）２．４−ビ
ス〔Ｎ−１”、２°、２’、６°、６°−ペンタメチル
−４゛−ピペリジニル）　−ｎ−ブチルアミノコ−６−
クロロトリアジン４．５　ｇ　、　Ｈ２Ｎ−（ＣＨ２）
　３−（０−（ＣＨ２）　４　）ｎ−０−（ＣＨ２）　
３−Ｎｌ２で表されるポリエーテルジアミン（分子量約
７５０、ｎ＝８〜９）３．０ｇ、粉末水酸化ナトリウム
０．５ｇ及びキシレン４．０ｇをとり、窒素気流下、還
流温度で６時間冷却後トルエンを加え、不溶物を濾別し
た後、減圧下に脱溶媒し、粘稠液体の生成物（目的物）
を得た。・Synthesis Example 3 (Synthesis of Arashi 13 compounds in Table 1) 2.4-bis[N-1", 2°, 2', 6°, 6°-pentamethyl-4'-piperidinyl) -n-butylaminoco -6-
4.5 g of chlorotriazine, H2N-(CH2)
3-(0-(CH2) 4 )n-0-(CH2)
Take 3.0 g of polyether diamine represented by 3-Nl2 (molecular weight approximately 750, n = 8 to 9), 0.5 g of powdered sodium hydroxide, and 4.0 g of xylene, and cool at reflux temperature for 6 hours under a nitrogen stream. After that, toluene was added, insoluble matter was filtered out, and the solvent was removed under reduced pressure to obtain a viscous liquid product (target product).
I got it.

本発明は、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を高分子
材料に添加して特にその耐光性を改善するものであり、
その添加量は、通常、高分子材料１００重量部に対し０
．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜３重量部で
ある。The present invention particularly improves the light resistance of a polymeric material by adding the compound represented by the general formula (I) to the polymeric material.
The amount added is usually 0 to 100 parts by weight of the polymer material.
．． 0.01 to 5 parts by weight, preferably 0.01 to 3 parts by weight.

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ボリフフ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−エチレン共重合体、Ｘ１ｌｚｌしＬ−−
−ｎ、　　　□ｙ＋し１１＋、５ｔ−ｕ−ａｅＡ１４ｐ
　　　　ＪＪｗルし”　　＋　　Ｉ＋、□スチレン共重
合体、塩化ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無
水マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重
合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−
塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸
エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共
重合体、塩化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、
塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポ
リ塩化ビニル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマ
ロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹
脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイン酸、ブ
タジェン、アクリロニトリル等）との共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル
酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリメ
チルメタクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチ
ラール、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、
ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリ
ウレタン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリ
ア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更
に、イソプレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリ
ル−ブタジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重
合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であって
もよい。Examples of polymeric materials whose stability is to be improved in the present invention include α-olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and poly-3-methylbutene, ethylene-vinyl acetate copolymers, and ethylene-propylene copolymers. Polyolefins such as polymers and their copolymers, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinyldene fluoride, brominated polyethylene, chlorinated rubber, vinyl chloride Vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer,
-n, □y+shi11+, 5t-u-aeA14p
JJw Rushi” + I+, □Styrene copolymer, vinyl chloride-isobutylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-styrene-maleic anhydride ternary copolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile Copolymer, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-isoprene copolymer, vinyl chloride-
Chlorinated propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate terpolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride-maleic acid ester copolymer, vinyl chloride-methacrylic acid ester copolymer ,
Vinyl chloride-acrylonitrile copolymers, halogen-containing synthetic resins such as internally plasticized polyvinyl chloride, petroleum resins, coumaron resins, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resins, styrene and other monomers (e.g. maleic anhydride, butadiene) , acrylonitrile, etc.), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers, acrylic ester-butadiene-styrene copolymers, methacrylic ester-butadiene-styrene copolymers, methacrylate resins such as polymethyl methacrylate, polyvinyl Alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, linear polyester, polyphenylene oxide,
Examples include polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyurethane, cellulose resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. Furthermore, rubbers such as isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and blends of these resins may also be used.

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。Also included are crosslinked polymers such as crosslinked polyethylene crosslinked with peroxide or radiation, and foamed polymers such as expanded polystyrene foamed with a foaming agent.

本発明の組成物に更にフェノール系の抗酸化剤を添加す
ることによってその酸化安定性を一層改善することがで
きる。このフェノール系抗酸化剤としては、例えば、２
．６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−ジフ
ェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル−（３
，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリ
コレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステア
リル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、２．４．６−トリス　（３’　、５’
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ）１．
３．５．−トリアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ
−３−メチル−５−第３ブチル）ベンジルマロネート、
２．２°−／チレンビス（４−メチル−６−第３ブチル
フエノール）、４．４’−メチレンビス（２，６−ジー
第３ブチルフエノール）、２．２°−メチレンビス（６
−（１−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビ
ス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフ
エニル）ブチリックアシドコグリコールエステル、４．
４’−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾー
ル）、２，２゜−エチリデンビス（４，６−ジー第３プ
チルフエプチルー６−第３ブチルフエノール）、１．１
゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３
ブチルフエニル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−
メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−
メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３．
５−トリス（２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−４−
第３ブチル）ベンジルイソシアヌレート、１．３．５−
）リス（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−２，４，６−）リスチルベンゼン、テトラキス
〔メチレン−３−（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネートコメタン、１．３．５
−）リス　（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１゜３．５−）リスＣ（
３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、２−オク
チルチオ−４゜６−ジ（４−ヒドロキシ−３，５−ジー
第３ブチル）フェノキシ−１，３，５−１−リアジン、
４゜Ａ′−手ナビス（６−慎３プ千ルーｍ−タレゾール
）等があげられる。By further adding a phenolic antioxidant to the composition of the present invention, its oxidative stability can be further improved. As this phenolic antioxidant, for example, 2
．． 6-di-tert-butyl-p-cresol, 2,6-diphenyl-4-octoxyphenol, stearyl-(3
, 5-di-methyl-4-hydroxybenzyl)thioglycolate, stearyl-β-(4-hydroxy-3,5
-di-tert-butyl phenyl) propionate, distearyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate, 2.4.6-tris (3', 5'
-tert-butyl-4-hydroxybenzylthio)1.
3.5. - triazine, distearyl (4-hydroxy-3-methyl-5-tert-butyl)benzylmalonate,
2.2°-/ethylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 4.4'-methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol), 2.2°-methylenebis(6-tert-butylphenol)
-(1-methylcyclohexyl)p-cresol], bis[3,5-bis(4-hydroxy-3-tert-butylphenyl)butyric acidocoglycol ester, 4.
4'-Butylidenebis (6-tert-butyl-m-cresol), 2,2°-ethylidenebis (4,6-di-tert-butylphepty-6-tert-butylphenol), 1.1
゜3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tertiary
butylphenyl)butane, bis[2-tert-butyl-4-
Methyl-6-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-
Methylbenzyl)phenyl]terephthalate, 1,3.
5-Tris(2,6-dimethyl-3-hydroxy-4-
tertiary butyl) benzyl isocyanurate, 1.3.5-
) Lis(3゜5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl)-2,4,6-) listylbenzene, Tetrakis [methylene-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) Comethane propionate, 1.3.5
-) Lis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 1°3.5-) Lis C (
3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxyethyl]isocyanurate, 2-octylthio-4°6-di(4-hydroxy-3,5-di-tert-butyl)phenoxy-1,3, 5-1-riazine,
Examples include 4°A'-te nabis (6-shin 3pu 1000 m-talezor).

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。It is also possible to further add a sulfur-based antioxidant to the composition of the present invention to improve its oxidative stability.

この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロビオ
ネート）があげられる。Examples of the sulfur-based antioxidant include dilauryl,
Dialkyl thiodipropionates such as similystyl, distearyl, and butyl, octyl, lauryl
, alkylthiopropionic acid polyhydric alcohols such as stearyl (e.g. glycerin, trimethylolethane,
trimethylolpropane, pentaerythritol, trishydroxyethyl isocyanurate) (for example, pentaerythritol tetralauryl thioprobionate).

本発明の組成物に更にホスファイト等の含リン化合物を
添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改善
することができる。この含リン化合物としては、例えば
、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイ
ト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホ
スファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエニル
）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（
ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−
）リス（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（０１２〜１
５混合アルキル）−４，４′−イソプロピリデンジフェ
ニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’
−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノ
ール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（
モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水素化−
４，４°−イソプロピリデンジフェノールポリホスファ
イト、ビス（オクチルフェニル）・ビス（４，４’−ブ
チリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノール
）〕　・１゜６−ヘキサンジオールジホスファイト、フ
ェニル・４．４゛−イソプロピリデンジフェノール・ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２゜４−ジ
ー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジー第３ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
（４，４’−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフ
エノール）〕ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホ
スファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、トリス（１，３−ジ−ステアロイル
オキシイソプロピル）ホスファイト、４．４°−イソプ
ロピリデンビス（２−第３ブチルフエノール）・ジ（ノ
ニルフェニル）ホスファイト、９、１０−ジ−ハイドロ
−９−オキサ−１０−フォスノアフェナンスレン−１０
−オキサイド、テトラキス（２，４−ジー第３ブチルフ
エニル）−４，４゛−ビフェニレンジホスホナイト等が
あげられる。By further adding a phosphorus-containing compound such as phosphite to the composition of the present invention, its light resistance and heat resistance can be further improved. Examples of the phosphorus-containing compound include trioctyl phosphite, trilauryl phosphite, tridecyl phosphite, octyl-diphenyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, tris (
butoxyethyl) phosphite, tris(nonylphenyl) phosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, tetra(tridecyl)-1,1,3-
) Lis(2-methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)butane diphosphite, tetra(012-1
5 mixed alkyl)-4,4'-isopropylidene diphenyl diphosphite, tetra(tridecyl)-4,4'
-butylidene bis(3-methyl-6-tert-butylphenol) diphosphite, tris(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) phosphite, tris(
Mono/dimixed nonylphenyl) phosphite, hydrogenated-
4,4°-isopropylidene diphenol polyphosphite, bis(octylphenyl) bis(4,4′-butylidene bis(3-methyl-6-tert-butylphenol)) ・1°6-hexanediol diphosphite , phenyl 4.4゛-isopropylidenediphenol pentaerythritol diphosphite, bis(2゜4-di-tert-butyl phenyl) pentaerythritol diphosphite, bis(2,6-di-tert-butyl-4-methyl phenyl)pentaerythritol diphosphite, tris(4,4'-isopropylidene bis(2-tert-butylphenol))]phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, di(nonylphenyl)pentaerythritol diphosphite, tris(1 , 3-di-stearoyloxyisopropyl) phosphite, 4.4°-isopropylidene bis(2-tert-butylphenol) di(nonylphenyl) phosphite, 9,10-di-hydro-9-oxa-10 -Phosnoaphenanthrene-10
-oxide, tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)-4,4'-biphenylene diphosphonite, and the like.

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。この光安定
剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクト
キシベンゾフェノン、２゜２”−ジ−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン等のヒドロキシベンゾフェノン類、２−（２°
−ヒドロキシ−３゛−ｔ−ブチル−５“−メチルフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２”−ヒ
ドロキシ−３°　、５゛−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
５−クロロベンゾトリア”、／”−）Ｌｌ、２−（２゛
−ヒドロキシ−５゛−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３°　５゛−ジ−ｔ−
アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリア
ゾール類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−プチルフェ
ニルサリシレート、２．４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−
３，５−ジ−ｔ−フチルー４−ヒドロキシベンゾエート
、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート等のベンゾエート類、２．２゛−チオ
ビス（４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩、〔２，２
°−チオビス（４−１−オクチルフェノニー［旭”ｌ　
　　−％−イエ１嘗ツマ？ソＭＬ　　（Ｊ　　　Ｆｌ−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸
モノエチルエステルＮｉ塩等のニッケル化合物類、α−
シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェニル）ア
クリル類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２
−エチルフェニル−Ｎ’　−２−エトキシ−５−第３ブ
チルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフェニ
ル−Ｎ’−２−エトキシフェニルシュウ酸ジアミド等の
シュウ酸ジアニリド類があげられる。By adding other light stabilizers to the compositions of the invention, their lightfastness can be further improved. Examples of the light stabilizer include 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2゜2''-di-hydroxy-4-
Hydroxybenzophenones such as methoxybenzophenone and 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-(2°
-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-t-butylphenyl)-
5-chlorobenzotria", /"-)Ll, 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3° 5'-di-t-
benzotriazoles such as amyl phenyl) benzotriazole, phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-
Benzoates such as 3,5-di-t-phthyl-4-hydroxybenzoate and hexadecyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2.2'-thiobis(4-t-octylphenol) Ni salt , [2,2
°-thiobis(4-1-octylphenonye [Asahi”l
-%-1 hour of house? SOML (J Fl-
Nickel compounds such as di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)phosphonic acid monoethyl ester Ni salt, α-
Substituted acrylonitriles such as methyl cyano-β-methyl-β-(p-methoxyphenyl)acrylics and N-2
-Ethylphenyl-N'-2-ethoxy-5-tert-butylphenyl oxalic acid diamide, N-2-ethylphenyl-N'-2-ethoxyphenyl oxalic acid diamide, and other oxalic acid dianilides.

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain a heavy metal deactivator, a nucleating agent, a metal soap, an organic tin compound, a plasticizer, an epoxy compound, a pigment, a filler, a blowing agent, an antistatic agent, and a flame retardant. , lubricants, processing aids, and the like.

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種
成型品として使用でき、また、塗料、ラフカー用結合剤
、接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用い
ることができる。The polymeric materials stabilized according to the invention can be used in a wide variety of forms, for example as films, fibers, tapes, sheets, various molded products, and also as paints, rough car binders, adhesives, putties and photographic materials. It can also be used as a base material.

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。Next, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。However, the present invention is not limited to these examples.

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　　重量部プロピオネ
ート 安定剤（表−２参照）０．３ 上記配合にて厚さ０．３　ｍｍのプレスシートを作成し
、このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性
試験を行った。また、８０℃の熱水に１５時間浸漬後の
シートについても耐光性試験を行った。その結果を表−
２に示す。Example 1 Composition> Polypropylene 100 parts by weight Propionate stabilizer (see Table 2) 0.3 A press sheet with a thickness of 0.3 mm was prepared using the above formulation, and this sheet was tested using a high-pressure mercury lamp. A light resistance test was conducted. Further, a light resistance test was also conducted on the sheet after being immersed in hot water at 80° C. for 15 hours. Table the results.
Shown in 2.

表−２ 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。Table 2 Example 2 It is known that ordinary stabilizers lose their effectiveness significantly due to volatilization, decomposition, etc. during high-temperature processing of resins.

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。In this example, the influence of high temperature processing was confirmed by repeatedly performing extrusion processing.

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成した（シリンダ一
温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５０℃、
回転数２Ｏｒｐｍ）、押し出しを５回繰り返し行った後
このコンバンドを用いて試験片を射出成形機で作成した
（シリンダ一温度２４０℃、ノズル温度２５０℃、射出
圧４７５Ｋｇ１０Ｊ）。After mixing the resin and additives in a mixer for 5 minutes according to the following formulation, a combination was created using an extruder (cylinder temperature 230°C, 240°C, head die temperature 250°C,
After repeating extrusion five times at a rotational speed of 2 Orpm), a test piece was made using this combination using an injection molding machine (cylinder temperature 240°C, nozzle temperature 250°C, injection pressure 475Kg10J).

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回のものについても同様に試
験した。その結果を表−３に示す。A light resistance test was conducted using the obtained test piece using a high-pressure mercury lamp. In addition, the same test was conducted for a sample that had been extruded once. The results are shown in Table-3.

く配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂１００　重量部ステア
リン酸カルシウム　　　　　　０．２ジラウリルチオジ
プロピオネート　　０．２安定剤（表−３参照）０．２ 表−３ 実施例３ 〈配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　重量部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　　１．０ジステアリルチ
オジプロピオネート０．３安定剤（表−４参照）０．２ 上記配合物を混線後プレスして厚さ０．５ｍｍのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−４に示す。Blend> Ethylene-propylene copolymer resin 100 Part by weight Calcium stearate 0.2 Dilauryl thiodipropionate 0.2 Stabilizer (see Table 3) 0.2 Table 3 Example 3 <Blend> Polyethylene 100 Weight part Ca-
Stearate: 1.0 Distearyl thiodipropionate: 0.3 Stabilizer (see Table 4): 0.2 The above blend was cross-wired and then pressed to form a sheet with a thickness of 0.5 mm. Using this sheet, the light resistance was measured in a weather oven, and the time until it became brittle was measured. The results are shown in Table 4.

表−４ 実施例４ く配　合〉 エチレン−酢酸ビニル コポリマー　　　　　１００重量部 Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　０．　ｌＺｎ
−ステアレート　　　　　　　　　　０．１ジイソデシ
ルフエニルホスフアイト　０．２安定剤（表−５参照）
０．２ 上記配合物を混練ロール上１３０℃で混線後、１４０℃
でプレスシート（厚さ０．４ｍｍ）を作成した。このシ
ートを用いてウエザオフ−ター中で５００時間照射後の
抗張力残率を測定した。その結果を表−５に示す。Table 4 Example 4 Blend> Ethylene-vinyl acetate copolymer 100 parts by weight Ca-stearate 0. lZn
- Stearate 0.1 Diisodecyl phenyl phosphite 0.2 Stabilizer (see Table 5)
0.2 The above mixture was mixed on a kneading roll at 130°C, and then heated at 140°C.
A press sheet (thickness: 0.4 mm) was prepared. Using this sheet, the residual tensile strength after 500 hours of irradiation in a weather heater was measured. The results are shown in Table-5.

表−５ 実施例５ く配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重量部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　４８エポキシ化大豆油　　　
　　　　　　２トリスノニルフエニルホスフアイト　０
．２Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　１．０Ｚ
ｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定剤（
表−６参照）０．２ 上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さ１ｍｍのシー
トを作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中
での耐光性試験を行った。そめ結果を表−６に示す。Table 5 Example 5 Blend> Polyvinyl chloride 100 parts by weight Dioctyl phthalate 48 Epoxidized soybean oil
2 Trisnonylphenyl phosphite 0
．． 2Ca-stearate 1.0Z
n-stearate 0.1 stabilizer (
(See Table 6) 0.2 The above blend was kneaded on a kneading roll to create a sheet with a thickness of 1 mm. A light resistance test in a weather offter was conducted using this sheet. The results are shown in Table 6.

表−６ 実施例６ 〈配　合〉 ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００　　重量部上記配
合物をロール練り後プレスして厚さ３ＬＩＩＩ１１のシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメーター
で８００時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果
を表−７に示す。Table 6 Example 6 <Blend> ABS resin 100 parts by weight The above blend was kneaded with rolls and then pressed to create a sheet with a thickness of 3LIII11. Using this sheet, the residual tensile strength after 800 hours of irradiation was measured using a weatherometer. The results are shown in Table-7.

表−７ 実施例７ 〈配　合〉 Ｂａ−ステアレート０．７ Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　０．３２．６−
ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール０．１安定剤（表−８
参照）０．３ 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５ｍｍのシートを作成し
た。このシートを用いてフェードメーターにて５０時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−８に示す
。Table 7 Example 7 <Blend> Ba-stearate 0.7 Zn-stearate 0.32.6-
Di-tert-butyl-p-cresol 0.1 stabilizer (Table 8
Reference) 0.3 The above blend was kneaded on a roll for 5 minutes at 70°C,
A sheet with a thickness of 0.5 mm was prepared by pressing at ℃ for 5 minutes. Using this sheet, the residual elongation rate after 50 hours of irradiation was measured using a fade meter. The results are shown in Table-8.

表−８ 実施例８ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
。本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトンプコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。Table 8 Example 8 The compounds of the present invention are also useful as light stabilizers for paints. In this example, the effect of a two-layer metallic luster paint consisting of a base coat containing a metal pigment and a transparent tomp coat was examined.

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル６
６ｇ１メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０ｇ、メ
タクリル酸４ｇ５キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２
０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル２ｇ・ドデシルメルカプタン０．５ｇ、
キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからなる溶液
を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌し、樹
脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。a) Base coat paint methyl methacrylate 100g, n-butyl acrylate 6
6g1 2-hydroxyethyl methacrylate 30g, methacrylic acid 4g5 xylene 80g and n-butanol 2
Take 0g and heat to 110℃ while stirring, add 2g of azobisisobutyronitrile and 0.5g of dodecylmercaptan,
A solution consisting of 80 g of xylene and 20 g of n-butanol was added dropwise over 3 hours. Thereafter, the mixture was stirred at the same temperature for 2 hours to prepare an acrylic resin solution with a resin solid content of 50%.

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０ＳＥ６０ｉ樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸洋アルミニウム社製；アル
ペースト１１２３Ｎ）５．５重量部、キシレン１０重量
部、酢酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー
０．２重量部をとりベースコート塗料とした。12 parts by weight of the above acrylic resin solution, 2.5 parts by weight of butoxylated methylolmelamine (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.; Kneepan 20SE60i resin solid content 60%), cellulose acetate butyrate resin (20% acetic acid manufactured by Aluminum Co., Ltd.; Alpaste 1123N) ), 10 parts by weight of xylene, 20 parts by weight of butyl acetate, and 0.2 parts by weight of copper phthalocyanine blue were used as a base coat paint.

ｂ））ツブコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン１０重量部、キシレン１０重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部及び安定剤（表−９参照）
０．１５重量部（固形分に対し０．５％）をとり、トッ
プコート塗料とした。b)) Tubu coat paint 48 parts by weight of the above acrylic resin solution, 10 parts by weight of butoxylated methylolmelamine, 10 parts by weight of xylene, 4 parts by weight of butyl glycol acetate, and stabilizer (see Table 9)
0.15 parts by weight (0.5% based on solid content) was taken and used as a top coat paint.

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放放置後ッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。A base coat paint was sprayed onto the primer-treated steel plate to give a dry film thickness of 20 μm, and after being left to stand for 10 minutes, a top coat paint was sprayed to a dry film thickness of 30 μm. After leaving it for 15 minutes, it was baked at 140° C. for 30 minutes to obtain a test piece.

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−９に示す。The above sample was placed in a weatherometer and the time until cracking of the coating film appeared was measured. The results are shown in Table-9.

表−９Table-9

Claims (1)

【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、次の一般式（ I ）で表さ
れる化合物０．００１〜５重量部を添加してなる、安定
化高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘ＿１及びＸ＿２はそれぞれ▲数式、化学式、
表等があります▼▲数式、化学式、表等があります▼又
は塩素原子を示し、Ｙ＿１及びＹ＿２はそれぞれ▲数式
、化学式、表等があります▼を示し、Ｒ＿１は水素原子
、アルキル基又は▲数式、化学式、表等があります▼を
示し、Ｒ＿２はエーテル結合を有するアルキレン基を示
し、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５及びＲ＿６はそれぞれ水素
原子、アルキル基、アリール基又は▲数式、化学式、表
等があります▼を示し、またＲ＿３とＲ＿４或いはＲ＿
５とＲ＿６は互いに結合して窒素原子とともに５〜７員
環を形成しても良く、Ｒ＿７は水素原子、アルキル基、
アルケニル基、アシル基又はオキシルを示す。また、Ｒ
＿１、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５及びＲ＿６の少なくとも
一つは▲数式、化学式、表等があります▼を示す。ｎは
１〜５０を示す。）[Scope of Claim] A stabilized polymeric material composition comprising 0.001 to 5 parts by weight of a compound represented by the following general formula (I) added to 100 parts by weight of a polymeric material. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, X_1 and X_2 are ▲mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or chlorine atom, Y_1 and Y_2 each represent ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, and R_1 is a hydrogen atom, an alkyl group, or ▲ a mathematical formula, There are chemical formulas, tables, etc. ▼, R_2 represents an alkylene group with an ether bond, R_3, R_4, R_5 and R_6 are each a hydrogen atom, alkyl group, aryl group, or ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and R_3 and R_4 or R_
5 and R_6 may combine with each other to form a 5- to 7-membered ring with a nitrogen atom, and R_7 is a hydrogen atom, an alkyl group,
Indicates an alkenyl group, an acyl group, or an oxyl group. Also, R
At least one of _1, R_3, R_4, R_5, and R_6 indicates ▲There is a mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼. n represents 1 to 50. )