JPS61176618A - 光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法 - Google Patents
光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法Info
- Publication number
- JPS61176618A JPS61176618A JP60016607A JP1660785A JPS61176618A JP S61176618 A JPS61176618 A JP S61176618A JP 60016607 A JP60016607 A JP 60016607A JP 1660785 A JP1660785 A JP 1660785A JP S61176618 A JPS61176618 A JP S61176618A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- disk substrate
- molding material
- parts
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光で読みだしを行う方式のディスク（ビデオ
ディスク、メモリーディスク、デジタルオーディオディ
スク等）の基板成形材料用樹脂の製造方法に関する。
ディスク、メモリーディスク、デジタルオーディオディ
スク等）の基板成形材料用樹脂の製造方法に関する。
（従来技術）
光ディスクは、記録密度が著しく高く、又、それから再
生される画質、音質が優れることなど多くの特徴を有す
ることから、画像や音声の記録再生、多量の情報の記憶
再生等に広く実用されることが期待されている。
生される画質、音質が優れることなど多くの特徴を有す
ることから、画像や音声の記録再生、多量の情報の記憶
再生等に広く実用されることが期待されている。
メモリーディスクを例にとると、光デイスク基板材料と
しては、無機ガラス、ポリメチルメタアクリレート樹脂
が実用されている。しかし、ディスク材料としての無機
ガラスの場合、透湿性がないために記録層への悪影響は
少ないが、重量が重く、割れやすい。又、ガラスの精密
加工が高価である等の欠点がある。一方、ポリメチルメ
タアクリレート樹脂の場合、ガラスに比べて割れにくい
及び価格が安い等の長所があるが、傷がつき易いことか
ら光学的安定性に欠ける。また、耐熱性が低い、及び吸
湿性が高いことによシディスクがそりやすく、そのそり
のために記録再生光学系における絞り込みレンズの焦点
が合わなくなり、誤動作が起こるという致命的欠陥を有
しており、かかる欠点の改良が強く望まれている。
しては、無機ガラス、ポリメチルメタアクリレート樹脂
が実用されている。しかし、ディスク材料としての無機
ガラスの場合、透湿性がないために記録層への悪影響は
少ないが、重量が重く、割れやすい。又、ガラスの精密
加工が高価である等の欠点がある。一方、ポリメチルメ
タアクリレート樹脂の場合、ガラスに比べて割れにくい
及び価格が安い等の長所があるが、傷がつき易いことか
ら光学的安定性に欠ける。また、耐熱性が低い、及び吸
湿性が高いことによシディスクがそりやすく、そのそり
のために記録再生光学系における絞り込みレンズの焦点
が合わなくなり、誤動作が起こるという致命的欠陥を有
しており、かかる欠点の改良が強く望まれている。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、前記した状況に鑑み、高耐熱性、高硬度、低
吸水性を有するディスク成形材料を提供することにある
。
吸水性を有するディスク成形材料を提供することにある
。
（問題点を解決する具体的手段）
本発明は一般式（１）
〔式中、ＲはＨまたは山である。〕
で表わされる化合物をラジカル重合することを特徴とす
る光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法を提供する
ものである。
る光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法を提供する
ものである。
光デイスク基板用樹脂は前記一般式（Ｄで表わされるア
クリル系化合物を、一般的に用いられるラジカル重合法
と同様にして硬化させることにより得ることができる。
クリル系化合物を、一般的に用いられるラジカル重合法
と同様にして硬化させることにより得ることができる。
例えば、このアクリル系化合物に有機過酸化物、アゾ化
合物等のラジカル開始剤を配合し、加熱硬化する方法及
び光増感剤を配合し、紫外線、電子線、放射線等を照射
し硬化する方法等によりラジカル重合することができる
。
合物等のラジカル開始剤を配合し、加熱硬化する方法及
び光増感剤を配合し、紫外線、電子線、放射線等を照射
し硬化する方法等によりラジカル重合することができる
。
又、その際に使用されるラジカル開始剤は特に限定され
ず、例えば過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキ
サイド、ターシャリープチルノく−オキシピバレート、
ラウロイルパーオキサイド等有機過酸化物、アゾイソブ
チロニトリル等アゾ化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンジル、アセトフェノン、アント
ラキノン等光増感剤、ジフェニルスルフイツト、チオカ
ーバメート等硫黄化合物などラジカル開始剤が使用でき
る。ラジカル開始剤の使用量は前記一般式で表わされる
アクリル系化合物１００部に対して０．０１〜２０部、
更に好ましくは０．０１〜１０部の範囲である。
ず、例えば過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキ
サイド、ターシャリープチルノく−オキシピバレート、
ラウロイルパーオキサイド等有機過酸化物、アゾイソブ
チロニトリル等アゾ化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンジル、アセトフェノン、アント
ラキノン等光増感剤、ジフェニルスルフイツト、チオカ
ーバメート等硫黄化合物などラジカル開始剤が使用でき
る。ラジカル開始剤の使用量は前記一般式で表わされる
アクリル系化合物１００部に対して０．０１〜２０部、
更に好ましくは０．０１〜１０部の範囲である。
更に、前記一般式（Ｉ）で表わされるアクリル系化合物
に加えて、公知のディスク成形材料として用いられるラ
ジカル重合性モノマー、具体的にはジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、シフ１Ｊルフタレート、４
．４’−ビス（β−メタアクロイルエトキシ）ジフェニ
ルプロパン等を本発明の優れた特性を低下させない範囲
で併用することも可能である。
に加えて、公知のディスク成形材料として用いられるラ
ジカル重合性モノマー、具体的にはジエチレングリコー
ルビスアリルカーボネート、シフ１Ｊルフタレート、４
．４’−ビス（β−メタアクロイルエトキシ）ジフェニ
ルプロパン等を本発明の優れた特性を低下させない範囲
で併用することも可能である。
本発明のラジカル重合反応は、大気中、１０〜１５０℃
の温度で行うのが好ましい。
の温度で行うのが好ましい。
このようにして得た樹脂は、光透過率が８５％以上で、
複屈折率がＩ Ｘ １０”−５以下、２００℃以上の耐
熱性、鉛筆硬度が２部以上のものである。
複屈折率がＩ Ｘ １０”−５以下、２００℃以上の耐
熱性、鉛筆硬度が２部以上のものである。
以下、実施例を示す。なお、例中の部は重量部、％は重
量基準である。
量基準である。
又、実施例において得られる諸物性は下記の試験法によ
り測定した。
り測定した。
（１）光透過率二分光光度計にてｓ ｏ ｏ ｎｍの光
透過率を測定。
透過率を測定。
（２）複屈折率：偏光顕微鏡にて測定。
（３）耐熱性： ＡＳＴＭ−Ｄ−６４８に従い熱変形試
験装置にて測定。
験装置にて測定。
（４）硬 度：ＪＩＳ−に−６９１１に従い鉛筆硬度
試験機にて測定。
試験機にて測定。
（５）吸水率： ＪＩ Ｓ−に−６９１１に従い測定。
実施例１
１．４−ビス（メタクロイルオキシメチル）シクロヘキ
サン１００部に対して、ベンゾイルパーオキサイド０．
５部加え、６０℃に加熱し、均一に攪拌混合した後、脱
泡し、この液を直径１２（１ｍのガラス板とシリコーン
ゴムのスペーサーで構成された鋳型の中へ注入し、６０
℃で２４時間、８０℃で２時間、１００℃で２時間保持
して重合を行なった。
サン１００部に対して、ベンゾイルパーオキサイド０．
５部加え、６０℃に加熱し、均一に攪拌混合した後、脱
泡し、この液を直径１２（１ｍのガラス板とシリコーン
ゴムのスペーサーで構成された鋳型の中へ注入し、６０
℃で２４時間、８０℃で２時間、１００℃で２時間保持
して重合を行なった。
鋳型より硬化物を取り出して直径１２０■のディスク基
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。また、硬化物の赤外線吸収スペクトル図を第
１図に示す。
板を得た。そのディスク基板の諸物性の評価結果を表−
１に示す。また、硬化物の赤外線吸収スペクトル図を第
１図に示す。
実施例２
１．４−ビス（アクロイルオキシメチル）シクロヘキサ
ン１００部に対して、ベンゾインエチルエーテル３部加
え、６０℃に加熱し均一に攪拌混合した後、脱泡し、こ
の液をガラス板とシリコーンゴムのスペーサーで構成さ
れた鋳型の中へ注入し、出力８０ Ｗ ／ ｃｍの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。
ン１００部に対して、ベンゾインエチルエーテル３部加
え、６０℃に加熱し均一に攪拌混合した後、脱泡し、こ
の液をガラス板とシリコーンゴムのスペーサーで構成さ
れた鋳型の中へ注入し、出力８０ Ｗ ／ ｃｍの高圧
水銀灯で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。
鋳型より硬化物を取り出し、直径１２０ｆｉのディスク
基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結果を表−
１に示す。
基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結果を表−
１に示す。
比較例１
実施例１の１．４−ビス（メタクロイルオキシメチル）
シクロヘキサンの代りにメチルメタアクリレート１００
部とベンゾイルパーオキサイド０．５部用いて、実施例
１と同様の手法により直径１２０嘗のディスク基板を得
た。そのディスク基板の諸物性評価結果を表−１に示し
た。
シクロヘキサンの代りにメチルメタアクリレート１００
部とベンゾイルパーオキサイド０．５部用いて、実施例
１と同様の手法により直径１２０嘗のディスク基板を得
た。そのディスク基板の諸物性評価結果を表−１に示し
た。
比較例２
比較例１のメチルメタアクリレートの代りに４゜４′−
ビス（β−メタアクロイルオキシエトキシ）ジフェニル
プロパン１００部とベンゾイルパーオキサイド０．５部
用いて、実施例１と同様の手法により直径１２０ｍｍの
ディスク基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結
果を表−１に示した。
ビス（β−メタアクロイルオキシエトキシ）ジフェニル
プロパン１００部とベンゾイルパーオキサイド０．５部
用いて、実施例１と同様の手法により直径１２０ｍｍの
ディスク基板を得た。そのディスク基板の諸物性評価結
果を表−１に示した。
第１図は実施例１で得た硬化物の赤外線吸収スペクトル
図である。
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ＲはＨまたはＣＨ＿３である。〕 で表わされる化合物をラジカル重合することを特徴とす
る光ディスク基板成形材料用樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60016607A JPS61176618A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60016607A JPS61176618A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61176618A true JPS61176618A (ja) | 1986-08-08 |
Family
ID=11920989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60016607A Pending JPS61176618A (ja) | 1985-02-01 | 1985-02-01 | 光デイスク基板成形材料用樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61176618A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014159428A (ja) * | 2006-11-24 | 2014-09-04 | Merck Patent Gmbh | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
-
1985
- 1985-02-01 JP JP60016607A patent/JPS61176618A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014159428A (ja) * | 2006-11-24 | 2014-09-04 | Merck Patent Gmbh | シクロヘキシレン反応性メソゲンおよびそれらの用途 |
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