JPS61167903A - 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、カメラ等の光学系に用いる合成樹脂製光学部
品の表面にコーティングするコーティング方法に関する
。

従来技術 合成樹脂製光学部品の表面コーティング手段としては次
のようなものがある。

（１）　　射出圧縮成形にて成形したポリメチルメタク
リレ−）　（ＰＭＭＡ）を、水を可溶化する溶剤に浸漬
した後ＰＭＭＡ表面層の水分を除去し、フロン系溶剤に
て洗浄した後に熱硬化性Ｓ１系硬化膜を約２＃塗布して
有機ノ・−ドコート膜を形成させる手段。

（２）射出圧縮成形したＰＭＭＡを上記（１）と同様に
洗浄し、しかる後にＭｇＦ、を真空蒸着法にて約０．１
μコーティングする手段。

（３）屹燥ＰＭＭＡ板をチャンバーにセットするととも
にチャンバー内を真空排気し、０．を５　Ｘ　１０−’
Ｔｏｒｒガス圧まで導入してＲＦ　（Ｒａｄｉｏ　Ｆｒ
ｅｑｕｅｎ−ｃｙ）イオンプレーティング（高周波イオ
ンプレーティング）でＲＦｌｌ［カフ０Ｗで放電させ、
バイアス側ＤＣ−５００Ｖで印加してイオンボンバード
処理する。前半ｎｄ　＝　５００　ｎｍはＲＦイオンプ
レーティング中で蒸発速度５０ｎｍ／ｉにて、又、後半
ｎｄ　＝　５００　ｎｍを真空蒸着でベースコートする
。その後、１層目（ＰＭＭＡ側から）として反射防止膜
を真空蒸着の継続でＳｉＯを１２０　ｎｍ／−ｗでｎｄ
＝λ／４（λ＝＝　５００　ｎｍ　）　、第２層目はＲ
ＦイオンプレーティングでＯｌを３　Ｘ　１０”−’　
Ｔ’ｏｒｒ　、　ＲＦ電力５０Ｗ、バイアス側ＤＣ−１
にＶで印加し、１０ｎｍ／ｉでＺｎコートし、ＺｎＯ２
，ｎｄ＝λ／２（λ＝　５００　ｎｍ　）を得、第３層
目は真空蒸着アＳｉＯを５０ｎｍ／ｉでｎｄ＝＝λ／４
（λ＝５００　ｎｍ）　：７一トする手段。

（４）基板ＰＭＭＡ上にＭｇＦ、、　ｎ、１＝λ、／４
（λ、　＝　４００ｎｍ　）を第１層目（基材側から）
にコートシ、第２層目にＳ１０．をｎｄ＝λｔ／８（λ
２＝１６０　ｎｍ　、又、λ、〉λ、）コーティングす
る手段。

しかしながら、上記従来の各手段においては次のような
問題点かあり、合成樹脂製光学部品のコーティング手段
としては満足できるものではなかった。

即ち、合成樹脂光学部品の表面に反射防止膜（λ＝７８
０〜８２０　ｎｍで反射率０．５幅以下）を形成しても
、上記従来手段においては密着性が極めて悪く、そのた
めに環境テストでマイクロクラックが発生し、耐久性が
著しく低下するという問題点がめった。又、かかる問題
点を解決する手段として、合成樹脂製光学部品の表面と
反射防止膜との間にプライマーコートを施す手段がある
が、かかる場合にはプライマーコートの膜厚分だけ厚く
なり、合成樹脂製光学部品の成形形状精度が維持しえな
くなるという大きな問題点があるために採用しえない０ 上記従来技術の問題点を分析してみると、反射防止膜に
関しては、その密着性とマイクロクラック（膜剥離）と
は原因要素としては別扱いできず、（１）合成樹脂製光
学部品表面の物性、（２）コーティング膜自体の物性の
両者の相互関係が起因していると考えられる。即ち、上
記（１）の要因としては、■表面硬度や表面弾性応力及
び合成樹脂製光学部品の分子配向と表面応力の相関関係
による要因、■光学部品表面及び表面層の吸水性による
要因、■低温コーティングなのでアモルファス被膜をも
つ表面層が生成し、その表面層と光学部品表面層のもつ
イオンエネルギーの低さによる結合エネルギーの低下に
よる要因がある。又、上記（２）の要因としては、■低
温コーティングでのアモルファス被膜の成長と、合成樹
脂の線膨張係数及び反射防止膜の差による要因、■低温
コーティングでのアモルファス被膜の原子間の結合力の
低下により、低密度膜成長となる要因がある。

以上の要因により、上記各従来技術においては、合成樹
脂製光学部品とその表面にコーティングされるコーティ
ング膜との密着性が悪く、耐環境テストでマイクロクラ
ック等が発生するという問題が生じていたのである。

発明の目的 本発明線、上記従来技術に鑑みてなされたものであって
、合成樹脂製光学部品の表面に反射防止膜等のコーティ
ングを成形形状精度を維持して、かつ高密着性にて行な
いうるようにした合成樹脂製光学部品のコーティング方
法を提供することを目的とする。

発明の概要 本発明は、合成樹脂製光学部品の表面を洗浄。

前処理した後、引被膜を第１層として被膜形成し、しか
る後に、反射防止膜として５ｉＯ１（ｘは１以上）を被
膜形成するコーティング方法を提供することＫより、上
記本発明の目的を達成しようとするものである。

実　　施　　例 以下、必要に応じて図面を用いつつ本発明の実施例につ
いて詳細に説明する。

＠１図に、本発明に係るコーティング方法の工程のフロ
ーチャートを示すが、以下、この工程図に従い説明する
。

第１工程 まず、合成樹脂製光学部品１の表面を第１洗浄２する。

この第１洗浄２は、第２図にて示すごとく、まず、合成
樹脂製光学部品１の表面に付着した油脂。

ゴミ、水分等をアルカリ又は中性洗剤の入った超音波洗
浄３等にて取り除く。次に、アルカリ又は中性洗剤を水
道水（市水）等の入ったオーバーフロー超音波洗浄で十
分水洗浄４する。そして、水切りをするためにイソプロ
ピルアルコール又はエタノール等溶剤洗浄５を行なう。

この溶剤は、合成樹脂の柿類によっては合成樹脂表面を
溶剤ショック、即ち表面を溶かしたりクラック全発生さ
せたりして劣化させる場合があるので、１５℃以下。

浸漬時間は１分間程度とする。次に、イノプロピルアル
コール又はエチルアルコール等の溶剤をきる。なお、短
時間かつ溶剤の取扱い条件が保持できれば、この浸漬処
理を超音波洗浄をプラスした溶剤洗浄にしてもよい。

次に、第１のフレオン洗浄６を行ない、さらにイソプロ
ピルアルコール等の溶剤を取り除くとと　゛もに、さら
に第２フレオン洗浄７を行って完全にイソプロピルアル
コール等の溶剤を取シ除き、沸点４０〜５０℃のフレオ
ン蒸気洗浄中に持ち込まないようＫする。なお、第１．
第２のフレオン洗浄６．７においては浸漬処理を行なっ
ているが、第１のフレオン洗浄６については、短時間で
イソプロピルアルコール等の溶剤を除去しフレオンの洗
浄効果をくずさないという条件を満せば、超音波洗浄を
含むフレオン洗浄でもよい。

第１．第２のフレオン洗浄６．７が完了したらフレオン
蒸気洗浄８を行ない、合成樹脂製光学部品１を拭き上け
て洗浄完了９する。

なお、第２図忙おいて２ａで示す部分については、（１
）界面活性剤＋フレオンの入った超音波洗浄。

（２）（界面活性剤＋フレオンの入った超音波洗浄）→
（エタノール入９フレオン浸漬又は超音波洗浄）シこ置
換してもよく、特に、水を極力避けるためには有効な洗
浄手段である。

第２工程 第１洗浄２が完了したら、洗浄後の合成樹脂製光学部品
１を乾燥機に入れて６０℃〜７０℃にて３〜５　ＨＲ５
加熱アニール処理１０を行なう。これにより、合成樹脂
製光学部品１表面の溶剤ショック。

成形等の結果として発生し易い表面歪を除去することが
できる。徐冷は、熱盃が生じないように自然冷却を行な
う。

第　３　工程 アニール処理１０が完了したら第１図、第３図に示すご
とく第２洗浄１１を行なう。この第２洗浄１１は、乾燥
機中にて付着する可能性のあるゴミ（ｍ機物）を除去す
るもので、第１のフレオン洗浄１２でフレオンの入った
超音波洗浄を行ない、第２のフレオン洗浄１３でフレオ
ン浸漬洗浄を行ない、フレオン蒸気洗浄１４を経て洗浄
完了１５する。

もし、乾燥機中が清浄の場合にはこの工程は不要となる
。

以上の各工程は、コーティングの前処理工程であシ、上
記前処理工程が完了すると、第１図にて１６で示すコー
ティング加工工程に従いコーティング処理を行なうこと
になる。

第４工程 本工程においては、合成樹脂製光学部品１の表面改質を
行なうものであり、本工程を第１図におけるフローチャ
ート部１７及び第４図にて示すコーティング装置１８を
用いて説明する。

本工程は、真空蒸着チャンバー１９内を１〜２×１０−
’　Ｔｏｒｒ以上の高真空に排気する高真空排気工程部
２０と、ガス導入口２１よりＯ２等を８×１０１〜３Ｘ
　１ｏ−４Ｔｏｒｒ導入するＯ２等の反応ガスを導入す
る工程部２２と、イオンボンバード用電極２３に高間波
を印加してプラズマを発生させるＲＦ又はＡＣプラズマ
発生工程部２４と、プラズマによるプレスパツタで合成
樹脂製光学部品（被コーティング物）表面を物理的衝撃
でたたき、付着水分を除去し、かつ表面改質処理を行な
うプラズマによるプレスバッタ工程部２５とよりなる。

第５図に、射出成形アクリル樹脂表面をＯ！イオンでイ
オンボンバードした後の分光反射率特性のクラフ図を示
す。図中一点鎖線で示すグラフ２６は５分間イオンホン
バードしたものであり、長い破線で示すグラフ２７は３
分間イオンボンバードしたものであシ、又、実線で示す
グラフ２８はイオンボンバードなしの測定結果を示すも
のである。なお、図において横軸は波長（ｎｍ）を、縦
軸は分光反射率（憾）を示すものである。

第５工程 本工程は、合成樹脂製光学部品１基材に第１層としてＳ
Ｌ被被膜真空蒸着でコーティングするものであり、本工
程を第１図におけるフローチャート部２９及び第４図に
て示すコーティング袈ｔｖｔ　１ｏを用いて説明する。

本工程は、第４図（Ｃて示す真空蒸着チャンバー１９内
で合成樹脂製光学部品表面をイオンボンバードした後に
プラズマを止める工程部３０と、導入ガスの０１等封入
をそのままにしてＯ７等の反応性ガスを導入する工程部
３１と、その雰囲気中で電子銃３２で電子銃用ハース３
３にセットしたカーボンライナーに入れだＳｉを溶融し
、反応性蒸着を行なう工程部３４とよりなる。Ｓｉの蒸
着被膜の膜厚は、機械的膜厚にして５〜３０　ｎｍであ
る。

Ｓｉを蒸着するときの雰囲気かつ条件については、合成
樹脂製光学部品の真空中における熱による表面形状精度
維持特性が関係する。即ち、Ｓｉ膜成長をアシストする
条件として熱一温度（合成樹脂製光学部品表面温度かつ
Ｓｉ膜に影響を与える）があり、これが合成樹脂製光学
部品表面に対するＳｉ膜の密着性、Ｓｉ膜の靭性、Ｓｉ
膜の硬度、　Ｓｉ膜の硬度、Ｓｉ膜の耐摩傷性等の特性
を向上させる作用をなす。

しかしながら、合成樹脂製光学部品の種類によっては加
熱用ドームヒータ３５による加熱ができない場合がある
ので、加熱用ドームヒータ３５での温度設定に際しては
注量する必要がある。即ち、加熱用ドームヒータ３５で
の温度設定時には、Ｓｉ膜形成時に受ける熱（輻射熱含
む）と、反射防止膜コーティング時に受ける熱とを十分
に考慮しなければな・らずいさもないと合成樹脂製光学
部品の熱変形とＳｉ移膜に受熱時に生じる応力（圧縮又
は引張り応力）のために合成樹脂製光学部品表面が応力
変形を生じてしまうからである。従って、加熱をすると
しても、応力変形を生じさせない笥囲であれば、任意温
度で加熱してもよく、加熱によるヒートサイクルテスト
上の耐クラツク性を向上させうるものである。

本実施例においては、設定温度を３０℃としてＳｔ被膜
形成まで加熱し、その後加熱を停止してこのＳｉの０２
雰囲気中による反応性蒸着で接着膜（接着層）であるＳ
ｉコーティングを完了させている。

そして、この５１コーティング上に任意のコーティング
手段で反射防止膜をコーティングする工程へと移行させ
るものである。

第６エ程 本工程は、第１図の最下段に示す機能性光学膜（反射防
止膜、増反射膜）をコーティングするコーティング処理
工程３Ｂであり、第５工程で被膜形成したＳｌ被膜上に
コーティング処理するものである。

機能性光学膜（反射防止膜構成被膜）は、第６図に示す
ように、接着層であるＳｉ被膜３７上にコーティングさ
れるものであり、この機能性光学膜３８は、３層のコー
ティング膜３９　、４０　、４１　Ｋよシ構成されてい
る。なお、４２で示すのは、イオンボンバード（ＲＦ　
、ＣＤ又はＡＣ）で形成された光学部品１の表面改質層
である。

次に、３層のコーティング膜３９　、４０　、４１を形
成する方法について説明する。合成樹脂製光学部品（射
出成形アクリル樹脂）１の表面に真空蒸着チャンバー１
９内にてＳｔ被被膜で形成した後に、同一真空中にて再
度０．ガス圧８　Ｘ　ｔｏ−ｓ〜３　Ｘ　１Ｏ−４Ｔｏ
ｒｒの高周波プラズマをＲＦ電極２３を介して発生させ
る。

次に、抵抗加熱源４３に仕掛けられた蒸発源である光学
薄膜材料Ｓｉ０４４を蒸発させ、封入Ｏ２のガス圧８　
Ｘ　１０−’　〜３　Ｘ　１０−’　Ｔｏｒｒ　、蒸発
速度０．２〜０．５　ｎｍ７秒にて機械的膜厚４５ｎｍ
、屈折率１．４７６の第１層被膜３９を被膜形成させる
。

次に、蒸発源として抵抗加熱源４５に光学薄膜材料４６
ヲ仕掛け、ガス封入のない真空蒸着で真空度１〜２　Ｘ
　１０−’　Ｔｏｒｒ以上、蒸着速度２〜３ｎｍ／秒に
て、機械的膜厚４０　ｎｍ、屈折率１．９８の第２層被
膜４０を形成する。

最後Ｋ、最終層として、再度０．のガス圧８Ｘ１０”〜
３　Ｘ　１０−’　Ｔｏｒｒの高周波プラズマをＲＦ電
極２３にて発生させるとともに抵抗加熱源４３に仕掛け
た蒸発源である光学薄膜材料ＳｉＯ４４を蒸発させて、
蒸着速度２〜３ｎｍ／秒にて機械的膜厚１６０　ｎｍ　
。

屈折率１．９８の第３層被膜４１を形成させる。

以上の３層膜構成の機能性光学膜（例えば反射防止！１
ｍり３８をＳｉ被膜３７上にコーティングすることＫよ
り、すべてのコーティング処理が完了する０ コーティング完了後、徐冷を１０分〜２０分行ない、大
気リーク後にコーティングされた合成樹脂製光学部品を
取シ出す。

第６図にて示す３層膜構成の機能性光学膜（例えば反射
防止膜）３８による分光反射率特性を第７図に示す。図
中、実線で示すグラフ４７は、横棚に波長（ｎｍ）、縦
軸に分光反射率（チ）をとった場合の本実施例における
分光反射率を示すものである、。

グラフ図から明白なごとく、波長λ＝７８０〜８２０ｎ
ｍの領域においては、分光反射率（チ）が０．５係以下
であることが理解できる。

なお、第４図において４８で示すのは真空排気口、４ｇ
で示すのはドームである。

又、本方法によりコーティングした合成樹脂製光学部品
の耐久性試験の結果を、従来技術のコーティングのそれ
と比較した結果を下表に示す。

以下余白 なお、比較対象とする従来のコーティング膜の構成は、
第８図にて示すｍＪである。即ち、図中ＳＯで示すのは
、合成樹脂製光学部品１の表面に０、ＲＦプラズマ中で
成形されたＳｉＯ被膜、５１で示すのはガス封入なし真
空蒸着で形成されたＳＩＯ被膜、５２で示すのはＯ，Ｒ
Ｆプラズｉ中で形成されたＳｉＯ被膜である。

表中において、ヒートサイクルテスト（５サイクル）及
び高温、高湿テストにおけるＯ印はクラックの発生なし
を示し、又、Ｘ印はクラックの発生あシを示す。又、密
着性テス）ＫおけるＯ印は剥離なしを示し、又、Δ印は
一部剥離ありを示し、さらにＸ印は全体が剥離すること
を示している。

上記比較表より、本実施例による効果は次のとおりであ
る。

（１）本方法により合成樹脂製光学部品の表面にコーテ
ィングされた被膜は、環境試験（ヒートサイクル、高温
、高湿テスト）に対してもクラックが発生することなく
良好な耐クラツク性を有する。

（２）本方法による合成樹脂製光学部品表面のコーティ
ング被膜は、従来技術のコーティング被膜に比して合成
樹脂製光学部品基材忙対して極めて良好な密着性を有す
る。

（３）本方法による合成樹脂製光学部品表面のコーティ
ング被膜（反射防止膜）は、光学特性において分光反射
率が波長λ；７８ｏ〜８２０　ｎｍで０．５チ以下であ
り、又、合成樹脂製光学部品の成形形状精度の維持も可
能である。

なお、上記実施例においては、第６図にて示したように
３層のコーティング膜３９　、４０　、４１のうちのコ
ーティング膜４０を蒸着速度２〜３ｎｍ／秒にて屈折率
１．９８の被膜に被膜形成したが、蒸着速度を１〜２ｎ
ｍ／秒にて屈折率１．８５の被膜に形成すれば、第７図
の波線グラフ４ｇで示すように波長λ＝７８０〜８２０
　ｎｍでの分光反射率を０．５優近くに設定することが
でき、０．５％以下における最大の分光反射率を得るこ
とができる。

他のコーティング膜３９　、４１の成膜条件は、前記実
施例のものと同一条件である。

発明の効果 以上のように、本発明によれば、合成樹脂製光学部品の
表面に密着性が良好で、かつ、環境試験に対して耐クラ
ツク性を保有した機能性光学膜を被膜形成することがで
きるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る方法の加工工程図、第２図、第３
図は第１図の要部の工程詳細図、第４図は合成樹脂製光
学部品の表面にコーティングする装置の断面説明図、第
５図は合成樹脂製光学部品表面をＯ，イオンでイオンボ
ンバード処理した後の分光反射率を示すグラフ図、第６
図は本発明に係る方法忙よりコーティングしたコーティ
ング膜の断面図、第７図は第６図のコーティング膜の分
光反射率を示すグラフ図、第８図は従来技術によるコー
ティング膜の断面図である。 １　・・・・・・合成樹脂製光学部品 ２．１１・・・洗浄工程 １０・・・・・・アニール処理工種 １７・・・・・・前処理工程部 ２９・・・・・・Ｓｉココ−ティング工程３Ｂ・・・・
・・機能性光学膜コーティング工程部第５図 波　長 第７図 波　長 手続補正書（自発） 昭和６０年９月５日 特許庁長官　宇賀道部　殿　　　　　　、、、ｊｆも−
１、ｓ件の表示 昭和６０年特　許　願　第７８６５号 ２、発明の名称 合成樹脂製光学部品のコーティング方法３、補正をする
者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２９号名　
称　　（０３７）オリンパス光学工業株式会社代表者　
下山敏部 ４、代　理　人 ６、補正の対象 （１）　　明細書の「特許請求の範囲Ｊの欄及び「発明
の詳細な説明」の欄 ■図　面 ７、補正の内容 （１）　　明細書の「特許請求の範囲」の欄の記載を別
紙の通り補正する。 ■　明細書第７頁第８行目を下記の通り補正する。 ｒＺｒ０２を１Ｏｎ＋ｓ＃ｇｉｎでコートし、ｎｄ＝八
／へ」（３）明細書第１９頁第１０行目に記載する「２
〜３ｎｔａ／秒」をｒＱ、２〜０．５　ｎｍ７秒」と補
正する。 （４）明細書第１９頁第１０行目に記載する「屈折率１
．９８Ｊを「屈折率１．４７８１と補正する。 （５）明細書第２３頁第１５行目に記載する「波線グラ
フ４９」を「破線グラフ５３」と補正する。 （（へ）図面中第７図を別紙の通り補正する。 ８、添付書類の目録 （１）別　　紙　　　１通 （力補正図面　　　１通 別　　　　紙 ２、特許請求の範囲 （１）　　合成樹脂製光学部品表面を洗浄、加熱アニー
ル処理した後真空中にてイオンボンバード処理してコー
ティング前処理し、しかる後に、同真空中にてＳｉ被膜
を合成樹脂製光学部品基材に第１層として被膜形成し２
　しかる後に、機能性光学膜として５ｉＯｘ（Ｘは１以
上）被膜を形成することを特徴とする合成樹脂製光゛学
部量のコーティング方法。 ■　前記合成樹脂製光学部品は、ポリメチルメタクリレ
−）　（ＰＭＭＡ）、ジエチレングリコールビスアリル
カーポネイ）　（ＣＲ−３９）、ポリカーボネイト（Ｐ
Ｃ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリスチレン（ＰＳ
）。 スチレン拳アクリロニトリル共重合樹脂（Ａｓ）もしく
はスチレン舎アクリロニトリル・ブタジェン共重合樹脂
（ＡＢＳ）の成形品である特許請求の範囲第１項記載の
合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 （３）前記コーティング前処理のイオンボンバードは、
真空中に活性又は不活性ガスを導入したＲＦ　、ＤＣも
しくはＡＣプラズマ中で表面をプレスパツタして行なう
特許請求の範囲第１項又は第２項記載の合成樹脂製光学
部品のコーティング方法。 （４）　前記Ｓｉ被膜を前記合成樹脂製光学部品の表面
に第１層として形成する工程は、０２等の活性ガスを導
入し、前記合成樹脂製光学部品を加熱暖化する条件を含
む反応性蒸着で形成する工程である特許請求の範囲第１
項、第２項又は第３項記載の合成樹脂製光学部品のコー
ティング方法。 （５）前記機能性光学膜は、反射防止膜又は増反射膜で
ある特許請求の範囲第１項、第２項。 第３項又は第４項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 （旬　前記反射防止膜として、第１層にＳｉＯを０２反
応性イオンプレーティング、第２層にＳｉＯをガス封入
なしの真空蒸着、第３層にＳｉＯを０２反応性イオンプ
レーティングして３層にコーティングする特許請求の範
囲第１項、第２項、第３項、第４項又は第５項記載の合
成樹脂製光学部品のコーティング方法。 ■　前記加熱アニール処理後に第２の洗浄を行なう特許
請求の範囲第１項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 （８）前記合成樹脂製光学部品の洗浄は、アルカリ又は
中性洗剤にて洗浄した後水洗浄し、しかる後にイソプロ
ピルアルコールにて洗浄し、さらにフレオン洗浄、フレ
オン蒸気洗浄する特許請求の範囲第１項記載の合成樹脂
製光学部品のコーティング方法。 ■　前記第２の洗浄は、フレオンの入った超音波洗浄を
行ない、その後フレオン浸漬洗浄を行ない、しかる後に
フレオン蒸気洗浄する特許請求の範囲第７項記載の合成
樹脂製光学部品のコーティング方法。 （１０）前記コーティング前のイオンボンバード処理は
、真空蒸着チャンバー内をｌＸｌ０−５〜２ＸｌＯ−５
丁ｏｒｒ以上に排気する高真空排気工程部と、０２等の
ガスを８Ｘ１０−５〜３×１０−’Ｔｏｒｒ導入する反
応ガス導入工程部と。 イオンボンバード用電極に高周波を印加してプラズマを
発生させるＲＦ　、ＤＣ又はＡＣプラズマ発生工程部と
、プラズマによるプレスパツタで合成樹脂製光学部品の
表面改質処理を行なうプレスバッタ工程部とよりなる特
許請求の範囲第１項又は第３項記載の合成樹脂製光学部
品のコーティング方法。 （１１）前記Ｓｉ被膜を合成樹脂製光学部品の表面にｉ
１層として形成する工程は、イオンボンバード後にプラ
ズマを停止する工程部と、０２等のガス封入をそのまま
にしてその雰囲気中で電子銃で電子銃用ハースにセット
したカーボンライナーに入れたＳｉを溶融し、反応性蒸
着を行なう工程部とよりなる特許請求の範囲第１項又は
第４項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 （１２）前記３層の反射防止膜のうちの第１層膜は、封
入０２ガス圧８ＸＩＯ−’　〜３ＸｌＯ″′４Ｔａｒｒ
　、蒸発速度０．２〜０．５　ｎｓ／秒９機械的膜厚４
５り＋ｓ、屈折率１．４７８に形成し、又、第２層膜は
、真空度ＬＸ　１０−５〜２Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒ以上
、蒸１速度２〜３　ｎｗ＋／秒２機械的膜厚４０！Ｉ■
、屈折率１．８８に形成し、又、第３層膜は、封入０２
ガス圧ａｘｉｏ−５〜３ＸＩＯ−’Ｔｏｒｒ　、蒸着速
度０．２〜０．５　ｎｓ／秒９機械的膜厚１Ｂ０ｎｍ、
屈折率１．４７８に形成する特許請求の範囲第１項又は
第６項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 （１３）前記第２層膜は、真空度ｌＸｌ０−５〜２×１
０−’Ｔｏｒｒ以上、蒸着速度１〜２ｎｍ／２層Ｉｌ械
膜厚４０ｎ■、屈折率１．８５に形成される特許請求の
範囲第１２項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング
方法。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂製光学部品表面を洗浄、加熱アニール処
   理した後真空中にてイオンボンバード処理してコーティ
   ング前処理し、しかる後に、同真空中にてＳｉ被膜を合
   成樹脂製光学部品基材に第１層として被膜形成し、しか
   る後に、機能性光学膜としてＳｉＯ＿ｘ（ｘは１以上）
   被膜を形成することを特徴とする合成樹脂製光学部品の
   コーティング方法。
2. （２）前記合成樹脂製光学部品は、ポリメチルメタクリ
   レート（ＰＭＭＡ）、ジエチレングリコールピスアリル
   カーボネイト（ＣＲ−３９）、ポリカーボネイト（ＰＣ
   ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリスチレン（ＰＳ）
   、スチレン・アクリロニトリル共重合樹脂（ＡＳ）もし
   くはスチレン・アクリロニトリル・ブタジエン共重合樹
   脂（ＡＢＳ）の成形品である特許請求の範囲第１項記載
   の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。
3. （３）前記コーティング前処理のイオンボンバードは、
   真空中に活性又は不活性ガスを導入したＲＦ、ＤＣもし
   くはＡＣプラズマ中で表面をプレスパッタして行なう特
   許請求の範囲第１項は第２項記載の合成樹脂製光学部品
   のコーティング方法。
4. （４）前記Ｓｉ被膜を前記合成樹脂製光学部品の表面に
   第１層として形成する工程は、Ｏ＿２等の活性ガスを導
   入し、前記合成樹脂製光学部品を加熱暖化する条件を含
   む反応性蒸着で形成する工程である特許請求の範囲第１
   項、第２項又は第３項記載の合成樹脂製光学部品のコー
   ティング方法。
5. （５）前記機能性光学膜は、反射防止膜又は増反射膜で
   ある特許請求の範囲第１項、第２項、第３項又は第４項
   記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。
6. （６）前記反射防止膜として、第１層にＳｉＯをＯ＿２
   反応性イオンプレーティング、第２層にＳｉＯをガス封
   入なしの真空蒸着、第３層にＳｉＯをＯ＿２反応性イオ
   ンプレーティングして３層にコーティングする特許請求
   の範囲第１項、第２項、第３項、第４項又は第５項記載
   の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。
7. （７）前記加熱アニール処理後に第２の洗浄を行なう特
   許請求の範囲第１項記載の合成樹脂製光学部品のコーテ
   ィング方法。
8. （８）前記合成樹脂製光学部品の洗浄は、アルカリ又は
   中性洗剤にて洗浄した後水洗浄し、しかる後にイソプロ
   ピルアルコールにて洗浄し、さらにフレオン洗浄、フレ
   オン蒸気洗浄する特許請求の範囲第１項記載の合成樹脂
   製光学部品のコーティング方法。
9. （９）前記第２の洗浄は、フレオンの入つた超音波洗浄
   を行ない、その後フレオン浸漬洗浄を行ない、しかる後
   にフレオン蒸気洗浄する特許請求の範囲第７項記載の合
   成樹脂製光学部品のコーティング方法。
10. （１０）前記コーティング前のイオンボンバード処理は
    、真空蒸着チャンバー内を１〜２×１０＾−＾５Ｔｏｒ
    ｒ以上に排気する高真空排気工程部と、Ｏ＿２等のガス
    を８×１０＾−＾５〜３×１０＾−＾４Ｔｏｒｒ導入す
    る反応ガス導入工程部と、イオンボンバード用電極に高
    周波を印加してプラズマを発生させるＲＦ、ＤＣ又はＡ
    Ｃプラズマ発生工程部と、プラズマによるプレスパッタ
    で合成樹脂製光学部品の表面改質処理を行なうプレスパ
    ッタ行程部とよりなる特許請求の範囲第１項又は第３項
    記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。
11. （１１）前記Ｓｉ被膜を合成樹脂製光学部品の表面に第
    １層として形成する工程は、イオンボンバード後にプラ
    ズマを停止する工程部と、Ｏ＿２等のガス封入をそのま
    まにしてその雰囲気中で電子銃で電子銃用ハースにセッ
    トしたカーボンライナーに入れたＳｉを溶融し、反応性
    蒸着を行なう工程部とよりなる特許請求の範囲第１項又
    は第４項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法
    。
12. （１２）前記３層の反射防止膜のうちの第一層膜は、封
    入Ｏ＿２ガス圧８×１０＾−＾５〜３×１０＾−＾４Ｔ
    ｏｒｒ、蒸発速度０．２〜０．５ｎｍ／秒、機械的膜厚
    ４５ｎｍ、屈折率１．４７６に形成し、又、第２層膜は
    、真空度１〜２×１０＾−＾５Ｔｏｒｒ以上、蒸着速度
    ２〜３ｎｍ／秒、機械的膜厚４０ｎｍ、屈折率１．９８
    に形成し、又、第３層膜は、封入Ｏ＿２ガス圧８×１０
    ＾−＾５〜３×１０＾−＾４Ｔｏｒｒ、蒸着速度２〜３
    ｎｍ／秒、機械的膜厚１６０ｎｍ、屈折率１．９８に形
    成する特許請求の範囲第１項又は第６項記載の合成樹脂
    製光学部品のコーティング方法。
13. （１３）前記第２層膜は、真空度１〜２×１０＾−＾５
    Ｔｏｒｒ以上、蒸着速度１〜２ｎｍ／秒、機械的膜厚４
    ０ｎｍ、屈折率１．８５に形成される特許請求の範囲第
    １２項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。