JPS61167903A - 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 - Google Patents
合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法Info
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- JPS61167903A JPS61167903A JP60007865A JP786585A JPS61167903A JP S61167903 A JPS61167903 A JP S61167903A JP 60007865 A JP60007865 A JP 60007865A JP 786585 A JP786585 A JP 786585A JP S61167903 A JPS61167903 A JP S61167903A
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- optical component
- resin optical
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、カメラ等の光学系に用いる合成樹脂製光学部
品の表面にコーティングするコーティング方法に関する
。
品の表面にコーティングするコーティング方法に関する
。
従来技術
合成樹脂製光学部品の表面コーティング手段としては次
のようなものがある。
のようなものがある。
(1) 射出圧縮成形にて成形したポリメチルメタク
リレ−) (PMMA)を、水を可溶化する溶剤に浸漬
した後PMMA表面層の水分を除去し、フロン系溶剤に
て洗浄した後に熱硬化性S1系硬化膜を約2#塗布して
有機ノ・−ドコート膜を形成させる手段。
リレ−) (PMMA)を、水を可溶化する溶剤に浸漬
した後PMMA表面層の水分を除去し、フロン系溶剤に
て洗浄した後に熱硬化性S1系硬化膜を約2#塗布して
有機ノ・−ドコート膜を形成させる手段。
(2)射出圧縮成形したPMMAを上記(1)と同様に
洗浄し、しかる後にMgF、を真空蒸着法にて約0.1
μコーティングする手段。
洗浄し、しかる後にMgF、を真空蒸着法にて約0.1
μコーティングする手段。
(3)屹燥PMMA板をチャンバーにセットするととも
にチャンバー内を真空排気し、0.を5 X 10−’
Torrガス圧まで導入してRF (Radio Fr
equen−cy)イオンプレーティング(高周波イオ
ンプレーティング)でRFll[カフ0Wで放電させ、
バイアス側DC−500Vで印加してイオンボンバード
処理する。前半nd = 500 nmはRFイオンプ
レーティング中で蒸発速度50nm/iにて、又、後半
nd = 500 nmを真空蒸着でベースコートする
。その後、1層目(PMMA側から)として反射防止膜
を真空蒸着の継続でSiOを120 nm/−wでnd
=λ/4(λ== 500 nm ) 、第2層目はR
FイオンプレーティングでOlを3 X 10”−’
T’orr 、 RF電力50W、バイアス側DC−1
にVで印加し、10nm/iでZnコートし、ZnO2
,nd=λ/2(λ= 500 nm )を得、第3層
目は真空蒸着アSiOを50nm/iでnd==λ/4
(λ=500 nm) :7一トする手段。
にチャンバー内を真空排気し、0.を5 X 10−’
Torrガス圧まで導入してRF (Radio Fr
equen−cy)イオンプレーティング(高周波イオ
ンプレーティング)でRFll[カフ0Wで放電させ、
バイアス側DC−500Vで印加してイオンボンバード
処理する。前半nd = 500 nmはRFイオンプ
レーティング中で蒸発速度50nm/iにて、又、後半
nd = 500 nmを真空蒸着でベースコートする
。その後、1層目(PMMA側から)として反射防止膜
を真空蒸着の継続でSiOを120 nm/−wでnd
=λ/4(λ== 500 nm ) 、第2層目はR
FイオンプレーティングでOlを3 X 10”−’
T’orr 、 RF電力50W、バイアス側DC−1
にVで印加し、10nm/iでZnコートし、ZnO2
,nd=λ/2(λ= 500 nm )を得、第3層
目は真空蒸着アSiOを50nm/iでnd==λ/4
(λ=500 nm) :7一トする手段。
(4)基板PMMA上にMgF、、 n、1=λ、/4
(λ、 = 400nm )を第1層目(基材側から)
にコートシ、第2層目にS10.をnd=λt/8(λ
2=160 nm 、又、λ、〉λ、)コーティングす
る手段。
(λ、 = 400nm )を第1層目(基材側から)
にコートシ、第2層目にS10.をnd=λt/8(λ
2=160 nm 、又、λ、〉λ、)コーティングす
る手段。
しかしながら、上記従来の各手段においては次のような
問題点かあり、合成樹脂製光学部品のコーティング手段
としては満足できるものではなかった。
問題点かあり、合成樹脂製光学部品のコーティング手段
としては満足できるものではなかった。
即ち、合成樹脂光学部品の表面に反射防止膜(λ=78
0〜820 nmで反射率0.5幅以下)を形成しても
、上記従来手段においては密着性が極めて悪く、そのた
めに環境テストでマイクロクラックが発生し、耐久性が
著しく低下するという問題点がめった。又、かかる問題
点を解決する手段として、合成樹脂製光学部品の表面と
反射防止膜との間にプライマーコートを施す手段がある
が、かかる場合にはプライマーコートの膜厚分だけ厚く
なり、合成樹脂製光学部品の成形形状精度が維持しえな
くなるという大きな問題点があるために採用しえない0 上記従来技術の問題点を分析してみると、反射防止膜に
関しては、その密着性とマイクロクラック(膜剥離)と
は原因要素としては別扱いできず、(1)合成樹脂製光
学部品表面の物性、(2)コーティング膜自体の物性の
両者の相互関係が起因していると考えられる。即ち、上
記(1)の要因としては、■表面硬度や表面弾性応力及
び合成樹脂製光学部品の分子配向と表面応力の相関関係
による要因、■光学部品表面及び表面層の吸水性による
要因、■低温コーティングなのでアモルファス被膜をも
つ表面層が生成し、その表面層と光学部品表面層のもつ
イオンエネルギーの低さによる結合エネルギーの低下に
よる要因がある。又、上記(2)の要因としては、■低
温コーティングでのアモルファス被膜の成長と、合成樹
脂の線膨張係数及び反射防止膜の差による要因、■低温
コーティングでのアモルファス被膜の原子間の結合力の
低下により、低密度膜成長となる要因がある。
0〜820 nmで反射率0.5幅以下)を形成しても
、上記従来手段においては密着性が極めて悪く、そのた
めに環境テストでマイクロクラックが発生し、耐久性が
著しく低下するという問題点がめった。又、かかる問題
点を解決する手段として、合成樹脂製光学部品の表面と
反射防止膜との間にプライマーコートを施す手段がある
が、かかる場合にはプライマーコートの膜厚分だけ厚く
なり、合成樹脂製光学部品の成形形状精度が維持しえな
くなるという大きな問題点があるために採用しえない0 上記従来技術の問題点を分析してみると、反射防止膜に
関しては、その密着性とマイクロクラック(膜剥離)と
は原因要素としては別扱いできず、(1)合成樹脂製光
学部品表面の物性、(2)コーティング膜自体の物性の
両者の相互関係が起因していると考えられる。即ち、上
記(1)の要因としては、■表面硬度や表面弾性応力及
び合成樹脂製光学部品の分子配向と表面応力の相関関係
による要因、■光学部品表面及び表面層の吸水性による
要因、■低温コーティングなのでアモルファス被膜をも
つ表面層が生成し、その表面層と光学部品表面層のもつ
イオンエネルギーの低さによる結合エネルギーの低下に
よる要因がある。又、上記(2)の要因としては、■低
温コーティングでのアモルファス被膜の成長と、合成樹
脂の線膨張係数及び反射防止膜の差による要因、■低温
コーティングでのアモルファス被膜の原子間の結合力の
低下により、低密度膜成長となる要因がある。
以上の要因により、上記各従来技術においては、合成樹
脂製光学部品とその表面にコーティングされるコーティ
ング膜との密着性が悪く、耐環境テストでマイクロクラ
ック等が発生するという問題が生じていたのである。
脂製光学部品とその表面にコーティングされるコーティ
ング膜との密着性が悪く、耐環境テストでマイクロクラ
ック等が発生するという問題が生じていたのである。
発明の目的
本発明線、上記従来技術に鑑みてなされたものであって
、合成樹脂製光学部品の表面に反射防止膜等のコーティ
ングを成形形状精度を維持して、かつ高密着性にて行な
いうるようにした合成樹脂製光学部品のコーティング方
法を提供することを目的とする。
、合成樹脂製光学部品の表面に反射防止膜等のコーティ
ングを成形形状精度を維持して、かつ高密着性にて行な
いうるようにした合成樹脂製光学部品のコーティング方
法を提供することを目的とする。
発明の概要
本発明は、合成樹脂製光学部品の表面を洗浄。
前処理した後、引被膜を第1層として被膜形成し、しか
る後に、反射防止膜として5iO1(xは1以上)を被
膜形成するコーティング方法を提供することKより、上
記本発明の目的を達成しようとするものである。
る後に、反射防止膜として5iO1(xは1以上)を被
膜形成するコーティング方法を提供することKより、上
記本発明の目的を達成しようとするものである。
実 施 例
以下、必要に応じて図面を用いつつ本発明の実施例につ
いて詳細に説明する。
いて詳細に説明する。
@1図に、本発明に係るコーティング方法の工程のフロ
ーチャートを示すが、以下、この工程図に従い説明する
。
ーチャートを示すが、以下、この工程図に従い説明する
。
第1工程
まず、合成樹脂製光学部品1の表面を第1洗浄2する。
この第1洗浄2は、第2図にて示すごとく、まず、合成
樹脂製光学部品1の表面に付着した油脂。
樹脂製光学部品1の表面に付着した油脂。
ゴミ、水分等をアルカリ又は中性洗剤の入った超音波洗
浄3等にて取り除く。次に、アルカリ又は中性洗剤を水
道水(市水)等の入ったオーバーフロー超音波洗浄で十
分水洗浄4する。そして、水切りをするためにイソプロ
ピルアルコール又はエタノール等溶剤洗浄5を行なう。
浄3等にて取り除く。次に、アルカリ又は中性洗剤を水
道水(市水)等の入ったオーバーフロー超音波洗浄で十
分水洗浄4する。そして、水切りをするためにイソプロ
ピルアルコール又はエタノール等溶剤洗浄5を行なう。
この溶剤は、合成樹脂の柿類によっては合成樹脂表面を
溶剤ショック、即ち表面を溶かしたりクラック全発生さ
せたりして劣化させる場合があるので、15℃以下。
溶剤ショック、即ち表面を溶かしたりクラック全発生さ
せたりして劣化させる場合があるので、15℃以下。
浸漬時間は1分間程度とする。次に、イノプロピルアル
コール又はエチルアルコール等の溶剤をきる。なお、短
時間かつ溶剤の取扱い条件が保持できれば、この浸漬処
理を超音波洗浄をプラスした溶剤洗浄にしてもよい。
コール又はエチルアルコール等の溶剤をきる。なお、短
時間かつ溶剤の取扱い条件が保持できれば、この浸漬処
理を超音波洗浄をプラスした溶剤洗浄にしてもよい。
次に、第1のフレオン洗浄6を行ない、さらにイソプロ
ピルアルコール等の溶剤を取り除くとと ゛もに、さら
に第2フレオン洗浄7を行って完全にイソプロピルアル
コール等の溶剤を取シ除き、沸点40〜50℃のフレオ
ン蒸気洗浄中に持ち込まないようKする。なお、第1.
第2のフレオン洗浄6.7においては浸漬処理を行なっ
ているが、第1のフレオン洗浄6については、短時間で
イソプロピルアルコール等の溶剤を除去しフレオンの洗
浄効果をくずさないという条件を満せば、超音波洗浄を
含むフレオン洗浄でもよい。
ピルアルコール等の溶剤を取り除くとと ゛もに、さら
に第2フレオン洗浄7を行って完全にイソプロピルアル
コール等の溶剤を取シ除き、沸点40〜50℃のフレオ
ン蒸気洗浄中に持ち込まないようKする。なお、第1.
第2のフレオン洗浄6.7においては浸漬処理を行なっ
ているが、第1のフレオン洗浄6については、短時間で
イソプロピルアルコール等の溶剤を除去しフレオンの洗
浄効果をくずさないという条件を満せば、超音波洗浄を
含むフレオン洗浄でもよい。
第1.第2のフレオン洗浄6.7が完了したらフレオン
蒸気洗浄8を行ない、合成樹脂製光学部品1を拭き上け
て洗浄完了9する。
蒸気洗浄8を行ない、合成樹脂製光学部品1を拭き上け
て洗浄完了9する。
なお、第2図忙おいて2aで示す部分については、(1
)界面活性剤+フレオンの入った超音波洗浄。
)界面活性剤+フレオンの入った超音波洗浄。
(2)(界面活性剤+フレオンの入った超音波洗浄)→
(エタノール入9フレオン浸漬又は超音波洗浄)シこ置
換してもよく、特に、水を極力避けるためには有効な洗
浄手段である。
(エタノール入9フレオン浸漬又は超音波洗浄)シこ置
換してもよく、特に、水を極力避けるためには有効な洗
浄手段である。
第2工程
第1洗浄2が完了したら、洗浄後の合成樹脂製光学部品
1を乾燥機に入れて60℃〜70℃にて3〜5 HR5
加熱アニール処理10を行なう。これにより、合成樹脂
製光学部品1表面の溶剤ショック。
1を乾燥機に入れて60℃〜70℃にて3〜5 HR5
加熱アニール処理10を行なう。これにより、合成樹脂
製光学部品1表面の溶剤ショック。
成形等の結果として発生し易い表面歪を除去することが
できる。徐冷は、熱盃が生じないように自然冷却を行な
う。
できる。徐冷は、熱盃が生じないように自然冷却を行な
う。
第 3 工程
アニール処理10が完了したら第1図、第3図に示すご
とく第2洗浄11を行なう。この第2洗浄11は、乾燥
機中にて付着する可能性のあるゴミ(m機物)を除去す
るもので、第1のフレオン洗浄12でフレオンの入った
超音波洗浄を行ない、第2のフレオン洗浄13でフレオ
ン浸漬洗浄を行ない、フレオン蒸気洗浄14を経て洗浄
完了15する。
とく第2洗浄11を行なう。この第2洗浄11は、乾燥
機中にて付着する可能性のあるゴミ(m機物)を除去す
るもので、第1のフレオン洗浄12でフレオンの入った
超音波洗浄を行ない、第2のフレオン洗浄13でフレオ
ン浸漬洗浄を行ない、フレオン蒸気洗浄14を経て洗浄
完了15する。
もし、乾燥機中が清浄の場合にはこの工程は不要となる
。
。
以上の各工程は、コーティングの前処理工程であシ、上
記前処理工程が完了すると、第1図にて16で示すコー
ティング加工工程に従いコーティング処理を行なうこと
になる。
記前処理工程が完了すると、第1図にて16で示すコー
ティング加工工程に従いコーティング処理を行なうこと
になる。
第4工程
本工程においては、合成樹脂製光学部品1の表面改質を
行なうものであり、本工程を第1図におけるフローチャ
ート部17及び第4図にて示すコーティング装置18を
用いて説明する。
行なうものであり、本工程を第1図におけるフローチャ
ート部17及び第4図にて示すコーティング装置18を
用いて説明する。
本工程は、真空蒸着チャンバー19内を1〜2×10−
’ Torr以上の高真空に排気する高真空排気工程部
20と、ガス導入口21よりO2等を8×101〜3X
1o−4Torr導入するO2等の反応ガスを導入す
る工程部22と、イオンボンバード用電極23に高間波
を印加してプラズマを発生させるRF又はACプラズマ
発生工程部24と、プラズマによるプレスパツタで合成
樹脂製光学部品(被コーティング物)表面を物理的衝撃
でたたき、付着水分を除去し、かつ表面改質処理を行な
うプラズマによるプレスバッタ工程部25とよりなる。
’ Torr以上の高真空に排気する高真空排気工程部
20と、ガス導入口21よりO2等を8×101〜3X
1o−4Torr導入するO2等の反応ガスを導入す
る工程部22と、イオンボンバード用電極23に高間波
を印加してプラズマを発生させるRF又はACプラズマ
発生工程部24と、プラズマによるプレスパツタで合成
樹脂製光学部品(被コーティング物)表面を物理的衝撃
でたたき、付着水分を除去し、かつ表面改質処理を行な
うプラズマによるプレスバッタ工程部25とよりなる。
第5図に、射出成形アクリル樹脂表面をO!イオンでイ
オンボンバードした後の分光反射率特性のクラフ図を示
す。図中一点鎖線で示すグラフ26は5分間イオンホン
バードしたものであり、長い破線で示すグラフ27は3
分間イオンボンバードしたものであシ、又、実線で示す
グラフ28はイオンボンバードなしの測定結果を示すも
のである。なお、図において横軸は波長(nm)を、縦
軸は分光反射率(憾)を示すものである。
オンボンバードした後の分光反射率特性のクラフ図を示
す。図中一点鎖線で示すグラフ26は5分間イオンホン
バードしたものであり、長い破線で示すグラフ27は3
分間イオンボンバードしたものであシ、又、実線で示す
グラフ28はイオンボンバードなしの測定結果を示すも
のである。なお、図において横軸は波長(nm)を、縦
軸は分光反射率(憾)を示すものである。
第5工程
本工程は、合成樹脂製光学部品1基材に第1層としてS
L被被膜真空蒸着でコーティングするものであり、本工
程を第1図におけるフローチャート部29及び第4図に
て示すコーティング袈tvt 1oを用いて説明する。
L被被膜真空蒸着でコーティングするものであり、本工
程を第1図におけるフローチャート部29及び第4図に
て示すコーティング袈tvt 1oを用いて説明する。
本工程は、第4図(Cて示す真空蒸着チャンバー19内
で合成樹脂製光学部品表面をイオンボンバードした後に
プラズマを止める工程部30と、導入ガスの01等封入
をそのままにしてO7等の反応性ガスを導入する工程部
31と、その雰囲気中で電子銃32で電子銃用ハース3
3にセットしたカーボンライナーに入れだSiを溶融し
、反応性蒸着を行なう工程部34とよりなる。Siの蒸
着被膜の膜厚は、機械的膜厚にして5〜30 nmであ
る。
で合成樹脂製光学部品表面をイオンボンバードした後に
プラズマを止める工程部30と、導入ガスの01等封入
をそのままにしてO7等の反応性ガスを導入する工程部
31と、その雰囲気中で電子銃32で電子銃用ハース3
3にセットしたカーボンライナーに入れだSiを溶融し
、反応性蒸着を行なう工程部34とよりなる。Siの蒸
着被膜の膜厚は、機械的膜厚にして5〜30 nmであ
る。
Siを蒸着するときの雰囲気かつ条件については、合成
樹脂製光学部品の真空中における熱による表面形状精度
維持特性が関係する。即ち、Si膜成長をアシストする
条件として熱一温度(合成樹脂製光学部品表面温度かつ
Si膜に影響を与える)があり、これが合成樹脂製光学
部品表面に対するSi膜の密着性、Si膜の靭性、Si
膜の硬度、 Si膜の硬度、Si膜の耐摩傷性等の特性
を向上させる作用をなす。
樹脂製光学部品の真空中における熱による表面形状精度
維持特性が関係する。即ち、Si膜成長をアシストする
条件として熱一温度(合成樹脂製光学部品表面温度かつ
Si膜に影響を与える)があり、これが合成樹脂製光学
部品表面に対するSi膜の密着性、Si膜の靭性、Si
膜の硬度、 Si膜の硬度、Si膜の耐摩傷性等の特性
を向上させる作用をなす。
しかしながら、合成樹脂製光学部品の種類によっては加
熱用ドームヒータ35による加熱ができない場合がある
ので、加熱用ドームヒータ35での温度設定に際しては
注量する必要がある。即ち、加熱用ドームヒータ35で
の温度設定時には、Si膜形成時に受ける熱(輻射熱含
む)と、反射防止膜コーティング時に受ける熱とを十分
に考慮しなければな・らずいさもないと合成樹脂製光学
部品の熱変形とSi移膜に受熱時に生じる応力(圧縮又
は引張り応力)のために合成樹脂製光学部品表面が応力
変形を生じてしまうからである。従って、加熱をすると
しても、応力変形を生じさせない笥囲であれば、任意温
度で加熱してもよく、加熱によるヒートサイクルテスト
上の耐クラツク性を向上させうるものである。
熱用ドームヒータ35による加熱ができない場合がある
ので、加熱用ドームヒータ35での温度設定に際しては
注量する必要がある。即ち、加熱用ドームヒータ35で
の温度設定時には、Si膜形成時に受ける熱(輻射熱含
む)と、反射防止膜コーティング時に受ける熱とを十分
に考慮しなければな・らずいさもないと合成樹脂製光学
部品の熱変形とSi移膜に受熱時に生じる応力(圧縮又
は引張り応力)のために合成樹脂製光学部品表面が応力
変形を生じてしまうからである。従って、加熱をすると
しても、応力変形を生じさせない笥囲であれば、任意温
度で加熱してもよく、加熱によるヒートサイクルテスト
上の耐クラツク性を向上させうるものである。
本実施例においては、設定温度を30℃としてSt被膜
形成まで加熱し、その後加熱を停止してこのSiの02
雰囲気中による反応性蒸着で接着膜(接着層)であるS
iコーティングを完了させている。
形成まで加熱し、その後加熱を停止してこのSiの02
雰囲気中による反応性蒸着で接着膜(接着層)であるS
iコーティングを完了させている。
そして、この51コーティング上に任意のコーティング
手段で反射防止膜をコーティングする工程へと移行させ
るものである。
手段で反射防止膜をコーティングする工程へと移行させ
るものである。
第6エ程
本工程は、第1図の最下段に示す機能性光学膜(反射防
止膜、増反射膜)をコーティングするコーティング処理
工程3Bであり、第5工程で被膜形成したSl被膜上に
コーティング処理するものである。
止膜、増反射膜)をコーティングするコーティング処理
工程3Bであり、第5工程で被膜形成したSl被膜上に
コーティング処理するものである。
機能性光学膜(反射防止膜構成被膜)は、第6図に示す
ように、接着層であるSi被膜37上にコーティングさ
れるものであり、この機能性光学膜38は、3層のコー
ティング膜39 、40 、41 Kよシ構成されてい
る。なお、42で示すのは、イオンボンバード(RF
、CD又はAC)で形成された光学部品1の表面改質層
である。
ように、接着層であるSi被膜37上にコーティングさ
れるものであり、この機能性光学膜38は、3層のコー
ティング膜39 、40 、41 Kよシ構成されてい
る。なお、42で示すのは、イオンボンバード(RF
、CD又はAC)で形成された光学部品1の表面改質層
である。
次に、3層のコーティング膜39 、40 、41を形
成する方法について説明する。合成樹脂製光学部品(射
出成形アクリル樹脂)1の表面に真空蒸着チャンバー1
9内にてSt被被膜で形成した後に、同一真空中にて再
度0.ガス圧8 X to−s〜3 X 1O−4To
rrの高周波プラズマをRF電極23を介して発生させ
る。
成する方法について説明する。合成樹脂製光学部品(射
出成形アクリル樹脂)1の表面に真空蒸着チャンバー1
9内にてSt被被膜で形成した後に、同一真空中にて再
度0.ガス圧8 X to−s〜3 X 1O−4To
rrの高周波プラズマをRF電極23を介して発生させ
る。
次に、抵抗加熱源43に仕掛けられた蒸発源である光学
薄膜材料Si044を蒸発させ、封入O2のガス圧8
X 10−’ 〜3 X 10−’ Torr 、蒸発
速度0.2〜0.5 nm7秒にて機械的膜厚45nm
、屈折率1.476の第1層被膜39を被膜形成させる
。
薄膜材料Si044を蒸発させ、封入O2のガス圧8
X 10−’ 〜3 X 10−’ Torr 、蒸発
速度0.2〜0.5 nm7秒にて機械的膜厚45nm
、屈折率1.476の第1層被膜39を被膜形成させる
。
次に、蒸発源として抵抗加熱源45に光学薄膜材料46
ヲ仕掛け、ガス封入のない真空蒸着で真空度1〜2 X
10−’ Torr以上、蒸着速度2〜3nm/秒に
て、機械的膜厚40 nm、屈折率1.98の第2層被
膜40を形成する。
ヲ仕掛け、ガス封入のない真空蒸着で真空度1〜2 X
10−’ Torr以上、蒸着速度2〜3nm/秒に
て、機械的膜厚40 nm、屈折率1.98の第2層被
膜40を形成する。
最後K、最終層として、再度0.のガス圧8X10”〜
3 X 10−’ Torrの高周波プラズマをRF電
極23にて発生させるとともに抵抗加熱源43に仕掛け
た蒸発源である光学薄膜材料SiO44を蒸発させて、
蒸着速度2〜3nm/秒にて機械的膜厚160 nm
。
3 X 10−’ Torrの高周波プラズマをRF電
極23にて発生させるとともに抵抗加熱源43に仕掛け
た蒸発源である光学薄膜材料SiO44を蒸発させて、
蒸着速度2〜3nm/秒にて機械的膜厚160 nm
。
屈折率1.98の第3層被膜41を形成させる。
以上の3層膜構成の機能性光学膜(例えば反射防止!1
mり38をSi被膜37上にコーティングすることKよ
り、すべてのコーティング処理が完了する0 コーティング完了後、徐冷を10分〜20分行ない、大
気リーク後にコーティングされた合成樹脂製光学部品を
取シ出す。
mり38をSi被膜37上にコーティングすることKよ
り、すべてのコーティング処理が完了する0 コーティング完了後、徐冷を10分〜20分行ない、大
気リーク後にコーティングされた合成樹脂製光学部品を
取シ出す。
第6図にて示す3層膜構成の機能性光学膜(例えば反射
防止膜)38による分光反射率特性を第7図に示す。図
中、実線で示すグラフ47は、横棚に波長(nm)、縦
軸に分光反射率(チ)をとった場合の本実施例における
分光反射率を示すものである、。
防止膜)38による分光反射率特性を第7図に示す。図
中、実線で示すグラフ47は、横棚に波長(nm)、縦
軸に分光反射率(チ)をとった場合の本実施例における
分光反射率を示すものである、。
グラフ図から明白なごとく、波長λ=780〜820n
mの領域においては、分光反射率(チ)が0.5係以下
であることが理解できる。
mの領域においては、分光反射率(チ)が0.5係以下
であることが理解できる。
なお、第4図において48で示すのは真空排気口、4g
で示すのはドームである。
で示すのはドームである。
又、本方法によりコーティングした合成樹脂製光学部品
の耐久性試験の結果を、従来技術のコーティングのそれ
と比較した結果を下表に示す。
の耐久性試験の結果を、従来技術のコーティングのそれ
と比較した結果を下表に示す。
以下余白
なお、比較対象とする従来のコーティング膜の構成は、
第8図にて示すmJである。即ち、図中SOで示すのは
、合成樹脂製光学部品1の表面に0、RFプラズマ中で
成形されたSiO被膜、51で示すのはガス封入なし真
空蒸着で形成されたSIO被膜、52で示すのはO,R
Fプラズi中で形成されたSiO被膜である。
第8図にて示すmJである。即ち、図中SOで示すのは
、合成樹脂製光学部品1の表面に0、RFプラズマ中で
成形されたSiO被膜、51で示すのはガス封入なし真
空蒸着で形成されたSIO被膜、52で示すのはO,R
Fプラズi中で形成されたSiO被膜である。
表中において、ヒートサイクルテスト(5サイクル)及
び高温、高湿テストにおけるO印はクラックの発生なし
を示し、又、X印はクラックの発生あシを示す。又、密
着性テス)KおけるO印は剥離なしを示し、又、Δ印は
一部剥離ありを示し、さらにX印は全体が剥離すること
を示している。
び高温、高湿テストにおけるO印はクラックの発生なし
を示し、又、X印はクラックの発生あシを示す。又、密
着性テス)KおけるO印は剥離なしを示し、又、Δ印は
一部剥離ありを示し、さらにX印は全体が剥離すること
を示している。
上記比較表より、本実施例による効果は次のとおりであ
る。
る。
(1)本方法により合成樹脂製光学部品の表面にコーテ
ィングされた被膜は、環境試験(ヒートサイクル、高温
、高湿テスト)に対してもクラックが発生することなく
良好な耐クラツク性を有する。
ィングされた被膜は、環境試験(ヒートサイクル、高温
、高湿テスト)に対してもクラックが発生することなく
良好な耐クラツク性を有する。
(2)本方法による合成樹脂製光学部品表面のコーティ
ング被膜は、従来技術のコーティング被膜に比して合成
樹脂製光学部品基材忙対して極めて良好な密着性を有す
る。
ング被膜は、従来技術のコーティング被膜に比して合成
樹脂製光学部品基材忙対して極めて良好な密着性を有す
る。
(3)本方法による合成樹脂製光学部品表面のコーティ
ング被膜(反射防止膜)は、光学特性において分光反射
率が波長λ;78o〜820 nmで0.5チ以下であ
り、又、合成樹脂製光学部品の成形形状精度の維持も可
能である。
ング被膜(反射防止膜)は、光学特性において分光反射
率が波長λ;78o〜820 nmで0.5チ以下であ
り、又、合成樹脂製光学部品の成形形状精度の維持も可
能である。
なお、上記実施例においては、第6図にて示したように
3層のコーティング膜39 、40 、41のうちのコ
ーティング膜40を蒸着速度2〜3nm/秒にて屈折率
1.98の被膜に被膜形成したが、蒸着速度を1〜2n
m/秒にて屈折率1.85の被膜に形成すれば、第7図
の波線グラフ4gで示すように波長λ=780〜820
nmでの分光反射率を0.5優近くに設定することが
でき、0.5%以下における最大の分光反射率を得るこ
とができる。
3層のコーティング膜39 、40 、41のうちのコ
ーティング膜40を蒸着速度2〜3nm/秒にて屈折率
1.98の被膜に被膜形成したが、蒸着速度を1〜2n
m/秒にて屈折率1.85の被膜に形成すれば、第7図
の波線グラフ4gで示すように波長λ=780〜820
nmでの分光反射率を0.5優近くに設定することが
でき、0.5%以下における最大の分光反射率を得るこ
とができる。
他のコーティング膜39 、41の成膜条件は、前記実
施例のものと同一条件である。
施例のものと同一条件である。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、合成樹脂製光学部品の
表面に密着性が良好で、かつ、環境試験に対して耐クラ
ツク性を保有した機能性光学膜を被膜形成することがで
きるものである。
表面に密着性が良好で、かつ、環境試験に対して耐クラ
ツク性を保有した機能性光学膜を被膜形成することがで
きるものである。
第1図は本発明に係る方法の加工工程図、第2図、第3
図は第1図の要部の工程詳細図、第4図は合成樹脂製光
学部品の表面にコーティングする装置の断面説明図、第
5図は合成樹脂製光学部品表面をO,イオンでイオンボ
ンバード処理した後の分光反射率を示すグラフ図、第6
図は本発明に係る方法忙よりコーティングしたコーティ
ング膜の断面図、第7図は第6図のコーティング膜の分
光反射率を示すグラフ図、第8図は従来技術によるコー
ティング膜の断面図である。 1 ・・・・・・合成樹脂製光学部品 2.11・・・洗浄工程 10・・・・・・アニール処理工種 17・・・・・・前処理工程部 29・・・・・・Siココ−ティング工程3B・・・・
・・機能性光学膜コーティング工程部第5図 波 長 第7図 波 長 手続補正書(自発) 昭和60年9月5日 特許庁長官 宇賀道部 殿 、、、jfも−
1、s件の表示 昭和60年特 許 願 第7865号 2、発明の名称 合成樹脂製光学部品のコーティング方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番29号名
称 (037)オリンパス光学工業株式会社代表者
下山敏部 4、代 理 人 6、補正の対象 (1) 明細書の「特許請求の範囲Jの欄及び「発明
の詳細な説明」の欄 ■図 面 7、補正の内容 (1) 明細書の「特許請求の範囲」の欄の記載を別
紙の通り補正する。 ■ 明細書第7頁第8行目を下記の通り補正する。 rZr02を1On+s#ginでコートし、nd=八
/へ」(3)明細書第19頁第10行目に記載する「2
〜3nta/秒」をrQ、2〜0.5 nm7秒」と補
正する。 (4)明細書第19頁第10行目に記載する「屈折率1
.98Jを「屈折率1.4781と補正する。 (5)明細書第23頁第15行目に記載する「波線グラ
フ49」を「破線グラフ53」と補正する。 ((へ)図面中第7図を別紙の通り補正する。 8、添付書類の目録 (1)別 紙 1通 (力補正図面 1通 別 紙 2、特許請求の範囲 (1) 合成樹脂製光学部品表面を洗浄、加熱アニー
ル処理した後真空中にてイオンボンバード処理してコー
ティング前処理し、しかる後に、同真空中にてSi被膜
を合成樹脂製光学部品基材に第1層として被膜形成し2
しかる後に、機能性光学膜として5iOx(Xは1以
上)被膜を形成することを特徴とする合成樹脂製光゛学
部量のコーティング方法。 ■ 前記合成樹脂製光学部品は、ポリメチルメタクリレ
−) (PMMA)、ジエチレングリコールビスアリル
カーポネイ) (CR−39)、ポリカーボネイト(P
C)、ポリサルフォン(PSF)、ポリスチレン(PS
)。 スチレン拳アクリロニトリル共重合樹脂(As)もしく
はスチレン舎アクリロニトリル・ブタジェン共重合樹脂
(ABS)の成形品である特許請求の範囲第1項記載の
合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (3)前記コーティング前処理のイオンボンバードは、
真空中に活性又は不活性ガスを導入したRF 、DCも
しくはACプラズマ中で表面をプレスパツタして行なう
特許請求の範囲第1項又は第2項記載の合成樹脂製光学
部品のコーティング方法。 (4) 前記Si被膜を前記合成樹脂製光学部品の表面
に第1層として形成する工程は、02等の活性ガスを導
入し、前記合成樹脂製光学部品を加熱暖化する条件を含
む反応性蒸着で形成する工程である特許請求の範囲第1
項、第2項又は第3項記載の合成樹脂製光学部品のコー
ティング方法。 (5)前記機能性光学膜は、反射防止膜又は増反射膜で
ある特許請求の範囲第1項、第2項。 第3項又は第4項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 (旬 前記反射防止膜として、第1層にSiOを02反
応性イオンプレーティング、第2層にSiOをガス封入
なしの真空蒸着、第3層にSiOを02反応性イオンプ
レーティングして3層にコーティングする特許請求の範
囲第1項、第2項、第3項、第4項又は第5項記載の合
成樹脂製光学部品のコーティング方法。 ■ 前記加熱アニール処理後に第2の洗浄を行なう特許
請求の範囲第1項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 (8)前記合成樹脂製光学部品の洗浄は、アルカリ又は
中性洗剤にて洗浄した後水洗浄し、しかる後にイソプロ
ピルアルコールにて洗浄し、さらにフレオン洗浄、フレ
オン蒸気洗浄する特許請求の範囲第1項記載の合成樹脂
製光学部品のコーティング方法。 ■ 前記第2の洗浄は、フレオンの入った超音波洗浄を
行ない、その後フレオン浸漬洗浄を行ない、しかる後に
フレオン蒸気洗浄する特許請求の範囲第7項記載の合成
樹脂製光学部品のコーティング方法。 (10)前記コーティング前のイオンボンバード処理は
、真空蒸着チャンバー内をlXl0−5〜2XlO−5
丁orr以上に排気する高真空排気工程部と、02等の
ガスを8X10−5〜3×10−’Torr導入する反
応ガス導入工程部と。 イオンボンバード用電極に高周波を印加してプラズマを
発生させるRF 、DC又はACプラズマ発生工程部と
、プラズマによるプレスパツタで合成樹脂製光学部品の
表面改質処理を行なうプレスバッタ工程部とよりなる特
許請求の範囲第1項又は第3項記載の合成樹脂製光学部
品のコーティング方法。 (11)前記Si被膜を合成樹脂製光学部品の表面にi
1層として形成する工程は、イオンボンバード後にプラ
ズマを停止する工程部と、02等のガス封入をそのまま
にしてその雰囲気中で電子銃で電子銃用ハースにセット
したカーボンライナーに入れたSiを溶融し、反応性蒸
着を行なう工程部とよりなる特許請求の範囲第1項又は
第4項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (12)前記3層の反射防止膜のうちの第1層膜は、封
入02ガス圧8XIO−’ 〜3XlO″′4Tarr
、蒸発速度0.2〜0.5 ns/秒9機械的膜厚4
5り+s、屈折率1.478に形成し、又、第2層膜は
、真空度LX 10−5〜2X 10−’Torr以上
、蒸1速度2〜3 nw+/秒2機械的膜厚40!I■
、屈折率1.88に形成し、又、第3層膜は、封入02
ガス圧axio−5〜3XIO−’Torr 、蒸着速
度0.2〜0.5 ns/秒9機械的膜厚1B0nm、
屈折率1.478に形成する特許請求の範囲第1項又は
第6項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (13)前記第2層膜は、真空度lXl0−5〜2×1
0−’Torr以上、蒸着速度1〜2nm/2層Il械
膜厚40n■、屈折率1.85に形成される特許請求の
範囲第12項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング
方法。
図は第1図の要部の工程詳細図、第4図は合成樹脂製光
学部品の表面にコーティングする装置の断面説明図、第
5図は合成樹脂製光学部品表面をO,イオンでイオンボ
ンバード処理した後の分光反射率を示すグラフ図、第6
図は本発明に係る方法忙よりコーティングしたコーティ
ング膜の断面図、第7図は第6図のコーティング膜の分
光反射率を示すグラフ図、第8図は従来技術によるコー
ティング膜の断面図である。 1 ・・・・・・合成樹脂製光学部品 2.11・・・洗浄工程 10・・・・・・アニール処理工種 17・・・・・・前処理工程部 29・・・・・・Siココ−ティング工程3B・・・・
・・機能性光学膜コーティング工程部第5図 波 長 第7図 波 長 手続補正書(自発) 昭和60年9月5日 特許庁長官 宇賀道部 殿 、、、jfも−
1、s件の表示 昭和60年特 許 願 第7865号 2、発明の名称 合成樹脂製光学部品のコーティング方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番29号名
称 (037)オリンパス光学工業株式会社代表者
下山敏部 4、代 理 人 6、補正の対象 (1) 明細書の「特許請求の範囲Jの欄及び「発明
の詳細な説明」の欄 ■図 面 7、補正の内容 (1) 明細書の「特許請求の範囲」の欄の記載を別
紙の通り補正する。 ■ 明細書第7頁第8行目を下記の通り補正する。 rZr02を1On+s#ginでコートし、nd=八
/へ」(3)明細書第19頁第10行目に記載する「2
〜3nta/秒」をrQ、2〜0.5 nm7秒」と補
正する。 (4)明細書第19頁第10行目に記載する「屈折率1
.98Jを「屈折率1.4781と補正する。 (5)明細書第23頁第15行目に記載する「波線グラ
フ49」を「破線グラフ53」と補正する。 ((へ)図面中第7図を別紙の通り補正する。 8、添付書類の目録 (1)別 紙 1通 (力補正図面 1通 別 紙 2、特許請求の範囲 (1) 合成樹脂製光学部品表面を洗浄、加熱アニー
ル処理した後真空中にてイオンボンバード処理してコー
ティング前処理し、しかる後に、同真空中にてSi被膜
を合成樹脂製光学部品基材に第1層として被膜形成し2
しかる後に、機能性光学膜として5iOx(Xは1以
上)被膜を形成することを特徴とする合成樹脂製光゛学
部量のコーティング方法。 ■ 前記合成樹脂製光学部品は、ポリメチルメタクリレ
−) (PMMA)、ジエチレングリコールビスアリル
カーポネイ) (CR−39)、ポリカーボネイト(P
C)、ポリサルフォン(PSF)、ポリスチレン(PS
)。 スチレン拳アクリロニトリル共重合樹脂(As)もしく
はスチレン舎アクリロニトリル・ブタジェン共重合樹脂
(ABS)の成形品である特許請求の範囲第1項記載の
合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (3)前記コーティング前処理のイオンボンバードは、
真空中に活性又は不活性ガスを導入したRF 、DCも
しくはACプラズマ中で表面をプレスパツタして行なう
特許請求の範囲第1項又は第2項記載の合成樹脂製光学
部品のコーティング方法。 (4) 前記Si被膜を前記合成樹脂製光学部品の表面
に第1層として形成する工程は、02等の活性ガスを導
入し、前記合成樹脂製光学部品を加熱暖化する条件を含
む反応性蒸着で形成する工程である特許請求の範囲第1
項、第2項又は第3項記載の合成樹脂製光学部品のコー
ティング方法。 (5)前記機能性光学膜は、反射防止膜又は増反射膜で
ある特許請求の範囲第1項、第2項。 第3項又は第4項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 (旬 前記反射防止膜として、第1層にSiOを02反
応性イオンプレーティング、第2層にSiOをガス封入
なしの真空蒸着、第3層にSiOを02反応性イオンプ
レーティングして3層にコーティングする特許請求の範
囲第1項、第2項、第3項、第4項又は第5項記載の合
成樹脂製光学部品のコーティング方法。 ■ 前記加熱アニール処理後に第2の洗浄を行なう特許
請求の範囲第1項記載の合成樹脂製光学部品のコーティ
ング方法。 (8)前記合成樹脂製光学部品の洗浄は、アルカリ又は
中性洗剤にて洗浄した後水洗浄し、しかる後にイソプロ
ピルアルコールにて洗浄し、さらにフレオン洗浄、フレ
オン蒸気洗浄する特許請求の範囲第1項記載の合成樹脂
製光学部品のコーティング方法。 ■ 前記第2の洗浄は、フレオンの入った超音波洗浄を
行ない、その後フレオン浸漬洗浄を行ない、しかる後に
フレオン蒸気洗浄する特許請求の範囲第7項記載の合成
樹脂製光学部品のコーティング方法。 (10)前記コーティング前のイオンボンバード処理は
、真空蒸着チャンバー内をlXl0−5〜2XlO−5
丁orr以上に排気する高真空排気工程部と、02等の
ガスを8X10−5〜3×10−’Torr導入する反
応ガス導入工程部と。 イオンボンバード用電極に高周波を印加してプラズマを
発生させるRF 、DC又はACプラズマ発生工程部と
、プラズマによるプレスパツタで合成樹脂製光学部品の
表面改質処理を行なうプレスバッタ工程部とよりなる特
許請求の範囲第1項又は第3項記載の合成樹脂製光学部
品のコーティング方法。 (11)前記Si被膜を合成樹脂製光学部品の表面にi
1層として形成する工程は、イオンボンバード後にプラ
ズマを停止する工程部と、02等のガス封入をそのまま
にしてその雰囲気中で電子銃で電子銃用ハースにセット
したカーボンライナーに入れたSiを溶融し、反応性蒸
着を行なう工程部とよりなる特許請求の範囲第1項又は
第4項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (12)前記3層の反射防止膜のうちの第1層膜は、封
入02ガス圧8XIO−’ 〜3XlO″′4Tarr
、蒸発速度0.2〜0.5 ns/秒9機械的膜厚4
5り+s、屈折率1.478に形成し、又、第2層膜は
、真空度LX 10−5〜2X 10−’Torr以上
、蒸1速度2〜3 nw+/秒2機械的膜厚40!I■
、屈折率1.88に形成し、又、第3層膜は、封入02
ガス圧axio−5〜3XIO−’Torr 、蒸着速
度0.2〜0.5 ns/秒9機械的膜厚1B0nm、
屈折率1.478に形成する特許請求の範囲第1項又は
第6項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 (13)前記第2層膜は、真空度lXl0−5〜2×1
0−’Torr以上、蒸着速度1〜2nm/2層Il械
膜厚40n■、屈折率1.85に形成される特許請求の
範囲第12項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング
方法。
Claims (13)
- (1)合成樹脂製光学部品表面を洗浄、加熱アニール処
理した後真空中にてイオンボンバード処理してコーティ
ング前処理し、しかる後に、同真空中にてSi被膜を合
成樹脂製光学部品基材に第1層として被膜形成し、しか
る後に、機能性光学膜としてSiO_x(xは1以上)
被膜を形成することを特徴とする合成樹脂製光学部品の
コーティング方法。 - (2)前記合成樹脂製光学部品は、ポリメチルメタクリ
レート(PMMA)、ジエチレングリコールピスアリル
カーボネイト(CR−39)、ポリカーボネイト(PC
)、ポリサルフォン(PSF)、ポリスチレン(PS)
、スチレン・アクリロニトリル共重合樹脂(AS)もし
くはスチレン・アクリロニトリル・ブタジエン共重合樹
脂(ABS)の成形品である特許請求の範囲第1項記載
の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 - (3)前記コーティング前処理のイオンボンバードは、
真空中に活性又は不活性ガスを導入したRF、DCもし
くはACプラズマ中で表面をプレスパッタして行なう特
許請求の範囲第1項は第2項記載の合成樹脂製光学部品
のコーティング方法。 - (4)前記Si被膜を前記合成樹脂製光学部品の表面に
第1層として形成する工程は、O_2等の活性ガスを導
入し、前記合成樹脂製光学部品を加熱暖化する条件を含
む反応性蒸着で形成する工程である特許請求の範囲第1
項、第2項又は第3項記載の合成樹脂製光学部品のコー
ティング方法。 - (5)前記機能性光学膜は、反射防止膜又は増反射膜で
ある特許請求の範囲第1項、第2項、第3項又は第4項
記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 - (6)前記反射防止膜として、第1層にSiOをO_2
反応性イオンプレーティング、第2層にSiOをガス封
入なしの真空蒸着、第3層にSiOをO_2反応性イオ
ンプレーティングして3層にコーティングする特許請求
の範囲第1項、第2項、第3項、第4項又は第5項記載
の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 - (7)前記加熱アニール処理後に第2の洗浄を行なう特
許請求の範囲第1項記載の合成樹脂製光学部品のコーテ
ィング方法。 - (8)前記合成樹脂製光学部品の洗浄は、アルカリ又は
中性洗剤にて洗浄した後水洗浄し、しかる後にイソプロ
ピルアルコールにて洗浄し、さらにフレオン洗浄、フレ
オン蒸気洗浄する特許請求の範囲第1項記載の合成樹脂
製光学部品のコーティング方法。 - (9)前記第2の洗浄は、フレオンの入つた超音波洗浄
を行ない、その後フレオン浸漬洗浄を行ない、しかる後
にフレオン蒸気洗浄する特許請求の範囲第7項記載の合
成樹脂製光学部品のコーティング方法。 - (10)前記コーティング前のイオンボンバード処理は
、真空蒸着チャンバー内を1〜2×10^−^5Tor
r以上に排気する高真空排気工程部と、O_2等のガス
を8×10^−^5〜3×10^−^4Torr導入す
る反応ガス導入工程部と、イオンボンバード用電極に高
周波を印加してプラズマを発生させるRF、DC又はA
Cプラズマ発生工程部と、プラズマによるプレスパッタ
で合成樹脂製光学部品の表面改質処理を行なうプレスパ
ッタ行程部とよりなる特許請求の範囲第1項又は第3項
記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。 - (11)前記Si被膜を合成樹脂製光学部品の表面に第
1層として形成する工程は、イオンボンバード後にプラ
ズマを停止する工程部と、O_2等のガス封入をそのま
まにしてその雰囲気中で電子銃で電子銃用ハースにセッ
トしたカーボンライナーに入れたSiを溶融し、反応性
蒸着を行なう工程部とよりなる特許請求の範囲第1項又
は第4項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法
。 - (12)前記3層の反射防止膜のうちの第一層膜は、封
入O_2ガス圧8×10^−^5〜3×10^−^4T
orr、蒸発速度0.2〜0.5nm/秒、機械的膜厚
45nm、屈折率1.476に形成し、又、第2層膜は
、真空度1〜2×10^−^5Torr以上、蒸着速度
2〜3nm/秒、機械的膜厚40nm、屈折率1.98
に形成し、又、第3層膜は、封入O_2ガス圧8×10
^−^5〜3×10^−^4Torr、蒸着速度2〜3
nm/秒、機械的膜厚160nm、屈折率1.98に形
成する特許請求の範囲第1項又は第6項記載の合成樹脂
製光学部品のコーティング方法。 - (13)前記第2層膜は、真空度1〜2×10^−^5
Torr以上、蒸着速度1〜2nm/秒、機械的膜厚4
0nm、屈折率1.85に形成される特許請求の範囲第
12項記載の合成樹脂製光学部品のコーティング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60007865A JPS61167903A (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60007865A JPS61167903A (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61167903A true JPS61167903A (ja) | 1986-07-29 |
Family
ID=11677538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60007865A Pending JPS61167903A (ja) | 1985-01-19 | 1985-01-19 | 合成樹脂製光学部品のコ−テイング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61167903A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000003054A1 (fr) * | 1998-07-10 | 2000-01-20 | Nihon Seimitsu Co., Ltd. | Procede de galvanoplastie ionique d'une resine synthetique, et article en resine synthetique moulee presentant un revetement realise par galvanoplastie ionique |
WO2002077704A1 (fr) * | 2001-03-22 | 2002-10-03 | Sony Corporation | Dispositif d'affichage reflechissant, plaque guide d'ondes optiques, et procede de realisation d'une plaque guide d'ondes optiques |
JP2007195658A (ja) * | 2006-01-25 | 2007-08-09 | Olympus Corp | 内視鏡及びその製造方法 |
CN101995590A (zh) * | 2009-08-07 | 2011-03-30 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 光学元件的制造方法及光学元件 |
-
1985
- 1985-01-19 JP JP60007865A patent/JPS61167903A/ja active Pending
Cited By (6)
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