JPS61153851A - Production of optical information recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To reduce the production cost of the titled medium by producing the optical information recording medium whose unit information area consists of a lattice by the repetition of a process for forming a part of the lattices on each part on which the unit information area is formed. CONSTITUTION:A mask 21 is superposed on an optical information recording medium 22, and the patterns of slits 23 and 24 are exposed. Then the mask 21 shown by the broken line is moved with respect to the medium 22 in the direction as shown y the arrow A by the distance lg corresponding to the pitch l'g of the lattices of a recording pit, and the pattern is likewise exposed. Then the mask 21 is further moved by lg, and the pattern is exposed. Such an exposure is repeated 4 times, and the lattice pattern is printed on the medium 22 and developed to form recording bits 25 and 26. At this time, the interval lp between the slits 23 and 24 on the mask 21 corresponds to the interval between the recording bits 25 and 26 on the recording bit 22, and lp>lg. Accordingly, the accuracy in producing the mask 21 may not be so severe as in the well-known process, and hence the medium 22 an be produced at low cost.

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の分野〕 本発明は光ディスク、光カード、光テープ等に適用可能
か光情報記録媒体を作製する方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an optical information recording medium that can be applied to optical discs, optical cards, optical tapes, and the like.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、光を用いて情報を記録、読出す媒体の形態として
光ディスク、元カード、光テープ等各種のものが知られ
ている。これらの媒体において情報の記録あるいは読出
しの原理は用いる媒体材料の種類、記録あるいは読出し
に用いる光学系、システムの種類によって異なり、いく
つかの方法が実用化されている。代表的なものとしては
光磁気記録媒体の如く光を用いて媒体せて信号を検出す
る方法、あるいは情報に相当する部分のみ媒体の光透過
率１反射率、Ｖ＆収スペクトルを変化させて記録、再生
を行う方法、また媒体の情報記録部の屈折率、形状を変
化させて該記録部に照射した再生光の回折・干渉等の現
象を利用して信号に対応する光強度の変化を検出する方
法などがある。例えば、比較的簡易な構成で、良好なる
再生信号の８１Ｎ比を得られるものとして、単位記録エ
リアをビットの形で記録するものが知られている。また
、このようなピット記録に対し、オートトラッキング（
ＡＴ）　、オートフォーカス（ＡＦ）の技術を不要とす
ることによって更に応用形態を広げ、媒体・装置が低コ
スト化出来るものとして、情報を記録すべき単位情報エ
リアを格子で構成した光情報記録媒体が本出願人によっ
て既に提案されている。2. Description of the Related Art Conventionally, various types of media such as optical disks, original cards, and optical tapes have been known as media for recording and reading information using light. The principles of recording or reading information in these media vary depending on the type of media material used, the optical system used for recording or reading, and the type of system, and several methods have been put into practical use. Typical methods include a method of detecting a signal using light such as a magneto-optical recording medium, or a method of recording by changing the light transmittance, reflectance, V& The method of reproduction involves changing the refractive index and shape of the information recording part of the medium and detecting changes in the light intensity corresponding to the signal by using phenomena such as diffraction and interference of the reproduction light irradiated to the recording part. There are methods. For example, a device in which unit recording areas are recorded in the form of bits is known as a device that can obtain a good 81N ratio of a reproduced signal with a relatively simple configuration. In addition, auto tracking (
AT), an optical information recording medium in which the unit information area on which information is to be recorded is composed of a lattice, which can further expand its application form and reduce the cost of media and devices by eliminating the need for autofocus (AF) technology. has already been proposed by the applicant.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の目的は、単位情報エリアが格子で構成された新
規な光情報記録媒体を、低コストで作製する方法を提供
することにやる。An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a novel optical information recording medium in which the unit information area is structured as a lattice at a low cost.

本発明の上記目的は、光情報記録媒体を、単位情報エリ
アを形成すべき各々の部分に格子の一部を形成する過程
の繰り返しで作製することＫよって達成される。The above object of the present invention is achieved by manufacturing an optical information recording medium by repeating the process of forming a part of a grating in each portion where a unit information area is to be formed.

〔実施例〕〔Example〕

まず、第５図で、本発明によって作製された光情報記録
媒体における格子の基本構成を説明する。第５図（Ａ）
において１１は光情報記録媒体、１２は情報を記録する
最小の単位である単位情報エリア（以後記録ビットと呼
ぶ）、１３は透明な保護層、１４は光反射膜、１５は基
板をあられす。ここで記録ビット１２は従来のような単
なる凹凸の段差ではなく、ビット１２内に周期的な構造
の格子を有している。このような格子構造はエンボス加
工の他、後述する各種の手段によって形成が５Ｔ能であ
る。情報再生光１７はＬＥＤの如く広がりを持った光シ
がらの光であるとし、該再生光はレンズ１６を通してビ
ット１２及びその周辺部をほぼ均一に照明する。First, with reference to FIG. 5, the basic structure of the lattice in the optical information recording medium manufactured according to the present invention will be explained. Figure 5 (A)
11 is an optical information recording medium, 12 is a unit information area (hereinafter referred to as a recording bit) which is the smallest unit for recording information, 13 is a transparent protective layer, 14 is a light reflecting film, and 15 is a substrate. Here, the recording bit 12 is not simply a concave-convex step as in the conventional case, but has a periodic grating within the bit 12. Such a lattice structure can be formed with 5T capability by various means described below in addition to embossing. The information reproducing light 17 is assumed to be a beam of light with a spread like an LED, and the reproducing light illuminates the bit 12 and its surrounding area almost uniformly through the lens 16.

ビット部を照明した光はビット内の格子の回折作用によ
り、格子のピッチと照明光の波長で定まる特定の方向に
強められて反射する。従って、例えば格子のピッチを少
なくとも１次の回折光１８がレンズ１６に入らないよう
に選んでやれば回折光はすべてレンズ外にそれる為、ビ
ット１２が存在しない部分による正反射光がレンズ１６
を通してもどる場合と明らかな光量差が相応する光出力
を表わす図である。＠キロ（Ｂ）より明らかな様に、ビ
ット１２が存在する部分からレンズ１６に戻る光量はビ
ットが存在しない部分からレンズ１６に戻る装置に比し
て一端に少なく、ピット部とピット部でない境界領域で
の光量差も顕著に表われる。従って、従来の様に１ビツ
ト内部に格子が無いと、ビット内部からの反射光が増し
てＳ／Ｎ比が低下したり、又は記録ビットの長さによっ
て信号を記録する様な変調方式の場合、ビットの長さに
よって再生光の光量が変動したり、ビットのエツジ部だ
けしか光量変化が生じなかったりして信号再生が困難に
なるのに対し【、このような光情報記録媒体では、格子
のピッチが一定であれば、ビットの長さ、大きさによら
ず光の回折角度は常に一定であるから安定した信号再生
が可能になる。Due to the diffraction effect of the grating within the bit, the light that illuminates the bit is intensified and reflected in a specific direction determined by the pitch of the grating and the wavelength of the illumination light. Therefore, for example, if the pitch of the grating is selected so that at least the first-order diffracted light 18 does not enter the lens 16, all the diffracted light will be deflected outside the lens, and the specularly reflected light from the part where the bit 12 does not exist will be reflected by the lens 16.
FIG. 4 is a diagram showing the corresponding light output with a clear difference in light amount from the case of going back through the lens; As is clear from @km (B), the amount of light that returns to the lens 16 from the part where the bit 12 is present is smaller at one end than the device that returns to the lens 16 from the part where the bit is not present, and the amount of light that returns to the lens 16 from the part where the bit is not present is smaller at one end. Differences in light amount between regions are also noticeable. Therefore, if there is no grating inside one bit as in the past, the amount of light reflected from inside the bit increases and the S/N ratio decreases, or in the case of modulation methods that record signals depending on the length of the recording bit. However, in such optical information recording media, the light intensity of the reproduction light fluctuates depending on the length of the bit, or the light intensity changes only at the edges of the bit, making signal reproduction difficult. If the pitch of the bits is constant, the angle of diffraction of light is always constant regardless of the length and size of the bits, so stable signal reproduction is possible.

次に、前述の如き光情報記録媒体を通常の７オトリソグ
ラフイ（以下フォトリソと称す）技術を用いて作製する
方法を第６図で説明する。Next, a method for manufacturing the above-mentioned optical information recording medium using a normal 7-otolithography (hereinafter referred to as photolithography) technique will be explained with reference to FIG.

図中、１は記録媒体に記録ビットパターンを焼き付ける
為のマスク、２はマスク１を用いて重ね焼きで作製され
た光情報記録媒体、３，４はマスク１にＥ　Ｂ　（Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｎ　Ｂｅａｍ　）露光によつ【形成されたス
リット格子から成る記録ピットパターンで、斜線部は透
光部（スリット）を示す。５．６はマ゛スクＩＫよる焼
き付けの後、現像処理によって形成された記録ピットで
、各々が梨池部で示される格子から構成される。通常、
記録ビットはミクロンオーダの微小なもので、例えばク
レジットカードサイズの光情報記　　　゛録媒体には数
メガバイト或いはそれ以上の情報が記録されるものであ
るが、説明の都合上、図面では媒体サイズに対して大き
く描いている。In the figure, 1 is a mask for printing a recording bit pattern onto the recording medium, 2 is an optical information recording medium produced by overprinting using mask 1, and 3 and 4 are E B (El
This is a recording pit pattern consisting of a slit grid formed by electron beam (electron beam) exposure, and the shaded areas indicate light-transmitting areas (slits). 5.6 are recording pits formed by a developing process after printing with a mask IK, each of which is composed of a grid indicated by a pear pattern. usually,
Recording bits are tiny on the micron order, and for example, several megabytes or more of information can be recorded on an optical information recording medium the size of a credit card, but for convenience of explanation, the media size is not shown in the drawings. It is drawn large.

具体的には、例えば光情報記録媒体２０幅１ｏ’は５０
ｍｍ程度で、記岸ピット５，６の格子ピッチ１ｇ′は１
μｍ程度である。また重ね焼きに用いるマスク１０幅１
ｏも５０ｍｍ程度、記録ピットパターン３．４のスリッ
トの間隔も１μｍ程度に形成され、通常 １ｏ　＞　Ｉｇ　　　　　　（１） の関係となる。Specifically, for example, the width 1o' of the optical information recording medium 20 is 50
mm, and the lattice pitch 1g' of the bank pits 5 and 6 is 1
It is about μm. Also, 10 masks used for overlaying 1 width
o is also formed to be about 50 mm, and the interval between the slits of the recording pit pattern 3.4 is also formed to be about 1 μm, and the relationship is usually 1o > Ig (1).

しかし、このような方法で光情報記録媒体を作製する場
合には、作製する媒体と全く同様の記録ピットパターン
を形成したマスク１が必要である。従って、このような
マスクを作製するＥＢ露光機は記録ピットパターンを記
憶する膨大な容量のメモリを有するものでなくてはなら
ない。また、（１）式のような関係から、長いスト田−
りに亘って高い精度が要求される。マスクの作製におけ
るこのような要求は、マスクの製造コストを上昇させ、
しいては光情報記録媒体の高価格化につながる。However, when producing an optical information recording medium using such a method, a mask 1 is required in which a recording pit pattern exactly similar to that of the medium to be produced is formed. Therefore, an EB exposure machine for producing such a mask must have a huge capacity of memory for storing recorded pit patterns. Also, from the relationship shown in equation (1), a long strike field -
High precision is required throughout. Such requirements in mask fabrication increase the cost of manufacturing the mask,
This in turn leads to an increase in the price of optical information recording media.

そこで、本発明においては、第１図で説明するような方
法で光情報記録媒体を作製するものである。第１図にお
いて、２１は記録媒体に記録ピットパターンを焼き付け
る為のマスク、２２はマスク２１を用いて重ね焼きの多
重露光で作製された光情報記録媒体、２３，２４はマス
ク２１１Ｃ形成されたスリットで、記録媒体の記録ピッ
トを形成すべき部分に対応した位置に設けられる。２５
．２６はマスク２１による複数回の露光の後、現像処理
によって形成された記録ビットで、各々が梨地部で示さ
れる格子から構成される。Therefore, in the present invention, an optical information recording medium is manufactured by a method as explained in FIG. In FIG. 1, 21 is a mask for printing a recording pit pattern on the recording medium, 22 is an optical information recording medium manufactured by multiple exposure of overprinting using the mask 21, and 23 and 24 are slits formed by a mask 211C. The recording medium is provided at a position corresponding to a portion of the recording medium where recording pits are to be formed. 25
．． Reference numeral 26 denotes recording bits formed by a development process after multiple exposures using the mask 21, each consisting of a lattice represented by a matte finish.

作製には、まずマスク２１を光情報記録媒体２２上に重
ね、スリット２３および２４のノぐターンを露光する。In manufacturing, first, a mask 21 is placed on the optical information recording medium 22, and the grooves of the slits 23 and 24 are exposed.

次に、破線で示すようにマスク２１を光情報記録媒体２
２に対して矢印入方向に記録ビットの格子のピッチ１ｇ
′に対応する距離１ｇだけ移動させ、同様に露光を行な
う。更にマスク２１をＩｇだけ（１回目の露光位置から
２！ｇ）だけ移動させて露光を行なう。このような露光
を４回繰り返すことＫよって、光情報記録媒体２２に格
子パターンを焼き付け、現像処理によって記録ピッ）２
５．２６が形成される。Next, the mask 21 is attached to the optical information recording medium 2 as shown by the broken line.
The pitch of the grid of recording bits is 1g in the direction of the arrow for 2.
′, and perform exposure in the same manner. Further, the mask 21 is moved by Ig (2!g from the first exposure position) to perform exposure. By repeating such exposure four times, a lattice pattern is printed on the optical information recording medium 22, and a recording pitch is formed by development processing.
5.26 is formed.

尚、等焙焼き付けとするとＩｇ　＝　１ｇ’　である。In addition, if it is roasted evenly, Ig = 1 g'.

ここで、マスク２１上のスリット２３および２４の間隔
１ｐは、光情報記録媒体２２上の記録ピット２５および
２６の間隔に対応し、少なくともｌｐ　＞　Ｉｇ　（こ
こでは１９２４１ｇ）の関係がある。従って、マスク２
１を作製する場合の精度は、第６図の場合よりも緩和さ
れる。またスリブ）２３．２４をＥｉＢ露光機で形成す
る場合、装置内のメモリ容量は４分の１ですむ。このよ
うに１本発明の方法を用いれば、マスクの製造コストを
低減し、結果的に光情報記録媒体を安価に作製すること
が出来る。Here, the interval 1p between the slits 23 and 24 on the mask 21 corresponds to the interval between the recording pits 25 and 26 on the optical information recording medium 22, and there is a relationship of at least lp > Ig (19241g here). Therefore, mask 2
1 is made with less precision than in the case of FIG. Furthermore, when forming the sleeves 23 and 24 using an EiB exposure machine, the memory capacity in the machine can be reduced to one-fourth. As described above, by using the method of the present invention, the manufacturing cost of a mask can be reduced, and as a result, an optical information recording medium can be manufactured at low cost.

第２図は、本発明による作製方法の他の例を示す概略図
である。図中、第１図と共通の部分には同一の符号を付
し、詳細な説明は省略する。FIG. 2 is a schematic diagram showing another example of the manufacturing method according to the present invention. In the figure, parts common to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed explanation will be omitted.

本実施例では、マスク３１として１つの記録ピットパタ
ーンに対し、２本のスリット３３１，３３゜および３４
１．３４．を形成したものを用い、後は第１図の例と同
様にマスク３１を矢印Ａ方向に移動させて繰り返し露光
を行なうものである。In this embodiment, two slits 331, 33° and 34° are used as the mask 31 for one recording pit pattern.
1.34. After that, the mask 31 is moved in the direction of arrow A to perform repeated exposures as in the example shown in FIG.

本実施例では、第１図の例に比べ、マスクに形成される
スリットの間隔は小さくなるものの（ここでは２１ｇ）
、露光の回数を減らすことが出来るＯ 第３図は、本発明による作製方法の他の例を示す概略図
である。図中、第１図と共通の部分には同一の符号を付
し、詳細な説明は省略する。In this example, although the spacing between the slits formed in the mask is smaller than in the example shown in FIG. 1 (21 g in this case),
, the number of exposures can be reduced. FIG. 3 is a schematic diagram showing another example of the manufacturing method according to the present invention. In the figure, parts common to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed explanation will be omitted.

本実施例では第１図の例において、マスク牽移動させる
代わりに、４枚のマスク４１．、　、４１．　。In this embodiment, instead of dragging and moving the masks in the example of FIG. 1, four masks 41. , ,41. .

４１ｓ　、　４１．を用いて多重露光を行なうものであ
る。ここでマスク４１．には、光情報記録媒体２２０単
位情報エリアを形成すべき部分に対応する位置にそれぞ
れスリブ）　４３．　、４４Ｋが形成されている。また
これらのスリット４３．と４４□との間隔は記録ピット
の間隔に対応した距ｍｌｐとなっている。マスク４１！
には、マスク４１．上のスリット４３．　、４４．と記
録ピット２５の格子ピッチｌ〆に対応した距離１ｇだけ
異なる位、ｌｔＫ。41s, 41. This method performs multiple exposure using . Here mask 41. 43. In the optical information recording medium 220, each sleeve is placed at a position corresponding to a portion where a unit information area is to be formed. , 44K are formed. Also, these slits 43. The interval between and 44□ is a distance mlp corresponding to the interval between recording pits. Mask 41!
Mask 41. Upper slit 43. , 44. and ltK differ by a distance of 1 g corresponding to the lattice pitch l of the recording pit 25.

夫々スリブ）　４３．　、４４．が形成されている。例
えば、マスク４１．のスリット４３１がマスクの端から
距離ｌだけ離れた位置に設けられているとすると、マス
ク４１．のスリット４３．は距ｆｌＡｌ＋１ｇの位置に
形成されている。スリット４３！と４４゜との間隔は変
わらずｉｐである。同様に、マスク４１．には端からｌ
＋２１ｇの位置およびそこからｌｐの位置に夫々スリブ
）　４３ｓ　、　４４．が形成されている。また、マス
ク４１４には端からｌ＋３ｇの位置およびそこからｌｐ
の位置に夫々スリット４３４　、４４．が形成されてい
る。each sleeve) 43. , 44. is formed. For example, mask 41. Suppose that the slit 431 of the mask 41. is provided at a distance l from the edge of the mask. slit 43. is formed at a distance flAl+1g. Slit 43! The distance between and 44° remains ip. Similarly, mask 41. l from the end
+21g position and 1p position from there respectively) 43s, 44. is formed. Also, the mask 414 has a position l+3g from the end and lp from there.
slits 434 and 44., respectively. is formed.

作製には、まずマスク４１．を光情報記録媒体２２上に
重ね、スリン）　４３．および４４．のパターンを露光
する。次に、マスク４１．の代わりに２２上にマスク４
１．を重ね、スリット４３．および４４．のパターンを
総光する。更にマスクを夫々４１．．４４４に交換して
同様に露光を繰り返し、合計４＠の露光を行なう。この
ようＫして、光情報記録媒体２２上に格子パターンを焼
き付け、現像処理によって記録ピッ）２５．２６が形成
される。本実施例におい【は、複数のマスクを用意する
必要があるが、マスク形成を容易にし、製造コストを低
減させる効果は、第１図の例と同様である。For fabrication, first, a mask 41. 43. and 44. pattern. Next, mask 41. mask 4 on 22 instead of
1. overlap and slit 43. and 44. Totally illuminate the pattern. Furthermore, each mask costs 41. ．． 444 and repeat the exposure in the same way, making a total of 4@ exposures. In this manner, a lattice pattern is printed on the optical information recording medium 22, and recording pits 25 and 26 are formed by development processing. In this embodiment, it is necessary to prepare a plurality of masks, but the effect of facilitating mask formation and reducing manufacturing costs is the same as in the example of FIG. 1.

本発明の方法は、以上の７オ）　リソ技術による作製の
他にも適用出来る。第４図は、本発明を、エンボス加工
による光情報記録媒体の作製に適用した場合を説明する
略断面図である。図中、５１は光情報記録媒体、５２は
上ダイス、５３は下ダイス、５４は上ダイスに設けられ
た突起で、図には１つしか描かれていないが、第１図の
マスクと同様、記録ビットの数だけ設けられている。５
５は下ダイスに設けられた凹みで、やはり格子状の情報
パターンを形成している。５６は、媒体上に加工される
凹みである。The method of the present invention can be applied in addition to the above-mentioned 7) production using lithography technology. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating the case where the present invention is applied to the production of an optical information recording medium by embossing. In the figure, 51 is an optical information recording medium, 52 is an upper die, 53 is a lower die, and 54 is a protrusion provided on the upper die.Although only one is drawn in the figure, it is similar to the mask in Figure 1. , are provided as many as the number of recording bits. 5
5 is a recess provided in the lower die, which also forms a grid-like information pattern. 56 is a recess machined on the medium.

争 第番図（Ａ）で、媒体５１を上ダイス５２．下ダイス５
３０間にはさんで、押しつけると、媒体５１に上ダイス
５２の突起に従った凹み５６が形成される。In the battle number diagram (A), place the medium 51 on the upper die 52. lower die 5
30 and when pressed, a recess 56 following the protrusion of the upper die 52 is formed in the medium 51.

次Ｋ　（Ｂ）のように１上ダイス５２を記録ビットの格
子ピッチ分だけずらして、押しつけると（Ａ）で形成さ
れた凹み５６に隣接して、凹みが形成される。更に（Ｃ
）のように１上ダイス５２をずらし文、押しつけると同
様に凹みが形成される。When the upper die 52 is shifted by the lattice pitch of the recording bits and pressed as shown in (B), a recess is formed adjacent to the recess 56 formed in (A). Furthermore (C
) When the upper die 52 is moved and pressed, a recess is formed in the same way.

この様にして、媒体５１上には（Ｄ）のような格子から
成る記録ビット５７が形成される。In this way, recording bits 57 consisting of a lattice as shown in (D) are formed on the medium 51.

エンボス加工においても、前述の７オトリソにおけるマ
スクと同様に、１つの上ダイスに格子で構成した記録ビ
ットパターンを形成する事は、困難である。従って、本
実施例のように１つの記録ピッ）Ｋついて１個の突起を
設けた上ダイスを用いる事により、上ダイスの製造が容
易になる。Even in embossing, it is difficult to form a recording bit pattern composed of a lattice on one upper die, similar to the mask in the above-mentioned 7-otolithography. Therefore, by using an upper die provided with one protrusion for one recording pitch (K) as in this embodiment, manufacturing of the upper die becomes easier.

下ダイス５３については、図から明らかなように、媒体
の厚み分だけ格子の太さが太くなり、製造は比較的容易
である。又、場合によっては、下ダイスは情報パターン
の大きさに１媒体の厚み分を加えた大きさの凹みＫする
事も可能である。更、に、下ダイスを平板とすることも
出来る。As for the lower die 53, as is clear from the figure, the thickness of the lattice is increased by the thickness of the medium, and manufacturing is relatively easy. Further, depending on the case, the lower die may have a recess K having a size equal to the size of the information pattern plus the thickness of one medium. Furthermore, the lower die can also be made into a flat plate.

この場合、媒体の格子パターンは多少変形するが、情報
を読み出す上では特に問題はない。In this case, although the lattice pattern of the medium is slightly deformed, there is no particular problem in reading out information.

本発明は、前述の実施例に限らず種々の応用が可能であ
る。例えば、単位情報エリアを構成する格子は、レリー
フ構造だけでなく、媒体の屈折率変化１反射率又は透過
率の変化によっても形成することが出来る。具体的には
媒体に光の照射によって前述の如き変化を生じる感光層
を設け、第１図乃至第３図で説明した方法と同様に繰り
返し露光を行なう事によって格子を形成する。尚、この
場合には現像処理は必要ないが、保存時、読み出し時の
感光層の変化を防ぐ為、露光の際の光が作製後に入射す
る光と強度。The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be applied in various ways. For example, the grating constituting the unit information area can be formed not only by a relief structure but also by a change in the refractive index, reflectance, or transmittance of the medium. Specifically, a photosensitive layer that undergoes the above-mentioned changes when irradiated with light is provided on the medium, and a grating is formed by repeated exposure in the same manner as the method described in FIGS. 1 to 3. In this case, development processing is not necessary, but in order to prevent changes in the photosensitive layer during storage and readout, the light and intensity of the light incident upon exposure after fabrication must be adjusted.

波長等で区別できるよう設定するか或いは作製後に定着
処理を行なう必要がある。It is necessary to set it so that it can be distinguished by wavelength, etc., or to perform a fixing process after fabrication.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように１本発明は単位情報エリアが格子か
ら成る光情報記録媒体を、単位情報エリアを形成すべき
各々の部分に格子の一部を形成する過程の繰り返、しで
作製することＫよって、媒体の製造コストを低減する効
果を有するものである。As explained above, one aspect of the present invention is to manufacture an optical information recording medium in which the unit information area is a lattice by repeating the process of forming a part of the lattice in each part where the unit information area is to be formed. Therefore, it has the effect of reducing the manufacturing cost of the medium.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図、第２図および第３図は夫々７オトリソ技術を利
用し【光情報記録媒体を作製する本発明の方法の実施例
を説明する概略平面図、第４図（Ａ）　；　（Ｂ）　、
　（Ｃ）　、　（Ｄ）は夫々エンボス加工を用いた本発
明の詳細な説明する略断面図、第５図（Ａ）　、　（Ｂ
）は夫々本発明を用いて作製される光情報記録媒体にお
ける格子の基本構成を説明する図、ａ６図は記録ビット
と同一の格子パターンが形成されたマスクを用いて光情
報記録媒体を作製する方法を説明する概略平面図である
。 ２１・−・マスク、２２・・・光情報記録媒体、２３゜
２４・・・スリット、２５．２６・・・記録ビット。1, 2, and 3 are schematic plan views illustrating an embodiment of the method of the present invention for producing an optical information recording medium using the 7 otolithography technique, and FIG. 4 (A); ),
(C) and (D) are schematic cross-sectional views explaining details of the present invention using embossing, and FIGS. 5A and 5B are respectively
) are diagrams illustrating the basic structure of the lattice in the optical information recording medium produced using the present invention, and Figure a6 is a diagram in which the optical information recording medium is produced using a mask on which the same lattice pattern as the recording bits is formed. It is a schematic plan view explaining a method. 21... Mask, 22... Optical information recording medium, 23° 24... Slit, 25.26... Recording bit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）１つの過程が光情報記録媒体の単位情報エリアを
形成すべき各々の部分に格子の一部を形成することから
成り、この過程の繰り返しによつて単位情報エリアが格
子で構成された光情報記録媒体を作製する方法。(1) One process consists of forming a part of a lattice in each part of the optical information recording medium that is to form a unit information area, and by repeating this process, the unit information area is composed of a lattice. A method for producing an optical information recording medium.