JPS6112675A - ピリミジン誘導体 - Google Patents
ピリミジン誘導体Info
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- JPS6112675A JPS6112675A JP13350184A JP13350184A JPS6112675A JP S6112675 A JPS6112675 A JP S6112675A JP 13350184 A JP13350184 A JP 13350184A JP 13350184 A JP13350184 A JP 13350184A JP S6112675 A JPS6112675 A JP S6112675A
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- Japan
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- formula
- compound
- pyrimidine
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- tetradecyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピリミジン誘導体に関するものであ〔式中nは
9〜14の整数を示す。〕 で示される新規ピリミジン誘導体に関するものである。
9〜14の整数を示す。〕 で示される新規ピリミジン誘導体に関するものである。
大田で示される化合物は液晶化合物の製造原ネ1として
有用な化合物である。
有用な化合物である。
従来、7本発明の目的化合物の同族化合物にっいて報告
がなされている(例えば、東ドイツ特許第144409
号)が、本発明者らによって提供されるような倒錯に炭
素数の多いアルキル基を置換基として有する成田で示さ
れるピリミジン誘導体はまだ知られていない。本発明は
かかる新規な化合物を提供するものである。
がなされている(例えば、東ドイツ特許第144409
号)が、本発明者らによって提供されるような倒錯に炭
素数の多いアルキル基を置換基として有する成田で示さ
れるピリミジン誘導体はまだ知られていない。本発明は
かかる新規な化合物を提供するものである。
炭素数の多いアルキル基を置換基として持っていること
による本発明目的化合物の特性は今後の研究によってさ
らに明らかにされるのであろうが、本発明目的化合物を
原料として液晶化合物をつくった場合、置換基としての
アルキル基の炭素数の大きさが、液晶性を示す温度範囲
、応答スピードなどの改善、他の液晶化合物との混和性
に効果的に関係するのではないかと期待される。
による本発明目的化合物の特性は今後の研究によってさ
らに明らかにされるのであろうが、本発明目的化合物を
原料として液晶化合物をつくった場合、置換基としての
アルキル基の炭素数の大きさが、液晶性を示す温度範囲
、応答スピードなどの改善、他の液晶化合物との混和性
に効果的に関係するのではないかと期待される。
本発明の目的化合物はそれ自体公知の方法に準じてつく
ることもできるが、例えば、次のような合成式で製造す
ることができる。
ることもできるが、例えば、次のような合成式で製造す
ることができる。
〔式中R1け水素原子、ベンジル基、アリル基またはピ
ラニル基を、R2はOn H2’n +11 nは9〜
14の整数)を、馬は低級アルキル基を、Xはハロゲン
原子を示す◇〕 ここにおいて、式〔ヨ〕で示されるベンズアミジン誘導
体の塩酸jfflと式(1)で示されるアルキルキルマ
ロン酸シアキルエステルとから、式(IV)で示される
化合物を得る反応はアルコラード又はアルカリ金属の存
在下に行なわれ、゛反応に関与しない溶媒、たとえばメ
タノール、エタノールナトのアルコール類、ベンゼン、
トルエン、DMSolDMFなどを適宜に使用すること
ができる。反応は還流下に行うのがよい。
ラニル基を、R2はOn H2’n +11 nは9〜
14の整数)を、馬は低級アルキル基を、Xはハロゲン
原子を示す◇〕 ここにおいて、式〔ヨ〕で示されるベンズアミジン誘導
体の塩酸jfflと式(1)で示されるアルキルキルマ
ロン酸シアキルエステルとから、式(IV)で示される
化合物を得る反応はアルコラード又はアルカリ金属の存
在下に行なわれ、゛反応に関与しない溶媒、たとえばメ
タノール、エタノールナトのアルコール類、ベンゼン、
トルエン、DMSolDMFなどを適宜に使用すること
ができる。反応は還流下に行うのがよい。
次に、式(■〕で示される化合物を得るにけ式(1’V
)で示される化合物と、オキシハロゲン化リン、三又は
五ハロゲン化リンなどの・・ロケン化剤とを触媒の存在
で還流下に反応させる。用いられる触媒としてはN、N
−ジエチルアニリン、ピリジンなどの塩基性触5媒があ
げられるが、N1N−ジエチルアニリンが好ましい。
)で示される化合物と、オキシハロゲン化リン、三又は
五ハロゲン化リンなどの・・ロケン化剤とを触媒の存在
で還流下に反応させる。用いられる触媒としてはN、N
−ジエチルアニリン、ピリジンなどの塩基性触5媒があ
げられるが、N1N−ジエチルアニリンが好ましい。
次いで、式(V)で示される化合物を接触還元すること
によって保護基の脱離、脱ハロゲン化水素が同時に行な
われ、式CI)で示される化合物が得られる。
によって保護基の脱離、脱ハロゲン化水素が同時に行な
われ、式CI)で示される化合物が得られる。
一方、式0〕で示される化合物と式(Vl)で示される
アクロレイン誘導体との反応は、アルコラード又はアル
カリ金属の存在下にメタノール、エタノールナトのアル
コール類、又はベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素系溶媒中で還流下に行なわれて式(■〕(R1が水素
のときは式(I))で示される化合物を得、接触還元を
行うか、ま′には、塩酸、臭化水素酸なとの鉱酸、もし
くけAI C13、ZnCl2などのルイス酸で処理
することによp1式CI)で示される化合物を得ること
ができる。
アクロレイン誘導体との反応は、アルコラード又はアル
カリ金属の存在下にメタノール、エタノールナトのアル
コール類、又はベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素系溶媒中で還流下に行なわれて式(■〕(R1が水素
のときは式(I))で示される化合物を得、接触還元を
行うか、ま′には、塩酸、臭化水素酸なとの鉱酸、もし
くけAI C13、ZnCl2などのルイス酸で処理
することによp1式CI)で示される化合物を得ること
ができる。
以下11本発明を具体的に説明中るだめ実施例を記述す
る。
る。
実施例1゜
A)5−n−テトラデシXルー2−(4−ベンジルオキ
シフェニル) −4,6−ジヒドロ゛キシピリミジンの
製造: 500m1の四ソロフラスコに、金属ナトリウム14.
48g、乾燥メタ/−に880m1を入れ、ナトリウム
メチラート・メタノール溶液をつくった。この溶液に4
−ペンジルオキンペンズアミジン塩酸塩50g、次いで
、n−テトラデシルマロン酸ジエチルエステル6.7.
85fを入れ、加熱還流下にJ3時間反応した。冷却後
、硫酸にて酸性とし、結晶を析出させた。結晶をP側抜
、精製し、5−n−テトラデシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニルI−4,6−シヒドロキシビリミジン9
0gを得た。
シフェニル) −4,6−ジヒドロ゛キシピリミジンの
製造: 500m1の四ソロフラスコに、金属ナトリウム14.
48g、乾燥メタ/−に880m1を入れ、ナトリウム
メチラート・メタノール溶液をつくった。この溶液に4
−ペンジルオキンペンズアミジン塩酸塩50g、次いで
、n−テトラデシルマロン酸ジエチルエステル6.7.
85fを入れ、加熱還流下にJ3時間反応した。冷却後
、硫酸にて酸性とし、結晶を析出させた。結晶をP側抜
、精製し、5−n−テトラデシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニルI−4,6−シヒドロキシビリミジン9
0gを得た。
I−B・(Nujol) Q=a6oo−2000c
M−1Bl ’ 5− n−テトラデシル−2−(4−
ベンジルオキシフェニル1−4.6−ジクロロピリミジ
ンの製造: 1000Qの7 ラスニア K、5−n−fトラデシル
−2−(4−ベンジルオキシフェニル) −4,6−シ
ヒドロキシピリミジン85g、オキシ塩化り7425m
1SN、 N −ジエチルアニリン64mを入れ、加熱
還流下に22時間反応した。反応後、過剰ノオキシ塩化
リンを留去し1、残渣を氷水に注いだ。酢酸エチルにて
抽出シ2、アルカリ水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した
。酢酸エチル層を乾燥後、酢酸エチルを留去し、粗生成
物を得た。これを精製し5て、5−n−テトラデシル−
2−(4−ペンジルオキンフ工二ル) −4,6−ジク
ロロピリミジン43yを得た。
M−1Bl ’ 5− n−テトラデシル−2−(4−
ベンジルオキシフェニル1−4.6−ジクロロピリミジ
ンの製造: 1000Qの7 ラスニア K、5−n−fトラデシル
−2−(4−ベンジルオキシフェニル) −4,6−シ
ヒドロキシピリミジン85g、オキシ塩化り7425m
1SN、 N −ジエチルアニリン64mを入れ、加熱
還流下に22時間反応した。反応後、過剰ノオキシ塩化
リンを留去し1、残渣を氷水に注いだ。酢酸エチルにて
抽出シ2、アルカリ水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した
。酢酸エチル層を乾燥後、酢酸エチルを留去し、粗生成
物を得た。これを精製し5て、5−n−テトラデシル−
2−(4−ペンジルオキンフ工二ル) −4,6−ジク
ロロピリミジン43yを得た。
IR(Nujol )
Q=16to、125’5 ff−1
”H−NMR(60MHz、CDCICDCl5r(p
p、a5(a、2l−1)7.02fd、2H) 7.25−7.60 (m、 5H) 5.09(8,2H) 2.85(t、2)() m−p−71−72,5C (1)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフ
ェニル)ピリミジンの製造。
p、a5(a、2l−1)7.02fd、2H) 7.25−7.60 (m、 5H) 5.09(8,2H) 2.85(t、2)() m−p−71−72,5C (1)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフ
ェニル)ピリミジンの製造。
10100O!のフラスコに、5−n−fトラテンルー
2−14−ベンジルオキ7フエニル)−4,6−ジクロ
ロピリミジン23g、10%Pd/C4,6g、酸化マ
グネシウム6.89g、エタノール718m1.水63
m1を入れ、理論量の水素を吸収するまで水素添加し5
た。反応後、触媒を炉別し2、エタノールを留去後、希
塩酸を加えて酸性とした。
2−14−ベンジルオキ7フエニル)−4,6−ジクロ
ロピリミジン23g、10%Pd/C4,6g、酸化マ
グネシウム6.89g、エタノール718m1.水63
m1を入れ、理論量の水素を吸収するまで水素添加し5
た。反応後、触媒を炉別し2、エタノールを留去後、希
塩酸を加えて酸性とした。
次いで酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄し
、乾燥し7たのち、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得
だ。これを精製して、5、− n−テトラデシル−2〜
(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン12Mを得た。
、乾燥し7たのち、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得
だ。これを精製して、5、− n−テトラデシル−2〜
(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン12Mを得た。
m−p−68〜65C
実施例2゜
実施例1と同様の方法にて5−n−ウンデシル−214
−ヒドロキシフェニル)ヒリジンを得た。
−ヒドロキシフェニル)ヒリジンを得た。
実施例3゜
Al −5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロギン
フェニル)−4,6−シヒドロキシピリミジンの製造: 200m1のナスフラスコに4−ヒドロキノベンズアミ
ジン塩酸塩10g、n−ナト3七ルマOdeジエチルエ
ステル20.79を入れ、、乾燥エタノール50m1を
加えて懸濁させ、さらに、28%ナトリウムメチラート
溶液を加えて還流下に14時間反応した。反応液を氷水
に注ぎ、希塩酸で酸性とし、析出する結晶を瀘取して、
5−n−テトラゾフルー2−(4−ヒドロキンフェニル
)ピリミジン23.19を得た。
フェニル)−4,6−シヒドロキシピリミジンの製造: 200m1のナスフラスコに4−ヒドロキノベンズアミ
ジン塩酸塩10g、n−ナト3七ルマOdeジエチルエ
ステル20.79を入れ、、乾燥エタノール50m1を
加えて懸濁させ、さらに、28%ナトリウムメチラート
溶液を加えて還流下に14時間反応した。反応液を氷水
に注ぎ、希塩酸で酸性とし、析出する結晶を瀘取して、
5−n−テトラゾフルー2−(4−ヒドロキンフェニル
)ピリミジン23.19を得た。
IR(Nujol )
9=a6oo〜2000.1605.1500α−1B
)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフェニ
ル)−4,6−ジクロロピリミジンの製造: 200m1のナス’7 ラスコに、5−n−7トラテシ
ルー2− ’I 4−ヒドロキシフェニル)= 4.6
−シヒドロキシピリミジン20gを入れ、オキシ塩化リ
ン100m1及びN1N−ジエチルアニリン15m1を
加えて、還流下に12時間反応した。反応後、過剰のオ
キシ塩化リンを留去し、残渣を氷水に注いだ。
)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフェニ
ル)−4,6−ジクロロピリミジンの製造: 200m1のナス’7 ラスコに、5−n−7トラテシ
ルー2− ’I 4−ヒドロキシフェニル)= 4.6
−シヒドロキシピリミジン20gを入れ、オキシ塩化リ
ン100m1及びN1N−ジエチルアニリン15m1を
加えて、還流下に12時間反応した。反応後、過剰のオ
キシ塩化リンを留去し、残渣を氷水に注いだ。
酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥
し、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得た。これをシリ
カゲルクロマトにて精製して5−テトラデシル−2−(
4−ヒドロキシフェニル)−4,6−シクロロビ1)ミ
ジン27fを得た0 IF(Nujol )))=1600.1550.14
00傷−1 N MR(60MHz、 CDCl5)、J(ppm
)=8.24 (d、2H,) 6.85(d、2H
)G)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)ピリミジンの製造: 5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル
)−4,6−ジクロロピリミジン15gをエタ/ /
l/480m1%水40m1kC溶かし、これに10%
pd7c s、5y及び酸化マグネンウム5.4gを
加えて、理論量の水素を吸収するまで水素添加した。
し、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得た。これをシリ
カゲルクロマトにて精製して5−テトラデシル−2−(
4−ヒドロキシフェニル)−4,6−シクロロビ1)ミ
ジン27fを得た0 IF(Nujol )))=1600.1550.14
00傷−1 N MR(60MHz、 CDCl5)、J(ppm
)=8.24 (d、2H,) 6.85(d、2H
)G)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)ピリミジンの製造: 5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル
)−4,6−ジクロロピリミジン15gをエタ/ /
l/480m1%水40m1kC溶かし、これに10%
pd7c s、5y及び酸化マグネンウム5.4gを
加えて、理論量の水素を吸収するまで水素添加した。
反応終了後、触媒を戸別し、溶媒を留去後、希塩酸を加
えて酸性とした。次いで酢酸エチルにて抽出し7、水、
飽和食塩水で洗浄し、乾S L、たのも、酢酸エチルを
留去し、て粗生成物を得た。
えて酸性とした。次いで酢酸エチルにて抽出し7、水、
飽和食塩水で洗浄し、乾S L、たのも、酢酸エチルを
留去し、て粗生成物を得た。
このものをn−へキサンと少量のエーテルよシ晶析L−
、P取して5−n−テトラゾツルー2−(4−ヒドロキ
ンフェニル)ビ11ミジン88gを得た。
、P取して5−n−テトラゾツルー2−(4−ヒドロキ
ンフェニル)ビ11ミジン88gを得た。
実施例4゜
5−n−ノニル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピリ
ミジンの製造: 50m1のフラスコに4−ヒドロキンベンズアミジン塩
酸塩1.5g、α−n−ノニル−β−ジメチルアミンア
クロレイン1.961、乾燥メタノール15m1を入れ
た。この混合物に、水冷下、金属ナトリウムと乾燥メタ
ノールより調整したナト11ウムメチラート・メタノー
ル溶液をゆっくりと滴下し、還流下8時間反応した。反
応終了後、アルコールを留去し、残渣を氷水に注ぎ、酸
性としたのち、酢酸エチルで抽出した。
ミジンの製造: 50m1のフラスコに4−ヒドロキンベンズアミジン塩
酸塩1.5g、α−n−ノニル−β−ジメチルアミンア
クロレイン1.961、乾燥メタノール15m1を入れ
た。この混合物に、水冷下、金属ナトリウムと乾燥メタ
ノールより調整したナト11ウムメチラート・メタノー
ル溶液をゆっくりと滴下し、還流下8時間反応した。反
応終了後、アルコールを留去し、残渣を氷水に注ぎ、酸
性としたのち、酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、溶媒
を留去した。得た粗生成物を精製して5−n−/ニルー
2−(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン1.9gを
得た。
を留去した。得た粗生成物を精製して5−n−/ニルー
2−(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン1.9gを
得た。
実施例5・6・7
実施例4と同様の方法にて5−n−デンルー2−(4−
ヒドロキンフェニル)ピリミジン、5・n−ドデシル−
214−ヒドロキシラエニル)ピリミジン、5−n〜ト
リデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピリミジン
? (4fj ft=。
ヒドロキンフェニル)ピリミジン、5・n−ドデシル−
214−ヒドロキシラエニル)ピリミジン、5−n〜ト
リデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピリミジン
? (4fj ft=。
実施例8゜
A)5=n−デシル−2−(4−ベンジルオキシフェニ
ル)ピ11ミジンの製造: 8omiのフラスコに4−ペンジルオキンペンズアミジ
ン塩酸塩2.07 Fl 、α−n−7’ シ/l/−
β−ジメチルアミンアクロレイン]、、 ’889 、
乾燥エタノール20.rnlを入れた。
ル)ピ11ミジンの製造: 8omiのフラスコに4−ペンジルオキンペンズアミジ
ン塩酸塩2.07 Fl 、α−n−7’ シ/l/−
β−ジメチルアミンアクロレイン]、、 ’889 、
乾燥エタノール20.rnlを入れた。
この混合物に、氷冷下、金属ナト17ウム0゜72gど
乾燥エタノールより調整したナトリウムエチラート・エ
タノール溶液をゆっ、くり滴下して加えた後、還流下に
7時間反応した。反応終了後、エタノールを留去し、残
渣を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去し、粗生成物を得た
。これを精製して5−n−デシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニル)ピリミジン2.37g1lk。
乾燥エタノールより調整したナトリウムエチラート・エ
タノール溶液をゆっ、くり滴下して加えた後、還流下に
7時間反応した。反応終了後、エタノールを留去し、残
渣を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去し、粗生成物を得た
。これを精製して5−n−デシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニル)ピリミジン2.37g1lk。
IR(Nujol)
9−1610.1585.1250cM ”7H−NM
R(60MHz、 CDCICDCl5)f(pp、5
6ts、2H) 8.40 (d、 2I() 7.05((1,2)T1 7.3−7.6 (tn、 5H) 5、’I O(s、 2H) B)5−n−デシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)
ピリミジンの製造: 5Qm6のフラスコに5−n−デシル−2−(4−ベン
ジルオキシフェニル)ピリミジン0.58 f/、10
%Pd/G O,59、エタノール15m1Vを入れ
、理論量の水素が吸収されるまで水素添加L〜だ。
R(60MHz、 CDCICDCl5)f(pp、5
6ts、2H) 8.40 (d、 2I() 7.05((1,2)T1 7.3−7.6 (tn、 5H) 5、’I O(s、 2H) B)5−n−デシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)
ピリミジンの製造: 5Qm6のフラスコに5−n−デシル−2−(4−ベン
ジルオキシフェニル)ピリミジン0.58 f/、10
%Pd/G O,59、エタノール15m1Vを入れ
、理論量の水素が吸収されるまで水素添加L〜だ。
反応終了−後、触媒を炉別し5、エタノールを留去した
。得た粗生成物を精製し、て5−n−テシルー2−(4
−ヒドロキシフェニルピリミジン0.49を得た。
。得た粗生成物を精製し、て5−n−テシルー2−(4
−ヒドロキシフェニルピリミジン0.49を得た。
実が6例で得た化合物の物性値を表1にまとめて記す。
表中の数字は次の条件で測定し7だ値を示す。
IFtは流動パラフィンと試料と混合して測定O
”)(−NMRけ重クロロホルム中、50MH:を用い
て測定。
て測定。
(↓
手続補正書(方式)
%式%
1、 事件の表示
昭和59年特許願第1335o1号
2 発明の名称
ピ謁ブン誘導体
3 補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 大阪市西区北堀江1丁目1番18号4 補正命
令の日付 昭和59年9月25日(発送日) 5、補正の対象 1)願 書 2)明細書 6 補正の内容
令の日付 昭和59年9月25日(発送日) 5、補正の対象 1)願 書 2)明細書 6 補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中nは9〜14の整数を示す。〕 で示されるピリミジン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13350184A JPS6112675A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | ピリミジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13350184A JPS6112675A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | ピリミジン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6112675A true JPS6112675A (ja) | 1986-01-21 |
Family
ID=15106242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13350184A Pending JPS6112675A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | ピリミジン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6112675A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61189274A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Teikoku Chem Ind Corp Ltd | フエニルピリミジン誘導体 |
JPH0466087A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-03-02 | Sunstar Inc | 安定化されたアスコルビン酸酸化酵素組成物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1984-06-27 JP JP13350184A patent/JPS6112675A/ja active Pending
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