JPS6112675A - ピリミジン誘導体 - Google Patents

ピリミジン誘導体

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JPS6112675A
JPS6112675A JP13350184A JP13350184A JPS6112675A JP S6112675 A JPS6112675 A JP S6112675A JP 13350184 A JP13350184 A JP 13350184A JP 13350184 A JP13350184 A JP 13350184A JP S6112675 A JPS6112675 A JP S6112675A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
pyrimidine
reaction
tetradecyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP13350184A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazumasa Oba
大場 和正
Hitoshi Suenaga
仁士 末永
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Aska Pharmaceutical Co Ltd
Teikoku Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Teikoku Chemical Industry Co Ltd
Teikoku Hormone Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Teikoku Chemical Industry Co Ltd, Teikoku Hormone Manufacturing Co Ltd filed Critical Teikoku Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はピリミジン誘導体に関するものであ〔式中nは
9〜14の整数を示す。〕 で示される新規ピリミジン誘導体に関するものである。
大田で示される化合物は液晶化合物の製造原ネ1として
有用な化合物である。
従来、7本発明の目的化合物の同族化合物にっいて報告
がなされている(例えば、東ドイツ特許第144409
号)が、本発明者らによって提供されるような倒錯に炭
素数の多いアルキル基を置換基として有する成田で示さ
れるピリミジン誘導体はまだ知られていない。本発明は
かかる新規な化合物を提供するものである。
炭素数の多いアルキル基を置換基として持っていること
による本発明目的化合物の特性は今後の研究によってさ
らに明らかにされるのであろうが、本発明目的化合物を
原料として液晶化合物をつくった場合、置換基としての
アルキル基の炭素数の大きさが、液晶性を示す温度範囲
、応答スピードなどの改善、他の液晶化合物との混和性
に効果的に関係するのではないかと期待される。
本発明の目的化合物はそれ自体公知の方法に準じてつく
ることもできるが、例えば、次のような合成式で製造す
ることができる。
〔式中R1け水素原子、ベンジル基、アリル基またはピ
ラニル基を、R2はOn H2’n +11 nは9〜
14の整数)を、馬は低級アルキル基を、Xはハロゲン
原子を示す◇〕 ここにおいて、式〔ヨ〕で示されるベンズアミジン誘導
体の塩酸jfflと式(1)で示されるアルキルキルマ
ロン酸シアキルエステルとから、式(IV)で示される
化合物を得る反応はアルコラード又はアルカリ金属の存
在下に行なわれ、゛反応に関与しない溶媒、たとえばメ
タノール、エタノールナトのアルコール類、ベンゼン、
トルエン、DMSolDMFなどを適宜に使用すること
ができる。反応は還流下に行うのがよい。
次に、式(■〕で示される化合物を得るにけ式(1’V
)で示される化合物と、オキシハロゲン化リン、三又は
五ハロゲン化リンなどの・・ロケン化剤とを触媒の存在
で還流下に反応させる。用いられる触媒としてはN、N
−ジエチルアニリン、ピリジンなどの塩基性触5媒があ
げられるが、N1N−ジエチルアニリンが好ましい。
次いで、式(V)で示される化合物を接触還元すること
によって保護基の脱離、脱ハロゲン化水素が同時に行な
われ、式CI)で示される化合物が得られる。
一方、式0〕で示される化合物と式(Vl)で示される
アクロレイン誘導体との反応は、アルコラード又はアル
カリ金属の存在下にメタノール、エタノールナトのアル
コール類、又はベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水
素系溶媒中で還流下に行なわれて式(■〕(R1が水素
のときは式(I))で示される化合物を得、接触還元を
行うか、ま′には、塩酸、臭化水素酸なとの鉱酸、もし
くけAI  C13、ZnCl2などのルイス酸で処理
することによp1式CI)で示される化合物を得ること
ができる。
以下11本発明を具体的に説明中るだめ実施例を記述す
る。
実施例1゜ A)5−n−テトラデシXルー2−(4−ベンジルオキ
シフェニル) −4,6−ジヒドロ゛キシピリミジンの
製造: 500m1の四ソロフラスコに、金属ナトリウム14.
48g、乾燥メタ/−に880m1を入れ、ナトリウム
メチラート・メタノール溶液をつくった。この溶液に4
−ペンジルオキンペンズアミジン塩酸塩50g、次いで
、n−テトラデシルマロン酸ジエチルエステル6.7.
85fを入れ、加熱還流下にJ3時間反応した。冷却後
、硫酸にて酸性とし、結晶を析出させた。結晶をP側抜
、精製し、5−n−テトラデシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニルI−4,6−シヒドロキシビリミジン9
0gを得た。
I−B・(Nujol)  Q=a6oo−2000c
M−1Bl ’ 5− n−テトラデシル−2−(4−
ベンジルオキシフェニル1−4.6−ジクロロピリミジ
ンの製造: 1000Qの7 ラスニア K、5−n−fトラデシル
−2−(4−ベンジルオキシフェニル) −4,6−シ
ヒドロキシピリミジン85g、オキシ塩化り7425m
1SN、 N −ジエチルアニリン64mを入れ、加熱
還流下に22時間反応した。反応後、過剰ノオキシ塩化
リンを留去し1、残渣を氷水に注いだ。酢酸エチルにて
抽出シ2、アルカリ水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した
。酢酸エチル層を乾燥後、酢酸エチルを留去し、粗生成
物を得た。これを精製し5て、5−n−テトラデシル−
2−(4−ペンジルオキンフ工二ル) −4,6−ジク
ロロピリミジン43yを得た。
IR(Nujol ) Q=16to、125’5 ff−1 ”H−NMR(60MHz、CDCICDCl5r(p
p、a5(a、2l−1)7.02fd、2H) 7.25−7.60 (m、 5H) 5.09(8,2H) 2.85(t、2)() m−p−71−72,5C (1)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフ
ェニル)ピリミジンの製造。
10100O!のフラスコに、5−n−fトラテンルー
2−14−ベンジルオキ7フエニル)−4,6−ジクロ
ロピリミジン23g、10%Pd/C4,6g、酸化マ
グネシウム6.89g、エタノール718m1.水63
m1を入れ、理論量の水素を吸収するまで水素添加し5
た。反応後、触媒を炉別し2、エタノールを留去後、希
塩酸を加えて酸性とした。
次いで酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄し
、乾燥し7たのち、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得
だ。これを精製して、5、− n−テトラデシル−2〜
(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン12Mを得た。
m−p−68〜65C 実施例2゜ 実施例1と同様の方法にて5−n−ウンデシル−214
−ヒドロキシフェニル)ヒリジンを得た。
実施例3゜ Al −5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロギン
フェニル)−4,6−シヒドロキシピリミジンの製造: 200m1のナスフラスコに4−ヒドロキノベンズアミ
ジン塩酸塩10g、n−ナト3七ルマOdeジエチルエ
ステル20.79を入れ、、乾燥エタノール50m1を
加えて懸濁させ、さらに、28%ナトリウムメチラート
溶液を加えて還流下に14時間反応した。反応液を氷水
に注ぎ、希塩酸で酸性とし、析出する結晶を瀘取して、
5−n−テトラゾフルー2−(4−ヒドロキンフェニル
)ピリミジン23.19を得た。
IR(Nujol ) 9=a6oo〜2000.1605.1500α−1B
)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキンフェニ
ル)−4,6−ジクロロピリミジンの製造: 200m1のナス’7 ラスコに、5−n−7トラテシ
ルー2− ’I 4−ヒドロキシフェニル)= 4.6
−シヒドロキシピリミジン20gを入れ、オキシ塩化リ
ン100m1及びN1N−ジエチルアニリン15m1を
加えて、還流下に12時間反応した。反応後、過剰のオ
キシ塩化リンを留去し、残渣を氷水に注いだ。
酢酸エチルにて抽出し、水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥
し、酢酸エチルを留去し、粗生成物を得た。これをシリ
カゲルクロマトにて精製して5−テトラデシル−2−(
4−ヒドロキシフェニル)−4,6−シクロロビ1)ミ
ジン27fを得た0 IF(Nujol )))=1600.1550.14
00傷−1 N MR(60MHz、 CDCl5)、J(ppm 
)=8.24 (d、2H,)  6.85(d、2H
)G)5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)ピリミジンの製造: 5−n−テトラデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル
)−4,6−ジクロロピリミジン15gをエタ/  /
l/480m1%水40m1kC溶かし、これに10%
pd7c  s、5y及び酸化マグネンウム5.4gを
加えて、理論量の水素を吸収するまで水素添加した。
反応終了後、触媒を戸別し、溶媒を留去後、希塩酸を加
えて酸性とした。次いで酢酸エチルにて抽出し7、水、
飽和食塩水で洗浄し、乾S L、たのも、酢酸エチルを
留去し、て粗生成物を得た。
このものをn−へキサンと少量のエーテルよシ晶析L−
、P取して5−n−テトラゾツルー2−(4−ヒドロキ
ンフェニル)ビ11ミジン88gを得た。
実施例4゜ 5−n−ノニル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピリ
ミジンの製造: 50m1のフラスコに4−ヒドロキンベンズアミジン塩
酸塩1.5g、α−n−ノニル−β−ジメチルアミンア
クロレイン1.961、乾燥メタノール15m1を入れ
た。この混合物に、水冷下、金属ナトリウムと乾燥メタ
ノールより調整したナト11ウムメチラート・メタノー
ル溶液をゆっくりと滴下し、還流下8時間反応した。反
応終了後、アルコールを留去し、残渣を氷水に注ぎ、酸
性としたのち、酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄後、乾燥し、溶媒
を留去した。得た粗生成物を精製して5−n−/ニルー
2−(4−ヒドロキンフェニル)ピリミジン1.9gを
得た。
実施例5・6・7 実施例4と同様の方法にて5−n−デンルー2−(4−
ヒドロキンフェニル)ピリミジン、5・n−ドデシル−
214−ヒドロキシラエニル)ピリミジン、5−n〜ト
リデシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)ピリミジン
? (4fj ft=。
実施例8゜ A)5=n−デシル−2−(4−ベンジルオキシフェニ
ル)ピ11ミジンの製造: 8omiのフラスコに4−ペンジルオキンペンズアミジ
ン塩酸塩2.07 Fl 、α−n−7’ シ/l/−
β−ジメチルアミンアクロレイン]、、 ’889 、
乾燥エタノール20.rnlを入れた。
この混合物に、氷冷下、金属ナト17ウム0゜72gど
乾燥エタノールより調整したナトリウムエチラート・エ
タノール溶液をゆっ、くり滴下して加えた後、還流下に
7時間反応した。反応終了後、エタノールを留去し、残
渣を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食
塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を留去し、粗生成物を得た
。これを精製して5−n−デシル−2−(4−ベンジル
オキシフェニル)ピリミジン2.37g1lk。
IR(Nujol) 9−1610.1585.1250cM ”7H−NM
R(60MHz、 CDCICDCl5)f(pp、5
6ts、2H) 8.40 (d、 2I() 7.05((1,2)T1 7.3−7.6 (tn、 5H) 5、’I O(s、 2H) B)5−n−デシル−2−(4−ヒドロキシフェニル)
ピリミジンの製造: 5Qm6のフラスコに5−n−デシル−2−(4−ベン
ジルオキシフェニル)ピリミジン0.58 f/、10
%Pd/G  O,59、エタノール15m1Vを入れ
、理論量の水素が吸収されるまで水素添加L〜だ。
反応終了−後、触媒を炉別し5、エタノールを留去した
。得た粗生成物を精製し、て5−n−テシルー2−(4
−ヒドロキシフェニルピリミジン0.49を得た。
実が6例で得た化合物の物性値を表1にまとめて記す。
表中の数字は次の条件で測定し7だ値を示す。
IFtは流動パラフィンと試料と混合して測定O ”)(−NMRけ重クロロホルム中、50MH:を用い
て測定。
(↓ 手続補正書(方式) %式% 1、 事件の表示 昭和59年特許願第1335o1号 2 発明の名称 ピ謁ブン誘導体 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市西区北堀江1丁目1番18号4 補正命
令の日付 昭和59年9月25日(発送日) 5、補正の対象 1)願 書 2)明細書 6 補正の内容

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中nは9〜14の整数を示す。〕 で示されるピリミジン誘導体。
JP13350184A 1984-06-27 1984-06-27 ピリミジン誘導体 Pending JPS6112675A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61189274A (ja) * 1985-02-15 1986-08-22 Teikoku Chem Ind Corp Ltd フエニルピリミジン誘導体
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