JPS61118114A - Production of filter medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain a filter medium which is constituted with only inorganic substance and has the communicated pores having the uniform and fine diameter by coating silicon and boron compds. on the surface of porous ceramic of <=5mum average narrow pored diameter, heating and calcining it and thereafter acid- treating it. CONSTITUTION:The following ceramic porous supporter having <=5mum average narrow pore diameter is used which is obtained by making the fine particles of oxide having about 0.5mu average particle size a plate-shape or a tube-shape having 1-10mm thickness and sintering it. A soln. contg. alkoxysilane and boron compd. is coated on the surface of the supporter. 10-40wt% of alkoxysilane and 0.3-5wt% boron compd. are preferable. After drying it, it is heated and calcined at 450-700 deg.C for 30 minutes - 5 hours to produce silica glass. When it is treated by mineral acid, the separate-phased boron oxide is eluted and the fine pores are formed.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、逆浸透用、限外濾過用として好適な濾過材の
新規製造方法に関するものである。さらに詳しくいえば
、本発明は多孔質セラミックス層の表面に、多孔質ガラ
ス層を積層した構造を有する濾過材を製造するための新
規な工業的方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a new method for producing a filter medium suitable for reverse osmosis and ultrafiltration. More specifically, the present invention relates to a novel industrial method for producing a filter material having a structure in which a porous glass layer is laminated on the surface of a porous ceramic layer.

従来の技術 これまで、逆浸透用や限外濾過用の濾過材としては、素
焼板のような無機濾過材、酢酸セルロース、ポリ７クリ
ロニトリル、ポリベンズイミグゾール、ポリアミドのよ
うな有機濾過材が知られでいろ、しかしながら、無機濾
過材は、オングんトロームオーダーの微細孔をもつもの
を薄膜状に形成させることが困難なため、その用途ｆ、
ｔＩＩ１１限されるのを免れないし、また有機濾過材は
圧密化を起しやす（、また高圧に耐えるために膜の厚さ
を厚くしなくてはならない、このため透過流束が出ない
などの欠点を有している。Conventional technology Up until now, filtration media for reverse osmosis and ultrafiltration have been inorganic filtration media such as clay plates, and organic filtration media such as cellulose acetate, poly7-crylonitrile, polybenzimigsol, and polyamide. However, since it is difficult to form inorganic filtration media into a thin film with pores on the order of nanometers, its uses are limited.
In addition, organic filtration media are prone to compaction (and the membrane must be thick to withstand high pressure, which causes problems such as a lack of permeation flux). It has its drawbacks.

他方、平拘細孔径Ｏ１ｌμｌ程度の多孔質セラミックス
の板体又は管体の表面に、ＺｒＣｌいＺｒ０Ｃ１□、Ｔ
ｈｅ＋４、ＦｅＣ１ｘ、ＰｂＱｌｌＣｌ、、ＵＱ２０１
＋ＣＩ、＾ＩＣ１，のような蕉磯化合物や、７ミン酸、
ポリビニルピリノン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル
酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレンスルホン酸のよう
な有機高分子化合物のコロイド状膜を施した、いわゆる
ダイナミック膜が、かん木の淡水化用、工業廃水の浄化
層の濾過材として好適である二とが知られている。しか
しながら、このダイナミック膜は、その支持体である多
孔質セラミックスとその表面に施されたコロイド状膜と
の結合が十分でなく、耐用性に問題がある上に、安定な
ｐ１１＠囲が４〜１０と狭いため強酸性、強アルカリ性
条件下では使用できないという欠点がある。On the other hand, ZrCl, Zr0C1□, T
he+4, FeC1x, PbQllCl,, UQ201
Shōiso compounds such as +CI, ^IC1, 7-minic acid,
So-called dynamic membranes coated with colloidal membranes of organic polymer compounds such as polyvinylpyrinone, polyglutamic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and polystyrene sulfonic acid are used for desalination of shrubs and as a purification layer for industrial wastewater. 2 and 2 are known to be suitable as filter media. However, in this dynamic membrane, the bond between the porous ceramic support and the colloidal membrane applied to its surface is insufficient, and there are problems with durability, and the stable p11 10, which has the disadvantage that it cannot be used under strongly acidic or strongly alkaline conditions.

その他、本発明者らにより開発された多孔質セラミック
スの表面に半透性有機高分子化合物層を積層した構造の
濾過材があるが（ｖｆＷＪ昭５８−８１５８２号）、こ
のものは有機質を用いている関係上、耐熱性、耐久性に
難点があり用途が制限されるのを免れない。In addition, there is a filter material developed by the present inventors that has a structure in which a semipermeable organic polymer compound layer is laminated on the surface of porous ceramics (vfWJ No. 58-81582), but this material uses an organic material. Because of this, there are drawbacks to heat resistance and durability, which inevitably limits its uses.

発明が解決しようとするｖｉ題息 本発明は、このような従来の濾過材がもつ欠点を克服し
、どのような使用条件下においても安定な性能を示す、
耐熱性及び耐久性の優れた濾過材を効率よく製造しうる
工業的製法を提供するものである。Problems to be Solved by the Invention The present invention overcomes the drawbacks of such conventional filter media and exhibits stable performance under any usage conditions.
The present invention provides an industrial manufacturing method that can efficiently produce a filter medium with excellent heat resistance and durability.

問題点を解決するための手段 本発明者らは、！１機質のみで構成され、しかも均一で
微細な径をもつ連通孔を有する濾過材を効率よく製造す
るための方法を開発すべく鋭意研究＾ｊ　　　　　　　
　　　　　を重ねた結果・シリカ源として７″７キシシ
ラ′を、かつ微孔形成成分としてホウ素化合物をそれぞ
れ使用し、これらを含む溶液を多孔質セラミックス表面
にコーティングし、焼成してガラス層を形成させ、これ
を酸処理してその中に存在する酸化ホウ素を溶出させる
ことによりその目的を達成しうろことを見出し、この知
見に基づいて本発明をなすに至った。Means for solving the problem The inventors! We are conducting intensive research to develop a method for efficiently manufacturing a filter material that is composed of only one substance and has communicating pores with a uniform and fine diameter.
As a result of repeated steps, 7"7xishila' was used as a silica source, and a boron compound was used as a micropore-forming component. A solution containing these was coated on the surface of porous ceramics, and fired to form a glass layer. It was discovered that the object could be achieved by treating this with an acid to elute the boron oxide present therein, and based on this knowledge, the present invention was accomplished.

すなわち、本発明に従えば、平均細孔径５μ層以下の多
孔質セラミックスの表面に、フルコキシシラン及びホウ
素化合物を含む溶液をコーティングし、これを加熱焼成
してガラス層を形成させ、次いでこれを酸処理すること
により、濾過材を製造する二とができる。That is, according to the present invention, a solution containing flukoxysilane and a boron compound is coated on the surface of a porous ceramic layer with an average pore size of 5 μm or less, this is heated and fired to form a glass layer, and then this is acid-treated. By doing so, it is possible to manufacture a filter medium.

本発明方法において、濾過材の支持体として用いる多孔
質セラミックスは１通常のセラミックス基体濾過材の支
持体として使用されているものの中から任意に選書こと
ができる。二のようなものとしては、例えばアルミナ、
酸化鉄、酸化チタン、酸化マグネシウム、シリカなどを
主成分とする焼結体を挙げることができる１通常、この
支持体は、平均細孔径５μ薯以下好ましくはＯ，ＯＳ〜
２μｌのもので、平均粒径０．５μ程度の酸化物微粒子
例えばアルミナ微粒子を、１〜１ｏａｍの厚さの板状又
は管状にして使用される。In the method of the present invention, the porous ceramic used as a support for the filter medium can be arbitrarily selected from those used as supports for ordinary ceramic-based filter media. For example, alumina,
Examples include sintered bodies containing iron oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silica, etc. as main components.1 Usually, this support has an average pore diameter of 5μ or less, preferably O,OS~
The amount is 2 μl, and oxide fine particles, such as alumina fine particles, having an average particle diameter of about 0.5 μl are used in the form of a plate or tube with a thickness of 1 to 1 oam.

この平均細孔径が５μ層よりも大きくなると、このコー
ティングに使用する溶液の粘度を高くしなければならな
いが、そのようにすると必然的に被覆層の厚さが厚くな
ろのを免気ない、そして、二のように厚い層を有するも
のは、分離性能は良好になるとしても、透過量が低下し
、総合的な処理能力の低下をもたらす。When the average pore diameter becomes larger than the 5μ layer, the viscosity of the solution used for this coating must be increased, but this inevitably increases the thickness of the coating layer, and , 2, etc., even if the separation performance is good, the amount of permeation decreases, resulting in a decrease in the overall throughput.

この支持体は、単層体であってもよいし、また内部から
外部へ向って次第に小さい粒径とした多層体であっても
よい。This support may be a single-layered body or a multi-layered body whose particle size gradually decreases from the inside to the outside.

他方、このセラミックス支持体の表面に減退層を形成さ
せるのに用いる溶液としては、焼成によりガラスを生成
するためのシリカ源としてのフルコキシシランと、生成
したガラス層に微細孔を形成させるための成分として加
えるホウ素化合物を含有する溶液が用いられる。On the other hand, the solution used to form a reduced layer on the surface of this ceramic support contains flukoxysilane as a silica source for producing glass by firing, and as a component for forming micropores in the produced glass layer. A solution containing the added boron compound is used.

本発明で用いるフルコキシシランは、一般式％式％ （式中のＲ及びｒはフルキル基であり、＋１は１〜４の
整数である） で表わされる化合物であり、これはテトラフルフキジシ
ラン、トリフルコキシシラン、ノフルコキシシラン、モ
ノフルコキシンランのいずれでもよい、二のような化合
物の例としては、テトラメトキシシラン、モノメチルト
リエトキシシラン、テトラエトキシシラン、モノエチル
トリエトキシシランなどを挙げることができる。The flukoxysilane used in the present invention is a compound represented by the general formula % (in the formula, R and r are furkyl groups, +1 is an integer from 1 to 4), and this is a compound represented by the general formula Examples of the second compound, which may be any of koxysilane, noflukoxysilane, and monoflucoxinlan, include tetramethoxysilane, monomethyltriethoxysilane, tetraethoxysilane, and monoethyltriethoxysilane. I can do it.

また、ホウ素化合物としては、ホウ酸、メタホウ酸、ホ
ウ砂などの可溶性化合物が用いられる。Further, as the boron compound, soluble compounds such as boric acid, metaboric acid, and borax are used.

これらのフルコキシシラン及びホウ素化合物は。These flukoxysilane and boron compounds.

過当な溶媒に溶かして溶液として用いられるが、この際
の溶媒としては、通常、水、アルコール、これらの混合
物が用いら八る。この溶液中のフルコキシシランの濃度
は１０〜４０重量％、ホウ素化合物の濃度は０．３〜５
重量％の範囲で選ぶのが望ましい、また、生成する多孔
質ガラス層中の微細孔の分布を適正にするには、アルコ
キシシランに対するホウ素化合物の重量比を、それぞれ
５ｉＯｚと８，０゜に換算して５０：１ないし４：１の
範囲にするのが好ましい。It is used as a solution by dissolving it in an appropriate solvent, but the solvent in this case is usually water, alcohol, or a mixture thereof. The concentration of flukoxysilane in this solution is 10-40% by weight, and the concentration of boron compound is 0.3-5%.
It is desirable to select within the range of % by weight, and in order to obtain an appropriate distribution of micropores in the resulting porous glass layer, the weight ratio of the boron compound to the alkoxysilane is converted to 5 iOz and 8.0°, respectively. Preferably, the ratio is between 50:1 and 4:1.

さらに、この溶液中には各成分の溶解や、各成分量の反
応を促進するために、少量の鉱酸例えば塩酸や有機酸例
えば酢酸を添加することができる。Furthermore, a small amount of a mineral acid such as hydrochloric acid or an organic acid such as acetic acid may be added to this solution in order to promote the dissolution of each component and the reaction of the amounts of each component.

これらの添加量は、溶液全量に基づ８０．１〜１．０重
量％のＷｉｎ内で選ばれる。The amount of these additives is selected within 80.1 to 1.0% by weight based on the total amount of the solution.

この溶液を、支持体の多孔質セラミックス表面にコーテ
ィングするには、浸せき、塗布、吹き付けなど任意の手
段を用いることかでかるが、表面に均一な層を形成する
ことができ、しかも層厚の制御が容易な点で、浸せきを
用いるのが好ましい。To coat the porous ceramic surface of the support with this solution, it is necessary to use any method such as dipping, coating, or spraying, but it is possible to form a uniform layer on the surface, and the layer thickness is small. It is preferable to use immersion because it is easy to control.

本発明方法においては、多孔質セラミックス表面に、所
定、の溶液をコーティングし、これを乾燥したのち、加
熱焼成する。この焼成処理は通常、４５０〜７００℃の
温度で３０分間ないし５時開加熱することによって行わ
れる。この処理により、アルコξ　　　　　　　　　　
　　　キシシランが分解してシリカプラスを生成すると
同時に、酸化ホウ素の分相現象を生じる。In the method of the present invention, the surface of porous ceramics is coated with a predetermined solution, dried, and then heated and fired. This firing treatment is usually performed by heating at a temperature of 450 to 700° C. for 30 minutes to 5 o'clock. With this process, arcoξ
At the same time as xysilane decomposes to produce silica plus, a phase separation phenomenon of boron oxide occurs.

このようにして生成したガラス層を次に鉱酸、例えば塩
酸や硫酸と接触させると、分相した酸化ホウ素が溶出し
、微細孔が形成される。二の酸処理は、室温で行っても
よいが、処理時間を短縮するために、７０℃以上に加熱
して行うのが有利である。When the glass layer thus produced is then brought into contact with a mineral acid, such as hydrochloric acid or sulfuric acid, the phase-separated boron oxide is eluted and micropores are formed. The second acid treatment may be carried out at room temperature, but in order to shorten the treatment time, it is advantageous to carry out the treatment at a temperature of 70° C. or higher.

このようにして酸処理したのち、水洗し乾燥することに
より、孔径２０〜１５０＾の微細孔をもつ濾過材が得ら
九る。After the acid treatment in this manner, a filter material having micropores with a pore diameter of 20 to 150^ is obtained by washing with water and drying.

本発明方法においては、所定の溶液のコーティング乾燥
、焼成のサイクルをａＩ）返す二とにより、多孔質ガラ
ス層の厚さを適当に増大させることができる０例えば添
付図面は、テトラエトキシシラン２８．７重量部、エタ
／−ル４３．２重量部、水２７．２重量部、塩酸０．３
重量部及びホ９酸０．６重量部から成る溶液を用いてプ
ラス層を形成させたときのコーティング回数と層厚（μ
−）の関係を示すグラフであるが、これから明らかなよ
うに、コーティング回数を増すごとに層厚は規則的に増
加している。In the method of the present invention, the thickness of the porous glass layer can be increased appropriately by repeating the coating drying and firing cycles of a predetermined solution. 7 parts by weight, 43.2 parts by weight of ethanol, 27.2 parts by weight of water, 0.3 parts by weight of hydrochloric acid
The number of coatings and the layer thickness (μ
-), and as is clear from the graph, the layer thickness increases regularly as the number of coatings increases.

また、本発明方法により得られた濾過材は、これをさら
に９００〜１２００℃で加熱処理することに上り、その
ガラス層の孔径を小さくすることができる。Further, the filter medium obtained by the method of the present invention can be further heat-treated at 900 to 1200°C to reduce the pore size of the glass layer.

発明の効果 本発明によれば、ガラス形成成分を溶解した溶液をコー
ティングしてこれを焼成し、次いで酸処理して微細を形
成させるため、均一かつ微細な孔径をもつ多孔質ガラス
層をらっ濾過材を容易に得ることができる上に、単にコ
ーティング回数を変えるという簡単な揉作で、任意の層
厚に調整することができるので多方面に利用可能な耐熱
性、耐久性濾過材を工業的に製造する方法として好適で
ある。Effects of the Invention According to the present invention, a porous glass layer with a uniform and fine pore size is coated with a solution containing a glass-forming component, fired, and then treated with an acid to form fine particles. Not only is the filter material easy to obtain, but it can also be adjusted to any desired layer thickness by simply changing the number of coatings, making it possible to create a heat-resistant, durable filter material that can be used in many ways. This method is suitable as a method for production.

実施例 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。Example Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施９１１ テトラエトキシシラン２５ｇ、エタノール３７．６．、
水２３．７１１、塩ＰＩｌＯ，ｈ及（／Ｉ’［ｌ！（？
＃、つ素１．ＯｙヲｊＪ１６してコーティング溶液を調
製した。この溶液中の８２０、とＳｉＯ□との換算比は
１：１４であった０次に、平均孔径０．５μｌの多孔質
アルミナ焼結体チ１−プを、前記の溶液中に浸せきした
のち、徐々に引き上げ、室温で約２分乾燥後、電気炉を
用い、５００℃で１時間加熱焼成し、ガラス層を形成さ
せた。この浸せき、乾燥、焼成の操作を７回繰り返して
、〃うλ層の層厚を５０μｍとしたのも、約７０℃に維
持した５％塩酸中に５時間浸せきして、十分に分相した
酸化ホウ素を溶出し、水洗した。Run 911 Tetraethoxysilane 25g, ethanol 37.6. ,
Water 23.711, salt PIlO,h and (/I'[l!(?
#, element 1. A coating solution was prepared using OywojJ16. The conversion ratio of 820 and SiO After gradually pulling up and drying at room temperature for about 2 minutes, the glass layer was heated and fired at 500° C. for 1 hour using an electric furnace to form a glass layer. This immersion, drying, and firing operation was repeated 7 times to obtain a layer thickness of 50 μm.The λ layer was immersed in 5% hydrochloric acid maintained at about 70°C for 5 hours to achieve sufficient phase separation. Boron oxide was eluted and washed with water.

このようにして、孔径６０〜１００＾の微細孔をもつ多
孔質ガラス層を積層した多孔質セラミックスから成る濾
過材が得られた。In this way, a filter material made of porous ceramics laminated with porous glass layers having micropores with a pore size of 60 to 100^ was obtained.

次いで、この濾過材を電気炉に入れ、１０００℃で２時
間再加熱することにより、孔径３０〜５０＾の微細孔を
もつ濾過材が得られた。Next, this filter material was placed in an electric furnace and reheated at 1000° C. for 2 hours, thereby obtaining a filter material having micropores with a pore diameter of 30 to 50^.

実施例２ 次表に示す組成のコーティング溶液を用い、χ施例１と
同様にして濾過材を製造した。このようにして得られた
濾過材の物性を第１表に併記する。Example 2 A filter medium was manufactured in the same manner as in Example 1 using a coating solution having the composition shown in the following table. The physical properties of the filter medium thus obtained are also listed in Table 1.

このようにして得られた濾過材は、いずれもウィルスな
どの微生物の濾過層、各種の液体の透析用として好適で
あった。All of the filtration materials thus obtained were suitable as filtration layers for microorganisms such as viruses, and for dialysis of various liquids.

応用例 実施例１で得た濾過材を用いてメタンと二酸化炭素の等
容混合〃スを２４．６℃で分離した。その結果を第２表
に示す。Application Example Using the filter material obtained in Example 1, an equal volume mixture of methane and carbon dioxide was separated at 24.6°C. The results are shown in Table 2.

第　　　２　　　表Table 2

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図は本発明におけるコーティング回数と膜厚の関係を示
すグラフである。 特許出願人　　ティーディーケイ株式会社代　理　人　
　　阿　　　　形　　　　　　　　明コーシンｒ回噛丸
（１０） 手続補正書 昭和５９年１２月１２日 昭和５９年特許願第２３８６５５号 ２、発明の名称 濾過材の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住　所東京都中央区日本橋−丁目１３番１号よ　、　　
（３０６）ティーディーケイ株式会社代表者　大　　歳
　　　　　寛 ４、代　理　人 ５、補正命令の日付　　自発 ８、補正の内容 （１）　　明細書第２ページ下から２行〜第３ペ一ジ第
３行の「その支持体である・・・という欠点がある。」
を次のとおシ訂正します 「その膜が加圧下で動的に形成されたものであるため、
常に加圧下にないと膜が保持できず、保管する際に間層
かあるという欠点がｂつた。Ｊ（２）同第４ページ第３
行及び第１１行の「ガラス層Ｊをそれぞれ「ガラス層の
膜ＪＫ訂正します。 （３）同第５ページ第１行〜４行の「乎均細孔径・・・
使用される。］を次のとお）訂正します。 「平均細孔径５μｍ以下好ましくはＯ，ＯＳ〜２μｍＯ
単−構造又は多層構造の細孔を有するもので、列えば平
均粒径０．５μ程度のアルミナ微粒子のような酸化物微
粒子を、１〜１０■の厚さの板状又は管状に成形したも
のである。」 （４）　　同第５ページ下より６行目の「濾過層ｊｆ：
「濾過層の膜」に訂正します。 （５）　　同第７ページ第１３行の「均一な層」ヲ「均
一な膜」に、「層厚」ｔ−「膜厚」に訂正します。 （６）同第８ページ第２行及び第１３行の「ガラス層」
をそれぞれ「ガラス層の膜」に訂正します。 （７）同第８ページ下から３行及び最下行の「層厚」を
それぞれ「膜厚」に訂正します。 （８）同第９ページ第３行及び９行の「ガラス層」をそ
れぞれ「ガラス層のｇＪに訂正します。 （９）同第９ページ第１１行の「層厚」を「膜厚」に訂
正します。 （至）同第１０ページ第６行、７〜８行、１２行の「ガ
ラス層」をそれぞれ「ガラス層の膜」に訂正します。 α９　同第１０ページ第８行の「層厚」を「膜厚」に訂
正します。 （ロ）同第１１ページ第１表、物性の欄の「層厚（μ１
Ｊｔ−ｒ膜厚（μｍ）Ｊに訂正します。The figure is a graph showing the relationship between the number of coatings and film thickness in the present invention. Patent applicant TDC Co., Ltd. Agent
Akata Akikoshinr Hikamimaru (10) Procedural amendment December 12, 1980 Patent Application No. 238655, filed in 1982 2, Title of invention Method for manufacturing filter media 3, Relationship with the case of the person making the amendment Patent Applicant address: 13-1 Nihonbashi-chome, Chuo-ku, Tokyo.
(306) TDC Co., Ltd. Representative Kan Otoshi 4, Agent 5 Date of amendment order Voluntary action 8 Contents of amendment (1) 2nd line from the bottom of page 2 to 3rd page of 3rd page of the specification ``There is a drawback that it is the support...'' of the line.
Please correct it as follows: ``Because the membrane was formed dynamically under pressure,
Another disadvantage was that the membrane could not be maintained unless it was constantly under pressure, and there was an interlayer during storage. J(2) Same page 4 No. 3
Correct the "Glass layer J" in rows and lines 11, respectively. (3) Correct the "uniform pore diameter...
used. ] as follows). "Average pore diameter 5 μm or less, preferably O, OS ~ 2 μm O
It has a single-structure or multi-layered pore structure, and is formed by forming oxide fine particles such as alumina fine particles with an average particle size of about 0.5 μm into a plate or tube shape with a thickness of 1 to 10 μm. It is. ” (4) “Filtration layer jf:
Corrected to "filtration layer membrane". (5) Correct "uniform layer" to "uniform film" in line 13 of page 7, and "layer thickness" to t - "film thickness." (6) “Glass layer” on page 8, lines 2 and 13
Correct each to "glass layer membrane". (7) "Layer thickness" in the bottom three lines and the bottom line of the same page 8 will be corrected to "film thickness." (8) "Glass layer" in lines 3 and 9 of page 9 will be corrected to "gJ of glass layer." (9) "Layer thickness" in line 11 of page 9 will be changed to "film thickness." I will correct it. (To) "Glass layer" in lines 6, 7-8, and 12 of page 10 will be corrected to "glass layer membrane." α9 Correct "layer thickness" in line 8 of page 10 of the same page to "film thickness". (b) “Layer thickness (μ1
Correct to Jt-r film thickness (μm) J.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] １　平均細孔径５μｍ以下の多孔質セラミックスの表面
に、アルコキシシラン及びホウ素化合物を含む溶液をコ
ーティングし、加熱焼成したのち、酸処理することを特
徴とする濾過材の製造方法。1. A method for producing a filter material, which comprises coating the surface of porous ceramics with an average pore diameter of 5 μm or less with a solution containing an alkoxysilane and a boron compound, heating and baking the surface, and then treating the surface with an acid.