JPS61114443A - Camera tube - Google Patents

Camera tube

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JPS61114443A
JPS61114443A JP23416284A JP23416284A JPS61114443A JP S61114443 A JPS61114443 A JP S61114443A JP 23416284 A JP23416284 A JP 23416284A JP 23416284 A JP23416284 A JP 23416284A JP S61114443 A JPS61114443 A JP S61114443A
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image pickup
target
pickup tube
limiting aperture
tube
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/58—Arrangements for focusing or reflecting ray or beam
    • H01J29/64—Magnetic lenses
    • H01J29/66—Magnetic lenses using electromagnetic means only

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a screen with high resolution by locating the maximum intensity point of the electromagnetic field within a specified range determined by the distance between the limiting aperture and the target in a camera tube of the electromagnetic-focusing electrostatic-deflection type. CONSTITUTION:A photoelectric conversion target 16 is installed at one end of a vacuum case 13 and an electron gun having a limiting aperture 24 is installed at the other end. Next, an electrostatic deflecting electrode 14 consisting of a zigzag pattern is installed on the inner surface of the case 13. After that, focusing coils 26 and 27 and an alignment coil 28 are installed on the outer surface of the case 13, thereby assembling a camera tube. The maximum density point of the magnetic flux on the tube axis produced by focusing coils 26 and 27 is adjusted to be located toward the limiting aperture 24 and within the range at least 1/20 and less than 1/2 of the distance between the aperture 24 and the target 16. Accordingly, it is possible to achieve high resolution over the entire screen and to improve the shading and the pattern strain of the camera tube.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は撮像管装置に係わり、とくに電磁集束、静電偏
向形撮像管装置の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an image pickup tube device, and more particularly to improvements in an electromagnetic focusing and electrostatic deflection type image pickup tube device.

〔発明の技術的背景およびその問題点〕デフレフトロン
と称されるジグザグパターンからなる静電偏向電極をも
つ撮像管と、その外周に配置された電磁偏向コイルとを
組合せた撮像管装置は、とくに周辺解像度およびその均
一性がすぐれている点で実用されている。このような撮
像管装置において、解像度を改善する目的で集束コイル
を撮像管の前方すなわちターゲット側に寄せて配置する
ことが実開昭５２−５８９１８号公報に示されている。[Technical Background of the Invention and Problems Therewith] An image pickup tube device that combines an image pickup tube having an electrostatic deflection electrode with a zigzag pattern called a defleftron and an electromagnetic deflection coil arranged around its outer periphery is particularly useful for It is in practical use because of its excellent resolution and uniformity. In such an image pickup tube device, Japanese Utility Model Application Publication No. 52-58918 discloses arranging a focusing coil in front of the image pickup tube, that is, closer to the target side, for the purpose of improving resolution.

また一方、電磁集束磁界分布をその最大点が静電偏向電
極の中心部で最大となり且つターゲット位置での磁束密
度が最大値の２０％以下となるように設定することも、
特開昭５８−２２０３４０号公報に開示されている。On the other hand, it is also possible to set the electromagnetic focusing magnetic field distribution so that its maximum point is at the center of the electrostatic deflection electrode and the magnetic flux density at the target position is 20% or less of the maximum value.
It is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-220340.

最近実用化されつつある高品位テレビ用の撮像管装置で
は、とくに周辺を含めた解像度すなわち全面における振
幅変調度の向上およびその均一性、シェーディング特性
、お本び図形歪をさらに改善すべきことが要求されてき
ている。この点で本発明者の種々の評価では前記各公報
に示される撮像管装置にはさらに改良の余地が認められ
た。In image pickup tube devices for high-definition televisions that have recently been put into practical use, it is necessary to further improve the resolution including the periphery, that is, the degree of amplitude modulation over the entire surface, its uniformity, shading characteristics, and picture distortion. It's been requested. In this regard, various evaluations by the present inventors have shown that there is room for further improvement in the image pickup tube devices disclosed in the above-mentioned publications.

（発明の目的） 本発明は、以上の事情に鑑みてなされたもので、ジグザ
グパターンからなる静電偏向電極をもつ搬像管に対して
電磁集束磁界の強度分布を改良することにより、画面全
体にわたり高解像度が得られ、且つシェーディング特性
、図形歪を改良しうる撮像管装置を提供するものである
。(Objective of the Invention) The present invention has been made in view of the above circumstances, and by improving the intensity distribution of an electromagnetic focusing magnetic field for a picture tube having an electrostatic deflection electrode consisting of a zigzag pattern, An object of the present invention is to provide an image pickup tube device that can obtain high resolution over a wide range of areas and improve shading characteristics and graphic distortion.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、電子ビーム路のまわりに設けられたジグザグ
パターンからなる静電偏向電極を有してなる撮像管とこ
の撮像管の外周に配設された電磁集束コイルとを具備す
る撮像管装置において、電磁集束コイルにより形成され
る管軸上の磁束密度分布、をその最大点がリミッティン
グ・アパーチャからターゲットまでの距離の２０分の１
以上、２分の１未満の範囲内でミッティング・アパーチ
ャ寄りに位置するように構成されてなる撮像管装置であ
る。これによってと（に画面全体にわたる高解像度、シ
ェーディング特性、および図形歪を改良することができ
る。The present invention provides an image pickup tube device comprising an image pickup tube having an electrostatic deflection electrode formed in a zigzag pattern around an electron beam path, and an electromagnetic focusing coil disposed around the outer periphery of the image pickup tube. , the magnetic flux density distribution on the tube axis formed by the electromagnetic focusing coil, whose maximum point is 1/20 of the distance from the limiting aperture to the target.
The above is an image pickup tube device configured to be located closer to the mitting aperture within a range of less than one-half. This allows for improved resolution, shading characteristics, and graphical distortion across the entire screen.

（発明の実施例） 以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。(Example of the invention) The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

なお同一部分は同一符号であられす。Identical parts are designated by the same reference numerals.

第１図に示すように、静電偏向形撮像管（υ−）の外周
に電磁集束コイル（１２）が同軸的に配設されている。As shown in FIG. 1, an electromagnetic focusing coil (12) is disposed coaxially around the outer periphery of the electrostatic deflection type imaging tube (υ-).

撮像管（１１）は、ガラス製真空容器（１３）の内面に
デフレフトロンとして知られるジグザグパターンからな
る静電偏向電極（１４）が被着形成されている。この静
Ｎ偏向電極（１４）は図示のように管の長手方向にわた
って各偏向電極がおよそ９０度回転するパターン構成を
有している。The image pickup tube (11) has an electrostatic deflection electrode (14) formed in a zigzag pattern known as a defleftron adhered to the inner surface of a glass vacuum container (13). As shown in the figure, the static N deflection electrodes (14) have a pattern configuration in which each deflection electrode rotates approximately 90 degrees along the length of the tube.

真空容器（１３）の一端部にはフェースプレート（１５
）が気密接合され、その内面に光電変換ターゲット（１
６）が設けられ、その信号電極（１７）が管外導出され
ている。また光電変換ターゲット（１６）に近接してメ
ツシュ電極（１８）が配置され、この近傍まで静電偏向
電極（１４）が形成されている。真空容器（１３）の他
端部にはリードビン（１９）が植設されたステムが気密
接合され、各リードビン（１９）にカソード（２０）、
第１グリツド（２１）、第２グリツド（２２）、および
シールド筒（２３）が保持され、電子銃が構成されてい
る。第２グリツド（２２）には直径がおよそ２０μｍの
リミッティング・アパーチャ（２４）が取付けられてい
る。そしてこのリミッティング・アパーチャ（２４）に
連続して静電シールドおよび戻りビームによる電極反射
を防止するためのシールド筒（２３）が管軸に沿って突
出されている。なお動作にあたっては、第１グリツド（
２１）にＯ〜＋３０Ｖ、第２グリツド（２２）におよそ
＋３００ｖが印加される。静電偏向電極（１４）の下端
は第１グリツド（２１）の下方まで延長して形成されて
いる。撮像管りユ）の外周には、アルミニウム製のコイ
ル装着用の支持筒（２５）が配置され、これにターゲッ
ト側から！磁集束コイル（１２）を構成する第１集束コ
イル（２６）、第２集束コイル（２７）、およびアライ
メントコイル（２８）が順次装着されている。アライメ
ントコイル（２８）は第２グリツド（２２）の外周に対
応して配置され、また第１集束コイル（２６）よりも短
い寸法の第２集束コイル（２７）は、コイルの巻数が第
１集束コイル（２６）よりも多く、シールド１ｉＴ（２
３）の近くの外周に配置されている。これらコイルの外
周をとりまいて強磁性体製のヨーク（２９）が配設され
ており、そのターゲット側に同じく強磁性体製のカバー
（３０）がかぶせられている。支持筒（２５）には固定
リング（３１）が螺合されている。A face plate (15) is attached to one end of the vacuum container (13).
) are hermetically sealed together, and a photoelectric conversion target (1
6), and its signal electrode (17) is led out of the tube. Further, a mesh electrode (18) is arranged close to the photoelectric conversion target (16), and an electrostatic deflection electrode (14) is formed up to this vicinity. A stem in which lead bins (19) are implanted is hermetically sealed to the other end of the vacuum container (13), and each lead bin (19) is provided with a cathode (20),
A first grid (21), a second grid (22), and a shield tube (23) are held to constitute an electron gun. The second grid (22) is fitted with a limiting aperture (24) having a diameter of approximately 20 μm. Continuing from this limiting aperture (24), an electrostatic shield and a shield tube (23) for preventing electrode reflection due to the return beam are protruded along the tube axis. For operation, the first grid (
21) and approximately +300V to the second grid (22). The lower end of the electrostatic deflection electrode (14) is formed to extend below the first grid (21). An aluminum support tube (25) for attaching a coil is arranged around the outer periphery of the image pickup tube (25), and the support tube (25) is placed on the outer circumference of the image pickup tube (25). A first focusing coil (26), a second focusing coil (27), and an alignment coil (28) constituting the magnetic focusing coil (12) are sequentially attached. The alignment coil (28) is disposed corresponding to the outer periphery of the second grid (22), and the second focusing coil (27), which has a shorter dimension than the first focusing coil (26), has a coil turn number that is smaller than the first focusing coil. more than the coil (26) and the shield 1iT (2
3) is placed on the outer periphery near. A yoke (29) made of ferromagnetic material is disposed surrounding the outer periphery of these coils, and a cover (30) also made of ferromagnetic material is placed on the target side. A fixing ring (31) is screwed onto the support tube (25).

さて、動作において電磁集束コイル（１２）の分割され
た２つの第１集束コイル（２６）および第２集束コイル
（２７）は直列に接続され、コイルリード（３２）から
供給される共通の電流により励磁される。この電磁集束
コイル（１２）は、それによって撮像管内に第２図に示
す管軸上の磁束密度分布をあられすように構成されてい
る。そして電子ビーム（ｅ）はリミッティング・アパー
チャ（２４）からターゲット（１６）までの距離（Ｌ）
間で１ループを描いてターゲット（１６）上に集束され
る。Now, in operation, the two divided first focusing coils (26) and second focusing coils (27) of the electromagnetic focusing coil (12) are connected in series, and are driven by a common current supplied from the coil lead (32). Excited. This electromagnetic focusing coil (12) is configured to generate a magnetic flux density distribution on the tube axis shown in FIG. 2 within the imaging tube. The electron beam (e) is located at the distance (L) from the limiting aperture (24) to the target (16).
It is focused on the target (16) by drawing one loop in between.

とくに電磁集束磁界は、第２図に示す分布となっており
、管軸上の最大点（Ｂｍ）が、リミッティング・アパー
チャ（２４）からターゲット（１６）まで距離（Ｌ）の
１／２０乃至１／２の範囲でリミッティング・アパーチ
ャ（２４）寄りに位置するようになっている。これによ
ってζくにシールド筒付近で集束磁界強度が強く、後述
のすぐれた効果が得られる。なお磁界強度最大点の位置
の設定は、主として巻数の多い第２集束コイル（２７）
の巻数あるいは長さにより任意に設定できる。そしてこ
の磁界分布は、最大点（Ｂｍ）からターゲット側では途
中までなだらかに減少したうえその領域（ＢＸ）から急
激に低下し、ターゲット（１６）に相当する位置での磁
束密度（ａｔ）が最大値に対して１０％以上、６０％以
下の範囲の値となるように設定されている。またリミッ
ティング・アパーチャ（２４）がねでは最大点（Ｂｍ）
から急激に減少してこのリミッティング・アパーチャに
対応する位置での磁束密度（Ｂａ）が同じく最大値に対
して１０％以上、６０％以下の範囲の値となるように設
定されている。In particular, the electromagnetic focusing magnetic field has a distribution as shown in Figure 2, and the maximum point (Bm) on the tube axis is 1/20 to 1/20 of the distance (L) from the limiting aperture (24) to the target (16). It is located closer to the limiting aperture (24) within a 1/2 range. As a result, the intensity of the focused magnetic field is particularly strong near the shield tube, and the excellent effects described below can be obtained. The position of the maximum magnetic field strength point is mainly determined by the second focusing coil (27), which has a large number of turns.
It can be set arbitrarily depending on the number of turns or length. This magnetic field distribution gradually decreases halfway from the maximum point (Bm) to the target side, and then rapidly decreases from that region (BX), and the magnetic flux density (at) at the position corresponding to the target (16) reaches its maximum. It is set to be a value in the range of 10% or more and 60% or less of the value. Also, the maximum point (Bm) of the limiting aperture (24)
It is set so that the magnetic flux density (Ba) at the position corresponding to the limiting aperture rapidly decreases from the maximum value to a value in the range of 10% or more and 60% or less of the maximum value.

な゛お、この磁界分布はとくに好ましくは最大点（ａｍ
）の位置が距離（Ｌ）の１／１０以上、１／２．５　　
の範囲でリミッティング・アパーチャ寄りとなるように
設定する。ターゲットおよびリミッティング・アパーチ
ャの位置での磁束密度（８ｔ）、（Ｂａ）は、とくに好
ましくは各々最大値の２０％以上、５０％以下の範囲と
なるように設定する。Note that this magnetic field distribution is particularly preferably at the maximum point (am
) position is 1/10 or more of the distance (L), 1/2.5
Set it so that it is closer to the limiting aperture within the range of . The magnetic flux densities (8t) and (Ba) at the positions of the target and the limiting aperture are particularly preferably set in a range of 20% or more and 50% or less of the maximum value, respectively.

以上の構成による本発明は、画面の中心および周辺の解
像度がともにすぐれ、またシェーディング特性、図形歪
も良好な結果を示す。The present invention with the above configuration has excellent resolution in both the center and periphery of the screen, and also exhibits good results in shading characteristics and graphic distortion.

すなわち、集束磁界の強度がリミッティング・アパーチ
ャのすぐ下流のシールド筒付近で最も強い分布であるた
め、静電偏向電界の影響をあまり受けずに電子ビームの
回転半径が著しく小さく集束される。したがって電子ビ
ームの発散角および軌道上の拡散が小ざく、収差が少な
くてと（に周辺解像度および均一性のすぐれた画像が得
られる。That is, since the intensity of the focusing magnetic field is strongest near the shield tube immediately downstream of the limiting aperture, the radius of rotation of the electron beam is focused to be extremely small without being affected much by the electrostatic deflection electric field. Therefore, the divergence angle and orbital dispersion of the electron beam are small, and an image with excellent peripheral resolution and uniformity can be obtained with little aberration.

この本発明の優位性は第３図に示す特性図により足口的
にも裏付けられる。同図は第２図に示した集束磁界強度
分布の最大点（Ｂｍ）の位置をリミッティング・アパー
チャ（２４）から光電変換ターゲット（１６）までの範
囲で変化させた場合の各々における解像度すなわち振幅
変調度、シェーディング特性、画像歪、および偏向率を
プロットしたものである。なお振幅変調度は４００テレ
ビ本のテストパターンにより測定した結果である。この
結果から、上述した本発明の集束磁界分布が総合的な画
質においてとくにすぐれており、なお且つとくに偏向率
すなわち偏向感度が著しく向上することが裏付けられて
いる。This superiority of the present invention is also confirmed by the characteristic diagram shown in FIG. The figure shows the resolution or amplitude at each point when the position of the maximum point (Bm) of the focused magnetic field intensity distribution shown in Figure 2 is changed in the range from the limiting aperture (24) to the photoelectric conversion target (16). This is a plot of modulation degree, shading characteristics, image distortion, and deflection rate. Note that the amplitude modulation degree is the result of measurement using a test pattern of 400 television programs. These results confirm that the above-described focused magnetic field distribution of the present invention is particularly excellent in overall image quality, and that the deflection rate, that is, the deflection sensitivity, is significantly improved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、電子ビーム路のまわりに
設けられたジグザグパターンからなる静。As explained above, the present invention is directed to a stationary beam consisting of a zigzag pattern provided around the electron beam path.

電偏向電極を有してなる撮像管とこの撮像管の外周に配
設された電磁集束コイルとを具備する撮像管装置におい
て、電磁集束コイルにより形成される管軸上の磁束密度
分布をその最大点がリミッティング・アパーチャからタ
ーゲットまでの距離の２０分の１以上、２分の１未満の
範囲内でミッティング・アパーチャ寄りに位置するよう
に構成されてなり、これによってとくに画面全体にわた
る高解像度、シェーディング特性、図形歪、および偏向
感度を改良することができる。In an image pickup tube device equipped with an image pickup tube having an electric deflection electrode and an electromagnetic focusing coil disposed around the outer periphery of the image pickup tube, the magnetic flux density distribution on the tube axis formed by the electromagnetic focusing coil is The points are arranged close to the limiting aperture within a range of at least 1/20 and less than 1/2 of the distance from the limiting aperture to the target, thereby providing particularly high resolution over the entire screen. , shading characteristics, graphic distortion, and deflection sensitivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は本発明の実施例を示す半断面図、第２図はその
集束磁界分布特性図、第３図は本発明の詳細な説明する
ための特性図である。 （１１）・・・撮像管、＜１２）・・・電磁集束コイル
、（１４）・・・静電偏向電極、（ｅ）・・・電子ビー
ム、（１６）・・・光電変換ターゲット、 （２０ン・・・カソード、 り２４）・・・リミッティング・アパーチャ、（２３）
・・・シールド筒、 （２６）・・・第１集束コイル、 （２７）・・・第２集束コイル、 （Ｌ）・・・リミッティング・アパーチャからターゲッ
トまでの距離、 （Ｂｍ）・・・磁束最大点、 （Ｂａ）・・・リミッティング・アパーチャ位買での磁
束密度、 （Ｂｔ）・・・ターゲット位瞳での磁束密度。 代理人　弁理士　則　近　憲　佑（ほか１名）第１図 第　　３　図 ↑ 手続補正書（自発）FIG. 1 is a half-sectional view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a characteristic diagram of the focused magnetic field distribution, and FIG. 3 is a characteristic diagram for explaining the present invention in detail. (11)... Image pickup tube, <12)... Electromagnetic focusing coil, (14)... Electrostatic deflection electrode, (e)... Electron beam, (16)... Photoelectric conversion target, ( 20n...Cathode, 24)...Limiting aperture, (23)
...Shield tube, (26)...First focusing coil, (27)...Second focusing coil, (L)...Distance from the limiting aperture to the target, (Bm)... Maximum magnetic flux point, (Ba)...Magnetic flux density at the limiting aperture position, (Bt)...Magnetic flux density at the target position pupil. Agent: Patent attorney Noriyuki Chika (and 1 other person) Figure 1 Figure 3 ↑ Procedural amendment (voluntary)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）リミッティング・アパーチャをもつ電子銃、光電
変換ターゲット、およびこれら電子銃からターゲットに
至る領域の電子ビーム路のまわりに設けられたジグザグ
パターンからなる静電偏向電極を有してなる撮像管と、 この撮像管の外周に配設された電磁集束コ イルとを具備する撮像管装置において、 上記電磁集束コイルにより形成される管軸 上の磁束密度分布は、その最大点が上記リミッティング
・アパーチャからターゲットまでの距離の２０分の１以
上、２分の１未満の範囲内でミッティング・アパーチャ
寄りに位置するように構成されてなることを特徴とする
撮像管装置。(1) An image pickup tube comprising an electron gun with a limiting aperture, a photoelectric conversion target, and an electrostatic deflection electrode in a zigzag pattern provided around the electron beam path in the region from the electron gun to the target. and an electromagnetic focusing coil disposed around the outer periphery of the imaging tube, the magnetic flux density distribution on the tube axis formed by the electromagnetic focusing coil has its maximum point at the limiting aperture. An image pickup tube device characterized in that the image pickup tube device is configured to be located closer to the mitting aperture within a range of 1/20 or more and less than 1/2 of the distance from the target to the target. （２）電磁集束磁界は、撮像管のリミッティング・アパ
ーチャおよびターゲットの位置での磁束密度が最大点の
値に対して１０％以上、６０％以下の範囲の値に設定さ
れてなる特許請求の範囲第１項記載の撮像管装置。(2) The electromagnetic focusing magnetic field is set to a value in the range of 10% or more and 60% or less of the value at the maximum point of the magnetic flux density at the limiting aperture of the image pickup tube and the target position. The image pickup tube device according to scope 1. （３）電磁集束磁界で集束される電子ビームは、１ルー
プを描いてターゲット上に集束される構成の特許請求の
範囲第１項記載の撮像管装置。(3) The image pickup tube device according to claim 1, wherein the electron beam focused by the electromagnetic focusing magnetic field is focused on the target while drawing one loop. （４）電磁集束コイルは、管軸方向に沿って複数個に分
割されてなるとともに、リミッティング・アパーチャに
近い方のコイルの巻数が他のコイルの巻数よりも多く、
各コイルが直列接続され同一電流が供給されてなる特許
請求の範囲第１項記載の撮像管装置。(4) The electromagnetic focusing coil is divided into multiple pieces along the tube axis direction, and the number of turns of the coil closer to the limiting aperture is greater than the number of turns of the other coils,
An image pickup tube device according to claim 1, wherein each coil is connected in series and supplied with the same current. （５）撮像管は、リミッティング・アパーチャのすぐ下
流に軸方向に延びるシールド筒を有してなる特許請求の
範囲第１項記載の撮像管装置。(5) The image pickup tube device according to claim 1, wherein the image pickup tube has a shield tube extending in the axial direction immediately downstream of the limiting aperture.
JP23416284A 1984-11-08 1984-11-08 Camera tube Granted JPS61114443A (en)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5173381A (en) * 1974-12-20 1976-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd DENSHIKANSOCHI

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5173381A (en) * 1974-12-20 1976-06-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd DENSHIKANSOCHI

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JPH0574897B2 (en) 1993-10-19

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