JPS6092466A - アルミニウムの蒸着方法 - Google Patents

アルミニウムの蒸着方法

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Publication number
JPS6092466A
JPS6092466A JP19973183A JP19973183A JPS6092466A JP S6092466 A JPS6092466 A JP S6092466A JP 19973183 A JP19973183 A JP 19973183A JP 19973183 A JP19973183 A JP 19973183A JP S6092466 A JPS6092466 A JP S6092466A
Authority
JP
Japan
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aluminum
wire
vapor
deposited
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19973183A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Sato
謙一 佐藤
Shungo Konishi
小西 俊吾
Yasumasa Hanaki
花木 康真
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication of JPS6092466A publication Critical patent/JPS6092466A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/246Replenishment of source material

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、基盤上にアルミニウムを蒸着させる方法に関
するものである。
(背景技術) 例えばメタライズドコンデンサ、ディジタルディスク等
の各種アルミニウム蒸着製品ニハ、紙、絶縁フィルム、
金属板等の基盤上にアルミニウムを蒸着させたものが使
用される。
アルミニウムの蒸着方法には、蒸発諒として、■るつぼ
内の溶融アルミニウムを用いる方法、■W等より成るヒ
ーターにアルミニウム#l’tひっかけて浴融させなが
ら蒸発させる方法、■加熱した基板にアルミニウム線を
連続的にjAりこみ、基板の熱により連続して蒸発させ
る方法がある。
これらのうち、工業生産に用いられている方1人は■お
よび■の方法であるが、次のような入点がある。
■ノ方法では、アルミニウムの量がるっif +7) 
Qf遺で決ってしまい、そのため最大単長がるつぼで決
ってしまうので、連続操業メ;できず、得られる製品の
単長が短かい。
■の方法では、アルミニウム線の表面に存在する油分、
水分やアルミニウム中の固溶H2ガスが溶融、蒸着され
る時、同時に蒸着膜に入り込むため、得られる蒸着族の
品質が悪い。
(発明の開示) 本発明は、上述の欠点を解消するため成されたもので、
連続操業可能で、単長が長く、しかも品質の優れたアル
ミニウム蒸j?1Mが得られるアルミニウムの蒸着方法
を提供せんとするものである。
本発明は、アルミニウム1Mを連続的に蒸発させて、基
盤上に′?!A着させる方法にあ・いて、前もって前記
アルミニウム線t+oo〜550℃の温度範囲で焼鈍す
ることをlivlmとするアルミニウムの蒸着方法であ
る。
本発明にあ・いて、前もってアルミニウム線t−100
゜〜550℃の温度範囲で焼鈍するのは、表面に存在す
る油分、水分を除去することと、アルミニラ水分の除去
とアルミニウム中のH2ガス減少に効果なく、550℃
を越えるとH2ガスの減少がなく、むしろH2ガスを吸
収するため逆効果となる。
又本発明に2いて、焼鈍は大気中でtテなっても良いが
、減圧された雰囲気中で行なわれることが好ましく、こ
れによりアルミニウム中のH2ガスをさらに減少させ、
蒸着j摸の品質をさらに向上させることができる。雰囲
気の真空度は高い方が好ましいが、ITorr 以下で
あれば、効果の向」二が著しく、I Torr 以下が
望ましい。
本発明において、上述のような焼鈍処理は、蒸着のため
アルミニウム線を連続的に送り込む以前に、供給ライン
で連続的に行なっても、又別」−程でバッチ式若しくは
連続式で行なっても良い。水分ガスなどの再付着を防止
する麓昧で、連続的に蒸着前に、あるいは焼鈍処理後、
I Torr 以下の真空又はArガスなどでシールし
ておくことが好ましい。
(実施例) M度99.99%の1.6 rRWLfのアルミニウム
線ヲ、通常の鋳造、圧延、伸線方法により製造し、メチ
ルエチルケトンにより伸線油を除去した。
これらの線を表1に示す種々の条件で焼鈍し、真空度1
O−5Torrの条件下でPET (ポリエチレン、テ
レツクレート)装の基盤上に連続的に蒸着させた。
得られたアルミニウム蒸着板について、蒸着膜表面のピ
ンホール数により、蒸着)摸の評価を行なった結果は表
1に示す通りである。
ピンホール数は、焼&h以前の脱脂したままのアルミニ
ウム線を用いたもの(比較例&12)を1とした時の相
対値で示した。
表1より、本発明によるA、 l −116,10では
、蒸ノ彦膜のピンホールが減少し、焼鈍雰囲気の真空度
が増す程減少することが分る。
表 1 (発明の効果) 」二連のように構成されたアルミニウムの蒸シ1イ1方
法は次のような効果がある。
(イ)蒸着に先立ち、前もって1」1記アルミニウム線
を100〜550℃の温度範囲で焼鈍するため、アルミ
ニウム線表面に存在する油分、水分を除去すると共にア
ルミニウム中のH2ガスを減少させるので、高品質の蒸
着膜が得られる。
(口〕蒸着にアルミニウム線を用いるため、連続操業可
能で、大単長のアルミニウム蒸M製品を製造し得る。
(ハ)焼鈍を減圧された雰囲気で行なうと、アルミニウ
ム中のH2ガスをさらに減少させ、蒸着族の品質をさら
に向」ニさせることができる。
代理人 弁理士 青 木 秀實69

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)アルミニウム線を連続的に蒸発させて、基盤上に
    蒸着させる方法にあ・いて、前もって前記アルミニウム
    線を100〜550℃の温度範囲で焼鈍することを特徴
    とするアルミニウムの蒸着方法。 〔2〕焼鈍が、減圧された雰囲気中で行なわれる特許請
    求の範囲第1項記載のアルミニウムの蒸着方法。 (3)減圧された雰囲気が、真空度I Torr以下で
    あるi1′″1′訂請求の範囲第2項記載のアルミニウ
    ムの蒸着方法。 (4)アルミニウム線が、純度999%以上である特許
    請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載のミ アルミニウムの蒸着方法。
JP19973183A 1983-10-25 1983-10-25 アルミニウムの蒸着方法 Pending JPS6092466A (ja)

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JPS6092466A true JPS6092466A (ja) 1985-05-24

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7270714B2 (en) 1999-05-14 2007-09-18 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Surface treating apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7270714B2 (en) 1999-05-14 2007-09-18 Sumitomo Special Metals Co., Ltd. Surface treating apparatus

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