JPS6077121A

JPS6077121A - シリカ多形体の製造方法

Info

Publication number: JPS6077121A
Application number: JP18089984A
Authority: JP
Inventors: ダツク．ジユー．ヤン
Original assignee: EI Du Pont de Nemours and Co
Current assignee: EIDP Inc
Priority date: 1983-08-31
Filing date: 1984-08-31
Publication date: 1985-05-01
Also published as: ZA846795B

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】技術分野本発明はケイ素源が元素状ケイ素である、多結晶性シリ
カ多形体（例えば、シリカライト及びゼオライト）の裏
造方法に関する。

従来技術の説明シリカライト及び結晶性アルミノシリケイトの製造のた
めに最もしばしば使用されるケイ素源のひとつは通常コ
ロイド状シリカの３０チ水性グルの形でのシリカである
。このようなケイ素源についての代表的開示は１９７７
年１２月６日に許可された米国特許第４，０６１，７２
４号であシ、そこにはアルカリ金属シリケイトのはかに
無定形シリカ、例えばヒユームドシリカ、シリカゾル及
びシリカダルがケイ素源として記載されている。１９８
１年３月３１日に許可された米国特許第４，２５９，３
０６号には、ケイ素源としてケイ酸が開示されている。

１９８１年１２月２３日に公開された英国特許出願第２
，０７７．７０９Ａ号には、幾つかの特殊なケイ素源、
例えば粉末の固体シリカ及び溶解されたシリカが挙げら
れている。

そこにはまたゴム用補強顔料中に使用し得るブレイドの
エーロゾルシリカ、及びアルカリ金属水酸化物または第
四級アンモニア水酸化物中にシリカを溶解することによ
シ作られた水ガンスジリカ及びシリケイ・トがケイ素源
として記載されている。ケイ素源としての有機ケイ素化
合物を使用することは、チタン化合物との組合せ（１９
８１年９月１６日公開の英国特許出願第２．０７１，０
７１Ａ号）、アルミニウム化合物との組合せ（１９８１
年９月１８日公告のフランス特許第２，４７８，０６３
号）、ゲルマニウム化合物との組合せ（１９８０年１月
３日公開の英国特許出願第２．０２３，５６２Ａ号）、
及び鉄及びクロム化合物との組合せ（１９８０年８月８
日公開の欧州特許出願第００１４０５９号）に記載され
ている。

発明の概要本発明はシリカライト及びゼオライトと呼ばれるような
ものを含むシリカ多形体の改良された製造方法に関し、
この方法は塩基性条件下で水性反応謀質中に元素状ケイ
素の形でケイ素を、通常はテンブレイト化合物と一緒に
導入し、次にこの媒質を、例えば１００〜３００℃の温
度範囲で及び少なくとも７．１の声で、加熱することを
含む。好ましい具体例においては、元紫状ケイ素は約２
０００ミクロン以下、好ましくは約３５０ミクロン以下
の平均粒径を有する粉末である。他の元素、例えばアル
ミニウム、を元素状ケイ素と共に導入して多形体中に含
有させることもできる。

３、発明の詳細な説明ここで使用したシリカ多形体の用語は本質的に１００１
シリカからなる多形体のほか、ケイ素以外の元素を約５
０俤まで含む多形体をも包含する。かかる元素の例とし
てはアルミニウム、ホウ素、鉄、クロム、亜鉛、ガリウ
ム、リン及びヒ素があり、これらを単独でまたは組合せ
て使用できる。従来の技術によってシリカ多形体に添加
された元素は元素状ケイ素と共に導入できる。多形体に
導入されるべき元素が本反応に使用される条件下で反応
性であるか若しくは反応性になる場合には、それらはケ
イ素と同じ形で添加されうる。本方法においてケイ素と
他の元素が反応する時に形成される水素ガスを処理する
ための設備がなされるべきである。

１９７２年１１月１４日に許可された米国特許Ｍ３，７
．０２，８８６号、１９７３年ｌＯ月３０日に許可され
た米国特許第３，７６９，３８６号、１９７７年５月１
０日に許可された米国特許第４，０２２，７１４号及び
１９７８年１０月１７日に許可された米国特許第４，１
２０，９１０号に記載されたような、ケイ素以外の元素
を含有する結晶性ゼオライトを含む広範囲の多形体の製
造にケイ素を使用できる。

１９８１年３月３１日に許可された米国特許第４．２５
９，３０６号及び１９８２年１１月２日に許可された米
国特許第４，３５７，２３３号に記載されたよりなゼオ
ライトも製造できる。１９８１年８月１１日に許可され
た米国特許第４，２８３，３０６号、１９７７年１２月
６日に許可された米国特許第４，０６１，７２４号及び
１９７６年３月２日に許可された米国特許第３，９４１
，８７１号に記載されたような結晶性シリカ多形体：　
１９８１年８月２５日に許可された米国特許第４，２８
５，９１９号に記載されたようなポロシリケイト；及び
１９８０年２月７日に公開された丙独特許出願第２，８
３１，６１１号に記載されたような鉄シリケイトもまた
本発明に従って製造できる。他のシリカ多形体は当業者
にとって明白であろう。

本方法は水、元素状ケイ素、通常はテンプレイト化合物
及び、所望によシ界面活性剤及び／または分散剤を含む
反応混合物を、少なくとも７゜１、好ましくは９．５〜
１３．８の＠囲及び更に好ましくは１０．５〜１３，８
の範囲の声で水熱条件下で加熱する工程を含む。ケイ素
は無定形、多結晶及び単結晶ケイ素を含む広範囲な源か
ら粉末、ウェハー、ロッドまたはペレツトの形で得られ
る。細分の程度、例えば粉末とペレット、は反応速度に
著しく影響する。シリカの炭素還元により製造されたケ
イ素が別の満足すべきケイ素源である。最も望ましいケ
イ素源は牛導体製造における別物質である。高純度のケ
イ素粉末は高純度のシリカ多形体の製造に使用できる。

ケイ素の合金、例えばケイ素−アルミニウム合金及びケ
イ素−鉄合金も好適なケイ素源である。

反応時間及び温度は重要ではなく、高められた温度での
十分な時間によってケイ素の反応及び結晶性シリカ多形
体の形成がなされる限り、従来技術において使用された
これらの条件と類似であシえる。通常、反応温度は１０
０〜３００℃で変化しえ−るが、１４０〜２００℃に維
持するのが好ましい。反応時間は実用的な長でよいが、
３０〜３００時間をこえないことが好ましい。本方法を
連続的に実施することが好ましく、それによって実質的
な反応＃′蘭の短縮がなされる。液体から反応生成物を
、例えばろ過によシ分離した後、好ましくはこれを洗浄
し、公知の技術によって乾燥する。

多形体の製造のためにテンプレイトが必要な場合、多数
の化合物が好適である。非常に純粋なシリカ多形体の製
造を希望するならば、アルカリ金属を除いてテンプレイ
トは本質的に金属金倉んではならない。好適々テンプレ
イトは次の式で定義されるアルカリアンモニウムカチオ
ンを本質的に含有するかまｆｃＩ／′ｉこれからなって
式中、Ｒ基は同一または異たるもので、１〜６炭素原子
を含むアルキル基である。好ましくはＲはメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル及びこれらの異性体、及
びこれらの混合物である。使用でき且つ好ましいアニオ
ンは水酸基及びハロゲン、例えば塩素である。具体的化
合物としては、テトラメチルアンモニウムハイドロオキ
サイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド
、テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイド、テ
トラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、及びこれ
ら水酸化物に対応する塩、特にクロライド、アイオダイ
ド及ヒクロミド、例えばテトラプロビルアンモニウムグ
ロミド、がある。第四級カチオンはそれ自体反応混合物
に供給でき、またはその場で形成させることもできる。

その他のテンプレイトはアルキルアミン、アルコールア
ミン、モノヒドロキシアルキレントリアルキルアンモニ
ウムハライド、アルカリ及びアンモニウムアルキルスル
ホネイト、ア七ドアミド、ペンタエリトリット、ペンノ
ルトリメチルアンモニウムのような錯イオン、有機ジオ
ール及び有機カルボン酸を含む。

別のテンプレイトは、上記式中の窒素原子をリン原子で
置換し良化合物、及びエチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミンのような式ＮＨ２（ＣＨ２）ｎＮ上２、式中
ｎ　＝　２〜１２、を有するジアミンがある。更に、そ
の他のテンプレイト化５合物は当業者に自明であろう。

反応媒質の塩基性度は幾つかの方法により制御できる。

テンプレイトまたはアルキルアンモニウムハライド若し
くはジアミン、例えばヘキサメチレンツアミンと組合せ
たテンプレイトは塩基性全付与する。水酸化アンモニウ
ム及びアルキルアンモニウムハライドも可能な組合せで
ある。アルカリ金属水酸化物も塩基性付与のために使用
できるか、前記の塩基と異なシ残留アルカリ金属を多形
体から除去するための付加的工程が必要となるので好ま
しくない。

分散剤を本方法に使用できる。シリカ多形体の望ましい
性質を減じない程度までは反応に関係しない分散剤が好
ましい。１〜６炭素原子のアルコールが全く好適である
。かかるアルコールの例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−グロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタ
ノール、ｎ−へギザノール及びこれらの異性体がある。

その他の分散剤も当業者にとって自明であろう。エトキ
シル化アルコール、Ｉリオキシエチレントリデシルエー
テル、Ｉリエチレングリコールジラウレイト及びオクチ
ルフェノキシポリエトキシエタノールのような界面活性
剤も反応を促進するために反応混合物の２〜１０重量−
の濃度で使用できる。その他の界面活性剤は当業者に自
明であろう。

反応体の相対的割合は極めて広範Ｊで変化しうるが、ケ
イ！（８１）、テンプレイト化合物（Ｔ５、水（Ｈ２Ｏ
）及び、任意の、界面活性剤（Ｓ）、アルコール（Ａ）
及びケイ素以外の元素（Ｅ）の相対的愈はモル比で表わ
すと、一般にＳｉ／Ｈ２０は０．００５〜０，２５及び
好ましくは０．０１〜ｏ、ｏｓ　；Ｔ／Ｓ　ｉは０．Ｏ
１〜１０及び好ましくは０．１〜１；Ａ／）（２ｏは０
〜５及び好ましくは０．０２〜１：］１％Ｓ　ｉはＯ〜
１　；　Ｓ／’Ｈ２０は０〜０．１５及び好ましくは０
．０００１〜０．００１である。ケイ素、テンプレイト
及びアルコールの混合物は本発明の範囲内である。高イ
オン強度の系中で起る時期尚早な固体形成は当分野に公
知の方法で、例えば希釈によシ最少限にできる。

第１表に要約した下記実施例は木兄ＦＪＡを説明スルタ
メノモので、これを限定するものではない。別に表示し
ない限シ部及びパーセントは重量に基づく。以下の略記
を実施例の衣中で使用した：ＴＥＮＱＨ−テトラエチルアンモニウムハイドロオキサ
イド−４ｏチ水溶液ＴＰＮＢｒ　＝テトラプロビルアンモニウムグロミドＴＰＮＣｌ　＝テトラノロビルアンモニウムクロライドＴＰＮＯＨ＝　ｆ　）　７７’ロビルアンモニウムハイ
ドロオキサイド−４０チ水溶液Ｉ（ＭＤ　、＝ヘキサメチレンジアミンー８５％水溶液ＴＭＮＯＨ＝　ｆ　）　ラ）チルア／モニウムハイドロ
オキザイド−２５チ水溶液ＥＴＯＨ＝エタノールＭＥＯＨ＝メタノールＮＡ　＝分析せず実施例１〜１７表示した反応体を２５℃で激しく攪拌してスラリーを作
った。水溶液に添加されるテンプレイトのためにその溶
液重量ｆｔ記録する。得られたスラリーを攪拌器及び加
熱ジャケットを備え圧力制御できるオートクレイプ中で
処理した。

実施例１．２，３，７，８，１２．１４及び１７では３
１６ステンレス鋼製、実施例４，５．１０１１．１３及
び１６ではハステロイｎＨＮ実施例６ではハステロイＣ
Ｍ及び実施例１５ではチタン製のオートクレイｆｆそれ
ぞれ使用した。

オートクレイｆｆ密閉し、攪拌（約１００〜２００　ｒ
ｐｍ　）　Ｌ、、ながら内容物の温度をゆりく９１６０
℃に上昇させ、圧力が３７．４ａｔｍを越えることを防
ぐために排気する場合を除いて光示した時間だけ攪拌し
ながら１６０℃に保持した。

実施例９では、各物質をテフロン製のビンに充填し、こ
のビンをオートクレイプ中に入れ、反応の間ビンの内容
物を攪拌しなかつた。

固形の結晶性生成物をろ過して回収し、固形物の容積と
同容積の水で３回洗浄し１、蜜素雰囲気中で９５℃で乾
燥した。サンプルを採シ、これを５℃／分の割合で昇温
しながら空気中にて２５〜５５０℃で加熱し、空気中で
約５５０℃に約４時間保持し、このサンプルについてＸ
線回折パターンをめた。Ｘ＠回折の測定はシンチレーシ
ョンカウンター及び厚さ３ｓ＋ｍの照射すれた１２．５
瓢サンプルを含む補償スリットを具備したＰｈ１ｌｌｉ
ｐｉデイフラクトメーター上で、４０　ｋｅｖＮ　４０
　ｍＡでのＣｕｋａ放射線を用いて行なった。／母ター
ンは第夏表に参照記号を挙げ、第■〜Ｘ■に示した。焼
成生成物は実施例１６及び１７でアルミニウム、及び鉄
及びホウ素について各々分析した。

実施例１８元素状ケイ素及び３１０ｇの水からなる混合物を還流コ
ンデンサー全備えたガラス容器中で攪拌しながら加熱し
た。容器内容物の温度が′７２℃に達した時、１１０ｇ
の水中の水酸化ナトリウム及びテトラプロピルアンモニ
ウムクロライドの溶液を３時間かけて温度７２℃に保持
しながら添加した。次に温度′ｆ、９０℃に上昇させ、
その温度で１６時間保持した。容器内容物をオートクレ
イプ（３１６ｓ８　）に移し、実施例１〜１７と同様に
処理した。結果を第１表に要約した。

実施例１９元素状ケイ素、テトラプロピルアンモニウムプロミド及
び水（３８５Ｉりの混合物を還流コンデンサーを備えた
ガラス容器中で攪拌しながら加熱した。内容物温度が８
３℃に達した時、水酸化ナトリウム溶液を３０分間で添
加し、次に内容物温度を９９℃に上昇し、この温度で１
９時間保持した。内容物をオートクレイプ（３１６８Ｂ
）に移し、実施例１〜１７と同様に処理した。結果を第
１表に要約した・本発明によシ製造された生成物は、異なる方法で製造さ
れた類似組成の多形体と実質的に同一方法で使用され得
る。多形体を含む種々の形でのケイ素の用途としては、
アルキル化用、水添分解用及びメチル化用などの触媒、
乾燥用吸着剤、モレキュラーシーツ及びイオン交換があ
るＯ１３３　１０　５４　ｌ１１９６　１０　５３１０２　３８５　５５　■ ２９２　１．０６９　ＮＡ　■ ９６　３４３　１３５１１８　４４７　６７　’ｌＸ１０１　４８４　６０１０５　１．２０８　５０　Ｘ１００　２．１２２　１０８６　１．３１（チ）　ＮＡ１４２　１．１０（チ）４９′Ｘ１１８１　１４　１２０　１［［２５０３０ＮＡ　ＩＶｌｏｏ　１　６０　Ｉ１８０　１４　１００　Ｉ１５２　９’　７５　刈１６９　２６ｊ　９２　ＸＩ［Ｉ２４　ＮＡ　５３　ＸＩ［［２４ＮＡ　Ｉ３．８　Ｘｍ（参照記号）ａ、平均粒径約９ミクロンｂ、平均粒径約３５０ミクロンＣ１平均粒径約３００ミクロンのアルミニウム粉末約ｏ
、６５ｇｔケイ素粉末と混合ｄ６反反応度１８０℃ ｅ・　反応温度１９０℃ ｆ、平均粒径約２７ミクロンｇ、平均粒径約１１ミクロンの鉄粉末約１．０ｙをケイ
素粉末と混合り、平均粒径約２ミクロンのポウ素粉末約１．０ｇをケ
イ素粉末と混合ｉ、焼成生成物の鉄含有量８，７５６　ｐｐｍｊ、焼成
生成物のホウ素含有量６，１２９　ｐｐｍｋ、約５０９
のＰｌｕｒｏｎｉｃ　Ｇｒｉｄ　（ＬＩＯＩ　＋商標）
を界面活性剤として添加ｔ、平均粒径約８８ミクロンｍ、９．２８．１７の水酸化ナトリウム添加ｎ、平均粒
径８８〜１４９ミクロンｏ、４０９の５０チ水酸化物水溶液添加第　■　嚢ｄ（Ｘ）１１．２０　８０　４．２７　１４１０．０８　４８　４．１０　３９．７７　１４　４．０２　５９．０２　１　３．８６　１００８．０５　＜１　３．８２　６４７．４７　１　３．７６　３９６．７２　７　３．７２　５０６．３９　１３　３．６６　２９６．０２　１９　３．５０　５５．７４　９　３．４５　１１５．５７　１０　３．３６　１０５．３８　３　３．３２　１４５．１６　２　３．２６　４５．０１　７　３．１５　３４．８９　＜１　３．０５　１２４．６３　６　３．００　１８４．３７　８　２．９５　７第　■　表１１．２４　９０　４．１０　３１０．０４　４９　４．０２　６９．７６　１５　３．８７　１００９．０６　．１　３．８３　６２８．１０　＜１　３．７２　５８７．４８　１　３．６５　２１６．７２　９　３．５０　６６．３９　１５　３．４５　１１６．０３　１８　３．４０　４５．７５　９　３．３６　９５．５８　１３　３．３１　１５５．３８　４　３．２６　５５．１６　２　３．１８　３５．０５　６　３．１５　３４．９９　８　３．０６　１０４．６３　６　３．００　２２４．３Ｂ　９　２．９６　１１４．２８　１３第　■　表１１．０８　５　２．９０　６６．７８　２７　２．６９　４５．７９　７９　２．５７　１５．５５　６０　２．５１　１３４．８０　２９　２．４２　＜１４．４１　２８　２．３６　１５４．３０　３　２．２７　２２３．９３　３７　２．２３　１４３．７１　９２　２．１６　５３．４０　４３　２．１２　３３．２６　１００　２．００　＜１３．２１　１６　２・０２　２３．０５　１３　１．９７　４２．９４　１１　１．９４　９第　Ｖ　表１１．７３　２９　３．０７　２１０．１８　８　２．８６　１４７．１２　３　２．７４　２６．１０　４　２．６９　２５．８５　９　２．６２　２５．２６　（１２，４８（１４，９２＜１　２．４３　２４．２０　１００　２．３８　３３．９０　７０　２．３４　４３．６３　＜１　２．２３　２３．４６　（１２，１５＜１３．３７　２　２．１０　６３．１６　（１２，０６４第　■　表１１．０８　６７　４．３５　７９．９２　４２　３．８３　１００７．４２　１　３．７０　４４６．６７　５　３．４７　３６．３４　４　３．３３　８５．９７　１５　３．１６　１５．５６　１０　３．０４　５５．３４　２　２．９７　１４４．９９　６　２．８５　１４．６０　２　２．７７　＜１第１表１１．１５　８１　４．２６　１４１−０．０２　５１　４．０８　３９．７０　１２　４．０１　６９．００　１　３．８６　１００８．０５　（１３，８２８２７，４５１３，７５４３７，１２（１３，７２５８６，７１６３，６５３９６，３７１３３，４９６６，００１８３，４４１２５，７１１１３，４０５５，５７１５３，３５１１ｇ、３ｓ　３　３．３１　１４５．１５　２　３．２５　５５．００　７　３．１７　３４．８８　（１３，１４４４，６２６３，０５１６４，４６２２，９８１８４，３６８第１表１１．１７　１　３．２１　８９．０９　２　３．１５　３Ｂ、３１　３　３．０５　１３６．８２　９　２．９５　１３６．５９　４　２．８６　１６．２８　６　２．７９　３５．８０　４７　２．７１　２５．５５　４６　２．６１　＜１５．３５　２　２．５１　９４．８１　３２　２．４２　２４．５６　６　２．３６　１２４．４３　２８　２．２７　２４４．３０　１３　２．２３　６４．００　２５　２．１６　３３．９４　４４　２．１２　４３．７１　１００　２．０６　＜１３．５８　５　２．０２　＜１３．４１　４５　１．９７　３３．２７　７１　１．９４　４第　■　表１１．６４　２４　３．０７　２１０．０５　８　２．８５　１４７．１１　２　２．７２　１６．０５　４　２．６２　１５．８２　８　２．５２　（１５，２４（１２，４７１５，０２（１２，４２２４，８７１２，３７３４，１９１００２，３４４３，８７６７２，２４１３，６１４２，０９６３，４４１２，０６３３，３６２ＭＸ表１１．１１　５５　３．８５　１００１０．０３　４８　３．７１　３８７．４７　（１３，４８２６，７２３３，３４９６，３７２３，２５＜１６．０１　１３　３．１８　＜１５．５８　９　３．０６　６５．０２　６　２．９９　１３４．６０　２　２．８６　１４．３６　５　２．８０　＜１４．２５　２第Ｘ表１１．１２　５９　４．３６　７９．９９　３３　４．２６　１２９、．７３　１１　４．０８　３９．０３　１　４．０１　６８．０６　（１３，８６１００７，４６（１，３，８２６７７，１４＜１　３．７５　３６６．７１　５　３．７２　５０６．３６　１０　３．６５　３２６．０１　１２　３．４９　６５．７２　８　３．４４　１１５．５８　１１　３．３５　１０５．３７　２　３．３１　１２５．１？　１　３．２５　５５．０４　５　３．１８　３４．９９　６　３．１４　４４．８６　（１３，０６１２４，６２５２，９８１４ｄ（ス）　相対強度　ｄ（Ｘ）　ユニ！！１１．１０　
８２　４．０８　３９．９７　５３　４．０１　６８．９５　１　３．８６　１００８．１２　（１３，８１７４７，４３（１３，７５４１６，６９７３，７２６３６，３５１５３，６４２Ｂ５．９７　２０　３．４９　６５．７０　１１　３．４４　１４５．５６　１４　３．３５　１１５．３６　４　３．３１　１６５．１３　３　３．２４　５４．９９　９　３．１７　３４．６１　６　３．１３　３４．３６　１０　３．０４　１３４．２５　１５　２．９８　２５第履表１１．２１　１００　４．０Ｓ１０．０６　６１　４．０］９．７５　１８　３．８７９．０４　１　３．８２８．０９　（１３，７２７，４７２３，６６６，７１９３，６３６，３６１６３，６０６，００２３３，４９５，７１１２３，４４５，５８１５３，３５５，３７３３，３１５，１６２３，２６５，０４Ｂ　３．１９４．９９　１０　３．１４４．８９　１　３．０５４．６１　７　２．９９４．３６　１０　２．９６４．２６　１５相対強度００６５４２３６１６４

Claims

【特許請求の範囲】１、水性反応媒質中に元素状ケイ素とテンプレイト化合
物を導入し、該媒質の−を９．５〜１３．８の範囲に維
持しながら１００〜３００℃の温度にて多形体が形成さ
れるまで加熱することを含む、シリカ多形体の製造方法
。２、　ケイ素は粒径約２０００ミクロン以下の粉末であ
る、特許請求の範囲第１項に記載の方法。３、温度を１４０〜２００℃に保持する、特許請求の範
囲第２項に記載の方法。４、　ケイ素粉末の粒径が約１００ミクロン以下である
、特許請求の範囲第３項に記載の方法。５、多形体の形成前に、反応媒質中にアルミニウムを特
徴する特許請求の範囲第１項に記載の方法。６、多形体の形成前に、反応媒質中にホウ素を特徴する
特許請求の範囲第１項に記載の方法０７、　多形体の形成前に、反応媒質中に鉄を特徴する特
許請求の範囲第１項に記載の方法。８、　アルミニウム、ホウ素、鉄及びこれらの混合ｐを
特徴する特許請求の範囲第１項に記載の方法。９、アルミニウムーケイ素合金を特徴する特許請求の範
囲第１項に記載の方法。１０、反応媒質中に非イオン性界面活性剤が存在する、
特許請求の範囲第２項に記載の方法。１１、テンプレイト化合物は式（式中、Ｒで表わされる基は同一または異なるものであ
って、１〜６炭素原子のアルキル基から選ばれる。）で定義されるアルキルアンモニウムカチオンから本質的
になる、特許請求の範囲第１項に記載の方法。゛１２、上記カチオンはテトラシロビルアンモニウム、テ
トラメチルアンモニウム、ナト２ブチルアンそニクム及
びこれらの混合物から選ばれる、特許請求の範囲第１１
項に記載の方法。